Fabrication of III-nitride power device with reduced gate to drain charge
Номер патента: US09711614B2
Опубликовано: 18-07-2017
Автор(ы): Jianjun Cao, Sadiki Jordan
Принадлежит: Infineon Technologies North America Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 18-07-2017
Автор(ы): Jianjun Cao, Sadiki Jordan
Принадлежит: Infineon Technologies North America Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Fabrication of III-Nitride Power Device with Reduced Gate to Drain Charge
Номер патента: US20150380518A1. Автор: Cao Jianjun,Jordan Sadiki. Владелец: . Дата публикации: 2015-12-31.