Method and composition of a chemically amplified copolymer resist
Номер патента: US09891522B2
Опубликовано: 13-02-2018
Автор(ы): Ching-Yu Chang, Ya-Ling Cheng
Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 13-02-2018
Автор(ы): Ching-Yu Chang, Ya-Ling Cheng
Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method and system of determining colorability of a layout
Номер патента: US09514266B2. Автор: Nien-Yu Tsai,Wen-Chun Huang,Chin-Chang Hsu,Wen-Ju Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-12-06.