Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

Extended life sputter target

Номер патента: WO2005026406A1
Опубликовано: 24-03-2005
Автор(ы): Holger J. Koenigsmann, Paul S. Gilman, Rene Perrot, Thomas J. Hunt
Принадлежит: Praxair S. T. Technology, Inc.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Extended life sputter target

Номер патента: SG149008A1. Автор: Thomas J Hunt,Rene Perrot,Paul S Gilman,Holger J Koenigsmann. Владелец: Praxair Technology Inc. Дата публикации: 2009-01-29.

Method of bonding a sputter target-backing plate assembly assemblies produced thereby

Номер патента: US5230459A. Автор: John J. Mueller,David E. Stellrecht. Владелец: Tosoh SMD Inc. Дата публикации: 1993-07-27.

Extended life sputter target

Номер патента: TW200514862A. Автор: Thomas J Hunt,Rene Perrot,Paul S Gilman,Holger J Koenigsmann. Владелец: Praxair Technology Inc. Дата публикации: 2005-05-01.

Extended life sputter target

Номер патента: IL173989A0. Автор: . Владелец: Praxair Technology Inc. Дата публикации: 2006-07-05.

Extended life sputter target

Номер патента: TWI352130B. Автор: Thomas J Hunt,Rene Perrot,Paul S Gilman,Holger J Koenigsmann. Владелец: Praxair Technology Inc. Дата публикации: 2011-11-11.

Extended life sputter target

Номер патента: EP1670967B1. Автор: Thomas J. Hunt,Rene Perrot,Paul S. Gilman,Holger J. Koenigsmann. Владелец: Praxair ST Technology Inc. Дата публикации: 2009-10-14.

Extended life sputter target

Номер патента: CN1849408A. Автор: P·S·吉尔曼,R·佩罗特,T·J·洪特,H·J·柯尼希斯曼. Владелец: Praxair ST Technology Inc. Дата публикации: 2006-10-18.

PROCESS FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET AND SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20180304400A1. Автор: TAKIGAWA Mikio,TERASAWA Toshiyuki. Владелец: Sumitomo Chemical Company, Limited. Дата публикации: 2018-10-25.

PROCESS FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET AND SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20190299324A1. Автор: TAKIGAWA Mikio,TERASAWA Toshiyuki. Владелец: Sumitomo Chemical Company, Limited. Дата публикации: 2019-10-03.

Low temperature sputter target bonding method and target assemblies produced thereby

Номер патента: WO2000015863A1. Автор: Eugene Y. Ivanov,Harry W. Conard. Владелец: TOSOH SMD, INC.. Дата публикации: 2000-03-23.

Sputtering target and method for manufacturing sputtering target

Номер патента: EP4404238A1. Автор: CHAO Chen,Tsutomu Kuniya,Christian Linke,Jiandong LU,Hennrik Schmidt. Владелец: Plansee Shanghai High Performance Material Ltd. Дата публикации: 2024-07-24.

Sputtering target product and method for producing recycled sputtering target product

Номер патента: US12054822B2. Автор: Yuki Yamada,Kengo Kaminaga,Shuhei Murata,Keijiro Sugimoto. Владелец: Jx Advanced Metals Corp. Дата публикации: 2024-08-06.

Sputtering target and method for manufacturing the same

Номер патента: US20240263296A1. Автор: CHAO Chen,Tsutomu Kuniya,Christian Linke,Jiandong LU,Hennrik Schmidt. Владелец: Plansee Shanghai High Performance Material Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Sputtering Target Product And Method For Producing Recycled Sputtering Target Product

Номер патента: US20220098723A1. Автор: Yuki Yamada,Kengo Kaminaga,Shuhei Murata,Keijiro Sugimoto. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2022-03-31.

Sputtering Target Product And Method For Producing Recycled Sputtering Target Product

Номер патента: US20230132362A9. Автор: Yuki Yamada,Kengo Kaminaga,Shuhei Murata,Keijiro Sugimoto. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2023-04-27.

Method of making high purity copper sputtering targets

Номер патента: US5803342A. Автор: Janine K. Kardokus. Владелец: Johnson Matthey Electronics Inc. Дата публикации: 1998-09-08.

Cylindrical sputtering target production method and cylindrical sputtering target

Номер патента: EP3604610A4. Автор: Shinji Kato,Toshiyuki Nagase,Shin Okano. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2021-01-20.

Sputtering target, method for joining target material and backing plate, and method for manufacturing sputtering target

Номер патента: JP6677853B1. Автор: 昌宏 藤田,宏司 西岡. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-08.

Sputtering target, method for bonding target to back plate, and method for producing sputtering target

Номер патента: TWI760689B. Автор: 西岡宏司,藤田昌宏. Владелец: 日商住友化學股份有限公司. Дата публикации: 2022-04-11.

Sputtering Target Product And Method For Producing Recycled Sputtering Target Product

Номер патента: US20220098723A1. Автор: Yuki Yamada,Kengo Kaminaga,Shuhei Murata,Keijiro Sugimoto. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2022-03-31.

Rotary for sputtering target assembly manufactured by the bonding method for rotary sputtering target assembly and bonding method thereof

Номер патента: KR20140129677A. Автор: 한순석. Владелец: 한순석. Дата публикации: 2014-11-07.

Sputtering target-backing plate assembly and production method thereof

Номер патента: US20180282859A1. Автор: Hiroshi Takamura,Ryosuke Sakashita. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2018-10-04.

METHOD FOR MACHINING SPUTTERING TARGET, APPARATUS FOR MACHINING SPUTTERING TARGET, SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET PRODUCT

Номер патента: US20190351491A1. Автор: FUJITA Masahiro,NISHIOKA Koji. Владелец: Sumitomo Chemical Company, Limited. Дата публикации: 2019-11-21.

CUTTING TOOL FOR SPUTTERING TARGET, PROCESSING METHOD OF SPUTTERING TARGET, AND MANUFACTURING METHOD OF SPUTTERING TARGET PRODUCT

Номер патента: US20190210122A1. Автор: FUJITA Masahiro. Владелец: Sumitomo Chemical Company, Limited. Дата публикации: 2019-07-11.

CUTTING TOOL FOR SPUTTERING TARGET, PROCESSING METHOD OF SPUTTERING TARGET, AND MANUFACTURING METHOD OF SPUTTERING TARGET PRODUCT

Номер патента: US20200338650A1. Автор: FUJITA Masahiro. Владелец: Sumitomo Chemical Company, Limited. Дата публикации: 2020-10-29.

Sputtering target

Номер патента: US11821077B2. Автор: Constantin Virgil SOLOMON,Christopher Yaw BANSAH,Tom Nelson Oder. Владелец: Youngstown State University. Дата публикации: 2023-11-21.

Sputtering target and method for producing sputtering target

Номер патента: EP4386108A1. Автор: Yusuke Sato,Shuhei Murata,Masaya Iwabuchi. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2024-06-19.

Sputtering target-backing plate assembly

Номер патента: US20200258724A1. Автор: Yosuke Endo,Hiroshi Takamura,Ryosuke Sakashita,Naoki Ise. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2020-08-13.

Sputtering target-backing plate assembly, manufacturing method therefor, and recovery method for sputtering target

Номер патента: US20230360897A1. Автор: Hironobu Nakamura,Yu Suzuki,Tomohiro Maruko,Shohei OTOMO. Владелец: Furuya Metal Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-09.

Sputtering Target and Method for Producing Sputtering Target

Номер патента: US20240026525A1. Автор: Yusuke Sato,Shuhei Murata,Masaya Iwabuchi. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2024-01-25.

The manufacturing method of sputtering target cutting element, the processing method of sputtering target and sputtering target product

Номер патента: CN109689925A. Автор: 藤田昌宏. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-04-26.

High purity sulfur-doped copper sputtering target assembly and method for producing same

Номер патента: US20230260769A1. Автор: Eduardo Del-Rio Perez,Harrison Collin Whitt. Владелец: Tosoh SMD Inc. Дата публикации: 2023-08-17.

Method for making Ni-Si magnetron sputtering targets and targets made thereby

Номер патента: US20020144902A1. Автор: Eugene Ivanvov. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-10.

Ruthenium-alloy sputtering target

Номер патента: US09732413B2. Автор: Kunihiro Oda. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-08-15.

Sputtering target and method for producing same

Номер патента: US09988710B2. Автор: Masahiro Shoji,Shoubin Zhang,Keita UMEMOTO. Владелец: Solar Frontier KK. Дата публикации: 2018-06-05.

Sputtering target and process for producing the same

Номер патента: WO2024217556A1. Автор: Scherer Thomas,Yi Sun,Yongyue CAI,Schmidt HENNRIK. Владелец: Plansee Shanghai High Performance Material Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Method for producing Cu-Ga alloy powder, Cu-Ga alloy powder, method for producing Cu-Ga alloy sputtering target, and Cu-Ga alloy sputtering target

Номер патента: US09435023B2. Автор: Tetsufumi Komukai,Tatsuya Takahashi,Isao Ando,Eriko Sato,Toshio Morimoto,Masanori Takagi,Hirotaka Minami. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2016-09-06.

Refurbishing copper and indium containing alloy sputter targets and use of such targets in making copper and indium-based films

Номер патента: US09399816B2. Автор: Robert Nilsson,Jennifer Gerbi. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2016-07-26.

Method of making sputtering target and target produced

Номер патента: WO2008018967A2. Автор: Michael G. Launsbach,Tyrus W. Hansen. Владелец: Howmet Corporation. Дата публикации: 2008-02-14.

Method to Manufacture Ruthenium Rotary Sputtering Target

Номер патента: US20240043987A1. Автор: Yusheng Wu,Ruoyu ZHANG,Shuangming Zheng,Yanbin Xia,Xiangyu Bai,Kok Tong Phang. Владелец: Singapore Advanced Thin Film Material Private Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Method of making sputtering target and target produced

Номер патента: EP2043800A2. Автор: Michael G. Launsbach,Tyrus W. Hansen. Владелец: Howmet Corp. Дата публикации: 2009-04-08.

Methods for surface preparation of sputtering target

Номер патента: US20160333461A1. Автор: Longzhou Ma,Xingbo Yang,Matthew J. KOMERTZ,Arthur V. TESTANERO,Dejan Stojakovic. Владелец: Materion Corp. Дата публикации: 2016-11-17.

Fept-c-based sputtering target and process for producing the same

Номер патента: US20140301887A1. Автор: Masahiro Aono,Yasuyuki Goto,Masahiro Nishiura,Ryousuke Kushibiki,Takanobu Miyashita. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2014-10-09.

Sputtering target, method for producing same, and method for producing sputtering film using sputtering target

Номер патента: EP4400627A1. Автор: Kenichi Itoh,Koichi Hanawa,Masami Mesuda,Daiki Shono,Taiga KONDO. Владелец: Tosoh Speciality Materials Corp. Дата публикации: 2024-07-17.

Sputtering target of multi-component single body and method for preparation thereof, and method for producing multi-component alloy-based nanostructured thin films using same

Номер патента: US20160068943A1. Автор: JU Hyun Sun,Chang Hun Lee,Seung Yong Shin,Jung Chan Bae,Kyoung Il Moon. Владелец: Korea Institute of Industrial Technology KITECH. Дата публикации: 2016-03-10.

Textured-grain-powder metallurgy tantalum sputter target

Номер патента: EP1735476A1. Автор: Paul S. Gilman,Holger J. Koenigsmann. Владелец: Praxair ST Technology Inc. Дата публикации: 2006-12-27.

Textured-grain-powder metallurgy tantalum sputter target

Номер патента: US20040250924A1. Автор: Paul Gilman,Holger Koenigsmann. Владелец: Praxair ST Technology Inc. Дата публикации: 2004-12-16.

Textured-grain-powder metallurgy tantalum sputter target

Номер патента: EP1735476A4. Автор: Paul S Gilman,Holger J Koenigsmann. Владелец: Praxair ST Technology Inc. Дата публикации: 2009-01-28.

Aluminum or aluminum alloy sputtering target and method for manufacturing the same

Номер патента: US20010004856A1. Автор: Kazuo Yoshikawa,Takashi Onishi,Seiji Nishi,Masao Mizuno,Toshihisa Suemitsu,Teruyuki Takahara,Tatsuhiko Kusamichi. Владелец: Kobe Steel Ltd. Дата публикации: 2001-06-28.

AL-Ni-RARE EARTH ELEMENT ALLOY SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20110048936A1. Автор: Toshihiro Kugimiya,Yoichiro Yoneda,Hitoshi Matsuzaki,Katsutoshi Takagi,Kotaro Kitashita. Владелец: Kobelco Research Institute Inc. Дата публикации: 2011-03-03.

Sputtering target and method for producing sputtering target

Номер патента: US20180312961A1. Автор: Shoubin Zhang,Keita UMEMOTO,Yuya Mutsuda. Владелец: Solar Frontier KK. Дата публикации: 2018-11-01.

Monolithic sputtering target assembly

Номер патента: WO2004009866A3. Автор: Christopher A Michaluk,Robert B Ford. Владелец: Cabot Corp. Дата публикации: 2004-03-25.

Method for manufacturing sputtering target and sputtering target

Номер патента: US11731230B2. Автор: Koji Nishioka,Masahiro Fujita. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-22.

Sputtering target

Номер патента: US10480061B2. Автор: Li Guo,Ming Zhao,Da-Ming Zhuang,Ming-Jie Cao,Shi-Lu Zhan,Xiao-Long Li. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-19.

Method for preparing high purity ruthenium sputtering target

Номер патента: EP1026283B1. Автор: Yuichiro Isohara Fact/Nikko Mat.Co.Ltd SHINDO,Tsuneo Isohara Fact/Nikko Mat.Co.Ltd SUZUKI. Владелец: Nippon Mining and Metals Co Ltd. Дата публикации: 2007-10-03.

Sputtering target

Номер патента: US20180327896A1. Автор: Li Guo,Ming Zhao,Da-Ming Zhuang,Ming-Jie Cao,Shi-Lu Zhan,Xiao-Long Li. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2018-11-15.

Method for producing cu-ga alloy powder, cu-ga alloy powder, method for producing cu-ga alloy sputtering target, and cu-ga alloy sputtering target

Номер патента: US20130192986A1. Автор: Tetsufumi Komukai,Tatsuya Takahashi,Isao Ando,Eriko Sato,Toshio Morimoto,Masanori Takagi,Hirotaka Minami. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2013-08-01.

Fept-c-based sputtering target and process for producing same

Номер патента: SG193948A1. Автор: Masahiro Aono,Yasuyuki Goto,Masahiro Nishiura,Ryousuke Kushibiki,Takanobu Miyashita. Владелец: Tanaka Precious Metal Ind. Дата публикации: 2013-11-29.

Refurbishing copper and indium containing alloy sputter targets and use of such targets in making copper and indium-based films

Номер патента: US20130248351A1. Автор: Robert Nilsson,Jennifer Gerbi. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2013-09-26.

Tungsten sputtering target and method of making same

Номер патента: AT522305B1. Автор: Dasai Takafumi,Sogawa Shinji,Nakasumi Seiji. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2022-10-15.

Sputtering targets and method of making same

Номер патента: WO2001044536A3. Автор: Stephane Ferrasse,Vladimir Segal,William B Willett. Владелец: Honeywell Inc. Дата публикации: 2002-01-03.

Aluminum-scandium composite, aluminum-scandium composite sputtering target and methods of making

Номер патента: EP4162088A1. Автор: Robert S. Bailey,David Peter Van Heerden,Katharine S. Gardinier. Владелец: Materion Corp. Дата публикации: 2023-04-12.

Platinum-based sputtering target, and method for producing the same

Номер патента: US20230407459A1. Автор: Kunihiro Tanaka,Shoji Ikeda,Takao Asada,Shuichi Kubota,Tetsuo Endoh,Akihito FUJINO. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2023-12-21.

Method of diffusion-bond powder metallurgy sputtering target

Номер патента: EP2111478A2. Автор: Darryl Draper,Chi-Fung Lo. Владелец: Praxair Technology Inc. Дата публикации: 2009-10-28.

Sputtering target and method for making the same

Номер патента: US20160326633A1. Автор: Li Guo,Ming Zhao,Da-Ming Zhuang,Ming-Jie Cao,Shi-Lu Zhan,Xiao-Long Li. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-10.

Sputtering target and method for making the same

Номер патента: US10077496B2. Автор: Li Guo,Ming Zhao,Da-Ming Zhuang,Ming-Jie Cao,Shi-Lu Zhan,Xiao-Long Li. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2018-09-18.

Method of producing a sputter target material

Номер патента: US20090238712A1. Автор: Keisuke Inoue,Shigeru Taniguchi,Tsuyoshi Fukui,Katsunori Iwasaki,Norio Uemura,Kazuya Saitoh. Владелец: Hitachi Metals Ltd. Дата публикации: 2009-09-24.

Sputtering Target Manufacturing Method

Номер патента: KR19980071845A. Автор: 료지 요시무라,야스후미 쓰바끼하라,겐따로 우쯔미. Владелец: 도소 가부시끼가이샤. Дата публикации: 1998-10-26.

Sputtering target for manufacturing piezoelectric thin films

Номер патента: EP3922749A1. Автор: Kenji Shibata,Kazutoshi Watanabe,Fumimasa Horikiri. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-12-15.

Textured-grain-powder metallurgy tantalum sputter target

Номер патента: EP1427865A4. Автор: Paul S Gilman,Holger J Koenigsmann. Владелец: Praxair ST Technology Inc. Дата публикации: 2005-09-14.

Textured-grain-powder metallurgy tantalum sputter target

Номер патента: EP1427865A1. Автор: Paul S. Gilman,Holger J. Koenigsmann. Владелец: Praxair ST Technology Inc. Дата публикации: 2004-06-16.

Tungsten sputtering target and method for manufacturing the same

Номер патента: US11939661B2. Автор: Takafumi Dasai,Shinji Sogawa,Seiji Nakasumi. Владелец: JX Metals Corp. Дата публикации: 2024-03-26.

Method of forming copper alloy sputtering targets with refined shape and microstructure

Номер патента: US20190233935A1. Автор: Stephane Ferrasse,Frank C. Alford,Ira G. Nolander,Patrick Underwood,Erik L. TURNER. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2019-08-01.

Method of forming copper alloy sputtering targets with refined shape and microstructure

Номер патента: EP3746579A1. Автор: Stephane Ferrasse,Frank C. Alford,Ira G. Nolander,Patrick Underwood,Erik L. TURNER. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2020-12-09.

Textured-grain-powder metallurgy tantalum sputter target

Номер патента: US20030089429A1. Автор: Paul Gilman,Holger Koenigsmann. Владелец: Praxair ST Technology Inc. Дата публикации: 2003-05-15.

Textured-grain-powder metallurgy tantalum sputter target

Номер патента: IL160890A. Автор: . Владелец: Praxair Technology Inc. Дата публикации: 2007-03-08.

Method for machining sputtering target, apparatus for machining sputtering target, sputtering target, and method for producing sputtering target product

Номер патента: US11766726B2. Автор: Koji Nishioka,Masahiro Fujita. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Method for machining sputtering target, apparatus for machining sputtering target, sputtering target, and method for producing sputtering target product

Номер патента: US20190351491A1. Автор: Koji Nishioka,Masahiro Fujita. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-21.

Method for processing sputtering target and method for manufacturing sputtering target product

Номер патента: US20190099814A1. Автор: Masahiro Fujita. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-04-04.

Sputtering target-backing plate assembly, and its production method

Номер патента: US20120228132A1. Автор: Yoshimasa Koido. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2012-09-13.

Ferromagnetic Material Sputtering Target

Номер патента: US20200216945A1. Автор: Atsushi Sato. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2020-07-09.

Extended life sputter targets

Номер патента: EP1087033A8. Автор: David Strauss,Jean Pierre Blanchet. Владелец: Praxair ST Technology Inc. Дата публикации: 2001-06-27.

Method for Bonding Components of a Sputtering Target, a Bonded Assembly of Sputtering Target Components and the Use Thereof

Номер патента: US20130161188A1. Автор: LINSBOD Robert. Владелец: . Дата публикации: 2013-06-27.

SPUTTERING TARGET PACKAGING STRUCTURE AND METHOD OF PACKAGING SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20200165050A1. Автор: NISHIOKA Koji,SATOH Naoya. Владелец: Sumitomo Chemical Company, Limited. Дата публикации: 2020-05-28.

Rotatable sputter target base, rotatable sputter target, coating installation, method of producing a rotatable sputter target, target base connection means, and method of connecting a rotatable target base device for sputtering installations to a target base support

Номер патента: SG195563A1. Автор: Oliver Heimel,Lothar Lippert. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2013-12-30.

Sputtering target, method of bonding target material and backing plate, and method of manufacturing sputtering target

Номер патента: US12051577B2. Автор: Koji Nishioka,Masahiro Fujita. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Diffusion-bonded sputter target assembly and method of manufacturing

Номер патента: US09546418B2. Автор: David B. Smathers,Eugene Y. Ivanov,Weifang Miao,Robert S. Bailey,Jeff Hart,Erich Theado. Владелец: Tosoh SMD Inc. Дата публикации: 2017-01-17.

Sputtering target

Номер патента: US20240337008A1. Автор: CHAO Chen,Tsutomu Kuniya,Christian Linke,Jiandong LU,Hennrik Schmidt. Владелец: Plansee Shanghai High Performance Material Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Low deflection sputtering target assembly and methods of making same

Номер патента: US09831073B2. Автор: Eugene Y. Ivanov,Yongwen Yuan. Владелец: Tosoh SMD Inc. Дата публикации: 2017-11-28.

Sputtering target, sputtering target-backing plate assembly and deposition system

Номер патента: US09685307B2. Автор: Hirohito Miyashita. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-06-20.

Sputtering target

Номер патента: EP4403668A1. Автор: CHAO Chen,Tsutomu Kuniya,Christian Linke,Jiandong LU,Hennrik Schmidt. Владелец: Plansee Shanghai High Performance Material Ltd. Дата публикации: 2024-07-24.

Sputtering target assembly to prevent overetch of backing plate and methods of using the same

Номер патента: US20220351953A1. Автор: Ming-Jie He,Wen-Cheng Cheng,Chen-Fang Chung,Po Wen Yang,Yan-Zi Lu,Cheng-Yi Teng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-11-03.

Backing plate-integrated metal sputtering target and method of producing same

Номер патента: US09711336B2. Автор: Shiro Tsukamoto. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-07-18.

Sputtering target

Номер патента: US20180286646A1. Автор: Toshiaki Kuroda,Mikio Takigawa. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-10-04.

Sputtering target

Номер патента: US11862443B2. Автор: Toshiaki Kuroda,Mikio Takigawa. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Large-grain tin sputtering target

Номер патента: US20210050194A1. Автор: Stephane Ferrasse,Frank C. Alford,Marc D. Ruggiero,Patrick K. Underwood,Susan D. Strothers. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2021-02-18.

Sputter target and sputtering methods

Номер патента: US09831072B2. Автор: Robert T. Rozbicki,Ronald M. Parker. Владелец: View Inc. Дата публикации: 2017-11-28.

Sputtering target

Номер патента: US20240229224A9. Автор: Stephan Bolz,Werner Kölker,Oliver Lemmer,Jürgen Balzereit. Владелец: CemeCon AG. Дата публикации: 2024-07-11.

Sputtering target

Номер патента: US20240133022A1. Автор: Stephan Bolz,Werner Kölker,Oliver Lemmer,Jürgen Balzereit. Владелец: CemeCon AG. Дата публикации: 2024-04-25.

Method of manufacturing a rotatable sputter target

Номер патента: US20090205955A1. Автор: Hugo Lievens,Anneleen De Smet. Владелец: Bekaert NV SA. Дата публикации: 2009-08-20.

Sputtering target

Номер патента: US20180144912A1. Автор: Yasuhiro Yamakoshi,Kotaro Nagatsu,Shuhei Murata. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2018-05-24.

Igzo sputtering target

Номер патента: EP4424867A1. Автор: Kozo Osada,Kazutaka Murai. Владелец: JX Metals Corp. Дата публикации: 2024-09-04.

Sputtering target with backside cooling grooves

Номер патента: US09779920B2. Автор: Jeonghoon Oh,Michael S. Cox,Brian T. West. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Diffusion bonded high purity copper sputtering target assemblies

Номер патента: US09761420B2. Автор: Paul Gilman,Jaydeep Sarkar. Владелец: Praxair ST Technology Inc. Дата публикации: 2017-09-12.

