Methods of processing epitaxial semiconductor wafers
Номер патента: WO2024145454A3
Опубликовано: 08-08-2024
Автор(ы): Manabu Hamano
Принадлежит: GlobalWafers Co., Ltd.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 08-08-2024
Автор(ы): Manabu Hamano
Принадлежит: GlobalWafers Co., Ltd.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Methods of processing epitaxial semiconductor wafers
Номер патента: US20240218562A1. Автор: Manabu Hamano. Владелец: GlobalWafers Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.