SEMICONDUCTOR MEMORY AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
Номер патента: US20190006419A1
Опубликовано: 03-01-2019
Автор(ы): ARAI Fumitaka, Kiyotoshi Masahiro, Ozawa Yoshio, Shirota Riichiro, Yamamoto Akihito
Принадлежит: Toshiba Memory Corporation
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 03-01-2019
Автор(ы): ARAI Fumitaka, Kiyotoshi Masahiro, Ozawa Yoshio, Shirota Riichiro, Yamamoto Akihito
Принадлежит: Toshiba Memory Corporation
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method of forming mask pattern and method of fabricating semiconductor device using the same
Номер патента: US11189491B2. Автор: Chul-Ho Kim,Yool Kang,Jaesung KANG,Jinphil CHOI. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-11-30.