High utilization sputtering target for cathode assembly

Номер патента: US5490914A. Автор: Steven Hurwitt,Corey Weiss. Владелец: Materials Research Corp. Дата публикации: 1996-02-13.

Diffusion-bonded sputtering target assembly and method of manufacturing

Номер патента: WO2012112376A1. Автор: David B. Smathers,Eugene Y. Ivanov,Weifang Miao,Robert S. Bailey,Jeff Hart,Erich Theado. Владелец: TOSOH SMD, INC.. Дата публикации: 2012-08-23.

Conical sputtering target

Номер патента: EP1252357A1. Автор: David A. Glocker. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-30.

Quick change sputter target assembly

Номер патента: US4820397A. Автор: Kenneth B. Fielder,Robert L. Belli,Conrad E. Fuchs. Владелец: Tosoh SMD Inc. Дата публикации: 1989-04-11.

Design for sputter targets to reduce defects in refractory metal films

Номер патента: US5271817A. Автор: Hunter B. Brugge,Kin-Sang Lam. Владелец: VLSI Technology Inc. Дата публикации: 1993-12-21.

Conical sputtering target

Номер патента: WO2002040736B1. Автор: David A Glocker. Владелец: David A Glocker. Дата публикации: 2002-09-12.

Large area elastomer bonded sputtering target and method for manufacturing

Номер патента: WO2006132916A8. Автор: Thomas r stevenson,Wayne R Simpson,Ryan A Scatena. Владелец: Thermal Conductive Bonding Inc. Дата публикации: 2008-03-27.

Segmented sputtering target and method/apparatus for using same

Номер патента: WO2004092438B1. Автор: Hong Wang,Thomas A Seder. Владелец: Thomas A Seder. Дата публикации: 2005-01-27.

Magnetically attached sputter targets

Номер патента: US5286361A. Автор: Daniel M. Makowiecki,Mark A. McKernan. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 1994-02-15.

Method and apparatus for detecting sputtering target depletion

Номер патента: US4545882A. Автор: Harold E. Mckelvey. Владелец: Shatterproof Glass Corp. Дата публикации: 1985-10-08.

Sputtering target protection device

Номер патента: US5846389A. Автор: Paul S. Gilman,Howard H. Levine,Neil J. Sullivan. Владелец: Materials Research Corp. Дата публикации: 1998-12-08.

Sputtering target backing plate assembly and film deposition system

Номер патента: EP2236644A2. Автор: Hirohito Miyashita. Владелец: Nippon Mining and Metals Co Ltd. Дата публикации: 2010-10-06.

Sputter target design

Номер патента: US5009765A. Автор: Sohail S. Qamar,Harry W. Conard,Lowell E. Hamilton. Владелец: Tosoh SMD Inc. Дата публикации: 1991-04-23.

Segmented sputtering target and method/apparatus for using same

Номер патента: WO2004092438A1. Автор: Hong Wang,Thomas A. Seder. Владелец: Guardian Industries Corp.. Дата публикации: 2004-10-28.

Cu-ga alloy sputtering target, and method for producing same

Номер патента: US20160208376A1. Автор: Satoru Mori,Yuuki Yoshida,Kouichi Ishiyama. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2016-07-21.

Sputtering target with a partially enclosed vault

Номер патента: US20030173215A1. Автор: Wei Wang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-09-18.

Sputtering target and method for manufacturing same

Номер патента: US5435965A. Автор: Jun Tamura,Munenori Mashima. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 1995-07-25.

Magnetic material sputtering target and method for producing same

Номер патента: US20160237552A1. Автор: Atsutoshi Arakawa. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2016-08-18.

Ring-type sputtering target

Номер патента: EP1402081A1. Автор: Daniel R. Marx,Rajan Mathew,Alfred Snowman,Charles R. Fisher. Владелец: Praxair ST Technology Inc. Дата публикации: 2004-03-31.

Molybdenum sputtering targets

Номер патента: CA2577162A1. Автор: Peter R. Jepson,Prabhat Kumar,Steven A. Miller,Rong-Chein Richard Wu,Gary Rozak,David Meendering,Joseph Hirt,Brad Lemon,Timothy Welling,James G. Daily, III,Jerone O'grady,Davd G. Schwarz. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-03-06.

Few surface defects sputtering target and surface processing method thereof

Номер патента: MY153650A. Автор: Yuichiro Nakamura,Akira Hisano. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2015-03-13.

Cathodic sputtering target including means for detecting target piercing

Номер патента: US4374722A. Автор: Bogdan Zega. Владелец: Battelle Development Corp. Дата публикации: 1983-02-22.

Conical-frustum sputtering target and magnetron sputtering apparatus

Номер патента: US4747926A. Автор: Shigeru Kobayashi,Tamotsu Shimizu,Takeshi Oyamada,Hikaru Nishijima. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1988-05-31.

Molybdenum tubular sputtering targets with uniform grain size and texture

Номер патента: EP1784518A2. Автор: Peter R. Jepson,Prabhat Kumar,Steven A. Miller,Rong-Chein Richard Wu,Gary Rozak,David Meendering,Joseph Hirt,Brad Lemon,Timothy Welling,James G. Daily, III,Jerone O'grady,Davd G. Schwarz. Владелец: HC Starck Inc. Дата публикации: 2007-05-16.

Quick change sputter target assembly

Номер патента: US5147521A. Автор: Kenneth B. Fielder,Robert L. Belli,Conrad E. Fuchs,Martin L. Blazic,Rick O. Eller. Владелец: Tosoh SMD Inc. Дата публикации: 1992-09-15.

Method of producing a silicom/aluminum sputtering target

Номер патента: WO2000038862A1. Автор: Joseph C. Runkle. Владелец: Ultraclad Corporation. Дата публикации: 2000-07-06.

Methods of depositing thin films using molybdenum sputtering targets

Номер патента: US20150136584A1. Автор: Prabhat Kumar,Steven A. Miller,Rong-Chein Richard Wu,Gary Rozak,David Meendering,Joseph Hirt,Brad Lemon,Timothy Welling,James G. Daily, III,Jerome O'Grady,David G. Schwartz. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-05-21.

Methods of depositing thin films using molybdenum sputtering targets

Номер патента: US9309591B2. Автор: Prabhat Kumar,Steven A. Miller,Rong-Chein Richard Wu,Gary Rozak,David Meendering,Joseph Hirt,Brad Lemon,Timothy Welling,James G. Daily, III,Jerome O'Grady,David G. Schwartz. Владелец: HC Starck Inc. Дата публикации: 2016-04-12.

Sputtering target with backside cooling grooves

Номер патента: US20180019108A1. Автор: Jeonghoon Oh,Michael S. Cox,Brian T. West. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-01-18.

Sputtering target with backside cooling grooves

Номер патента: US20200294778A1. Автор: Jeonghoon Oh,Michael S. Cox,Brian T. West. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-09-17.

Modular sputtering target with precious metal insert and skirt

Номер патента: EP4359584A1. Автор: Chen Wang,Matthew Fisher,James GUERRERO. Владелец: Materion Corp. Дата публикации: 2024-05-01.

Modular sputtering target with precious metal insert and skirt

Номер патента: WO2022272045A1. Автор: Chen Wang,Matthew Fisher,James GUERRERO. Владелец: MATERION CORPORATION. Дата публикации: 2022-12-29.

Sputtering target for forming phase-change film and method for manufacturing the same

Номер патента: US20100108499A1. Автор: Kei Kinoshita,Sohei Nonaka. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2010-05-06.

Methods of forming molybdenum sputtering targets

Номер патента: US09926623B2. Автор: Prabhat Kumar,Steven A. Miller,Rong-Chein Richard Wu,Gary Rozak,David Meendering,Joseph Hirt,Brad Lemon,Timothy Welling,James G. Daily, III,Jerome O'Grady,David G. Schwartz. Владелец: HC Starck Inc. Дата публикации: 2018-03-27.

Sputtering target and method for production thereof

Номер патента: US09922807B2. Автор: Yousuke Endo. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2018-03-20.

Fine grained, non banded, refractory metal sputtering targets with a uniformly random crystallographic orientation, method for making such film, and thin film based devices and products made therefrom

Номер патента: US09783882B2. Автор: Stefan Zimmermann,Richard Wu,Prabhat Kumar,Steven A. Miller,Olaf Schmidt-Park,Shuwei Sun. Владелец: HC Starck Inc. Дата публикации: 2017-10-10.

Methods of forming sputtering targets

Номер патента: US8197894B2. Автор: Stefan Zimmermann,Richard Wu,Prabhat Kumar,Steven A. Miller,Olaf Schmidt-Park,Shuwei Sun. Владелец: HC Starck Inc. Дата публикации: 2012-06-12.

Non-continuous bonding of sputtering target to backing material

Номер патента: EP2572013A1. Автор: Jong-Won Shin,Nikolaus Margadant,Klaus Leitner. Владелец: Umicore NV SA. Дата публикации: 2013-03-27.

Sputtering target and method of manufacturing the same

Номер патента: US20240035146A1. Автор: Choongnyun Paul Kim,Gi Su Ham,Yoo Kyung JUNG. Владелец: KOLON INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2024-02-01.

Ag ALLOY SPUTTERING TARGET, METHOD OF MANUFACTURING Ag ALLOY SPUTTERING TARGET, Ag ALLOY FILM, AND METHOD OF FORMING Ag ALLOY FILM

Номер патента: US20170233863A1. Автор: Sohei Nonaka,Yuto Toshimori,Hideharu Matsuzaki. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2017-08-17.

Sputtering target and manufacturing method therefor

Номер патента: EP4249628A1. Автор: Choongnyun Paul Kim,Gi Su Ham,Yoo Kyung JUNG. Владелец: KOLON INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2023-09-27.

Gold sputtering target

Номер патента: US11817299B2. Автор: Tetsuya Kato,Chiharu Ishikura,Yohei Mizuno. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2023-11-14.

High purity refractory metal sputtering targets which have a uniform random texture manufactured by hot isostatic pressing high purity refractory metal powders

Номер патента: WO2015157421A9. Автор: Patrick Hogan,Helmut Haas,Marcel HAGYMASI,Paul Aimone,Joseph FLANIGAN. Владелец: H.C. Starck Inc.. Дата публикации: 2015-12-03.

Vent groove modified sputter target assembly

Номер патента: EP2002028A2. Автор: Jean-Pierre Blanchet,Robert Shih,Junghoon Hur. Владелец: Praxair Technology Inc. Дата публикации: 2008-12-17.

Chromium sintered body, method for producing chromium sintered body, sputtering target, and method for producing substrate with chromium film

Номер патента: EP4241901A1. Автор: Kenichi Itoh,Koichi Hanawa,Masami Mesuda,Daiki Shono. Владелец: Tosoh Speciality Materials Corp. Дата публикации: 2023-09-13.

Sputtering target including carbon-doped GST and method for fabricating electronic device using the same

Номер патента: US11968912B2. Автор: Jun Ku AHN. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2024-04-23.

High purity refractory metal powders and their use in sputtering targets which may have random texture

Номер патента: US20190032196A1. Автор: Patrick Hogan,Helmut Haas,Marcel HAGYMASI,Paul Aimone,Joseph FLANIGAN. Владелец: HC Starck Inc. Дата публикации: 2019-01-31.

Vent groove modified sputter target assembly

Номер патента: WO2007114899A3. Автор: Jean-Pierre Blanchet,Robert Shih,Junghoon Hur. Владелец: Junghoon Hur. Дата публикации: 2007-11-22.

Methods of forming molybdenum sputtering targets

Номер патента: US20160186311A1. Автор: Prabhat Kumar,Steven A. Miller,Rong-Chein Richard Wu,Gary Rozak,David Meendering,Joseph Hirt,Brad Lemon,Timothy Welling,James G. Daily, III,Jerome O'Grady,David G. Schwartz. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-06-30.

Methods of forming molybdenum sputtering targets

Номер патента: US20130224059A1. Автор: Peter R. Jepson,Prabhat Kumar,Steven A. Miller,Rong-Chein Richard Wu,Gary Rozak,David Meendering,Joseph Hirt,Brad Lemon,Timothy Welling,James G. Daily, III,Jerome O'Grady,David G. Schwarz. Владелец: HC Starck Inc. Дата публикации: 2013-08-29.

Methods of forming molybdenum sputtering targets

Номер патента: US20120189483A1. Автор: Peter R. Jepson,Richard Wu,Prabhat Kumar,Steven A. Miller,Gary Rozak,David Meendering,Joseph Hirt,Brad Lemon,Timothy Welling,James G. Daily, III,Jerome O'Grady,David G. Schwarz. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-07-26.

Sputtering target

Номер патента: US20240002997A1. Автор: Katsuhiro Imai,Yoshinori Isoda,Kentaro Nonaka. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Methods of forming molybdenum sputtering targets

Номер патента: US9017600B2. Автор: Prabhat Kumar,Steven A. Miller,Rong-Chein Richard Wu,Gary Rozak,David Meendering,Joseph Hirt,Brad Lemon,Timothy Welling,James G. Daily, III,Jerome O'Grady,David G. Schwartz. Владелец: HC Starck Inc. Дата публикации: 2015-04-28.

Methods of forming molybdenum sputtering targets

Номер патента: US8425833B2. Автор: Peter R. Jepson,Richard Wu,Prabhat Kumar,Steven A. Miller,Gary Rozak,David Meendering,Joseph Hirt,Brad Lemon,Timothy Welling,James G. Daily, III,Jerome O'Grady,David G. Schwarz. Владелец: HC Starck Inc. Дата публикации: 2013-04-23.

Aluminum alloys and processes for making aluminum -scandium sputtering targets with high uniformity and elemental content

Номер патента: US20240194463A1. Автор: Katharine S. Gardinier,Vitaliy V. MYASNIKOV,David P. Van Heerden,Matthew J. KOMERTZ,Wieslaw Dylag,Arthur V. TESTANERO. Владелец: Materion Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Manufacture and refill of sputtering targets

Номер патента: EP4182285A1. Автор: Wilmert De Bosscher,Jeffrey Dieter Edel,Jai Shankar Subramanian,Ignacio CARETTI GIANGASPRO. Владелец: Soleras Advanced Coatings Bv. Дата публикации: 2023-05-24.

Polycrystalline Silicon Sputtering Target

Номер патента: US20150001069A1. Автор: Ryo Suzuki,Hiroshi Takamura. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2015-01-01.

Sputtering target

Номер патента: US09437486B2. Автор: Takashi Watanabe,Koichi Watanabe,Takashi Ishigami,Yukinobu Suzuki,Yasuo Kohsaka,Naomi Fujioka. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-09-06.

Ytterbium Sputtering Target and Method of Producing said Target

Номер патента: US20100044223A1. Автор: Shiro Tsukamoto. Владелец: Nippon Mining and Metals Co Ltd. Дата публикации: 2010-02-25.

Method of fabricating a sputtering target, sputtering target fabricated by using the method, and an organic light-emitting display apparatus fabricated using the sputtering target

Номер патента: US20150014652A1. Автор: Jin-woo Park,Hun Kim,Su-Hyuk Choi. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-01-15.

Polycrystalline silicon sputtering target

Номер патента: US09982334B2. Автор: Ryo Suzuki,Hiroshi Takamura. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2018-05-29.

Tungsten sintered compact sputtering target and method for producing same

Номер патента: US09812301B2. Автор: Takeo Okabe,Kazumasa Ohashi. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-11-07.

Lithium containing composite metallic sputtering targets

Номер патента: US09765426B1. Автор: Lizhong Sun,Chong JIANG,Jan Isidorsson,Byung-Sung Leo Kwak. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-09-19.

Niobium sputtering target

Номер патента: US12020916B2. Автор: Yuki Yamada,Kotaro Nagatsu. Владелец: Jx Metals Corpo Tion. Дата публикации: 2024-06-25.

Planar or tubular sputtering target and method for the production thereof

Номер патента: US8974707B2. Автор: Markus Schultheis,Martin Schlott,Uwe Konietzka,Sabine Schneider-Betz,Lars Ebel,Ben Kahle. Владелец: Heraeus Deutschland GmbH and Co KG. Дата публикации: 2015-03-10.

Silicon sputtering target with special surface treatment and good particle performance and methods of making the same

Номер патента: US09566618B2. Автор: Yang Liu,Eugene Y. Ivanov,Weifang Miao,Yongwen Yuan,Phil Frausto. Владелец: Tosoh SMD Inc. Дата публикации: 2017-02-14.

Monocrystalline silicon sputtering target

Номер патента: US20180226236A1. Автор: Hiroshi Takamura,Shuhei Murata,Ryosuke Sakashita. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2018-08-09.

Sputter target for forming a layer of a perpendicular recording medium by magnetron sputtering

Номер патента: US20170062194A1. Автор: Amarendra Kumar Singh,Kazunori Koyama,Ajeesh Mavolil SAHADEVAN. Владелец: SHOWA DENKO HD SINGAPORE PTE LTD. Дата публикации: 2017-03-02.

Magnetic material sputtering target and manufacturing method for same

Номер патента: US09761422B2. Автор: Yuichiro Nakamura,Hideo Takami,Atsutoshi Arakawa. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-09-12.

Sputtering target and method for producing same

Номер патента: US09607812B2. Автор: Masahiro Shoji,Shoubin Zhang,Keita UMEMOTO. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Sputtering target

Номер патента: US20120298506A1. Автор: David B. Smathers,Eugene Y. Ivanov,Ronald G. Jordan,Yongwen Yuan. Владелец: Tosoh SMD Inc. Дата публикации: 2012-11-29.

Process for Production of Ge-Cr Alloy Sputtering Target

Номер патента: US20070297932A1. Автор: Hideo Takami,Hirohisa Ajima. Владелец: Nippon Mining and Metals Co Ltd. Дата публикации: 2007-12-27.

Ge-Cr Alloy Sputtering Target

Номер патента: US20110036710A1. Автор: Hideo Takami,Hirohisa Ajima. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2011-02-17.

Sputtering target and powder for producing sputtering target

Номер патента: MY197929A. Автор: Atsushi Sato,Masayoshi Shimizu,Yasuyuki Iwabuchi,Akira SHIMOJUKU. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2023-07-25.

Sputtering targets and methods for fabricating sputtering targets having multiple materials

Номер патента: SG178737A1. Автор: Wenjun Zhang. Владелец: Heraeus Inc. Дата публикации: 2012-03-29.

Sputtering target

Номер патента: US20210371970A1. Автор: Wilmert De Bosscher,Ignacio CARETTI GIANGASPRO,Freddy FACK,David Karel Debruyne,Hubert ELIANO,Tom COTTENS. Владелец: Soleras Advanced Coatings Bv. Дата публикации: 2021-12-02.

Cozrta(x) sputtering target with improved magnetic properties

Номер патента: EP4012746A9. Автор: Martin Schlott,Uwe Konietzka. Владелец: MATERION ADVANCED MATERIALS GERMANY GMBH. Дата публикации: 2022-08-10.

Methods for making sputtering targets

Номер патента: WO2008060917A2. Автор: Janine Kardokus,Susan D. Strothers,Michael D. Payton,Kevin T. Hubert,Hort Werner,Christie J. Hausman,Diane Morales. Владелец: HONEYWELL INTERNATIONAL INC.. Дата публикации: 2008-05-22.

Cozrta(x) sputtering target with improved magnetic properties

Номер патента: EP4012746A1. Автор: Martin Schlott,Uwe Konietzka. Владелец: MATERION ADVANCED MATERIALS GERMANY GMBH. Дата публикации: 2022-06-15.

Planar sputtering target

Номер патента: EP3861566A2. Автор: Wilmert De Bosscher,Ignacio CARETTI GIANGASPRO,Freddy FACK,David Karel Debruyne,Hubert ELIANO,Tom COTTENS. Владелец: Soleras Advanced Coatings Bv. Дата публикации: 2021-08-11.

Planar sputtering target

Номер патента: WO2020070324A3. Автор: Wilmert De Bosscher,Ignacio CARETTI GIANGASPRO,Freddy FACK,David Karel Debruyne,Hubert ELIANO,Tom COTTENS. Владелец: Soleras Advanced Coatings Bv. Дата публикации: 2020-07-16.

Sputtering target

Номер патента: WO2020070324A2. Автор: Wilmert De Bosscher,Ignacio CARETTI GIANGASPRO,Freddy FACK,David Karel Debruyne,Hubert ELIANO,Tom COTTENS. Владелец: Soleras Advanced Coatings bvba. Дата публикации: 2020-04-09.

ITO ceramic sputtering targets with reduced In2O3 contents and method of producing it

Номер патента: US09885109B2. Автор: Eugène MEDVEDOVSKI,Olga Yankov,Christopher Szepesi. Владелец: Umicore NV SA. Дата публикации: 2018-02-06.

Tantalum sputtering target and production method therefor

Номер патента: US09859104B2. Автор: Shinichiro Senda,Kotaro Nagatsu. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Sputtering target and manufacturing method therefor

Номер патента: US09704695B2. Автор: Kenichi Nagata,Atsushi Fukushima,Nobuhito Makino,Takeo Okabe,Tomio Otsuki. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-07-11.

Method of fabricating sputtering target, sputtering target using the method, and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus using the sputtering target

Номер патента: US09598764B2. Автор: Jin-woo Park,Dong-Jin Kim,Sun-young Jung,Il-sang Lee,Sang-Wook Shin. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Textured-metastable aluminum alloy sputter targets and method of manufacture

Номер патента: US20030089430A1. Автор: Andrew Perry,Paul Gilman,Jaak Van den Sype. Владелец: Praxair ST Technology Inc. Дата публикации: 2003-05-15.

Sputtering target and sputtering apparatus including the same

Номер патента: US20240084441A1. Автор: Hyuneok Shin,Joonyong Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Sputtering target and method of manufacturing the same, and memory device manufacturing method

Номер патента: US20220162742A1. Автор: Kazuhiro Ohba,Katsuhisa Aratani,Shuichiro Yasuda,Hiroaki Sei. Владелец: Sony Semiconductor Solutions Corp. Дата публикации: 2022-05-26.

Sputtering target and method of producing sputtering target

Номер патента: US12012650B2. Автор: Masaru Wada,Kouichi Matsumoto,Motohide Nishimura,Kentarou Takesue,Yuu Kawagoe. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2024-06-18.

Zinc oxide based sputtering target, method for manufacturing zinc oxide based sputtering target, zinc oxide based transparent electrically conductive film, method for manufacturing zinc oxide based transparent electrically conductive film, and electronic apparatus

Номер патента: US20100123103A1. Автор: Takahiro Nagata,Toshitaka Kawashima,Shina Kirita,Yuichi Kamori. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2010-05-20.

Sputtering-target material, sputtering target, sputtering-target aluminum plate, and method of manufacturing the same

Номер патента: US20200199739A1. Автор: Masahiro Fujita,Hiroki Takeda. Владелец: UACJ Corp. Дата публикации: 2020-06-25.

Ag alloy sputtering target, and ag alloy film

Номер патента: EP3922748A1. Автор: Sohei Nonaka,Yuto Toshimori. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2021-12-15.

Sputter-Target aus einer Legierung auf Ag-Bi-Basis und Verfahren zur Herstellung desselben

Номер патента: DE102004024114A1. Автор: Toshiki Kobe Sato,Junichi Kobe Nakai,Katsutoshi Kobe Takagi,Yuuki Kobe Tauchi,Hitoshi Takasago Matsuzaki,Hideo Takasago Fujii. Владелец: Kobelco Research Institute Inc. Дата публикации: 2005-01-05.

A method for determining a critical size of an inclusion in aluminum or aluminum alloy sputtering target

Номер патента: EP1381703A2. Автор: LIN ZHU,Charles E. Wickersham, Jr.,John E. Poole,Alexander Leybovich. Владелец: Tosoh SMD Inc. Дата публикации: 2004-01-21.

Sputtering target material

Номер патента: US20040079635A9. Автор: Noriaki Hara,Ken Hagiwara,Somei Yarita,Ritsuya Matsuzaka. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2004-04-29.

Sputtering target, method for manufacturing sputtering target, and method for forming thin film

Номер патента: US20240254616A1. Автор: Shunpei Yamazaki,Tetsunori Maruyama,Masahiro Watanabe,Hitomi Sato,Yuki Imoto,Kenichi Okazaki,Takashi Shimazu,Motoki Nakashima,Mitsuo Mashiyama. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

A method for determining a critical size of an inclusion in aluminum or aluminum alloy sputtering target

Номер патента: EP1381703A4. Автор: LIN ZHU,Charles E Wickersham Jr,John E Poole,Alexander Leybovich. Владелец: Tosoh SMD Inc. Дата публикации: 2008-04-09.

