Apparatus for regulating temperature of a process kit in a semiconductor wafer-processing chamber
Номер патента: WO2002093624A2
Опубликовано: 21-11-2002
Автор(ы): Alex Veytser, Arnold Kholodenko, Dennis Grimard, Senh Thach, Wing Cheng
Принадлежит: Applied Materials, Inc.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 21-11-2002
Автор(ы): Alex Veytser, Arnold Kholodenko, Dennis Grimard, Senh Thach, Wing Cheng
Принадлежит: Applied Materials, Inc.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Apparatus for regulating temperature of a process kit in a semiconductor wafer-processing chamber
Номер патента: WO2002093624A3. Автор: Senh Thach,Arnold Kholodenko,Dennis Grimard,Wing Cheng,Alex Veytser. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-01-09.