Method and system for marking a workpiece such as a semiconductor wafer and laser marker for use therein
Номер патента: KR100914053B1
Опубликовано: 28-08-2009
Автор(ы): 네미츠 크리스, 슈램 레이너, 씨.리 유, 알. 쥬니어 길스피 죤, 에스.에르만 죠나단, 웰키 마이클, 이.설리번 케빈, 제이.레슬리 월터, 퍼크멜 마이클, 펠슈 커트, 피.카힐 스티븐
Принадлежит: 지에스아이 루모닉스 코포레이션
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Опубликовано: 28-08-2009
Автор(ы): 네미츠 크리스, 슈램 레이너, 씨.리 유, 알. 쥬니어 길스피 죤, 에스.에르만 죠나단, 웰키 마이클, 이.설리번 케빈, 제이.레슬리 월터, 퍼크멜 마이클, 펠슈 커트, 피.카힐 스티븐
Принадлежит: 지에스아이 루모닉스 코포레이션
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Method and electron beam system for the additive production of a workpiece
Номер патента: WO2019149678A1. Автор: Thorsten Löwer. Владелец: Pro-Beam Ag & Co. Kgaa. Дата публикации: 2019-08-08.