Igzo sputtering target

Номер патента: US20240344193A1. Автор: Kozo Osada,Kazutaka Murai. Владелец: JX Metals Corp. Дата публикации: 2024-10-17.

Al-sc alloys and sputtering targets and processes for consolidating

Номер патента: WO2024220750A1. Автор: Qi Zeng,Jens Wagner,Katharine S. Gardinier,David Peter VANHEERDEN. Владелец: MATERION CORPORATION. Дата публикации: 2024-10-24.

Sputtering target and method for manufacturing sputtering target

Номер патента: US12106949B2. Автор: Yuki Furuya. Владелец: Jx Advanced Metals Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Partial spray refurbishment of sputtering targets

Номер патента: US09976212B2. Автор: Steven A. Miller. Владелец: HC Starck Inc. Дата публикации: 2018-05-22.

Multi-block sputtering target and associated methods and articles

Номер патента: US09922808B2. Автор: Mark E. Gaydos,Gary Alan Rozak. Владелец: HC Starck Inc. Дата публикации: 2018-03-20.

Zinc oxide sputtering target

Номер патента: US09824869B2. Автор: Tsutomu Nanataki,Jun Yoshikawa,Hirofumi Yamaguchi. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2017-11-21.

Sputtering target and method for producing the same

Номер патента: US09824868B2. Автор: Eiji Kusano,Ken Okamoto,Tadahisa Arahori,Muneaki Sakamoto,Akishige Sato,Sachio Miyashita. Владелец: Ferrotec Ceramics Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Ferromagnetic material sputtering target containing chromium oxide

Номер патента: US09773653B2. Автор: Hideo Takami,Atsutoshi Arakawa. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-09-26.

Multi-block sputtering target and associated methods and articles

Номер патента: US09334562B2. Автор: Mark E. Gaydos,Gary Alan Rozak. Владелец: HC Starck Inc. Дата публикации: 2016-05-10.

Sputtering target on basis of galim oxide-zinc oxide method of formation of treansparent conductive film and treansparent conductive film

Номер патента: RU2380455C2. Автор: Кодзо ОСАДА. Владелец: Ниппон Майнинг Энд Металз Ко., Лтд.. Дата публикации: 2010-01-27.

Sputtering target and method for manufacturing a sputtering target

Номер патента: US11851748B2. Автор: Jun Kajiyama. Владелец: JX Metals Corp. Дата публикации: 2023-12-26.

Sputtering Target And Method For Manufacturing A Sputtering Target

Номер патента: US20210301389A1. Автор: Jun Kajiyama. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2021-09-30.

Gallium oxide/zinc oxide sputtering target, method of forming transparent electro-conductive film and transparent electro-conductive film

Номер патента: RU2389824C2. Автор: Кодзо ОСАДА. Владелец: Ниппон Майнинг Энд Металз Ко., Лтд.. Дата публикации: 2010-05-20.

Process and apparatus for the manufacture of sputtering targets

Номер патента: CA2556786C. Автор: Maher I. Boulos,Jerzy W. Jurewicz. Владелец: Tekna Plasma Systems Inc. Дата публикации: 2012-07-24.

Praseodymium doped indium zinc oxide sputtering target and preparation method therefor

Номер патента: LU504172B1. Автор: Yang Liu,Jie Chen,Zhijun Wang,Miao Liu,Jilin He,Benshuang SUN,Xueyun ZENG,Chengduo WANG,Bingxue Han. Владелец: Univ Zhengzhou. Дата публикации: 2023-11-10.

Gallium oxide-zinc oxide sputtering target, method of forming transparent conductive film, and transparent conductive film

Номер патента: US7686985B2. Автор: Kozo Osada. Владелец: Nippon Mining and Metals Co Ltd. Дата публикации: 2010-03-30.

Method of enhancing the performance of a magnetron sputtering target

Номер патента: CA2089645C. Автор: Steven D. Hurwitt,Arnold J. Aronson,Charles Van Nutt. Владелец: Materials Research Corp. Дата публикации: 1998-05-05.

Magnetic material sputtering target and method for manufacturing same

Номер патента: SG11201903240PA. Автор: Yuki Furuya. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2019-05-30.

Warp correction method for sputtering target with backing plate

Номер патента: US20160211124A1. Автор: Masahiro Aono,Osamu Itoh,Takamichi Yamamoto,Takuya Nagashima. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2016-07-21.

Cylindrical titanium oxide sputtering target and process for manufacturing the same

Номер патента: US20200002235A1. Автор: Markus Schultheis,Martin Schlott,Christoph Simons. Владелец: MATERION ADVANCED MATERIALS GERMANY GMBH. Дата публикации: 2020-01-02.

Silicon sputtering target with special surface treatment and good particle performance and methods of making the same

Номер патента: US20140311900A1. Автор: Yang Liu,Eugene Y. Ivanov,Weifang Miao,Yongwen Yuan,Phil Frausto. Владелец: Tosoh SMD Inc. Дата публикации: 2014-10-23.

Cylindrical titanium oxide sputtering target and process for manufacturing the same

Номер патента: WO2018166831A1. Автор: Markus Schultheis,Martin Schlott,Christoph Simons. Владелец: MATERION ADVANCED MATERIALS GERMANY GMBH. Дата публикации: 2018-09-20.

Novel manufacturing design and processing methods and apparatus for sputtering targets

Номер патента: US20090045044A1. Автор: Chi Tse Wu,Jared Akins. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2009-02-19.

Nisi sputtering target with improved grain structure

Номер патента: WO2020260094A1. Автор: Martin Schlott,Uwe Konietzka. Владелец: MATERION ADVANCED MATERIALS GERMANY GMBH. Дата публикации: 2020-12-30.

Nisi sputtering target with improved grain structure

Номер патента: EP3757248A1. Автор: Martin Schlott,Uwe Konietzka. Владелец: MATERION ADVANCED MATERIALS GERMANY GMBH. Дата публикации: 2020-12-30.

Low carbon defect copper-manganese sputtering target and method for producing the same

Номер патента: US20230287559A1. Автор: Eduardo del Rio Perez,Erich Walter Theado,Lora Birkefeld Thrun. Владелец: Tosoh SMD Inc. Дата публикации: 2023-09-14.

Titanium Sputtering Target, Production Method Therefor, And Method For Producing Titanium-Containing Thin Film

Номер патента: US20200240005A1. Автор: Shuhei Murata,Daiki Shono. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2020-07-30.

Enhanced sputter target manufacturing method

Номер патента: SG136143A1. Автор: Abdelouahab Ziani,Bernd Kunkel. Владелец: Heraeus Inc. Дата публикации: 2007-10-29.

Enhanced sputter target manufacturing method

Номер патента: SG129345A1. Автор: Abdelouahab Ziani,Bernd Kunkel. Владелец: Heraeus Inc. Дата публикации: 2007-02-26.

Enhanced sputter target manufacturing method

Номер патента: SG170754A1. Автор: Ziani Abdelouahab,Bernd Kunkel. Владелец: Heraeus Inc. Дата публикации: 2011-05-30.

Sputtering target

Номер патента: US20210180180A1. Автор: Yuichi Kamori. Владелец: Dexerials Corp. Дата публикации: 2021-06-17.

Sputtering target for forming magnetic thin film

Номер патента: MY184033A. Автор: Yuto MORISHITA. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2021-03-17.

Oxide sintered body, method for producing same and sputtering target

Номер патента: US20190016638A1. Автор: Kenichi Itoh,Shinichi Hara,Hiroyuki Hara. Владелец: Tosoh Corp. Дата публикации: 2019-01-17.

Cylindrical sputtering target and method for manufacturing same

Номер патента: US20160056025A1. Автор: Shinji Kato,Shoubin Zhang,Shozo Komiyama. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2016-02-25.

Sputter target of a silver alloy, its use and glass substrate with thermal insulation layer

Номер патента: US20070259191A1. Автор: Martin Weigert,Christoph Simons. Владелец: WC Heraus GmbH and Co KG. Дата публикации: 2007-11-08.

Complex oxide sintered body, sputtering target, transparent conductive oxide film, and method for producing same

Номер патента: US20140332735A1. Автор: Tetsuo Shibutami,Hideto Kuramochi,Ryo Akiike,Kimiaki Tamano,Hitoshi Ilgusa. Владелец: Tosoh Corp. Дата публикации: 2014-11-13.

Oxide sintered body, method for producing same and sputtering target

Номер патента: US10669208B2. Автор: Kenichi Itoh,Shinichi Hara,Hiroyuki Hara. Владелец: Tosoh Corp. Дата публикации: 2020-06-02.

Sputtering target, magnetic film and method for producing magnetic film

Номер патента: US20210172055A1. Автор: Masayoshi Shimizu,Manami Masuda,Akira Shimojyuku. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2021-06-10.

Transparent conductive film, its production method and sputtering target used for its production

Номер патента: US20090130418A1. Автор: Akira Mitsui,Susumu Nakagama,Hidefumi Odaka. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2009-05-21.

Sputtering target material and sputtering target

Номер патента: EP4435141A1. Автор: Koji Nishioka,Kunihiko Nakata. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-25.

Ultra-high purity nipt alloys and sputtering targets comprising same

Номер патента: SG149742A1. Автор: Shinhwa Li,David Long,Bernd Kunkel,Jun Hui,Carl Derrington. Владелец: Heraeus Inc. Дата публикации: 2009-02-27.

Zinc oxide sputtering target

Номер патента: US09919931B2. Автор: Koichi Kondo,Jun Yoshikawa,Katsuhiro Imai,Koki Kanno. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

Cylindrical sputtering target, cylindrical compact, manufacturing method of cylindrical sputtering target, and manufacturing method of cylindrical sintered compact

Номер патента: US09834839B2. Автор: Yohei Yamaguchi. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-12-05.

Indium sputtering target and method for manufacturing same

Номер патента: US09758860B2. Автор: Yousuke Endo,Masaru Sakamoto. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-09-12.

Sputtering target, method of fabricating the same, and method of fabricating an organic light emitting display apparatus

Номер патента: US09416439B2. Автор: Jin-woo Park,Dong-Jin Kim,Sun-young Jung,Sang-Wook Sin,Il-sang Lee. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-16.

Method of making a tantalum sputter target and sputter targets made thereby

Номер патента: WO2016164269A1. Автор: Matthew Fisher,Alex Kuhn,Eugene Y. Ivanov. Владелец: TOSOH SMD, INC.. Дата публикации: 2016-10-13.

Single phase tungsten-titanium sputter targets and method of producing same

Номер патента: US5896553A. Автор: Chi-Fung Lo. Владелец: Materials Research Corp. Дата публикации: 1999-04-20.

Ti-Nb alloy sputtering target and production method thereof

Номер патента: US11837449B2. Автор: Kunihiro Oda,Takayuki Asano. Владелец: JX Metals Corp. Дата публикации: 2023-12-05.

Sputtering targets and methods for fabricating sputtering targets having multiple materials

Номер патента: SG144792A1. Автор: ZHANG Wenjun. Владелец: Heraeus Inc. Дата публикации: 2008-08-28.

Sputtering target and method of producing sputtering target

Номер патента: US20210172056A1. Автор: Xiaoli Lu,Akira Nakamura,Junichi Nitta,Miho SATOU. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2021-06-10.

Sputtering targets and methods for fabricating sputtering targets having multiple materials

Номер патента: SG178742A1. Автор: Wenjun Zhang. Владелец: Heraeus Inc. Дата публикации: 2012-03-29.

Sputtering target

Номер патента: MY174738A. Автор: Atsushi Sato. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2020-05-12.

Copper-based alloy sputtering target and method for making the same

Номер патента: US20230082145A1. Автор: Tsung-Hsien Hsieh,Shou-Hsien Lin,Yu-An YE. Владелец: Solar Applied Material Technology Corp. Дата публикации: 2023-03-16.

Niw(x) sputtering target with improved structure

Номер патента: EP3825427A1. Автор: Markus Schultheis,Martin Schlott. Владелец: MATERION ADVANCED MATERIALS GERMANY GMBH. Дата публикации: 2021-05-26.

Method for reducing the oxygen and oxide content in cobalt to produce cobalt sputtering targets

Номер патента: US20040011442A1. Автор: HAO Zhang. Владелец: Tosoh SMD Inc. Дата публикации: 2004-01-22.

Sputtering Target, Method For Manufacturing Sputtering Target, Amorphous Film, Method For Manufacturing Amorphous Film, Crystalline Film And Method For Manufacturing Crystalline Film

Номер патента: US20200325572A1. Автор: Takashi Kakeno,Toshihiro Kuge. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2020-10-15.

Method to recover spent components of a sputter target

Номер патента: EP1549779A2. Автор: Robert B. Ford,Christopher A. Michaluk. Владелец: Cabot Corp. Дата публикации: 2005-07-06.

Preparation of chalcogenide glass sputtering targets

Номер патента: US3850604A. Автор: R Klein. Владелец: GTE Laboratories Inc. Дата публикации: 1974-11-26.

Inorganic-particle-dispersed sputtering target

Номер патента: MY148731A. Автор: Nakamura Yuichiro,Sato Atsushi. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2013-05-31.

Magneto-optical alloy sputter targets

Номер патента: CA2174433C. Автор: Daniel R. Marx. Владелец: Materials Research Corp. Дата публикации: 2004-07-20.

NiW(X) Sputtering Target with Improved Structure

Номер патента: US20210156023A1. Автор: Markus Schultheis,Martin Schlott. Владелец: MATERION ADVANCED MATERIALS GERMANY GMBH. Дата публикации: 2021-05-27.

Sputtering target and process for production thereof

Номер патента: MY177222A. Автор: Shin Saito,Migaku Takahashi,Toshiya Yamamoto,Kim Kong THAM,Shintaro HINATA. Владелец: Univ Tohoku. Дата публикации: 2020-09-09.

A method to manufacture an oxide sputter target comprising a first and second phase

Номер патента: EP2294241A1. Автор: Wilmert De Bosscher,Hilde Delrue,Johnny Van Holsbeke,Nuno Jorge Marcolino Carvalho. Владелец: Bekaert Advanced Coatings NV. Дата публикации: 2011-03-16.

A method to manufacture an oxide sputter target comprising a first and second phase

Номер патента: EP2294241B1. Автор: Wilmert De Bosscher,Hilde Delrue,Johnny Van Holsbeke,Nuno Jorge Marcolino Carvalho. Владелец: Bekaert Advanced Coatings NV. Дата публикации: 2012-02-22.

Tantalum sputtering target

Номер патента: US20070023281A1. Автор: Kunihiro Oda. Владелец: Nikko Materials Co Ltd. Дата публикации: 2007-02-01.

Sputtering targets and method for the preparation thereof

Номер патента: US20040069623A1. Автор: Johan Vanderstraeten. Владелец: Rotar Inc. Дата публикации: 2004-04-15.

Molybdenum-niobium alloys, sputtering targets containing such alloys, methods of making such targets, thin films prepared therefrom and uses thereof

Номер патента: EP2277191A1. Автор: Prabhat Kumar,Rong-Chein Richard Wu,Olaf Schmidt-Park,Shuwei Sun,Mark Gaydos,Gary Rozak. Владелец: HC Starck Inc. Дата публикации: 2011-01-26.

Ta sputtering target and method for producing the same

Номер патента: US8580053B2. Автор: Manabu Ito,Motonori Sato,Tadashi Masuda,Poong Kim. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2013-11-12.

Indium oxide/cerium oxide sputtering target, transparent conductive film and process for producing transparent conductive film

Номер патента: EP1731629A1. Автор: Kazuyoshi Central Research Laboratories INOUE,Masato Central Research Laboratories MATSUBARA,Shigekazu Central Research Laboratories TOMAI. Владелец: Idemitsu Kosan Co Ltd. Дата публикации: 2006-12-13.

Methods of forming copper-containing sputtering targets

Номер патента: US20020112791A1. Автор: Janine Kardokus,Chi Wu,Christopher Parfeniuk,Jane Buehler. Владелец: Buehler Jane E.. Дата публикации: 2002-08-22.

(Ga) Zn Sn oxide sputtering target

Номер патента: US9758856B2. Автор: Wilmert De Bosscher,Jorg OBERSTE BERGHAUS. Владелец: Soleras Advanced Coatings Bv. Дата публикации: 2017-09-12.

Ai-based alloy sputtering target and process for producing the same

Номер патента: US20080223718A1. Автор: Toshihiro Kugimiya,Yoichiro Yoneda,Hiroshi Gotou,Katsutoshi Takagi,Masaya Ehira. Владелец: Kobelco Research Institute Inc. Дата публикации: 2008-09-18.

High purity cobalt sputter target and process of manufacturing the same

Номер патента: AU9121498A. Автор: Stephen P. Turner,Michael McCarty,Yinshi Liu,Robert S. Cole,Mathew S. Cooper,Rodney L. Scagline. Владелец: Alta Group Inc. Дата публикации: 1999-03-16.

Sputtering target of perromagnetic material with low generation of particles

Номер патента: MY150826A. Автор: Nakamura Yuichiro,Sato Atsushi,Arakawa Atsutoshi,Ogino Shin-ichi. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2014-02-28.

Sputtering target for magnetic recording medium and method of producing the same

Номер патента: US5334267A. Автор: Hideo Murata,Akira Kawakami,Shigeru Taniguchi. Владелец: Hitachi Metals Ltd. Дата публикации: 1994-08-02.

Ferromagnetic sputtering target and method for manufacturing same

Номер патента: MY156201A. Автор: Ikeda Yuki,Takami Hideo. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2016-01-29.

Automated Sputtering Target Production and Sub Systems Thereof

Номер патента: US20080110011A1. Автор: John P. Matera,Charles E. Wickersham,Wiley Zane Reed,Bobby R. Cosper,Kenneth G. Schmidt,Neil D. Bultz. Владелец: INDUSTRIAL TECHNOLOGIES Inc. Дата публикации: 2008-05-15.

Ferromagnetic material sputtering target

Номер патента: MY161157A. Автор: Yuki Ikeda,Atsutoshi Arakawa. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2017-04-14.

Method for using sputtering target and method for manufacturing oxide film

Номер патента: WO2014002916A1. Автор: Shunpei Yamazaki. Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2014-01-03.

Sputtering target materials for forming alloys for soft-magnetic film layers in perpendicular magnetic recording media, and method for producing the same

Номер патента: MY159546A. Автор: HASEGAWA,Toshiyuki Sawada,Akihiko Yanagitani,Kishida. Владелец: Sanyo Special Steel Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-13.

Sputtering Target Material

Номер патента: US20200362451A1. Автор: Hiroyuki Hasegawa,Noriaki Matsubara. Владелец: Sanyo Special Steel Co Ltd. Дата публикации: 2020-11-19.

Mn-Nb-W-Cu-O-BASED SPUTTERING TARGET, AND PRODUCTION METHOD THEREFOR

Номер патента: US20210358728A1. Автор: Yuichi Kamori. Владелец: Dexerials Corp. Дата публикации: 2021-11-18.

Sputtering target material and method for manufacturing same

Номер патента: EP4105353A1. Автор: Hiroyuki Hasegawa,Noriaki Matsubara. Владелец: Sanyo Special Steel Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-21.

Partial spray refurbishment of sputtering targets

Номер патента: US11739416B2. Автор: Steven A. Miller. Владелец: HC Starck Solutions Euclid LLC. Дата публикации: 2023-08-29.

Fabrication of b/c/n/o/si doped sputtering targets

Номер патента: MY134322A. Автор: Wenjun Zhang. Владелец: Heraeus Inc. Дата публикации: 2007-12-31.

Highly homogeneous glass sputter targets with large aspect ratio and high relative density for physical vapor deposition

Номер патента: EP4363384A1. Автор: Yoshio Okano,William Preston,James Marro,Azatuhi AYRIKYAN. Владелец: Schott Japan Corp. Дата публикации: 2024-05-08.

Sputtering targets and methods for fabricating sputtering targets having multiple materials

Номер патента: EP1942205A3. Автор: Wenjun Zhang. Владелец: Heraeus Inc. Дата публикации: 2009-09-09.

Method for producing sputtering target with lowered oxygen content

Номер патента: US20030000068A1. Автор: Hiroyuki Sakai,Satoru Kobayashi,Masato Imamura,Yoshihiro Sera,Norioki Ikeda,Shuji Shihara. Владелец: Mitsui Mining and Smelting Co Ltd. Дата публикации: 2003-01-02.

Sputtering target and production method of the same

Номер патента: US20160079044A1. Автор: Masahiro Shoji,Shoubin Zhang,Keita UMEMOTO. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2016-03-17.

Sputtering target

Номер патента: US20240043986A1. Автор: Hironobu Nakamura,Yu Suzuki,Tomohiro Maruko,Shohei OTOMO. Владелец: Furuya Metal Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Sputter Target With High-Melting Phase

Номер патента: US20070240981A1. Автор: Markus Schultheis,Martin Schlott. Владелец: WC Heraus GmbH and Co KG. Дата публикации: 2007-10-18.

Method of forming a sputtering target

Номер патента: US20200332411A1. Автор: Marina Zelner,Andrew Vladimir Claude Cervin. Владелец: NXP USA Inc. Дата публикации: 2020-10-22.

Ag ALLOY REFLECTIVE FILM FOR OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM, OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM AND Ag ALLOY SPUTTERING TARGET FOR FORMING Ag ALLOY REFLECTIVE FILM FOR OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM

Номер патента: US20070141296A1. Автор: Junichi Nakai,Tetsuhiro Sakamoto,Jun Nakano,Yuki Tauchi. Владелец: Kobe Steel Ltd. Дата публикации: 2007-06-21.

Sputtering target and semiconductor device manufactured using the same

Номер патента: US20100283154A1. Автор: Yu-Gyun Shin,Hee-sook Park,Su-kyoung Kim,Taek-Jung Kim,Sun-Ghil Lee,Jong-min Back. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-11-11.

Photovoltaic sputtering targets fabricated from reclaimed materials

Номер патента: US09994951B2. Автор: Jasbinder S. Sanghera,Vinh Q. Nguyen,Michael Cyrus,Jesse A. Frantz,Jason D. Myers,Robel Y. Bekele,Sergey V. Frolov,Allan J. Bruce. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2018-06-12.

Sputtering target and production method of the same

Номер патента: US09934949B2. Автор: Masahiro Shoji,Shoubin Zhang,Keita UMEMOTO. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Sputtering target, method for manufacturing the same, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09865696B2. Автор: Shunpei Yamazaki. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Methods of manufacturing large-area sputtering targets using interlocking joints

Номер патента: US09564299B2. Автор: Stefan Zimmermann,Steven Alfred Miller,Mark Gaydos,Scott Jeffrey VOLCHKO,William Loewenthal. Владелец: HC Starck Inc. Дата публикации: 2017-02-07.

Copper alloy sputtering target

Номер патента: US09518320B2. Автор: Toshio Sakamoto,Satoru Mori,Kiyoyuki Ookubo. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2016-12-13.

Advanced sputter targets for ion generation

Номер патента: US11542594B2. Автор: Klaus Becker,Graham Wright. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-01-03.

Sputtering target and method of manufacturing the same

Номер патента: US5508000A. Автор: Michio Satou,Noriaki Yagi,Hiromi Shizu,Mituo Kawai,Takasi Yamanobe,Tooru Komatu. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1996-04-16.

Sputtering Target Material

Номер патента: US20180265963A1. Автор: Hiroyuki Hasegawa,Noriaki Matsubara. Владелец: Sanyo Special Steel Co Ltd. Дата публикации: 2018-09-20.

Cobalt sputtering target

Номер патента: US11830711B2. Автор: Kunihiro Oda,Takayuki Asano. Владелец: JX Metals Corp. Дата публикации: 2023-11-28.

Sputtering target including carbon-doped gst and method for fabricating electronic device using the same

Номер патента: US20220190241A1. Автор: Jun Ku AHN. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2022-06-16.

Sputtering target, magnetic film and method for producing magnetic film

Номер патента: US11821076B2. Автор: Masayoshi Shimizu,Manami Masuda,Akira Shimojyuku. Владелец: JX Metals Corp. Дата публикации: 2023-11-21.

