Lithographic apparatus, metrology systems, and methods thereof
Номер патента: WO2022135870A1
Опубликовано: 30-06-2022
Автор(ы): Arjan Johannes Anton BEUKMAN, Filippo ALPEGGIANI, Sebastianus Adrianus GOORDEN, Sergei SOKOLOV, Stephen Roux
Принадлежит: ASML Holding N.V., ASML Netherlands B.V.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 30-06-2022
Автор(ы): Arjan Johannes Anton BEUKMAN, Filippo ALPEGGIANI, Sebastianus Adrianus GOORDEN, Sergei SOKOLOV, Stephen Roux
Принадлежит: ASML Holding N.V., ASML Netherlands B.V.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Radiation source, lithographic apparatus device manufacturing method, sensor system and sensing method
Номер патента: US20190146350A1. Автор: Christian Felix Wählisch. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2019-05-16.