Interface module, apparatus and method for treating substrate comprising the same
Номер патента: KR101681185B1
Опубликовано: 02-12-2016
Автор(ы): 노형래, 한기원
Принадлежит: 세메스 주식회사
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 02-12-2016
Автор(ы): 노형래, 한기원
Принадлежит: 세메스 주식회사
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Resist reflow measurement key and method of forming a fine pattern of a semiconductor device using the same
Номер патента: US20050089776A1. Автор: Gi-sung Yeo,Doo-Youl Lee,Han-ku Cho,Jung-Hyeon Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2005-04-28.