Highly homogeneous glass sputter targets with large aspect ratio and high relative density for physical vapor deposition

Номер патента: US20240133023A1. Автор: Yoshio Okano,William Preston,James Marro,Azatuhi AYRIKYAN. Владелец: Schott Japan Corp. Дата публикации: 2024-04-25.

Sputtering Target Including a Feature to Reduce Chalcogen Build Up and Arcing on a Backing Tube

Номер патента: US20130337602A1. Автор: Mark Campello,Robert Martinson,Heinrich Von Bunau,Johannes Vlcek,Ron Rulkens,Tom Heckel. Владелец: MIASOLE. Дата публикации: 2013-12-19.

Thin-film transistor and zinc oxide-based sputtering target for the same

Номер патента: US20140001469A1. Автор: Do-Hyun Kim,Jaewoo Park,Yoon Gyu Lee,Dongjo Kim,Yongjin Lee,Juok Park,Woo-Seok Jeon,Sangwon Yoon,Insung Sohn,Gunhyo Lee. Владелец: Samsung Corning Precision Materials Co Ltd. Дата публикации: 2014-01-02.

Sputtering targets and associated sputtering methods for forming hermetic barrier layers

Номер патента: WO2013138434A1. Автор: Bruce G Aitken,Mark A Quesada,Shari E Koval. Владелец: CORNING INCORPORATED. Дата публикации: 2013-09-19.

Sputtering target for forming magnetic recording film and method for producing same

Номер патента: MY191633A. Автор: Shin-Ichi Ogino. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2022-07-04.

Sputtering target for forming magnetic recording film and method for producing same

Номер патента: MY177997A. Автор: Shin-Ichi Ogino. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2020-09-29.

Stably dischargeable sputtering target

Номер патента: MY187017A. Автор: Shin-Ichi Ogino,Yasuyuki Iwabuchi. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2021-08-26.

Sputtering target material

Номер патента: US20110139615A1. Автор: Noriyuki Tatsumi,Kouichi Isaka,Masami Odakura,Tatsuya Tonogi,Katsutoshi Honya. Владелец: Hitachi Cable Ltd. Дата публикации: 2011-06-16.

Thin-film transistor and zinc oxide-based sputtering target for the same

Номер патента: US9035297B2. Автор: Do-Hyun Kim,Jaewoo Park,Yoon Gyu Lee,Dongjo Kim,Yongjin Lee,Juok Park,Woo-Seok Jeon,Sangwon Yoon,Insung Sohn,Gunhyo Lee. Владелец: Samsung Corning Advanced Glass LLC. Дата публикации: 2015-05-19.

Method for bonding components of a sputtering target, a bonded assembly of sputtering target components and the use thereof

Номер патента: EP2582857A1. Автор: Robert Linsbod. Владелец: Umicore NV SA. Дата публикации: 2013-04-24.

IGZO sputtering target

Номер патента: US11827972B2. Автор: Kozo Osada,Kazutaka Murai,Jun Kajiyama,Yuhei Kuwana. Владелец: JX Metals Corp. Дата публикации: 2023-11-28.

Methods for manufacturing zinc oxide base sputtering target and transparent electrically conductive film

Номер патента: US8182722B2. Автор: Takahiro Nagata,Toshitaka Kawashima,Shina Kirita,Yuichi Kamori. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2012-05-22.

Magnesium oxide sputtering target

Номер патента: EP3839090A1. Автор: Yoshitaka Shibuya,Satoyasu Narita,Hiroki Kajita. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2021-06-23.

Sputtering target for forming protective film, and laminated wiring film

Номер патента: US10538059B2. Автор: Satoru Mori,Sohei Nonaka. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2020-01-21.

Alloy for seed layers of magnetic recording media, sputtering target material and magnetic recording medium

Номер патента: SG11201808739XA. Автор: Noriaki Matsubara,Miyuki Imoto. Владелец: Sanyo Special Steel Co Ltd. Дата публикации: 2018-11-29.

Alloy for seed layers of magnetic recording media, sputtering target material and magnetic recording medium

Номер патента: MY190813A. Автор: Matsubara Noriaki,Imoto Miyuki. Владелец: Sanyo Special Steel Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-12.

Piezoelectric ceramic sputtering target, lead-free piezoelectric thin film and piezoelectric thin film element using the same

Номер патента: US20170288128A1. Автор: Masahito Furukawa,Masaru Nanao,Kenta Ishii,Tomohisa Azuma,Tatsuji Sano. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2017-10-05.

Enhanced sputter target manufacturing method

Номер патента: MY142962A. Автор: Ziani Abdelouahab,Kunkel Bernd. Владелец: Heraeus Inc. Дата публикации: 2011-01-31.

Sputtering target

Номер патента: US11827971B2. Автор: Yuichi Kamori. Владелец: Dexerials Corp. Дата публикации: 2023-11-28.

Nisi Sputtering Target With Improved Grain Structure

Номер патента: MY195195A. Автор: Martin Schlott,Uwe Konietzka. Владелец: Materion Advanced Mat Germany Gmbh. Дата публикации: 2023-01-11.

Tin oxide-based sputtering target, low resistivity, transparent conductive film, method for producing such film and composition for use therein

Номер патента: US20080099731A1. Автор: Prabhat Kumar,Rong-Chein Richard Wu,Shuwei Sun. Владелец: HC Starck Inc. Дата публикации: 2008-05-01.

Highly purified titanium material and its named article, a sputtering target

Номер патента: US5204057A. Автор: Noriaki Yagi,Takashi Ishigami,Mituo Kawai. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1993-04-20.

Sputtering target

Номер патента: US20160376696A1. Автор: Yukio Kawaguchi,Minoru Iino,Kenichi Kiuchi. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2016-12-29.

Method of forming coated article using sputtering target(s) and ion source(s) and corresponding apparatus

Номер патента: CA2585636A1. Автор: Uwe Kriltz,Vijayen S. Veerasamy,Gerald Janicke,Jochen Butz. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-05-26.

Sputtering target and method of fabrication

Номер патента: EP1848552A2. Автор: Charles E. Wickersham, Jr.,P. Todd Alexander,Vladimir I. Levit. Владелец: Cabot Corp. Дата публикации: 2007-10-31.

Sputtering Target And Method Of Fabrication

Номер патента: US20110297536A1. Автор: Charles E. Wickersham, Jr.,P. Todd Alexander,Vladimir Levit. Владелец: Cabot Corp. Дата публикации: 2011-12-08.

Method of forming coated article using sputtering target(s) and ion source(s) and corresponding apparatus

Номер патента: EP1817265A2. Автор: Uwe Kriltz,Vijayen S. Veerasamy,Gerald Janicke,Jochen Butz. Владелец: Centre Luxembourgeois de Recherches pour le Verre et la Ceramique CRVC SARL. Дата публикации: 2007-08-15.

In-Ga-Zn Type Oxide Sputtering Target

Номер патента: US20120093712A1. Автор: Koki Yano,Masayuki Itose,Mami Nishimura. Владелец: Idemitsu Kosan Co Ltd. Дата публикации: 2012-04-19.

Recording layer for optical information recording medium, optical information recording medium, and sputtering target

Номер патента: US20120177863A1. Автор: Yuki Tauchi,Yasuhiro Sone,Yoko Shida. Владелец: Kobe Steel Ltd. Дата публикации: 2012-07-12.

Zirconium oxide based sputtering target

Номер патента: US20180155820A1. Автор: Markus Schultheis,Christoph Simons,Andreas HERZOG,Anna Schott. Владелец: MATERION ADVANCED MATERIALS GERMANY GMBH. Дата публикации: 2018-06-07.

Zirconium oxide based sputtering target

Номер патента: WO2017108271A1. Автор: Markus Schultheis,Christoph Simons,Andreas HERZOG,Anna Schott. Владелец: MATERION ADVANCED MATERIALS GERMANY GMBH. Дата публикации: 2017-06-29.

Soft Magnetic Alloy for Magnetic Recording Medium, Sputtering Target Material, and Magnetic Recording Medium

Номер патента: US20130224067A1. Автор: Hiroyuki Hasegawa,Toshiyuki Sawada,Atsushi Kishida. Владелец: Sanyo Special Steel Co Ltd. Дата публикации: 2013-08-29.

Soft magnetic alloy for magnetic recording medium, sputtering target material, and magnetic recording medium

Номер патента: SG188252A1. Автор: Hiroyuki Hasegawa,Toshiyuki Sawada,Atsushi Kishida. Владелец: Sanyo Special Steel Co Ltd. Дата публикации: 2013-04-30.

Soft magnetic alloy for magnetic recording medium, sputtering target material, and magnetic recording medium

Номер патента: US9208812B2. Автор: Hiroyuki Hasegawa,Toshiyuki Sawada,Atsushi Kishida. Владелец: Sanyo Special Steel Co Ltd. Дата публикации: 2015-12-08.

Method of making an electrically conductive cadmium sulfide sputtering target for photovoltaic manufacturing

Номер патента: WO2011034812A2. Автор: Stephen Barry. Владелец: MIASOLE. Дата публикации: 2011-03-24.

Sputtering target

Номер патента: US20220195583A1. Автор: Masahiro Shoji,Yujiro Hayashi,Yuichi Kondo. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2022-06-23.

Nickel-titanium sputter target alloy

Номер патента: EP1390552A1. Автор: Thomas J. Hunt,Paul S. Gilman,Holger J. Koenigsmann. Владелец: Praxair ST Technology Inc. Дата публикации: 2004-02-25.

Sputtering target

Номер патента: US10138544B2. Автор: Dean T. Plaisted,Michael Asbas,Lawrence C. Ferrin,Paul G. Carter,Guy P. Laverriere. Владелец: Soleras Ltd. Дата публикации: 2018-11-27.

Sputtering target manufacturing method and sputtering target

Номер патента: TW201142060A. Автор: Junichirou Hagihara,Shuichi Higashi,Shozo Kambara. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2011-12-01.

Method of Manufacturing a Sputtering Target and Sputtering Target

Номер патента: US20120132523A1. Автор: Junichirou Hagihara,Shuichi Higashi,Shozo Kambara. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2012-05-31.

COPPER ALLOY SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD OF COPPER ALLOY SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20150034482A1. Автор: SAKAMOTO Toshio,Mori Satoru,Ookubo Kiyoyuki. Владелец: . Дата публикации: 2015-02-05.

SPUTTERING TARGET AND METHOD OF MANUFACTURING SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20190039131A1. Автор: Shiono Ichiro,Zhang Shoubin,Umemoto Keita,IO Kensuke. Владелец: . Дата публикации: 2019-02-07.

METHOD OF MANUFACTURING Cu-Ga ALLOY SPUTTERING TARGET AND Cu-Ga ALLOY SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20190040524A1. Автор: Ueda Toshiaki,Yoshida Yuki,Mori Satoru. Владелец: . Дата публикации: 2019-02-07.

Cu-Ga ALLOY SPUTTERING TARGET AND METHOD OF MANUFACTURING Cu-Ga ALLOY SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20180066355A1. Автор: Ueda Toshiaki,Yoshida Yuki,Mori Satoru. Владелец: . Дата публикации: 2018-03-08.

SPUTTERING TARGET AND METHOD OF PRODUCING SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20160260591A1. Автор: Zhang Shoubin. Владелец: . Дата публикации: 2016-09-08.

METHOD OF MAKING LOW RESISTIVITY TUNGSTEN SPUTTER TARGETS AND TARGETS MADE THEREBY

Номер патента: US20180312960A1. Автор: Ivanov Eugene Y.,Del Rio Eduardo. Владелец: . Дата публикации: 2018-11-01.

METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET AND SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20200384598A1. Автор: FUJITA Masahiro,NISHIOKA Koji. Владелец: Sumitomo Chemical Company, Limited. Дата публикации: 2020-12-10.

Method of making a sputter target and sputter targets made thereby

Номер патента: KR101626286B1. Автор: 엠. 커크 홀콤,데이빗 비. 스마터스. Владелец: 토소우 에스엠디, 인크. Дата публикации: 2016-06-01.

Sintered body for sputtering target, sputtering target comprising the same, and the preparation thereof

Номер патента: KR102263238B1. Автор: 양승호,윤원규,권오집,홍길수. Владелец: 엘티메탈 주식회사. Дата публикации: 2021-06-10.

Method for a variety metal bonding on precious metals sputtering target decrease raw materials and the sputtering target prepared thereby

Номер патента: KR102332893B1. Автор: 양승호,윤원규,권오집,홍길수. Владелец: 엘티메탈 주식회사. Дата публикации: 2021-12-01.

Sputtering target manufacturing method and sputtering target

Номер патента: JP6397592B1. Автор: 昌宏 藤田,宏司 西岡. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-09-26.

METHOD OF MANUFACTURING Mo ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL AND Mo ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL

Номер патента: KR101613001B1. Автор: 게이스케 이노우에,히데오 무라타,마사시 가미나다. Владелец: 히타치 긴조쿠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2016-04-15.

METHOD OF MANUFACTURING Mo ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL AND Mo ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL

Номер патента: KR20140103061A. Автор: 게이스케 이노우에,히데오 무라타,마사시 가미나다. Владелец: 히타치 긴조쿠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2014-08-25.

Method for producing a sputtering target from an Si-based alloy, and the use of the sputtering target

Номер патента: DE10253319B3. Автор: Martin Dr. Weigert,Josef Heindel,Uwe Konietzka. Владелец: WC Heraus GmbH. Дата публикации: 2004-05-27.

Sputtering target member, sputtering target assembly and manufacturing method of sputtering target member

Номер патента: KR102268236B1. Автор: 타카시 카케노,토시히로 쿠게. Владелец: 제이엑스금속주식회사. Дата публикации: 2021-06-22.

The manufacturing method of sputtering target member, sputtering target assembly and sputtering target member

Номер патента: CN110359020A. Автор: 挂野崇,久家俊洋. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2019-10-22.

Sputtering target processing method, sputtering target processing apparatus, and sputtering target product manufacturing method

Номер патента: JP6527609B2. Автор: 昌宏 藤田,宏司 西岡. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-05.

Fept-based sputtering target and process for producing the same

Номер патента: MY173713A. Автор: Goto Yasuyuki,MIYASHITA Takanobu,NISHIURA Masahiro,Yamamoto Takamichi,Kushibiki Ryousuke,Aono Masahiro. Владелец: Tanaka Precious Metal Ind. Дата публикации: 2020-02-18.

Method for manufacturing a molybdenum sputtering target for back electrode of CIGS solar cell

Номер патента: US09506141B2. Автор: Seung Min Lee,Ik Hyun Oh,Jun Mo Yang,Hyun Kuk Park. Владелец: Korea Institute of Industrial Technology KITECH. Дата публикации: 2016-11-29.

FePt-C-BASED SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20190292650A1. Автор: Yasuyuki Goto,Masahiro Nishiura,Takamichi Yamamoto,Ryousuke Kushibiki. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2019-09-26.

Co—Cr—Pt-based sputtering target and method for producing same

Номер патента: US09732414B2. Автор: Atsushi Sato,Yuki Ikeda,Yuichiro Nakamura,Hideo Takami,Atsutoshi Arakawa. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-08-15.

Sputtering target for magnetic recording film and process for production thereof

Номер патента: US09605339B2. Автор: Atsushi Nara,Hideo Takami,Shin-Ichi Ogino. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Method of manufacturing sputtering target and sputtering target

Номер патента: US20170009336A1. Автор: Nobuaki Nakashima,Tooru Komatsu. Владелец: Toshiba Materials Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-12.

Method of manufacturing sputtering target and sputtering target

Номер патента: US20200115790A1. Автор: Nobuaki Nakashima,Tooru Komatsu. Владелец: Toshiba Materials Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-16.

Sputtering target

Номер патента: US20200385853A1. Автор: Koji Nishioka,Masahiro Fujita,Hiroyuki Tsukada. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-10.

Fept-c-based sputtering target and method for manufacturing same

Номер патента: US20160013033A1. Автор: Yasuyuki Goto,Masahiro Nishiura,Takamichi Yamamoto,Ryousuke Kushibiki. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2016-01-14.

Oxide sintered body and method for manufacturing the same, sputtering target, and semiconductor device

Номер патента: US09957604B2. Автор: Kenichi Watatani,Koichi Sogabe,Miki Miyanaga. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2018-05-01.

Cu—Ga alloy sputtering target and method for producing same

Номер патента: US09748080B2. Автор: Satoru Mori,Yuuki Yoshida,Kouichi Ishiyama. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2017-08-29.

Method for manufacturing a molybdenum sputtering target for back electrode of cigs solar cell

Номер патента: US20130336831A1. Автор: Seung Min Lee,Ik Hyun Oh,Jun Mo Yang,Hyun Kuk Park. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-12-19.

Tungsten Sintered Compact Sputtering Target and Tungsten Film Formed Using Said Target

Номер патента: US20150303040A1. Автор: Kazumasa Ohashi,Kengo Kaminaga. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2015-10-22.

Fept-based sputtering target

Номер патента: US20140318954A1. Автор: Masahiro Aono,Yasuyuki Goto,Masahiro Nishiura,Takamichi Yamamoto,Ryousuke Kushibiki,Takanobu Miyashita. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2014-10-30.

Tungsten Sputtering Target And Method For Producing Same

Номер патента: US20170211176A1. Автор: Kunihiro Oda,Kazumasa Ohashi. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-07-27.

Sputtering target

Номер патента: US20210087673A1. Автор: Masahiro Aono,Shin Saito,Takeshi Ishibashi,Tomonari KAMADA,Ryousuke Kushibiki,Kim Kong THAM,Takeshi Numazaki. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2021-03-25.

Sputtering Target Material

Номер патента: US20190309394A1. Автор: Hiroyuki Hasegawa,Yumeki SHINMURA. Владелец: Sanyo Special Steel Co Ltd. Дата публикации: 2019-10-10.

Fept-based sputtering target

Номер патента: US20140318955A1. Автор: Masahiro Aono,Yasuyuki Goto,Masahiro Nishiura,Takamichi Yamamoto,Ryousuke Kushibiki,Takanobu Miyashita. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2014-10-30.

Fept-c-based sputtering target

Номер патента: MY192178A. Автор: Yasuyuki Goto,Masahiro Nishiura,Takamichi Yamamoto,Ryousuke Kushibiki. Владелец: Tanaka Precious Metal Ind. Дата публикации: 2022-08-04.

Sputter targets for self-doped source and drain contacts

Номер патента: US20240186127A1. Автор: Gilbert Dewey,Jack T. Kavalieros,Matthew V. Metz,Aaron A. Budrevich,Ilya V. Karpov,Dan S. Lavric. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-06-06.

Sputtering target material

Номер патента: US20210010105A1. Автор: Satoru Mori,Satoshi Kumagai,U Tani,Yuuji Sato. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2021-01-14.

Sputtering target for forming protective film, and laminated wiring film

Номер патента: US20140315043A1. Автор: Satoru Mori,Sohei Nonaka. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2014-10-23.

High efficiency rotatable sputter target

Номер патента: US11830712B2. Автор: Jeremy Young,Ian RAVARY. Владелец: SCI ENGINEERED MATERIALS Inc. Дата публикации: 2023-11-28.

Process for producing fept-based sputtering target

Номер патента: US20140322062A1. Автор: Masahiro Aono,Yasuyuki Goto,Masahiro Nishiura,Takamichi Yamamoto,Ryousuke Kushibiki,Takanobu Miyashita. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2014-10-30.

Process for producing fept-based sputtering target

Номер патента: US20140322063A1. Автор: Masahiro Aono,Yasuyuki Goto,Masahiro Nishiura,Takamichi Yamamoto,Ryousuke Kushibiki,Takanobu Miyashita. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2014-10-30.

Electrode structure of rear electrode of semiconductor substrate, method of its obtaining and sputtered target for use in production of electrode structure

Номер патента: RU2718134C1. Автор: Тецуя КАТО,Йохей МИЗУНО,Тихару ИСИКУРА. Владелец: Танака Кикинзоку Когио К.К.. Дата публикации: 2020-03-30.

CoZrTa(X) Sputtering Target with Improved Magnetic Properties

Номер патента: US20240018645A1. Автор: Martin Schlott,Uwe Konietzka. Владелец: MATERION ADVANCED MATERIALS GERMANY GMBH. Дата публикации: 2024-01-18.

Cozrta(x) sputtering target with improved magnetic properties

Номер патента: WO2022122525A3. Автор: Martin Schlott,Uwe Konietzka. Владелец: MATERION ADVANCED MATERIALS GERMANY GMBH. Дата публикации: 2022-08-11.

Cozrta(x) sputtering target with improved magnetic properties

Номер патента: EP4260358A2. Автор: Martin Schlott,Uwe Konietzka. Владелец: MATERION ADVANCED MATERIALS GERMANY GMBH. Дата публикации: 2023-10-18.

Cozrta(x) sputtering target with improved magnetic properties

Номер патента: WO2022122525A2. Автор: Martin Schlott,Uwe Konietzka. Владелец: MATERION ADVANCED MATERIALS GERMANY GMBH. Дата публикации: 2022-06-16.

Sputtering target for magnetic recording film, and process for producing same

Номер патента: US09567665B2. Автор: Atsushi Nara,Hideo Takami,Shin-Ichi Ogino. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-02-14.

High-purity copper or high-purity copper alloy sputtering target, process for manufacturing the sputtering target, and high-purity copper or high-purity copper alloy sputtered film

Номер патента: US09441289B2. Автор: Atsushi Fukushima,Susumu Shimamoto,Yuichiro Shindo. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2016-09-13.

Thin film formation use sputtering target material, thin film formed using same, and optical recording medium

Номер патента: US20050129900A1. Автор: Takashi Ueno,Katsuhisa Aratani. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-06-16.

Gold sputtering target and method for producing the same

Номер патента: US11795540B2. Автор: Tetsuya Kato,Masahiro Takahashi,Takashi Terui. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2023-10-24.

Sputtering Target and Manufacturing Method Therefor

Номер патента: US20230349035A1. Автор: Tomio Otsuki,Yasushi Moril. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2023-11-02.

SPUTTERING TARGETS AND DEVICES INCLUDING Mo, Nb, AND Ta, AND METHODS

Номер патента: WO2016115026A9. Автор: Qi Zhang,Shuwei Sun,Gary Alan Rozak,Barbara Cox,Yen-Te Lee. Владелец: H.C. Starck Inc.. Дата публикации: 2016-10-27.

SPUTTERING TARGETS AND DEVICES INCLUDING Mo, Nb, and Ta, AND METHODS

Номер патента: US20190066987A1. Автор: Qi Zhang,Shuwei Sun,Gary Alan Rozak,Barbara Cox,Yen-Te Lee. Владелец: HC Starck Inc. Дата публикации: 2019-02-28.

Passivation layer for forming semiconductor bonding structure, sputtering target making the same, semiconductor bonding structure and semiconductor bonding process

Номер патента: US20240145421A1. Автор: Kuan-Neng Chen,Chih-Han Chen,Hong-Yi Wu,Ying-Chan HUNG,Cheng-Yen Hsieh,Zhong-Jie HONG,Chih-I CHO,Ming-Wei WENG,Chiao-Yen WANG. Владелец: Solar Applied Material Technology Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Sputtering target material

Номер патента: US20120070332A1. Автор: Koichi Hasegawa,Nobuo Ishii. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-03-22.

Cylindrical sputtering target material

Номер патента: US09748079B2. Автор: Akira Sakurai,Satoshi Kumagai,Michiaki OHTO. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2017-08-29.

High strength sputtering target for forming phosphor film in electroluminescence element

Номер патента: CA2607620C. Автор: Akifumi Mishima,Shoubin Zhang,Shozo Komiyama. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2011-07-12.

Sputtering target, low resistivity, transparent conductive film, method for producing such film and composition for use therein

Номер патента: CA2623404A1. Автор: Prabhat Kumar,Rong-Chein Richard Wu,Gerhard Woetting. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-04-12.

Sputtering target material

Номер патента: US20040055882A1. Автор: Koichi Hasegawa,Nobuo Ishii,Tomoyoshi Asaki. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-03-25.

Sputtering target, low resistivity, transparent conductive film, method for producing such film and composition for use therein

Номер патента: WO2007041081A1. Автор: Prabhat Kumar,Rong-Chein Richard Wu,Gerhard Woetting. Владелец: H. C. Starck Ceramics Gmbh & Co., Kg. Дата публикации: 2007-04-12.

Cylindrical sputtering target material

Номер патента: US20160203959A1. Автор: Akira Sakurai,Satoshi Kumagai,Michiaki OHTO. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2016-07-14.

