METHOD OF MANUFACTURING SPUTTERING TARGET AND SPUTTERING TARGET
Номер патента: US20170009336A1
Опубликовано: 12-01-2017
Автор(ы): KOMATSU Tooru, NAKASHIMA Nobuaki
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 12-01-2017
Автор(ы): KOMATSU Tooru, NAKASHIMA Nobuaki
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Ag ALLOY SPUTTERING TARGET, METHOD OF MANUFACTURING Ag ALLOY SPUTTERING TARGET, Ag ALLOY FILM, AND METHOD OF FORMING Ag ALLOY FILM
Номер патента: US20170233863A1. Автор: Sohei Nonaka,Yuto Toshimori,Hideharu Matsuzaki. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2017-08-17.