Catalytic cvd device, film forming method and solar cell manufacturing method
Номер патента: KR101603818B1
Опубликовано: 16-03-2016
Автор(ы): 모토히데 가이, 사토히로 오카야마, 슈지 오소노, 히데유키 오가타
Принадлежит: 가부시키가이샤 아루박, 산요덴키가부시키가이샤
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Опубликовано: 16-03-2016
Автор(ы): 모토히데 가이, 사토히로 오카야마, 슈지 오소노, 히데유키 오가타
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Film-forming surface reforming method and semiconductor device manufacturing method
Номер патента: US20010029109A1. Автор: Takayoshi Azumi,Kazuo Maeda,Kiyotaka Sasaki,Setsu Suzuki. Владелец: CANON SALES Co AND SEMICONDUCTOR PROCESS LABORATORY Co Ltd. Дата публикации: 2001-10-11.