High-purity copper sputtering target

Номер патента: US09773651B2. Автор: Shigeru Watanabe,Takeo Okabe,Tomio Otsuki. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-09-26.

Sputtering target and/or coil, and process for producing same

Номер патента: US09951412B2. Автор: Kenichi Nagata,Nobuhito Makino. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2018-04-24.

Copper alloy sputtering target and method for manufacturing the target

Номер патента: US09896745B2. Автор: Hirohito Miyashita,Takeo Okabe. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Sputtering target for magnetic recording film

Номер патента: US09683284B2. Автор: Yuichiro Nakamura,Shin-Ichi Ogino. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-06-20.

Sputtering Target for Magnetic Recording Medium, and Process for Producing Same

Номер патента: US20180163294A1. Автор: Yuichiro Nakamura,Shin-Ichi Ogino. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2018-06-14.

Sputtering Target for Magnetic Recording Medium, and Process for Producing Same

Номер патента: US20150027882A1. Автор: Yuichiro Nakamura,Shin-Ichi Ogino. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2015-01-29.

Sputtering target for magnetic recording medium, and process for producing same

Номер патента: US09970099B2. Автор: Yuichiro Nakamura,Shin-Ichi Ogino. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2018-05-15.

Fe-co alloy sputtering target material and method for producing same, and soft magnetic thin film layer and perpendicular magnetic recording medium using same

Номер патента: MY167435A. Автор: Hiroyuki Hasegawa,Toshiyuki Sawada,Noriaki Matsubara. Владелец: Sanyo Special Steel Co Ltd. Дата публикации: 2018-08-28.

Method for the manufacturing of sputtering targets using an inorganic polymer

Номер патента: EP2297374A1. Автор: Brigitte Pecquenard,Alain Levasseur. Владелец: CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE CNRS. Дата публикации: 2011-03-23.

Oxide semiconductor sputtering target and method of fabricating thin-film transistor using same

Номер патента: US12119225B2. Автор: Shinhyuk Kang,Jeonghyun Moon,Kangmin Ok. Владелец: KV Materials Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-15.

Oxide sintered body, sputtering target, and oxide semiconductor thin film obtained using sputtering target

Номер патента: US09941415B2. Автор: Fumihiko Matsumura,Eiichiro Nishimura,Tokuyuki Nakayama,Masashi Iwara. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2018-04-10.

Copper alloy sputtering target, process for producing the same and semiconductor element wiring

Номер патента: US09765425B2. Автор: Takeo Okabe. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-09-19.

Oxide sintered body, sputtering target, and oxide semiconductor thin film obtained using sputtering target

Номер патента: US09732004B2. Автор: Fumihiko Matsumura,Eiichiro Nishimura,Tokuyuki Nakayama,Masashi Iwara. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2017-08-15.

Oxide sintered body, sputtering target, and oxide semiconductor thin film obtained using sputtering target

Номер патента: US09688580B2. Автор: Fumihiko Matsumura,Eiichiro Nishimura,Tokuyuki Nakayama,Masashi Iwara. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2017-06-27.

Al-based alloy sputtering target and Cu-based alloy sputtering target

Номер патента: US09551065B2. Автор: Junichi Nakai,Toshiaki Takagi,Katsushi Matsumoto. Владелец: Kobelco Research Institute Inc. Дата публикации: 2017-01-24.

High-purity ferromagnetic sputter targets and methods of manufacture

Номер патента: US20040031546A1. Автор: Thomas Hunt,David Dombrowski,Andrew Perry,Holger Koenigsmann. Владелец: Praxair ST Technology Inc. Дата публикации: 2004-02-19.

High-Purity Copper Sputtering Target

Номер патента: US20140367253A1. Автор: Shigeru Watanabe,Takeo Okabe,Tomio Otsuki. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2014-12-18.

Modified lithium cobalt oxide sputtering targets

Номер патента: WO2015130738A1. Автор: Chi-Fung Lo,Paul Gilman,Darryl P. DRAPER. Владелец: PRAXAIR S.T. TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2015-09-03.

Sputtering target for insulating oxide film, method for forming insulating oxide film, and method for producing field-effect transistor

Номер патента: US20200176588A1. Автор: Shinji Matsumoto,Yuki Nakamura,Yuji Sone,Yukiko Abe,Naoyuki Ueda,Ryoichi SAOTOME,Minehide KUSAYANAGI. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-06-04.

Sputtering target material and thin film manufactured using the material

Номер патента: MY156642A. Автор: Sawada Toshiyuki,Kishida Atsushi. Владелец: Sanyo Special Steel Co Ltd. Дата публикации: 2016-03-15.

Sputtering target for forming protective film and laminated wiring film

Номер патента: US09543128B2. Автор: Satoru Mori,Souhei Nonaka. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Sputtering target and method for forming cesium tungsten oxide film

Номер патента: EP4350029A1. Автор: Hideharu Okami. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2024-04-10.

Sputtering target and method for forming cesium tungsten oxide film

Номер патента: US20240117485A1. Автор: Hideharu Okami. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2024-04-11.

Enhanced sputter target alloy compositions

Номер патента: EP1607940A3. Автор: Abdelouahab Ziani,Bernd Kunkel,Michael Bartholomeusz,Yuanda R. Cheng. Владелец: Heraeus Inc. Дата публикации: 2006-02-15.

Sputtering target comprising oxide phase dispersed in co or co alloy phase, magnetic thin film made of co or co alloy phase and oxide phase, and magnetic recording medium using the said thin film

Номер патента: MY149640A. Автор: Nakamura Yuichiro,Ikeda Yuki,Ogino Shin-ichi. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2013-09-13.

Fe-Al Based Alloy Sputtering Target

Номер патента: US20140166481A1. Автор: Kentaro Harada. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2014-06-19.

Sputtering target of ferromagnetic material with low generation of particles

Номер патента: MY157156A. Автор: Nakamura Yuichiro,Sato Atsushi,Arakawa Atsutoshi,Ogino Shin-ichi. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2016-05-13.

Sputtering target material and oxide semiconductor

Номер патента: US20230307549A1. Автор: Shigeki Tokuchi,Kyosuke Teramura,Ryo SHIRANITA. Владелец: Mitsui Mining and Smelting Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Sputtering target, oxide semiconductor, oxynitride semiconductor, and transistor

Номер патента: US20170352763A1. Автор: Shunpei Yamazaki. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-07.

Sputtering target, oxide semiconductor, oxynitride semiconductor, and transistor

Номер патента: US20200013894A1. Автор: Shunpei Yamazaki. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2020-01-09.

Potassium sodium niobate sputtering target and production method thereof

Номер патента: US11851747B2. Автор: Ryo Suzuki,Atsushi Nara,Hiroshi Takamura,Ryosuke Sakashita. Владелец: JX Metals Corp. Дата публикации: 2023-12-26.

Aluminum sputtering target

Номер патента: US20180223416A1. Автор: Hiromi Matsumura. Владелец: Kobelco Research Institute Inc. Дата публикации: 2018-08-09.

Sb—Te-based alloy sintered compact sputtering target

Номер патента: US11846015B2. Автор: Hideyuki Takahashi,Yoshimasa Koido. Владелец: JX Metals Corp. Дата публикации: 2023-12-19.

Cylindrical sputtering target and method for producing same

Номер патента: US20190360090A1. Автор: Yoshitaka Tsuruta,Tomoya Negishi. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2019-11-28.

Potassium sodium niobate sputtering target and production method thereof

Номер патента: US20240052478A1. Автор: Ryo Suzuki,Atsushi Nara,Hiroshi Takamura,Ryosuke Sakashita. Владелец: JX Metals Corp. Дата публикации: 2024-02-15.

Ferromagnetic material sputtering target containing chromium oxide

Номер патента: MY179240A. Автор: Hideo Takami,Atsutoshi Arakawa. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2020-11-02.

Ferromagnetic Material Sputtering Target Containing Chromium Oxide

Номер патента: US20150014155A1. Автор: Hideo Takami,Atsutoshi Arakawa. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2015-01-15.

Sputtering target and method for forming sputtering target

Номер патента: US20240002998A1. Автор: Shunpei Yamazaki,Yuichi Sato,Fumito Isaka,Toshikazu OHNO. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Sputtering target and method for manufacturing same

Номер патента: US20240141477A1. Автор: Hiroyoshi Yamamoto,Atsushi Nara. Владелец: JX Metals Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Soft magnetic underlayer in magnetic media and soft magnetic alloy based sputter target

Номер патента: SG136847A1. Автор: Anirban Das,Steven Roger Kennedy,Michael Gene Racine. Владелец: Heraeus Inc. Дата публикации: 2007-11-29.

Sputtering target for magnetic recording medium

Номер патента: US20220262608A1. Автор: Tomonari KAMADA,Ryousuke Kushikibi. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2022-08-18.

Sputtering target, granular film and perpendicular magnetic recording medium

Номер патента: US20210246543A1. Автор: Takashi Kosho,Masayoshi Shimizu,Manami Masuda,Yasuyuki Iwabuchi. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2021-08-12.

Method for forming sputtering target

Номер патента: US09885108B2. Автор: Shunpei Yamazaki. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Sputtering target

Номер патента: US09767998B2. Автор: Shigeo Matsuzaki,Shigekazu Tomai,Yuki Tsuruma,Kazuaki Ebata. Владелец: Idemitsu Kosan Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Oxide sputtering target, and thin film transistor using the same

Номер патента: US09543444B2. Автор: KATSUSHI Kishimoto,Yoshinori Tanaka,Takayuki Fukasawa,Sang Woo Sohn,Sang Won SHIN,Yeon Keon Moon. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Oxide sputtering target, thin film transistor using the same, and method for manufacturing thin film transistor

Номер патента: US09484200B2. Автор: KATSUSHI Kishimoto,Takayuki Fukasawa. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-01.

Zinc oxide sintered compact, sputtering target, and zinc oxide thin film

Номер патента: US09396830B2. Автор: Tetsuo Shibutami,Hideto Kuramochi,Kenji Omi,Hitoshi Iigusa,Masami Mesuda. Владелец: Tosoh Corp. Дата публикации: 2016-07-19.

Cu-Mn Alloy Sputtering Target and Semiconductor Wiring

Номер патента: US20100013096A1. Автор: Shuichi Irumata,Chisaka Miyata. Владелец: Nippon Mining and Metals Co Ltd. Дата публикации: 2010-01-21.

Thin film transistor having a barrier layer as a constituting layer and Cu-alloy sputtering target used for sputter film formation of the barrier layer

Номер патента: US8658009B2. Автор: Satoru Mori,Kenichi Yaguchi,Kazunari Maki,Yosuke Nakasato. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2014-02-25.

Radio frequency identification in-metal installation and isolation for sputtering target

Номер патента: WO2015183554A1. Автор: Justin K. Reed,Erich Theado,Kenneth FIELDER,Gerald STEVENS,Ronald Alan DILLEY,John Hardy BURLEY. Владелец: TOSOH SMD, INC.. Дата публикации: 2015-12-03.

Highly pure lanthanum, sputtering target comprising highly pure lanthanum, and metal gate film mainly composed of highly pure lanthanum

Номер патента: AU2008344685B2. Автор: Masahiro Takahata,Yuichiro Shindo,Gaku Kanou. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2012-09-27.

System and apparatus for real-time monitoring and control of sputter target erosion

Номер патента: US20070017800A1. Автор: Cetin Cetinkaya,Rajan Mathew,Bjoern Pigur. Владелец: Praxair Technology Inc. Дата публикации: 2007-01-25.

Chalcogenide sputtering target and method of making the same

Номер патента: US11946132B2. Автор: Michael R. Pinter. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2024-04-02.

Oxide sputtering target, and thin film transistor using the same

Номер патента: US20170092773A1. Автор: KATSUSHI Kishimoto,Yoshinori Tanaka,Takayuki Fukasawa,Sang Woo Sohn,Sang Won SHIN,Yeon Keon Moon. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-30.

Oxide sputtering target, and thin film transistor using the same

Номер патента: US20150255611A1. Автор: KATSUSHI Kishimoto,Yoshinori Tanaka,Takayuki Fukasawa,Sang Woo Sohn,Sang Won SHIN,Yeon Keon Moon. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-09-10.

Oxide sintered body and sputtering target, and manufacturing method for transparent conductive oxide film as electrode

Номер патента: US20040164281A1. Автор: Yoshiyuki Abe,Go Ohara,Noriko Ishiyama. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2004-08-26.

High purity copper sputtering target material

Номер патента: US20180237901A1. Автор: Satoru Mori,Isao Arai,U Tani,Yuuji Sato,Fumitake Kikuchi. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2018-08-23.

Oxide sintered body and sputtering target, and manufacturing method for transparent conductive oxide film as electrode

Номер патента: US20070057239A1. Автор: Yoshiyuki Abe,Go Ohara,Noriko Ishiyama. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-03-15.

Sputtering target having rfid information

Номер патента: US20180211825A1. Автор: Matthew T. Willson,Richard J. Koba,Michael V. Pasquariello,Thomas P. St. Vincent. Владелец: Materion Corp. Дата публикации: 2018-07-26.

Sputtering target assemblies

Номер патента: WO2002036846A2. Автор: Jianxing Li,Timothy Scott. Владелец: HONEYWELL INTERNATIONAL INC.. Дата публикации: 2002-05-10.

Rotatable sputter target base, rotatable sputter target, coating installation, method of producing a rotatable sputter target, target base connection means, and method of connecting a rotatable target base device for sputtering installations to a target

Номер патента: TW201024444A. Автор: Oliver Heimel,Lothar Lippert. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2010-07-01.

Sputter targets

Номер патента: WO2002031217A2. Автор: Jane Buehler. Владелец: HONEYWELL INTERNATIONAL INC.. Дата публикации: 2002-04-18.

Sputtering target having increased power compatibility

Номер патента: US09536714B2. Автор: Siegfried Krassnitzer,Joerg Kerschbaumer,Juerg Hagmann. Владелец: Oerlikon Surface Solutions AG Pfaeffikon. Дата публикации: 2017-01-03.

Compensation of spacing between magnetron and sputter target

Номер патента: EP1711644A4. Автор: Arvind Sundarrajan,Peijun Ding,Robert B Lowrance,Ilyoung Richard Hong,Goichi Yoshidome,Suraj Rengarajan,Donny Young,Michael Rosenstein,Michael Andrew Miller,Hsien-Lung Yang,Daniel C Lubben,Sreekrishnan Sankaranarayan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2008-09-17.

Method for making a sputtering target, method for cleaning a sputtering target, sputtering target and sputtering device

Номер патента: TW200936794A. Автор: Akira Ohba,Masaharu Ohki. Владелец: Ulvac Materials Inc. Дата публикации: 2009-09-01.

Modified tungsten-titanium sputtering targets

Номер патента: US20150162172A1. Автор: Chi-Fung Lo,Paul Gilman. Владелец: Praxair ST Technology Inc. Дата публикации: 2015-06-11.

Rotatable sputter target base, rotatable sputter target, coating installation, method of producing a rotatable sputter target, target base connection means, and method of connecting a rotatable target base device for sputtering installations to a target base support

Номер патента: US20120037503A1. Автор: Oliver Heimel,Lothar Lippert. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2012-02-16.

Sputtering process employing an enclosed sputtering target

Номер патента: US5069770A. Автор: David A. Glocker. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1991-12-03.

Magnetron device for sputtering target

Номер патента: EP4283011A1. Автор: Andreas Glenz,Krzysztof Fronc,Michal CHOJNACKI. Владелец: Prevac Spolka Z Ograniczona Odpowiedzialnoscia. Дата публикации: 2023-11-29.

Sputtering apparatus with rotatable sputtering target

Номер патента: US20110174612A1. Автор: Chia-Ying Wu. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2011-07-21.

Target arrangement used as a sputtering target in the production of heat resistant layers or solar protection layers on flat glass or plastic films comprises tubular support element and hollow cylindrical target made from target material

Номер патента: DE202006018079U1. Автор: . Владелец: FNE GmbH. Дата публикации: 2007-03-29.

Magnetron sputtering targets

Номер патента: CA1323856C. Автор: Richard Ernest Demaray,Gary Bradford Crumley. Владелец: Boc Group Inc. Дата публикации: 1993-11-02.

Ag ALLOY SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD FOR Ag ALLOY SPUTTERING TARGET, Ag ALLOY FILM, AND MANUFACTURING METHOD FOR ALLOY FILM

Номер патента: EP3196333A4. Автор: Sohei Nonaka,Yuto Toshimori,Hideharu Matsuzaki. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2018-07-11.

Sputtering target

Номер патента: WO2002006555A3. Автор: Karl Brown,Yoichiro Tanaka,Marc Schweitzer,Alan Liu,Jim Thompson,John C Forster,Gogh Jim Van,Anthony Ct Chan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-03-28.

Magnetic material sputtering target provided with groove in rear face of target

Номер патента: TW201209211A. Автор: Atsushi Sato. Владелец: Jx Nippon Mining & Amp Metals. Дата публикации: 2012-03-01.

SPUTTERING TARGET, METHOD OF BONDING TARGET MATERIAL AND BACKING PLATE, AND METHOD OF MANUFACTURING SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20220310371A1. Автор: FUJITA Masahiro,NISHIOKA Koji. Владелец: Sumitomo Chemical Company, Limited. Дата публикации: 2022-09-29.

A sputtering target as well as a joined type sputtering target assembly and a method of making such a joined type sputtering target assembly

Номер патента: TWI403600B. Автор: Takaharu Ito,Hiroshi Matsumoto,Manabu Ito,Junichi Nitta. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2013-08-01.

Sputtering target member, method for producing sputtering target member, sputtering target, sputtered film, method for producing sputtered film, film body, laminate structure, and organic el device

Номер патента: KR102274149B1. Автор: 히로요시 야마모토,아츠시 나라,하지메 모모이,고지 가쿠타,요스케 엔도. Владелец: 제이엑스금속주식회사. Дата публикации: 2021-07-08.

Method of optimizing a sputtering target profile for the purpose of extending target utilization life and targets made by such method

Номер патента: TWI224626B. Автор: LIN ZHU,David B Smathers,Eugene Y Ivanov,Charles E Wickersham Jr. Владелец: Tosoh SMD Inc. Дата публикации: 2004-12-01.

Sputtering target material and sputtering target obtained by using the sputtering target material

Номер патента: CN101631893A. Автор: 松前和男. Владелец: Mitsui Mining and Smelting Co Ltd. Дата публикации: 2010-01-20.

Sputtering target as well as a joined type sputtering target assembly and a method of making such a joined type sputtering target assembly

Номер патента: US20070251820A1. Автор: Takaharu Ito,Hiroshi Matsumoto,Manabu Ito,Junichi Nitta. Владелец: Ulvac Materials Inc. Дата публикации: 2007-11-01.

Magnetic Material Sputtering Target Provided with Groove in Rear Face of Target

Номер патента: US20130087454A1. Автор: Sato Atsushi. Владелец: JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION. Дата публикации: 2013-04-11.

SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR USING THE SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20140042018A1. Автор: Yamazaki Shunpei. Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2014-02-13.

PROCESS FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET AND SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20210005437A1. Автор: TAKIGAWA Mikio. Владелец: Sumitomo Chemical Company, Limited. Дата публикации: 2021-01-07.

Tungsten Sintered Compact Sputtering Target and Tungsten Film Formed Using Same Target

Номер патента: US20150023837A1. Автор: Ohashi Kazumasa,Okabe Takeo. Владелец: . Дата публикации: 2015-01-22.

Copper-Titanium Alloy Sputtering Target, Semiconductor Wiring Line Formed Using the Sputtering Target, and Semiconductor Element and Device Each Equipped with the Semiconductor Wiring Line

Номер патента: US20140110849A1. Автор: Otsuki Tomio,Fukushima Atsushi. Владелец: JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION. Дата публикации: 2014-04-24.

TANTALUM SPUTTERING TARGET, METHOD FOR MANUFACTURING SAME, AND BARRIER FILM FOR SEMICONDUCTOR WIRING FORMED BY USING TARGET

Номер патента: US20150064056A1. Автор: Senda Shinichiro,Nagatsu Kotaro. Владелец: . Дата публикации: 2015-03-05.

SPUTTERING TARGET AND METHOD OF PRODUCING THIN FILM BY USING SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20160111263A1. Автор: Ito Kazuhiro,Mitsui Akira,Watanabe Satoru,Miyakawa Naomichi,Watanabe Toshinari. Владелец: Asahi Glass Company, Limited. Дата публикации: 2016-04-21.

SPUTTERING TARGET AND METHOD OF PRODUCING SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20220307124A1. Автор: MATSUMOTO Kouichi,WADA MASARU,KAWAGOE YUU,TAKESUE KENTAROU,NISHIMURA Motohide. Владелец: . Дата публикации: 2022-09-29.

Ag ALLOY SPUTTERING TARGET, METHOD OF MANUFACTURING Ag ALLOY SPUTTERING TARGET, Ag ALLOY FILM, AND METHOD OF FORMING Ag ALLOY FILM

Номер патента: US20170233863A1. Автор: Nonaka Sohei,Matsuzaki Hideharu,Toshimori Yuto. Владелец: . Дата публикации: 2017-08-17.

Target sputtering device and method for sputtering target

Номер патента: US20170298500A1. Автор: YU Wei. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-19.

Process for producing sputtering target and sputtering target

Номер патента: US20180315586A1. Автор: Mikio Takigawa. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-11-01.

Tungsten Sintered Compact Sputtering Target and Tungsten Film Formed Using Same Target

Номер патента: US20180347031A1. Автор: Ohashi Kazumasa,Okabe Takeo. Владелец: . Дата публикации: 2018-12-06.

How to Make Sputtering Target Assemblies and New Target Assemblies

Номер патента: KR100348437B1. Автор: 존에이.던롭,데이비드알.메이어,수잔디.스트로써,로버트지.델라노,베노이트와이.폴리켄. Владелец: 죤슨매트히일렉트로닉스인코오퍼레이티드. Дата публикации: 2002-10-30.

Sputtering target assembly and bonding method for their production

Номер патента: DE102011055314B4. Автор: Peter Sindlhauser,Siegfried Staab. Владелец: Sindlhauser Mat GmbH. Дата публикации: 2017-03-16.

Method for cleaning a used sputtering target, method for manufacturing a sputtering target, method for manufacturing a recycled ingot and a recycled ingot

Номер патента: KR102104013B1. Автор: 고지 니시오카,히로유키 츠카다. Владелец: 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤. Дата публикации: 2020-04-23.

Nonmagnetic material-dispersed fe-pt based sputtering target

Номер патента: US20190185987A1. Автор: Atsushi Sato,Yuichiro Nakamura,Hideo Takami. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2019-06-20.

Nonmagnetic material-dispersed fe-pt based sputtering target

Номер патента: MY187837A. Автор: Atsushi Sato,Yuichiro Nakamura,Hideo Takami. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2021-10-26.

Tantalum sputtering target, method for manufacturing same, and barrier film for semiconductor wiring formed by using target

Номер патента: US09890452B2. Автор: Shinichiro Senda,Kotaro Nagatsu. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2018-02-13.

Magnetic material sputtering target and manufacturing method thereof

Номер патента: US09793099B2. Автор: Yuichiro Nakamura,Shin-Ichi Ogino. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-10-17.

Sputtering target and method for manufacturing the same

Номер патента: US20210358729A1. Автор: Shunpei Yamazaki,Motoki Nakashima,Haruyuki Baba. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-18.

Sputtering target and method for manufacturing the same

Номер патента: WO2018011645A1. Автор: Shunpei Yamazaki,Motoki Nakashima,Haruyuki Baba. Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2018-01-18.

Method of producing a sputtering target

Номер патента: US20040058542A1. Автор: Michiaki Shinotsuka,Yukio Ide,Hiroko Iwasaki,Yoshiyuki Kageyama,Makoto Harigaya,Katsuyuki Yamada,Hiroshi Deguchi,Yujiro Kaneko. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-03-25.

Magnetron sputtering target and process for producing the same

Номер патента: MY165449A. Автор: Yasuyuki Goto,Takanobu Miyashita. Владелец: Tanaka Precious Metal Ind. Дата публикации: 2018-03-22.

NON-MAGNETIC MATERIAL-DISPERSED Fe-Pt SPUTTERING TARGET

Номер патента: SG11201900555XA. Автор: Atsushi Sato,Yuichiro Nakamura,Hideo Takami. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2019-02-27.

