Plasma processing apparatus

15-05-2018 дата публикации

Номер:

US9970110B2

Автор: Akira Shimizu, Jun Ogawa, Kazuhide Hasebe

Принадлежит: Tokyo Electron Ltd

Контакты:

Номер заявки:

Дата заявки:

CPC - классификация

C C2 C23 C23C C23C1 C23C16 C23C16/C23C16/4 C23C16/45 C23C16/452 C23C16/455 C23C16/4552 C23C16/45523 C23C16/4557 C23C16/45578 C23C16/4558 C23C16/45582 H H0 H01 H01J H01J3 H01J37 H01J37/H01J37/3 H01J37/32 H01J37/320 H01J37/3209 H01J37/32091 H01J37/324 H01J37/3244 H01J37/325 H01J37/3256 H01J37/32568

IPC - классификация

C C2 C23 C23C C23C1 C23C16 C23C16/C23C16/4 C23C16/45 C23C16/452 C23C16/5 C23C16/50 C23C16/507 H H0 H01 H01J H01J3 H01J37 H01J37/H01J37/3 H01J37/32 H01J37/324 H01J37/3244

Получить PDF