Substrate delivery device and strong acid or strong base etching adequate for wet process
Номер патента: US09474165B2
Опубликовано: 18-10-2016
Автор(ы): Haifeng Deng, JIA Li
Принадлежит: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 18-10-2016
Автор(ы): Haifeng Deng, JIA Li
Принадлежит: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method, apparatus and composition for wet etching
Номер патента: WO2013084083A3. Автор: Stefan Detterbeck. Владелец: LAM RESEARCH AG. Дата публикации: 2015-08-06.