Manufacturing method of cylindrical sputtering target material

Номер патента: US09982335B2. Автор: Akira Sakurai,Satoshi Kumagai,Takashi Sonohata,Michiaki OHTO. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2018-05-29.

Fe-Pt-based sputtering target with dispersed C grains

Номер патента: US09945026B2. Автор: Atsushi Sato,Shin-Ichi Ogino. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2018-04-17.

Fe-Co-based alloy sputtering target material, and method of producing same

Номер патента: US09773654B2. Автор: Kazuya Saito,Jun Fukuoka,Kouichi Sakamaki,Tomoyuki Hata. Владелец: Hitachi Metals Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Magnetron sputtering target and method for manufacturing the same

Номер патента: US09502224B2. Автор: Yasuyuki Goto,Takanobu Miyashita. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2016-11-22.

Mn-Ta-W-Cu-O-BASED SPUTTERING TARGET, AND PRODUCTION METHOD THEREFOR

Номер патента: US20210269910A1. Автор: Yuichi Kamori. Владелец: Dexerials Corp. Дата публикации: 2021-09-02.

Sputtering target, method for producing laminated film, laminated film and magnetic recording medium

Номер патента: SG11201903752XA. Автор: Masayoshi Shimizu,Manami Masuda,Yasuyuki Iwabuchi. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2019-05-30.

Sputtering target, transparent conductive film and transparent electrode

Номер патента: US20130101807A1. Автор: Koki Yano,Nobuo Tanaka,Kazuyoshi Inoue. Владелец: Idemitsu Kosan Co Ltd. Дата публикации: 2013-04-25.

Magnetron sputtering target and process for producing the same

Номер патента: US20140306144A1. Автор: Yasuyuki Goto,Takanobu Miyashita. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2014-10-16.

Sputtering target for magnetic recording medium

Номер патента: US20210242000A1. Автор: Shin Saito,Tomonari KAMADA,Ryousuke Kushibiki,Kim Kong THAM. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2021-08-05.

Sputtering Target, Method for Producing Laminated Film, Laminated Film and Magnetic Recording Medium

Номер патента: US20200051589A1. Автор: Masayoshi Shimizu,Manami Masuda,Yasuyuki Iwabuchi. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2020-02-13.

Method for manufacturing sputtering target, method for forming oxide film, and transistor

Номер патента: US11967505B2. Автор: Shunpei Yamazaki,Masashi Oota,Masashi TSUBUKU,Yoichi Kurosawa,Noritaka ISHIHARA. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-23.

Method for Producing Sputtering Target Material for Ni-W Based Interlayer

Номер патента: US20090022614A1. Автор: Toshiyuki Sawada,Akihiko Yanagitani. Владелец: Sanyo Special Steel Co Ltd. Дата публикации: 2009-01-22.

Sputtering target, method for producing laminated film, laminated film and magnetic recording medium

Номер патента: MY199943A. Автор: Masayoshi Shimizu,Manami Masuda,Yasuyuki Iwabuchi. Владелец: JX Metals Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Hydrogen separation membrane, sputtering target for forming said hydrogen separation membrane, and manufacturing method thereof

Номер патента: CA2585187C. Автор: Atsushi Nakamura,Akihisa Inoue,Hisamichi Kimura,Masataka Yahagi,Shin-Ichi Yamaura. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2011-03-15.

Ag ALLOY FILM, AND SPUTTERING TARGET FOR MANUFACTURING Ag ALLOY FILM

Номер патента: KR20040014362A. Автор: 다카기가츠토시,나카이주니치,다우치유우키,사토도시키. Владелец: 가부시키가이샤 고베 세이코쇼. Дата публикации: 2004-02-14.

Sputtering target and magnetic film

Номер патента: US11894221B2. Автор: Takashi Kosho,Manami Masuda,Yasuyuki Iwabuchi. Владелец: JX Metals Corp. Дата публикации: 2024-02-06.

Recording layer for optical information recording medium, optical information recording medium, and sputtering target

Номер патента: US20120176883A1. Автор: Takeshi Miki,Yuki Tauchi,Yasuhiro Sone,Yoko Shida. Владелец: Kobe Steel Ltd. Дата публикации: 2012-07-12.

Sputtering target, oxide semiconducting film, and method for making the same

Номер патента: US9732415B2. Автор: Li Guo,Ming Zhao,Da-Ming Zhuang,Ming-Jie Cao,Leng Zhang,Yao-Wei Wei. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-15.

Magnetron sputtering target and process for producing the same

Номер патента: US20130175166A1. Автор: Yasuyuki Goto,Takanobu Miyashita. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2013-07-11.

Magnetron sputtering target and process for producing the same

Номер патента: US9928996B2. Автор: Yasuyuki Goto,Takanobu Miyashita. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2018-03-27.

Magnetron sputtering target and process for producing the same

Номер патента: US9053910B2. Автор: Yasuyuki Goto,Takanobu Miyashita. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2015-06-09.

Sputtering target, oxide semiconducting film, and method for making the same

Номер патента: US20170037505A1. Автор: Li Guo,Ming Zhao,Da-Ming Zhuang,Ming-Jie Cao,Leng Zhang,Yao-Wei Wei. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-09.

Sputtering target, optical information recording medium and method for producing same

Номер патента: EP1757712A4. Автор: H Takami,M Yahagi. Владелец: Nippon Mining and Metals Co Ltd. Дата публикации: 2007-10-17.

Oxide sputtering target and protective film for optical recording medium

Номер патента: US9123360B2. Автор: Atsushi Saito,Rie Mori. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2015-09-01.

Sputtering target, manufacturing method therefor, and manufacturing method for magnetic recording medium

Номер патента: US12091743B2. Автор: Yasuyuki Iwabuchi. Владелец: Jx Advanced Metals Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Sputtering target for magnetic recording medium, and magnetic thin film

Номер патента: US20190040517A1. Автор: Takashi Kosho. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2019-02-07.

Sputtering Target, Manufacturing Method Therefor, And Manufacturing Method For Magnetic Recording Medium

Номер патента: US20230272521A1. Автор: Yasuyuki Iwabuchi. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2023-08-31.

Oxide sputtering target and protective film for optical recording medium

Номер патента: US20150010727A1. Автор: Atsushi Saito,Rie Mori. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2015-01-08.

Sputtering target, method for producing laminated film, laminated film and magnetic recording medium

Номер патента: SG11201903350PA. Автор: Masayoshi Shimizu,Manami Masuda,Yasuyuki Iwabuchi. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2019-05-30.

Sputtering target for magnetic recording medium, and magnetic thin film

Номер патента: US11837450B2. Автор: Takashi Kosho. Владелец: JX Metals Corp. Дата публикации: 2023-12-05.

Sputtering target, method for producing laminated film, laminated film and magnetic recording medium

Номер патента: MY202419A. Автор: Masayoshi Shimizu,Manami Masuda,Yasuyuki Iwabuchi. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2024-04-28.

Target formed of sintering-resistant material of high-melting point metal alloy, high-melting point metal silicide, high-melting point metal carbide, high-melting point metal nitride, or high-melting point metal boride, process for producing the target, assembly of the sputtering target-backing plate, and process for producing the same

Номер патента: US09677170B2. Автор: Yasuhiro Yamakoshi. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-06-13.

Semi-reflective film and reflective film for optical information recording medium optical information recordi medium and sputtering target

Номер патента: SG118417A1. Автор: Nakai Junichi,TAUCHI Yuuki,Takagi Katsutoshi. Владелец: Kobe Steel Ltd. Дата публикации: 2006-01-27.

Method for producing high-purity lanthanum, high-purity lanthanum, sputtering target formed from high-purity lanthanum, and metal gate film having high-purity lanthanum as main component

Номер патента: CA2825301C. Автор: Masahiro Takahata,Kazuyuki Satoh,Satoyasu Narita,Takeshi Gohara. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2015-05-12.

Sputtering target, oxide semiconducting film, and method for making the same

Номер патента: US9840769B2. Автор: Li Guo,Ming Zhao,Da-Ming Zhuang,Ming-Jie Cao,Liang-Qi Ouyang,Ru-Jun Sun. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-12.

Optical recording medium, and sputtering target and method for producing the same

Номер патента: US8227067B2. Автор: Masaki Kato,Toshihide Sasaki,Noboru Sasa,Toshishige Fujii,Masayuki Fujiwara,Katsuyuki Yamada,Yoshitaka Hayashi,Masataka Mohri. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2012-07-24.

Optical recording medium, and sputtering target and method for producing the same

Номер патента: EP2109543A1. Автор: Masaki Kato,Toshihide Sasaki,Noboru Sasa,Toshishige Fujii,Masayuki Fujiwara,Katsuyuki Yamada,Yoshitaka Hayashi,Masataka Mohri. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2009-10-21.

Optical recording medium, and sputtering target and method for producing the same

Номер патента: WO2008099692A1. Автор: Masaki Kato,Toshihide Sasaki,Noboru Sasa,Toshishige Fujii,Masayuki Fujiwara,Katsuyuki Yamada,Yoshitaka Hayashi,Masataka Mohri. Владелец: RICOH COMPANY, LTD.. Дата публикации: 2008-08-21.

Conductive sputtering target and method for depositing a layer therewith

Номер патента: WO2024052218A1. Автор: Wilmert De Bosscher,Ignacio CARETTI GIANGASPRO,David Debruyne,Freddy FACK. Владелец: Soleras Advanced Coatings Bv. Дата публикации: 2024-03-14.

Sputtering targets, sputter reactors, methods of forming cast ingots, and methods of forming metallic articles

Номер патента: WO2003008656B1. Автор: Wuwen Yi,Chi Tse Wu,Frederick B Hidden. Владелец: Frederick B Hidden. Дата публикации: 2004-04-08.

Magnesium oxide sputtering target and method of making same

Номер патента: US20200010368A1. Автор: Christopher M. Jaworski,Eugene Y. Ivanov. Владелец: Tosoh SMD Inc. Дата публикации: 2020-01-09.

Conductive silicon sputtering targets

Номер патента: US20240271270A1. Автор: Wilmert De Bosscher,Yuping Lin,Ignacio CARETTI GIANGASPRO. Владелец: Soleras Advanced Coatings Jiangyin Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Thin Film Forming Sputtering Target, Dielectric Thin Film, Optical Disc and Production Method Therefor

Номер патента: US20080271988A1. Автор: Yasuo Hosoda,Takashi Ueno,Takanobu Higuchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-11-06.

Liquid sputter target

Номер патента: US11952654B2. Автор: Hartmut Rohrmann,Heinz Felzer,Dominik Jaeger,Thomas Tschirky,Marco Rechsteiner. Владелец: EVATEC AG. Дата публикации: 2024-04-09.

Liquid sputter target

Номер патента: EP3870735A1. Автор: Hartmut Rohrmann,Heinz Felzer,Dominik Jaeger,Thomas Tschirky,Marco Rechsteiner. Владелец: EVATEC AG. Дата публикации: 2021-09-01.

Sputter target and method for producing a sputter target

Номер патента: US20190368029A1. Автор: Peter Polcik,Helmut Riedl,Szilard KOLOZSVARI,Paul Mayrhofer. Владелец: Plansee Composite Materials GmbH. Дата публикации: 2019-12-05.

Sputter target and method for producing a sputter target

Номер патента: US11767587B2. Автор: Peter Polcik,Helmut Riedl,Szilard KOLOZSVARI,Paul Mayrhofer. Владелец: Plansee Composite Materials GmbH. Дата публикации: 2023-09-26.

Al2o3 sputtering target and method for producing same

Номер патента: EP3527689A1. Автор: Yoshimasa Koido. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2019-08-21.

Conductive silicon sputtering targets

Номер патента: EP4370724A1. Автор: Wilmert De Bosscher,Yuping Lin,Ignacio CARETTI GIANGASPRO. Владелец: Soleras Advanced Coatings Jiangyin Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-22.

Sputtering target and powder for producing sputtering target

Номер патента: SG11202102759VA. Автор: Atsushi Sato,Masayoshi Shimizu,Yasuyuki Iwabuchi,Akira SHIMOJUKU. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2021-04-29.

Sputtering target having a controlled occupancy rate of pinholes and method for making such sputtering target

Номер патента: TW200940733A. Автор: Kazuo Matsumae. Владелец: Mitsui Mining & Smelting Co. Дата публикации: 2009-10-01.

Oxide sintered body sputtering target, method for producing the target, gate insulating film formed from oxide, and method for heat-treating the gate insulating film

Номер патента: TW201042068A. Автор: Kazuyuki Satoh,Yoshimasa Koido. Владелец: Nippon Mining Co. Дата публикации: 2010-12-01.

A zinc oxide-based sintered body, a zinc oxide sputtering target made of the sintered body, and a zinc oxide thin film obtained by sputtering the target

Номер патента: TWI572732B. Автор: Atsushi Nara,Hideo Takami. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2017-03-01.

Sputtering target, and method for manufacturing thin film using said target

Номер патента: EP3015565A4. Автор: Kazuhiro Ito,Satoru Watanabe,Akira Mitsui,Toshinari Watanabe,Naomichi Miyakawa. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-01.

Method for producing sputtering target, and sputtering target

Номер патента: TW201219583A. Автор: Atsushi Saito. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2012-05-16.

Sintered body, sputtering target made of the sintered body, and thin film formed using the sputtering target

Номер патента: TWI606991B. Автор: Atsushi Nara. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2017-12-01.

Hot rolled plate made of copper alloy used for a sputtering target and sputtering target

Номер патента: US09437405B2. Автор: Masato Koide,Kiyoyuki Okubo. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2016-09-06.

METHOD OF FABRICATING SPUTTERING TARGET, SPUTTERING TARGET USING THE METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING ORGANIC LIGHT-EMITTING DISPLAY APPARATUS USING THE SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20150014151A1. Автор: Kim Dong-Jin,JUNG Sun-Young,Park Jin-Woo,Lee Il-Sang,Shin Sang-Wook. Владелец: . Дата публикации: 2015-01-15.

Method of fabricating a sputtering target, sputtering target fabricated by using the method, and an organic light-emitting display apparatus fabricated using the sputtering target

Номер патента: US20150014652A1. Автор: Jin-woo Park,Hun Kim,Su-Hyuk Choi. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-01-15.

SPUTTERING-TARGET MATERIAL, SPUTTERING TARGET, SPUTTERING-TARGET ALUMINUM PLATE, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20200199739A1. Автор: FUJITA Masahiro,TAKEDA Hiroki. Владелец: . Дата публикации: 2020-06-25.

Sputtering target for phase-change memory, film for phase change memory formed by using the target, and method for producing the target

Номер патента: EP1480209A1. Автор: Masataka Isohara Fct.of Nikko Mat. Co.Ltd YAHAGI,Yuichiro Isohara Fct. of Nikko Mat.Co Ltd SHINDO,Hideo Isohara Fact of Nikko Mat. Co. Ltd TAKAMI. Владелец: Nikko Materials Co Ltd. Дата публикации: 2004-11-24.

Siox:si sputtering targets and method of making and using such targets

Номер патента: WO2007022275A2. Автор: David E. Stevenson,Li Q. Zhou. Владелец: Wintek Electro-Optics Corporation. Дата публикации: 2007-02-22.

Self-supporting zinc alloy rotating sputter target

Номер патента: CA2103241C. Автор: James W. Hillendahl,J. Glen Palmer. Владелец: Boc Group Inc. Дата публикации: 1999-11-09.

Method of fabricating sputtering target, sputtering target using the method, and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus using the sputtering target

Номер патента: CN104278240A. Автор: 申尚煜,朴镇宇,丁善英,金东镇,李壹相. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-01-14.

Cu-Ga alloy sintered body sputtering target, a method for manufacturing the target, a light absorbing layer made of a Cu-Ga alloy sintered body target, and a CIGS solar cell using the light absorbing layer

Номер патента: TWI458847B. Автор: Hideo Takami,Tomoya Tamura,Masakatsu Ikisawa. Владелец: Jx Nippon Mining & Metals Corp. Дата публикации: 2014-11-01.

Sputtering target material, sputtering target, aluminum plate for sputtering target, and its manufacturing method

Номер патента: KR20200020697A. Автор: 마사히로 후지타,히로키 다케다. Владелец: 가부시키가이샤 유에이씨제이. Дата публикации: 2020-02-26.

Rotatable sputter target backing cylinder, rotatable sputter target, method of producing a rotatable sputter target, and coating installation

Номер патента: KR20110090948A. Автор: 지안 리우,미카엘 스크해퍼,로랜드 트라씰. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2011-08-10.

Fe-Pt-C-BASED SPUTTERING TARGET MEMBER, SPUTTERING TARGET ASSEMBLY, METHOD FOR FORMING FILM, AND METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET MEMBER

Номер патента: WO2023079857A1. Автор: 孝志 小庄,勇介 堀江. Владелец: Ｊｘ金属株式会社. Дата публикации: 2023-05-11.

Sputtering target for phase-change memory, film for phase change memory formed by using the target, and method for producing the target

Номер патента: TW200303369A. Автор: Yuichiro Shindo,Masataka Yahagi,Hideo Takami. Владелец: Nikko Materials Company Co Ltd. Дата публикации: 2003-09-01.

Sputtering target for phase change-type memory, film for phase change memory formed by using the target, and method for manufacturing the target

Номер патента: JP2012009128A. Автор: 裕一朗 新藤,Yuichiro Shindo,Masataka Yahagi,Hideo Takami,英生 高見,政隆 矢作. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2012-01-12.

Sputtering targets, sputter reactors, methods of forming cast ingots, and methods of forming metallic articles

Номер патента: EP1407058A2. Автор: Wuwen Yi,Chi Tse Wu,Frederick B. Hidden. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2004-04-14.

Tin oxide powder for ITO sputtering target, manufacturing method of said powder, sintered body sputtering target for ITO film deposition, and manufacturing method of said target

Номер патента: TW555875B. Автор: Toshiya Kurihara,Mitsuyuki Konaka. Владелец: Nikko Materials Co Ltd. Дата публикации: 2003-10-01.

METHOD FOR PRODUCING CU-GA ALLOY POWDER, CU-GA ALLOY POWDER, METHOD FOR PRODUCING CU-GA ALLOY SPUTTERING TARGET, AND CU-GA ALLOY SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20130192986A1. Автор: TAKAHASHI Tatsuya,Morimoto Toshio,Ando Isao,Komukai Tetsufumi,Takagi Masanori,Sato Eriko,Minami Hirotaka. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO., LTD.. Дата публикации: 2013-08-01.

REFURBISHING COPPER AND INDIUM CONTAINING ALLOY SPUTTER TARGETS AND USE OF SUCH TARGETS IN MAKING COPPER AND INDIUM-BASED FILMS

Номер патента: US20130248351A1. Автор: Nilsson Robert,Gerbi Jennifer. Владелец: Dow Global Technologie, LLC.. Дата публикации: 2013-09-26.

METHOD OF MANUFACTURING SPUTTERING TARGET AND SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20170009336A1. Автор: NAKASHIMA Nobuaki,KOMATSU Tooru. Владелец: . Дата публикации: 2017-01-12.

SPUTTERING TARGET, METHOD OF MANUFACTURING SPUTTERING TARGET, METHOD OF MANUFACTURING BARIUM TITANATE THIN FILM, AND METHOD OF MANUFACTURING THIN FILM CAPACITOR

Номер патента: US20150047971A1. Автор: YANAGAWA Shusaku,Adachi Kiwamu. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2015-02-19.

SPUTTERING TARGET HAVING REVERSE BOWNG TARGET GEOMETRY

Номер патента: US20180044778A1. Автор: BAILEY Robert S.,Yan Junhai,Holcomb Melvin Kirk,Leybovich Alexander. Владелец: . Дата публикации: 2018-02-15.

METHOD OF MAKING A TANTALUM SPUTTER TARGET AND SPUTTER TARGETS MADE THEREBY

Номер патента: US20180080120A1. Автор: Fisher Matthew,Ivanov Eugene Y.,Kuhn Alex. Владелец: . Дата публикации: 2018-03-22.

Ruthenium Sputtering Target and Ruthenium Alloy Sputtering Target

Номер патента: US20150129422A1. Автор: Kentaro Harada. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2015-05-14.

METHOD OF MANUFACTURING SPUTTERING TARGET AND SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20200115790A1. Автор: NAKASHIMA Nobuaki,KOMATSU Tooru. Владелец: . Дата публикации: 2020-04-16.

METHOD OF MANUFACTURING SPUTTERING TARGET AND SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20200115791A1. Автор: NAKASHIMA Nobuaki,KOMATSU Tooru. Владелец: . Дата публикации: 2020-04-16.

SPUTTERING TARGET AND METHOD OF PRODUCING SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20210172056A1. Автор: NAKAMURA Akira,Nitta Junichi,LU Xiaoli,SATOU Miho. Владелец: . Дата публикации: 2021-06-10.

ZINC OXIDE-BASED SPUTTERING TARGET, METHOD OF PREPARING THE SAME, AND THIN FILM TRANSISTOR INCLUDING A BARRIER LAYER DEPOSITED BY THE ZINC OXIDE-BASED SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20140239295A1. Автор: YOON Sang-Won,Park Jae-Woo,Kim Do-Hyun,KIM Dong-Jo,Lee Yong-Jin,JEON WOO-SEOK,LEE Yoon-Gyu,Park Ju-Ok,Sohn In-Sung,Lee Gun-Hyo. Владелец: Samsung Display Co., Ltd.. Дата публикации: 2014-08-28.

COPPER MATERIAL FOR HIGH-PURITY COPPER SPUTTERING TARGET, AND HIGH-PURITY COPPER SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20160172167A1. Автор: SATO Yuji,Kumagai Satoshi,Gu Yu,SAKURAI Akira. Владелец: . Дата публикации: 2016-06-16.

SPUTTERING TARGET, METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR FORMING THIN FILM

Номер патента: US20190185986A1. Автор: Yamazaki Shunpei,Watanabe Masahiro,SHIMAZU Takashi,NAKASHIMA Motoki,OKAZAKI Kenichi,MASHIYAMA Mitsuo,MARUYAMA Tetsunori,IMOTO Yuki,SATO Hitomi. Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2019-06-20.

SPUTTERING TARGET, METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR FORMING THIN FILM

Номер патента: US20210230740A1. Автор: Yamazaki Shunpei,Watanabe Masahiro,SHIMAZU Takashi,NAKASHIMA Motoki,OKAZAKI Kenichi,MASHIYAMA Mitsuo,MARUYAMA Tetsunori,IMOTO Yuki,SATO Hitomi. Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2021-07-29.

COPPER ALLOY SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD OF COPPER ALLOY SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20170213711A1. Автор: SAKAMOTO Toshio,Mori Satoru,Ookubo Kiyoyuki. Владелец: . Дата публикации: 2017-07-27.

Master Alloy For Sputtering Target and Method For Producing Sputtering Target

Номер патента: US20170218502A1. Автор: Asano Takayuki,Oda Kunihiro. Владелец: . Дата публикации: 2017-08-03.

Cu-Ga SPUTTERING TARGET AND PRODUCTION METHOD FOR Cu-Ga SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20170236695A1. Автор: Shoubin Zhang,Keita UMEMOTO,Kensuke IO. Владелец: Solar Frontier KK. Дата публикации: 2017-08-17.

METHOD OF MAKING A TANTALUM SPUTTER TARGET AND SPUTTER TARGETS MADE THEREBY

Номер патента: US20200240006A1. Автор: Fisher Matthew,Ivanov Eugene Y.,Kuhn Alex. Владелец: . Дата публикации: 2020-07-30.

Sputtering Target And Method For Manufacturing A Sputtering Target

Номер патента: US20210301389A1. Автор: Kajiyama Jun. Владелец: . Дата публикации: 2021-09-30.

Ruthenium Sputtering Target and Ruthenium Alloy Sputtering Target

Номер патента: US20190259589A1. Автор: Kentaro Harada. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2019-08-22.

CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET, CYLINDRICAL COMPACT, MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET, AND MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SINTERED COMPACT

Номер патента: US20160281214A1. Автор: YAMAGUCHI Yohei. Владелец: . Дата публикации: 2016-09-29.

Cu-Ga SPUTTERING TARGET AND METHOD OF MANUFACTURING Cu-Ga SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20190271069A1. Автор: Shiono Ichiro,Zhang Shoubin,Umemoto Keita,IO Kensuke. Владелец: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION. Дата публикации: 2019-09-05.

SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20180312961A1. Автор: Zhang Shoubin,Umemoto Keita,MUTSUDA Yuya. Владелец: . Дата публикации: 2018-11-01.

