METHOD AND DEVICE FOR MEASURING TEMPERATURE OF SUBSTRATE IN VACUUM PROCESSING APPARATUS
Номер патента: US20130292370A1
Опубликовано: 07-11-2013
Автор(ы): Chen David Zhehao, Lee Steven, Li Yousen
Принадлежит: ADVANCED MICRO-FABRICATION EQUIPMENT INC, SHANGHAI
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 07-11-2013
Автор(ы): Chen David Zhehao, Lee Steven, Li Yousen
Принадлежит: ADVANCED MICRO-FABRICATION EQUIPMENT INC, SHANGHAI
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method and apparatus to minimize seam effect during TEOS oxide film deposition
Номер патента: US09570289B2. Автор: Arul N. Dhas. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-02-14.