Imaging optical system, projection exposure installation for microlithography comprising an imaging optical system of this type, and method for producing a microstructured component with a projection exposure installation of this type
Номер патента: KR101542268B1
Опубликовано: 06-08-2015
Автор(ы): 한스-위르겐 만
Принадлежит: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 06-08-2015
Автор(ы): 한스-위르겐 만
Принадлежит: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Reflection/refraction optical system, exposure method, projection exposure apparatus, method for manufacturing microdevice, imaging optical system, and projection exposure method
Номер патента: KR100823790B1. Автор: 시라이시나오마사,오무라야스히로,오와소이치. Владелец: 가부시키가이샤 니콘. Дата публикации: 2008-04-21.