Master Alloy for Sputtering Target and Method for Producing Sputtering Target

Номер патента: US20200308692A1. Автор: Asano Takayuki,Oda Kunihiro. Владелец: . Дата публикации: 2020-10-01.

Sputtering Target, Method For Manufacturing Sputtering Target, Amorphous Film, Method For Manufacturing Amorphous Film, Crystalline Film And Method For Manufacturing Crystalline Film

Номер патента: US20200325572A1. Автор: Kakeno Takashi,Kuge Toshihiro. Владелец: . Дата публикации: 2020-10-15.

OXIDE SINTERED BODY, SPUTTERING TARGET, AND OXIDE SEMICONDUCTOR THIN FILM OBTAINED USING SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20160348230A1. Автор: Nakayama Tokuyuki,NISHIMURA Eiichiro,MATSUMURA Fumihiko,IWARA Masashi. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO., LTD.. Дата публикации: 2016-12-01.

SPUTTER TARGET AND METHOD FOR PRODUCING A SPUTTER TARGET

Номер патента: US20190368029A1. Автор: POLCIK PETER,Kolozsvari Szilard,MAYRHOFER PAUL,RIEDL HELMUT. Владелец: . Дата публикации: 2019-12-05.

Hollow cathode magnetron sputtering targets and methods of forming hollow cathode magnetron sputtering targets

Номер патента: US20070251819A1. Автор: Janine Kardokus,Susan Strothers,Sally Woodward,Stephane Ferrasse. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2007-11-01.

Sputtering target, method for manufacturing sputtering target, and method for forming thin film

Номер патента: KR102064865B1. Автор: 마사히로 와타나베,순페이 야마자키,테츠노리 마루야마,유키 이모토,히토미 사토,미츠오 마시야마,켄이치 오카자키,모토키 나카시마,타카시 시마즈. Владелец: 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼. Дата публикации: 2020-01-10.

Oxide sintered body, sputtering target comprising the sintered body, method for producing the sintered body, and method for producing the sintered sputtering target gate

Номер патента: JP5301542B2. Автор: 和幸 佐藤,由将 小井土. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2013-09-25.

Siox:si sputtering targets and method of making and using such targets

Номер патента: KR101421474B1. Автор: 데이비드 이 스티븐슨,리 큐 조우. Владелец: 윈텍 일렉트로옵틱스 코포레이션. Дата публикации: 2014-07-22.

High target utilization magnetic arrangement for a truncated conical sputtering target

Номер патента: KR100396456B1. Автор: 러셀더렉앤드류. Владелец: 도쿄 엘렉트론 리미티드. Дата публикации: 2003-09-02.

Sputtering target material, method for producing same, and sputtering target

Номер патента: CN108699675B. Автор: 寺村享祐,武内朋哉. Владелец: Mitsui Mining and Smelting Co Ltd. Дата публикации: 2022-01-11.

Sputtering target, method for manufacturing sputtering target, and method for forming thin film

Номер патента: KR20220113853A. Автор: 마사히로 와타나베,순페이 야마자키,테츠노리 마루야마,유키 이모토,히토미 사토,미츠오 마시야마,켄이치 오카자키,모토키 나카시마,타카시 시마즈. Владелец: 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼. Дата публикации: 2022-08-16.

Method for manufacturing target material for sputtering target

Номер патента: KR100873088B1. Автор: 나오키 오노,게이이치 다카이. Владелец: 미쓰이 긴조꾸 고교 가부시키가이샤. Дата публикации: 2008-12-09.

Sputter target, method and apparatus for manufacturing sputter targets

Номер патента: EP2287356A1. Автор: Freddy Aps,Nuno Carvalho. Владелец: Bekaert Advanced Coatings NV. Дата публикации: 2011-02-23.

Cylinderical sputtering target, method for preparatiing the same and thin film formed using the cylinderical sputtering target

Номер патента: KR20160056674A. Автор: 양승호,강민호,윤원규,최호윤. Владелец: 희성금속 주식회사. Дата публикации: 2016-05-20.

Rotary sputter target assembly

Номер патента: EP2718477A1. Автор: Paul S. Gilman,Severin Sephane Gerard TIERCE. Владелец: Praxair Technology Inc. Дата публикации: 2014-04-16.

Tungsten Sintered Compact Sputtering Target and Tungsten Film Formed Using Said Target

Номер патента: US20180261438A1. Автор: Kazumasa Ohashi,Kengo Kaminaga. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2018-09-13.

Sputtering target, method for manufacturing sputtering target, and method for forming thin film

Номер патента: KR102432070B1. Автор: 마사히로 와타나베,순페이 야마자키,테츠노리 마루야마,유키 이모토,히토미 사토,미츠오 마시야마,켄이치 오카자키,모토키 나카시마,타카시 시마즈. Владелец: 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼. Дата публикации: 2022-08-11.

Sputter target magnet

Номер патента: US12020917B2. Автор: Ming-Jie He,Shawn Yang,Szu-Hsien Lo,Shuen-Liang Tseng,Wen-Cheng Cheng,Chen-Fang Chung,Chia-Lin Hsueh,Kuo-Pin Chuang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Enhanced pozzolan for using in extended life cements

Номер патента: US12129206B2. Автор: Thomas Jason Pisklak,Samuel Jason LEWIS,Claudia Carmen Pineda,Travis Allen Patterson. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2024-10-29.

Extended-life calcium aluminate cementing methods

Номер патента: CA2958819C. Автор: Kyriacos Agapiou,Thomas Jason Pisklak,Samuel J. Lewis. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2019-01-15.

Extended-life cement compositions comprising red mud solids

Номер патента: WO2016068874A1. Автор: Kyriacos Agapiou,Thomas Jason Pisklak,Juan Humberto Martinez. Владелец: Halliburton Energy Services, Inc.. Дата публикации: 2016-05-06.

Extended-life settable compositions comprising red mud

Номер патента: GB2549626A. Автор: Chatterji Jiten,Jason Pisklak Thomas,Chad Brenneis Darrell,Humberto Martinez Juan. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2017-10-25.

Extended-life settable compositions comprising a bauxite refinery residue red mud

Номер патента: CA2969895C. Автор: Darrell Chad Brenneis,Jiten Chatterji,Thomas Jason Pisklak,Juan Humberto Martinez. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2019-06-04.

Extended-life settable compositions comprising a bauxite refinery residue red mud

Номер патента: CA2969895A1. Автор: Darrell Chad Brenneis,Jiten Chatterji,Thomas Jason Pisklak,Juan Humberto Martinez. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2016-08-04.

Extended-Life Tire Chain and Method of Extending the Life of a Tire Chain

Номер патента: US20220080791A1. Автор: Tim Ruppert. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-03-17.

Three dimensional filter media for extended life filter

Номер патента: EP3544713A1. Автор: Martin Sobel. Владелец: Individual. Дата публикации: 2019-10-02.

Extended life slurry seal composition

Номер патента: WO2005100481A1. Автор: John Howe,Clinton L. Hairston,Glenn H. Hall,Frederick L. Koerwitz. Владелец: Kao Specialty Americas, Llc. Дата публикации: 2005-10-27.

Extended life conveyor chain trolley and method

Номер патента: US20200346871A1. Автор: Charles C. Frost,Richard A. Hyvarinen,Chuck Deschaine. Владелец: Frost Tech LLC. Дата публикации: 2020-11-05.

Lithium sputter targets

Номер патента: US09771646B2. Автор: Todd Martin,Trevor Frank,Robert T. Rozbicki,Dhairya Shrivastava,Anshu A. Pradhan,Disha Mehtani,Martin John Neumann,Que Anh Song NGUYEN. Владелец: View Inc. Дата публикации: 2017-09-26.

Sputtering target for magnetic recording film

Номер патента: US09540724B2. Автор: Shini-ichi Ogino. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Mn—Zn—O sputtering target and production method therefor

Номер патента: US10811237B2. Автор: Junichi Sugawara,Yuichi Kamori. Владелец: Dexerials Corp. Дата публикации: 2020-10-20.

Sputtering Target of Sintered Ti-Nb Based Oxide, Thin Film of Ti-Nb Based Oxide, and Method of Producing The Thin Film

Номер патента: US20140023868A1. Автор: Masataka Yahagi,Hideo Takami. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2014-01-23.

Mn—Zn—W—O sputtering target and production method therefor

Номер патента: US10886112B2. Автор: Junichi Sugawara,Fusashige Tokutake,Yuichi Kamori. Владелец: Dexerials Corp. Дата публикации: 2021-01-05.

Sputtering Target for Magnetic Recording Film

Номер патента: US20140346039A1. Автор: Shini-ichi Ogino. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2014-11-27.

Sputtering target assembly and sputtering apparatus using the same

Номер патента: US20030165639A1. Автор: Jae Park. Владелец: LG Philips LCD Co Ltd. Дата публикации: 2003-09-04.

Sintered oxide material, method for manufacturing same, sputtering target, oxide transparent electrically conductive film, method for manufacturing same, and solar cell

Номер патента: US09399815B2. Автор: Tetsuo Shibutami,Hideto Kuramochi,Ryo Akiike,Keitaro Matsumaru,Kentaro Utsumi. Владелец: Tosoh Corp. Дата публикации: 2016-07-26.

Mn-zn-o sputtering target and production method therefor

Номер патента: US20180019109A1. Автор: Junichi Sugawara,Yuichi Kamori. Владелец: Dexerials Corp. Дата публикации: 2018-01-18.

Mn-Zn-W-O SPUTTERING TARGET AND PRODUCTION METHOD THEREFOR

Номер патента: US20180186699A1. Автор: Junichi Sugawara,Fusashige Tokutake,Yuichi Kamori. Владелец: Dexerials Corp. Дата публикации: 2018-07-05.

Thermography test method and apparatus for evaluating a bond interface of a sputtering target/backing plate assembly

Номер патента: WO2005026404A2. Автор: ZHIGUO Zhang,John White,Charles E. Wickersham,Larry Edwin Ellison,Mikhail Y. Kachalov. Владелец: CABOT CORPORATION. Дата публикации: 2005-03-24.

Thermography test method and apparatus for evaluating a bond interface of a sputtering target/backing plate assemby

Номер патента: EP1654702A2. Автор: ZHIGUO Zhang,John White,Charles E. Wickersham,Larry Edwin Ellison,Mikhail Y. Kachalov. Владелец: Cabot Corp. Дата публикации: 2006-05-10.

Sintered oxide material, method for manufacturing same, sputtering target, oxide transparent electrically conductive film, method for manufacturing same, and solar cell

Номер патента: MY162939A. Автор: Shibutami Tetsuo,Hideto Kuramochi,Ryo Akiike,Keitaro Matsumaru,Kentaro Utsumi. Владелец: Tosoh Corp. Дата публикации: 2017-07-31.

Method for manufacturing sputtering target

Номер патента: US20170350002A1. Автор: Shunpei Yamazaki,Yoshinori Yamada,Masashi Oota. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-07.

Sputtering target

Номер патента: US20200165719A1. Автор: Akira Sakawaki,Takaki Yasuda. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2020-05-28.

Sputtering target for forming wiring film of flat panel display

Номер патента: US20150136595A1. Автор: Haruhiko Asao,Kenichi Yaguchi,Kazunari Maki,Yosuke Nakasato. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2015-05-21.

Optical film, sputtering target, and method of producing optical film

Номер патента: US20240166555A1. Автор: Hideharu Okami. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2024-05-23.

SINTERED BODY COMPRISING LiCoO2, SPUTTERING TARGET, AND PRODUCTION METHOD FOR SINTERED BODY COMPRISING LiCoO2

Номер патента: US20150376773A1. Автор: Moriyoshi Kanamaru,Yuichi Taketomi. Владелец: Kobelco Research Institute Inc. Дата публикации: 2015-12-31.

Tungsten Sintered Compact Sputtering Target and Tungsten Film Formed Using Said Target

Номер патента: US20150303040A1. Автор: Ohashi Kazumasa,Kaminaga Kengo. Владелец: JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION. Дата публикации: 2015-10-22.

Extended life deposition ring

Номер патента: SG187625A1. Автор: Lara Hawrylchak. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2013-03-28.

Extended life textured chamber components and method for fabricating same

Номер патента: KR101919429B1. Автор: 윌리엄 밍-예 루,마이클 잭슨,웬델 쥐. 보이드,티옹 카이 수,고이치 요시도메,조셉 에프. 섬머스. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2018-11-19.

Extended life textured chamber components and method for fabricating same

Номер патента: WO2012142007A3. Автор: Joseph F. Sommers,Michael Jackson,Wendell G. BOYD,Tiong Khai SOO,William Ming-Ye LU,Goichi Yoshidome. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2013-01-10.

Extended life textured chamber components and method for fabricating same

Номер патента: TWI601223B. Автор: 吉留吾一,傑克森麥可,波亞二世威德Ｇ,史長凱,呂明諭,索摩斯喬瑟夫Ｆ. Владелец: 應用材料股份有限公司. Дата публикации: 2017-10-01.

Extended life textured chamber components and method for fabricating same

Номер патента: TW201308471A. Автор: Michael Jackson,Tiong Khai SOO,William Ming-Ye LU,Goichi Yoshidome,Joseph F Sommers,Wendell G Boyd Jr. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2013-02-16.

Extended life anode coatings

Номер патента: WO2024044701A2. Автор: David Cawlfield,Dino Difranco,Theresa BODDIE,Guy WHITFIELD. Владелец: OLIN CORPORATION. Дата публикации: 2024-02-29.

Extended life deposition ring

Номер патента: CN103069542A. Автор: L·霍雷查克. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2013-04-24.

Conductive sputter targets with silicon, zirconium and oxygen

Номер патента: US20210395878A1. Автор: Guy Gobin,Wilmert Cyriel Stefaan De Bosscher,Ignacio CARETTI GIANGASPRO,Freddy FACK,David Karel Debruyne,Hubert ELIANO. Владелец: Soleras Advanced Coatings Bv. Дата публикации: 2021-12-23.

Conductive sputter targets with silicon, zirconium and oxygen

Номер патента: EP3880861A1. Автор: Guy Gobin,Wilmert Cyriel Stefaan De Bosscher,Ignacio CARETTI GIANGASPRO,Freddy FACK,David Karel Debruyne,Hubert ELIANO. Владелец: Soleras Advanced Coatings Bv. Дата публикации: 2021-09-22.

Al - based alloy sputtering target and Cu - based alloy sputtering target

Номер патента: TWI471439B. Автор: Junichi Nakai,Toshiaki Takagi,Katsushi Matsumoto. Владелец: Kobelco Res Inst Inc. Дата публикации: 2015-02-01.

Al-based alloy sputtering target and cu-based alloy sputtering target

Номер патента: US20130306468A1. Автор: Junichi Nakai,Toshiaki Takagi,Katsushi Matsumoto. Владелец: Kobelco Research Institute Inc. Дата публикации: 2013-11-21.

Sputtering Target, Method For Manufacturing Sputtering Target, And Method For Forming Thin Film

Номер патента: US20170016108A1. Автор: Yamazaki Shunpei,Watanabe Masahiro,SHIMAZU Takashi,NAKASHIMA Motoki,OKAZAKI Kenichi,MASHIYAMA Mitsuo,MARUYAMA Tetsunori,IMOTO Yuki,SATO Hitomi. Владелец: . Дата публикации: 2017-01-19.

OXIDE SINTERED BODY, SPUTTERING TARGET, AND OXIDE SEMICONDUCTOR THIN FILM OBTAINED USING SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20170029335A1. Автор: Nakayama Tokuyuki,NISHIMURA Eiichiro,MATSUMURA Fumihiko,IWARA Masashi. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO., LTD.. Дата публикации: 2017-02-02.

Oxide sintered body, sputtering target, and oxide semiconductor thin film obtained using sputtering target

Номер патента: US20170029336A1. Автор: Fumihiko Matsumura,Eiichiro Nishimura,Tokuyuki Nakayama,Masashi Iwara. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2017-02-02.

OXIDE SINTERED BODY, SPUTTERING TARGET, AND OXIDE SEMICONDUCTOR THIN FILM OBTAINED USING SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20170047206A1. Автор: Nakayama Tokuyuki,NISHIMURA Eiichiro,MATSUMURA Fumihiko,IWARA Masashi. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO., LTD.. Дата публикации: 2017-02-16.

HOT EXTRUDED MATERIAL FOR CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET AND METHOD OF MANUFACTURING CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20190055625A1. Автор: Kumagai Satoshi,SAKURAI Akira,Ohto Michiaki. Владелец: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION. Дата публикации: 2019-02-21.

OXIDE SINTERED BODY, SPUTTERING TARGET, AND OXIDE SEMICONDUCTOR THIN FILM OBTAINED USING SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20170076943A1. Автор: Nakayama Tokuyuki,NISHIMURA Eiichiro,IWARA Masashi. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO., LTD.. Дата публикации: 2017-03-16.

SINTERED OXIDE, SPUTTERING TARGET, AND OXIDE SEMICONDUCTOR THIN FILM OBTAINED USING SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20170077243A1. Автор: Nakayama Tokuyuki,NISHIMURA Eiichiro,IWARA Masashi. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO., LTD.. Дата публикации: 2017-03-16.

Oxide sintered body, sputtering target, and oxide semiconductor thin film obtained using sputtering target

Номер патента: US20170092780A1. Автор: Fumihiko Matsumura,Eiichiro Nishimura,Tokuyuki Nakayama,Masashi Iwara. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2017-03-30.

OXIDE SINTERED BODY, SPUTTERING TARGET, AND OXIDE SEMICONDUCTOR THIN FILM OBTAINED USING SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20170137324A1. Автор: Nakayama Tokuyuki,NISHIMURA Eiichiro,MATSUMURA Fumihiko,IWARA Masashi. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO., LTD.. Дата публикации: 2017-05-18.

OXIDE SINTERED BODY, SPUTTERING TARGET, AND OXIDE SEMICONDUCTOR THIN FILM OBTAINED USING SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20160348229A1. Автор: Nakayama Tokuyuki,NISHIMURA Eiichiro,MATSUMURA Fumihiko,IWARA Masashi. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO., LTD.. Дата публикации: 2016-12-01.

Oxide sintered body, sputtering target, and oxide semiconductor thin film obtained using sputtering target

Номер патента: CN106029604A. Автор: 西村英郎,西村英一郎,中山德行,松村文彦,井藁正史. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2016-10-12.

Lanthanum oxide-based sintered object, sputtering target comprising the sintered object, process for producing lanthanum oxide-based sintered object, and process for sputtering target production using the process

Номер патента: EP2298715A4. Автор: Kazuyuki Satoh,Yoshimasa Koido. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2011-11-23.

Sputtering target for oxide semiconductor, comprising ingao3(zno) crystal phase and process for producing the sputtering target

Номер патента: CN102131953B. Автор: 矢野公规,川岛浩和. Владелец: Idemitsu Kosan Co Ltd. Дата публикации: 2014-07-09.

Sputtering target for oxide semiconductor, comprising ingao3(zno) crystal phase and process for producing the sputtering target

Номер патента: CN102131953A. Автор: 矢野公规,川岛浩和. Владелец: Idemitsu Kosan Co Ltd. Дата публикации: 2011-07-20.

Extended Life Tire Curing Bladder Composed of Aramid Fibers

Номер патента: US20130209596A1. Автор: Phelps Ken Lee. Владелец: RHEIN CHEMIE CORPORATION. Дата публикации: 2013-08-15.

Extended life fluorescence polyvinyl chloride sheeting

Номер патента: EP1049578B1. Автор: Edward D. Phillips. Владелец: Reflexite Corp. Дата публикации: 2002-12-04.

IMPROVED CATALYTIC SYSTEMS WITH EXTENDED LIFE AND STORAGE FOR OLEFIN METATHESIS

Номер патента: FR2612422B1. Автор: Jean Ollivier,Emile Perez,Michel Leconte,Francoise Quignard,Isabelle Rico,Jean-Paul Laval. Владелец: Societe National Elf Aquitaine. Дата публикации: 1993-06-11.

ADVANCED CATALYTIC SYSTEMS WITH EXTENDED LIFE AND CONSERVATION PERIOD FOR OLEFIN METATHESIS

Номер патента: FR2612422A1. Автор: Jean Ollivier,Emile Perez,Michel Leconte,Francoise Quignard,Isabelle Rico,Jean-Paul Laval. Владелец: Societe National Elf Aquitaine. Дата публикации: 1988-09-23.

Extended-life water softening system, apparatus and method

Номер патента: CA2614736A1. Автор: Harapanahalli S. Muralidhara,Krishna N.S. Kumar. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-01-18.

Method to extend life of iron oxide-containing catalysts using low levels of oxygen

Номер патента: DE3363134D1. Автор: George Aloysius Mcconaghy,Kyoon Kim Dae. Владелец: BP Corp North America Inc. Дата публикации: 1986-05-28.

Atmospheres for Extending Life of Wire Mesh Belts Used in Sintering Powder Metal Components

Номер патента: CA2177428A1. Автор: Diwakar Garg,Kerry Renard Berger,James Garfield Marsden,Donald James Bowe,David Lee Mitchell, Jr.. Владелец: Individual. Дата публикации: 1996-12-02.

Extended life fluorescence polyvinyl chloride sheeting

Номер патента: WO2000047407A1. Автор: Edward D. Phillips. Владелец: REFLEXITE CORPORATION. Дата публикации: 2000-08-17.

Promoting of extending life of cation exchangeable layered clay catalyst by adding water

Номер патента: AU8718182A. Автор: Reginald Gregory. Владелец: BP PLC. Дата публикации: 1983-02-24.

Promoting of extending life of cation exchangeable layered clay catalyst by adding water

Номер патента: AU554893B2. Автор: Reginald Gregory. Владелец: BP PLC. Дата публикации: 1986-09-04.

Tantalum sputtering target, method for manufacturing same, and barrier film for semiconductor wiring formed by using target

Номер патента: KR101882606B1. Автор: 신이치로 센다,고타로 나가츠. Владелец: 제이엑스금속주식회사. Дата публикации: 2018-07-26.

MAINTENANCE FREE EXTENDED LIFE CAM FOLLOWER FOR A NECKER MACHINE

Номер патента: US20210180673A1. Автор: Coppola Michael,Pallini Robert,Albini Giovanni C.. Владелец: ROLLER BEARING COMPANY OF AMERICA, INC.. Дата публикации: 2021-06-17.

Extended life abrasive article and method

Номер патента: KR101483314B1. Автор: 게리 엠. 팜그렌,제이 비. 프레스턴,브라이언 디. 고어스. Владелец: 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니. Дата публикации: 2015-01-15.

Extended life abrasive article and method

Номер патента: TW200819523A. Автор: Gary Marven Palmgren,Bryan David Goers,Jay Bradley Preston. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2008-05-01.

Etching solution compositions for copper-molybdenum metal laminated films, etching methods using said compositions, and methods for extending life-span of said compositions

Номер патента: TWI666301B. Автор: 高橋秀樹,廖本男,李盈壕. Владелец: 日商關東化學股份有限公司. Дата публикации: 2019-07-21.

Abrasive article and method with extended life

Номер патента: JP5285609B2. Автор: ゲイリー・エム・パームグレン,ジェイ・ビー・プレストン,ブライアン・ディ・ゴーアーズ. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2013-09-11.

Extended life of power turbine disks exposed to corrosion damage in use

Номер патента: CN110741136B. Автор: D.杜亚,J.惠顿,M.R.哈加维,J.富利. Владелец: 西门子能源全球两合公司. Дата публикации: 2022-04-12.

METHOD OF EXTENDING LIFE OF ROTATING PARTS

Номер патента: US20140137407A1. Автор: Pietraszkiewicz Edward F.,Staroselsky Alexander,Mongillo,JR. Dominic J.,Barker Vincent,Adair Benjamin,Johnson W. Steven. Владелец: . Дата публикации: 2014-05-22.

Rotating tubular sputter target assembly

Номер патента: EP1641956B1. Автор: Dirk Cnockaert,Wilmert De Bosscher. Владелец: Bekaert Advanced Coatings NV. Дата публикации: 2009-03-25.

Barrier film for semiconductor wiring, sintered sputtering target, and method of manufacturing sputtering targets

Номер патента: EP2431494A4. Автор: Junichi Ito,Yasuhiro Yamakoshi,Shinichiro Senda. Владелец: JX Nippon Mining and Metals Corp. Дата публикации: 2012-12-19.

