Photo-sensitive resin composition and dry film solder resist prepared therefrom having superior heat resistance
Номер патента: KR101432634B1
Опубликовано: 21-08-2014
Автор(ы): 이광주, 정민수, 정우재, 최병주, 최보윤
Принадлежит: 주식회사 엘지화학
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 21-08-2014
Автор(ы): 이광주, 정민수, 정우재, 최병주, 최보윤
Принадлежит: 주식회사 엘지화학
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Photosensitive resin composition, photosensitive resin film, photosensitive dry film, and pattern formation method
Номер патента: EP4321553A1. Автор: Hitoshi Maruyama,Kumiko Hayashi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-14.