Deep-pot-shaped copper sputtering target and process for producing the same
Номер патента: KR100947200B1
Опубликовано: 11-03-2010
Автор(ы): 시로 츠카모토, 아츠시 후쿠시마
Принадлежит: 닛코 킨조쿠 가부시키가이샤
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 11-03-2010
Автор(ы): 시로 츠카모토, 아츠시 후쿠시마
Принадлежит: 닛코 킨조쿠 가부시키가이샤
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Deep-pot-shaped copper sputtering target and process for producing the same
Номер патента: CN101151398B. Автор: 福岛笃志,塚本志郎. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2012-06-27.