SYSTEM AND METHOD FOR REPLACING RESIST FILTER TO REDUCE RESIST FILTER-INDUCED WAFER DEFECTS
Номер патента: US20140054212A1
Опубликовано: 27-02-2014
Автор(ы): HUANG Po-Chang, KAO Yao-Hwan
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 27-02-2014
Автор(ы): HUANG Po-Chang, KAO Yao-Hwan
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
System and method for replacing resist filter to reduce resist filter-induced wafer defects
Номер патента: US20140054212A1. Автор: Yao-Hwan Kao,Po-Chang Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2014-02-27.