Thick resin sensitive to a determined wavelength, useful for the manufacture of a three dimensional structure, comprises a photo absorbing material having absorbance at the wavelength
Номер патента: FR2874101A1
Опубликовано: 10-02-2006
Автор(ы): Marc Rabarot, Mathieu Kipp
Принадлежит: Commissariat a lEnergie Atomique CEA
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 10-02-2006
Автор(ы): Marc Rabarot, Mathieu Kipp
Принадлежит: Commissariat a lEnergie Atomique CEA
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for the lithography-based additive manufacturing of a three-dimensional component
Номер патента: US20220118691A1. Автор: Peter Gruber. Владелец: Upnano GmbH. Дата публикации: 2022-04-21.