Barrier film for semiconductor wiring, sintered compact sputtering target and method of producing the sputtering target

Номер патента: TW201126647A. Автор: Junichi Ito,Yasuhiro Yamakoshi,Shinichiro Senda. Владелец: Nippon Mining Co. Дата публикации: 2011-08-01.

Li-containing phosphoric-acid compound sintered body and sputtering target, and method for manufacturing said Li-containing phosphoric-acid compound sintered body

Номер патента: US09892891B2. Автор: Moriyoshi Kanamaru,Yuki Tao,Yuichi Taketomi. Владелец: Kobelco Research Institute Inc. Дата публикации: 2018-02-13.

Electronic device, manufacturing method of electronic device, and sputtering target

Номер патента: US09640668B2. Автор: Shunpei Yamazaki. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-02.

Sputtering target having an annular vault

Номер патента: US20010050223A1. Автор: Praburam Gopalraja,Jianming Fu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-12-13.

OXIDE SINTERED BODY, SPUTTERING TARGET, AND OXIDE SEMICONDUCTOR THIN FILM OBTAINED USING SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20170130329A1. Автор: Nakayama Tokuyuki,NISHIMURA Eiichiro,MATSUMURA Fumihiko,IWARA Masashi. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO., LTD.. Дата публикации: 2017-05-11.

OXIDE SINTERED BODY, SPUTTERING TARGET, AND OXIDE SEMICONDUCTOR THIN FILM OBTAINED USING SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20170345653A1. Автор: Nakayama Tokuyuki,NISHIMURA Eiichiro,MATSUMURA Fumihiko. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO., LTD.. Дата публикации: 2017-11-30.

Method for wiping the rotating disk of sputtering target material and wiping sputtering target material

Номер патента: CN107470198A. Автор: 姚力军,潘杰,王学泽,相原俊夫,大岩彦,大岩一彦,宋召东. Владелец: Ningbo Jiangfeng Electronic Material Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-15.

Volatile memory device included in memory system and method for extending life expectancy thereof

Номер патента: US20240248610A1. Автор: Junyoung Ko,Jungmin Bak,Changhwi Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-25.

Extended Life Roller Grill

Номер патента: US20200214495A1. Автор: James Humphrey. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-07-09.

Extended life video camera system and method

Номер патента: WO2010052661A1. Автор: Haim Amir. Владелец: Essence Security International Ltd. (E.S.I.). Дата публикации: 2010-05-14.

Drill bit with extended life seal

Номер патента: US09677341B2. Автор: Mark E. Williams,Ping C. Sui,Guy Lefort,Seth G. Anderle. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2017-06-13.

Extended life traveling grate side plate

Номер патента: US20010035115A1. Автор: James Foresman. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-01.

Semiconductor with extended life time flash memory

Номер патента: US20240284667A1. Автор: Chung-Yi Chen. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Variable bit encoding per NAND flash cell to improve device endurance and extend life of flash-based storage devices

Номер патента: US09639282B2. Автор: Linh Tien Truong,Navneeth Kankani. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2017-05-02.

Semiconductor with extended life time flash memory and fabrication method thereof

Номер патента: US12004345B2. Автор: Chung-Yi Chen. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-04.

Efficiently managing unmapped blocks to extend life of solid state drive with low over-provisioning

Номер патента: WO2017095499A1. Автор: Aaron K. Olbrich,Senthil M. Thangaraj,Divya Reddy. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2017-06-08.

Semiconductor with extended life time flash memory and fabrication method thereof

Номер патента: US20220246629A1. Автор: Chung-Yi Chen. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2022-08-04.

Extended-life toner cartridge for a laser printer

Номер патента: US20020159795A1. Автор: Lionel Bessette. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-31.

Ni-Fe alloy sputtering target for forming magnetic thin films, magnetic thin film, and method of manufacturing the Ni-Fe alloy sputtering target

Номер патента: US20010032686A1. Автор: Tsuneo Suzuki,Yuichiro Shindo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-10-25.

Procedure for production of high purity tungsten for sputtering target

Номер патента: RU2434960C1. Автор: Вадим Георгиевич Глебовский,Евгений Дмитриевич Штинов,Николай Сергеевич Сидоров. Владелец: Учреждение Российской академии наук Институт физики твердого тела РАН (ИФТТ РАН). Дата публикации: 2011-11-27.

Sputter target feed system

Номер патента: WO2012027123A1. Автор: Craig R. Chaney. Владелец: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.. Дата публикации: 2012-03-01.

Alloy and sputtering target material for seed layer in ni-cu-based magnetic recording medium, and magnetic recording medium

Номер патента: MY186853A. Автор: Hasegawa Hiroyuki,Shinmura Yumeki. Владелец: Sanyo Special Steel Co Ltd. Дата публикации: 2021-08-26.

Sputtering targets having life alarm function

Номер патента: US5487823A. Автор: Hiroki Nakamura,Susumu Sawada,Junichi Anan,Yoshihiro Sakaya. Владелец: Japan Energy Corp. Дата публикации: 1996-01-30.

Determination of actual defect size in cathode sputter targets subjected to ultrasonic inspection.

Номер патента: GB2358249A. Автор: Paul S Gilman,Alfred Snowman,Andre Desert. Владелец: Praxair ST Technology Inc. Дата публикации: 2001-07-18.

Procedure for production of high purity molybdenum for sputtering target

Номер патента: RU2434959C1. Автор: Вадим Георгиевич Глебовский,Евгений Дмитриевич Штинов,Николай Сергеевич Сидоров. Владелец: Учреждение Российской академии наук Институт физики твердого тела РАН (ИФТТ РАН). Дата публикации: 2011-11-27.

Assembly and method to extend useful life of sputtering targets

Номер патента: CA1118715A. Автор: Lawrence E. O'connell,G. Frederick Nichols. Владелец: Delbar Products Inc. Дата публикации: 1982-02-23.

Composition for extending life of lead acid batteries

Номер патента: US20150303523A1. Автор: Emilia Larin. Владелец: BATTERY SOLUTION INTERNATIONAL Ltd. Дата публикации: 2015-10-22.

Composition for extending life of lead acid batteries

Номер патента: US9425486B2. Автор: Emilia Larin. Владелец: BATTERY SOLUTION INTERNATIONAL Ltd. Дата публикации: 2016-08-23.

Composition for extending life of lead acid batteries

Номер патента: WO2014033708A1. Автор: Emilia Larin. Владелец: Battery Solution International Ltd.. Дата публикации: 2014-03-06.

Composition for extending life of lead acid batteries

Номер патента: EP2888780A1. Автор: Emilia Larin. Владелец: BATTERY SOLUTION INTERNATIONAL Ltd. Дата публикации: 2015-07-01.

Edible spray or coating composition for extending life of perishable goods and methods of production and use thereof

Номер патента: US20240164395A1. Автор: Patrick Van Dijck,Ozgur Yildirim,Ahmed Soliman,Steven HULTENG,Michelle HOLTAPPELS,Núria VIVES,Benjamin Grady JONES. Владелец: Ryp Labs Inc. Дата публикации: 2024-05-23.

Edible spray or coating composition for extending life of perishable goods and methods of production and use thereof

Номер патента: EP4322758A1. Автор: Patrick Van Dijck,Ozgur Yildirim,Ahmed Soliman,Steven HULTENG,Michelle HOLTAPPELS,Núria VIVES,Benjamin Grady JONES. Владелец: Ryp Labs Inc. Дата публикации: 2024-02-21.

Extended-Life Tire Chain and Method of Extending the Life of a Tire Chain

Номер патента: US20220080791A1. Автор: Tim Ruppert. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-03-17.

Pressure sensitive extended life filter

Номер патента: US5626744A. Автор: Joseph G. Neuwirth. Владелец: Kimberly Clark Corp. Дата публикации: 1997-05-06.

Extended life doctor blade and method of forming the same

Номер патента: CA2245086C. Автор: Robert J. Marinack. Владелец: Fort James Corp. Дата публикации: 2003-07-22.

Extended life brake cylinder holder

Номер патента: CA2185509C. Автор: Julie A. Krawczyk,James C. Hoffner,Patricia T. Karczewski. Владелец: Westinghouse Air Brake Co. Дата публикации: 2000-01-04.

Extended Life Automotive Coolant Formulation

Номер патента: RU2019135379A. Автор: Елена Евгеньевна Вишнякова. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью производственно-коммерческая фирма "НИАГАРА". Дата публикации: 2021-05-06.

Extended life, timed pinger for aircraft

Номер патента: US20150301151A1. Автор: H. Jay Spiegel. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-10-22.

Extended life die plate

Номер патента: EP1171277B1. Автор: Shane K. Kirk,Amy E. Castle,Mark A. Thrasher. Владелец: Eastman Chemical Co. Дата публикации: 2005-04-27.

Extended life die plate

Номер патента: WO2000050214A1. Автор: Shane K. Kirk,Amy E. Castle,Mark A. Thrasher. Владелец: EASTMAN CHEMICAL COMPANY. Дата публикации: 2000-08-31.

Extended life die plate

Номер патента: AU2884000A. Автор: Shane K. Kirk,Amy E. Castle,Mark A. Thrasher. Владелец: Eastman Chemical Co. Дата публикации: 2000-09-14.

Extended life die plate

Номер патента: EP1171277A4. Автор: Shane K Kirk,Amy E Castle,Mark A Thrasher. Владелец: Eastman Chemical Co. Дата публикации: 2004-01-21.

Extended life die plate

Номер патента: EP1171277A1. Автор: Shane K. Kirk,Amy E. Castle,Mark A. Thrasher. Владелец: Eastman Chemical Co. Дата публикации: 2002-01-16.

Edible spray or coating composition for extending life of perishable goods and methods of production and use thereof

Номер патента: EP4322758A4. Автор: Ozgur Yildirim,Ahmed Soliman,Steven HULTENG,Michelle HOLTAPPELS,Núria VIVES,Benjamin Grady JONES,Dijck Patrick Van. Владелец: Ryp Labs Inc. Дата публикации: 2024-09-04.

Extended Life Panel Filter

Номер патента: US20140165839A1. Автор: Crabtree LaMonte A.. Владелец: Clarcor Air Filtration Products, Inc.. Дата публикации: 2014-06-19.

Methods for treating depression, neurodegeneration, inhibiting amyloid beta deposition, delaying senescence, and extending life spans with heterocyclic compounds

Номер патента: US20140171452A1. Автор: Takeshi Nagata,Hitoshi Miyashita,Yoshimasa Yamaguchi,Toshiyuki Matsuno,Kenichi Saitoh,Ryogo Yui. Владелец: Zenyaku Kogyo KK. Дата публикации: 2014-06-19.

THREE DIMENSIONAL FILTER MEDIA FOR EXTENDED LIFE FILTER

Номер патента: US20180140982A1. Автор: Sobel Martin. Владелец: . Дата публикации: 2018-05-24.

CONTROLLED ACTIVATION OF EXTENDED-LIFE CEMENT COMPOSITIONS

Номер патента: US20180148629A1. Автор: Pisklak Thomas Jason,Agapiou Kyriacos,Lewis Samuel J.. Владелец: Halliburton Energy Services, Inc.. Дата публикации: 2018-05-31.

Extended-life oil management system and method of using same

Номер патента: US20140246380A1. Автор: Ronald P. Rohrbach,Gerard W. Bilski,Brian Artz. Владелец: FRAM GROUP IP LLC. Дата публикации: 2014-09-04.

PLUGGING AND ABANDONING A WELL USING EXTENDED-LIFE CEMENT COMPOSITIONS

Номер патента: US20180163121A1. Автор: Pisklak Thomas Jason,Agapiou Kyriacos,Lewis Samuel J.. Владелец: Halliburton Energy Services, Inc.. Дата публикации: 2018-06-14.

Extended-life calcium aluminophosphate cement compositions

Номер патента: US20180171204A1. Автор: Kyriacos Agapiou,Thomas Jason Pisklak,Samuel J. Lewis. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2018-06-21.

EXTENDED LIFE DEPOSITION RING

Номер патента: US20150190835A1. Автор: HAWRYLCHAK LARA. Владелец: . Дата публикации: 2015-07-09.

Extended-Life Settable Compositions Comprising Red Mud

Номер патента: US20190195044A1. Автор: Chatterji Jiten,Pisklak Thomas Jason,Brenneis Darrell Chad,Martinez Juan Humberto. Владелец: Halliburton Energy Services, Inc.. Дата публикации: 2019-06-27.

THREE DIMENSIONAL FILTER MEDIA FOR EXTENDED LIFE FILTER

Номер патента: US20190255471A1. Автор: Sobel Martin. Владелец: . Дата публикации: 2019-08-22.

EXTENDED-LIFE CALCIUM ALUMINATE CEMENTING METHODS

Номер патента: US20170283682A1. Автор: Pisklak Thomas Jason,Agapiou Kyriacos,Lewis Samuel J.. Владелец: Halliburton Energy Services, Inc.. Дата публикации: 2017-10-05.

Extended life Energy Storage Systems and Methods of Manufacturing Thereof

Номер патента: US20160293938A1. Автор: Takeuchi Esther S.,Marschilok Amy C.,TAKEUCHI Kenneth J.. Владелец: The Research Foundation for The State University of New York. Дата публикации: 2016-10-06.

Extended life, timed pinger for aircraft

Номер патента: US20150301151A1. Автор: H. Jay Spiegel. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-10-22.

EXTENDED LIFE CONVEYOR CHAIN TROLLEY AND METHOD

Номер патента: US20200346871A1. Автор: Frost Charles C.,Hyvarinen Richard A.,Deschaine Chuck. Владелец: Frost Tech LLC. Дата публикации: 2020-11-05.

Extended life functional fluid

Номер патента: US3933659A. Автор: Richard E. Lyle,Edward G. Foehr. Владелец: Chevron Research Co. Дата публикации: 1976-01-20.

Plugging and abandoning a well using extended-life cement compositions

Номер патента: CA2987538A1. Автор: Kyriacos Agapiou,Thomas Jason Pisklak,Samuel J. Lewis. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2017-01-12.

Controlled activation of extended-life cement compositions.

Номер патента: MX2017016040A. Автор: Agapiou Kyriacos,Jason Pisklak Thomas,J Lewis Samuel. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2018-02-21.

Extended-life polyethylene gas distribution pipe

Номер патента: CA2033486A1. Автор: David T. Raske,John E. Young. Владелец: John E. Young. Дата публикации: 1991-07-04.

Composition comprising compound K and decursinol for extending life span and stimulating differentiation of cells

Номер патента: KR102102295B1. Автор: 이진영,김성호,김형수,김철민,장나영,강재선,정충기,표재성,김형회,권차남. Владелец: 경성대학교 산학협력단. Дата публикации: 2020-04-21.

Extended-life calcium aluminophosphate cement compositions

Номер патента: WO2017007448A1. Автор: Agapiou Kyriacos,Thomas Jason Pisklak,Samuel J. Lewis. Владелец: Halliburton Energy Services, Inc.. Дата публикации: 2017-01-12.

Extended life battery pack with active cooling

Номер патента: US6479185B1. Автор: H. Coleman Hilderbrand,V. Evan House,Martin C. Orler. Владелец: Moltech Power Systems Inc. Дата публикации: 2002-11-12.

Method of producing biologically active molecules having extended life time

Номер патента: US4703039A. Автор: Jack J. Hawiger,Sheila Timmons,Marek Kloczewiak. Владелец: New England Deaconess Hospital. Дата публикации: 1987-10-27.

Extended-life oil management system and method of using same

Номер патента: US9623350B2. Автор: Ronald P. Rohrbach,Gerard W. Bilski,Brian Artz. Владелец: FRAM GROUP IP LLC. Дата публикации: 2017-04-18.

Carbon fibre reinforced carbon electrode - for fluorine prodn. cell has improved mechanical properties and extended life

Номер патента: FR2187417A1. Автор: . Владелец: British Nuclear Fuels PLC. Дата публикации: 1974-01-18.

Oak cask for ageing and maturing wine, whisky etc. - contains pocketed oak contacting element to speed process and extend life of cask

Номер патента: FR2504498A1. Автор: Richard K Stem. Владелец: STEM Inc CHESTER. Дата публикации: 1982-10-29.

Refractory crucible lid - has extended life due to reversibility

Номер патента: FR2155099A5. Автор: . Владелец: Ceraver SA. Дата публикации: 1973-05-18.

Cells contg. glucose-isomerase enclosed in cellulose ester - with magnesium cpd. gives compsn. of extended life for isomerisation of glucose to fructose

Номер патента: FR2430976A2. Автор: Michel Guerineau,Albert Bouniot,Guy Lartigau. Владелец: Rhone Poulenc Industries SA. Дата публикации: 1980-02-08.

Chipper disc assembly having extended-life regrindable disposable knives

Номер патента: US5271440A. Автор: Joseph R. Bradstreet, Jr.,Michael Cubbon,Ronald Danielson,Keith H. Hewitt,David S. Macey. Владелец: Pacific/Hoe Saw and Knife Co. Дата публикации: 1993-12-21.

Edible spray or coating composition for extending life of perishable goods and methods of production and use thereof

Номер патента: WO2022221443A1. Автор: Patrick Van Dijck,Ozgur Yildirim,Ahmed Soliman,Steven HULTENG,Michelle HOLTAPPELS,Núria VIVES,Benjamin Grady JONES. Владелец: Ryp Labs, Inc.. Дата публикации: 2022-10-20.

Diaphragm/check valve used in inkjet cassette to air removal for extended life storage

Номер патента: WO2002028648A1. Автор: Stephen A. Anderson,Bruce S. Jones,William A. Putman. Владелец: Nu-Kote International, Inc.. Дата публикации: 2002-04-11.

Extended life filter medium

Номер патента: AU8311675A. Автор: Edward Albert Smith. Владелец: GAF Corp. Дата публикации: 1977-01-20.

Catalytic converter with extended life

Номер патента: DE4311513A1. Автор: Friedrich Dipl Ing Gruber,Christian Ing Lang,Walter Picker. Владелец: Jenbacher Energiesysteme AG. Дата публикации: 1993-10-21.

Controlled activation of extended-life cement compositions

Номер патента: US10894911B2. Автор: Kyriacos Agapiou,Thomas Jason Pisklak,Samuel J. Lewis. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2021-01-19.

Extended-life settable compositions comprising red mud

Номер патента: WO2016122530A1. Автор: Darrell Chad Brenneis,Jiten Chatterji,Thomas Jason Pisklak,Juan Humberto Martinez. Владелец: Halliburton Energy Services, Inc.. Дата публикации: 2016-08-04.

Method and system for extending life of a vehicle energy storage device

Номер патента: WO2010011458A2. Автор: Wolfgang Daum,Robert Dean King,Lembit Salasoo,Charles IACOVANGELO. Владелец: GENERAL ELECTRIC COMPANY. Дата публикации: 2010-01-28.

Controlled activation of extended-life cement compositions

Номер патента: CA2988714A1. Автор: Kyriacos Agapiou,Thomas Jason Pisklak,Samuel J. Lewis. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2017-01-12.

Enhanced performance fibrous filter media and extended life fluid filter assembly

Номер патента: AU772279B2. Автор: Daniel R. Cady,Tadeusz Jaroszczyk,Stephen L. Fallon,Jeffrey S. Morgan,Jon S. Wake,Kent J. Kallsen. Владелец: Nelson Industries Inc. Дата публикации: 2004-04-22.

Retinal pigment epithelial cell lines with extended life-span and their applications

Номер патента: CA2407424A1. Автор: Peter Adamson,John Greenwood,Raymond Lund. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-01.

Extended life doctor blade and method of forming the same

Номер патента: CA2245086A1. Автор: Robert J. Marinack. Владелец: Fort James Corp. Дата публикации: 1999-02-18.

Work method to design extended life slurries

Номер патента: GB2609782A. Автор: Jason Pisklak Thomas,Paul Bir Singh John,Rama Krishna Jandhyala Siva,Carmen Pineda Claudia. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2023-02-15.

Low-Portland extended life slurries for use in oilwell cementing

Номер патента: GB2606460A. Автор: Jason Pisklak Thomas,Robert Benkley James,Glen Morgan Ronnie,Carmen Pineda Claudia. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2022-11-09.

Extending life of refractory linings

Номер патента: FR2048316A5. Автор: . Владелец: Quigley Co Inc. Дата публикации: 1971-03-19.

Non-woven abrasive article with extended life

Номер патента: EP2726658B1. Автор: Shyiguei Hsu,Alejandro Gomez,Godofredo VELA. Владелец: Saint Gobain Abrasifs SA. Дата публикации: 2018-12-12.

Non-woven abrasive article with extended life

Номер патента: EP2726658A4. Автор: Shyiguei Hsu,Alejandro Gomez,Godofredo VELA. Владелец: Saint Gobain Abrasifs SA. Дата публикации: 2015-07-15.

Extended life functional fluid

Номер патента: CA992062A. Автор: Richard E. Lyle,Edward G. Foehr. Владелец: Chevron Research and Technology Co. Дата публикации: 1976-06-29.

Method for powering a spacecraft with extended-life battery operation

Номер патента: US6027076A. Автор: Stanley J. Krause. Владелец: Hughes Electronics Corp. Дата публикации: 2000-02-22.

Extended-life settable compositions comprising red mud.

Номер патента: MX2017008799A. Автор: Chatterji Jiten,Jason Pisklak Thomas,Humberto Martinez Juan,Chad Brenneis Darrel. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2017-10-19.

Extended life conditioning disk

Номер патента: US20070287367A1. Автор: James Aloysius Hagan,Wei-Tsu Tseng,Ben Kim,Manoj Balachandran,Deoram Persaud,Adam Daniel Ticknor. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2007-12-13.

PACKAGING FOR FOODS WITH EXTENDED LIFE

Номер патента: DE69422620D1. Автор: P Gorlich,F Mcpherson. Владелец: World Class Packaging Systems Inc. Дата публикации: 2000-02-17.

Extended life rust and oxidation oils

Номер патента: CA2171924A1. Автор: Ramnath Iyer. Владелец: Ethyl Corp. Дата публикации: 1996-09-29.

Demulsified extended life functional fluid

Номер патента: US3920562A. Автор: Edward G Foehr. Владелец: Chevron Research and Technology Co. Дата публикации: 1975-11-18.

Extended-life cement compositions comprising red mud solids

Номер патента: AU2014410209B2. Автор: Kyriacos Agapiou,Thomas Jason Pisklak,Juan Humberto Martinez. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2017-12-14.

Leading end of tube extrusion punch - has compound curved shape which extends life expectancy of punch

Номер патента: FR2394338A1. Автор: . Владелец: Paderwerk Gebr Benteler. Дата публикации: 1979-01-12.

Polishing pad carrier that improves polishing performance and extends life

Номер патента: JP2005537946A. Автор: エス． オーベン，ヤウ,エー． トーマス，ピーター，. Владелец: サイロクエスト インコーポレーテッド. Дата публикации: 2005-12-15.

Three dimensional filter media for extended life filter

Номер патента: CA3044841A1. Автор: Martin Sobel. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-05-31.

Extended Life Tire Curing Bladder Composed of Aramid Fibers

Номер патента: US20110142977A1. Автор: Ken Lee Phelps. Владелец: Tire Curing Baldders LLC. Дата публикации: 2011-06-16.

Extended-life cement compositions comprising red mud solids

Номер патента: CA2958831A1. Автор: Kyriacos Agapiou,Thomas Jason Pisklak,Juan Humberto Martinez. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2016-05-06.

Method and apparatus to extend life of receptacle

Номер патента: US11453529B1. Автор: Damon Troyan. Владелец: Nomad Holdings 2 LLC. Дата публикации: 2022-09-27.

FACTOR VIII WITH UNION PROPERTIES TO BIND REDUCED AND EXTENDED LIFE

Номер патента: AR106914A1. Автор: Turecek Peter,Siekmann Juergen,Schrenk Gerald. Владелец: Baxalta Inc. Дата публикации: 2018-02-28.

Plugging and abandning a well using extended-life cement composiions

Номер патента: GB201720307D0. Автор: . Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2018-01-17.

Composition for extending life of lead acid batteries

Номер патента: EP2888780A4. Автор: Emilia Larin. Владелец: BATTERY SOLUTION INTERNAT Ltd. Дата публикации: 2016-04-06.

Machine for slowing the flow of time and extending life

Номер патента: US20200289137A1. Автор: Paul Alex LaViolette. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-09-17.

EXTENDED-LIFE CEMENT COMPOSITIONS COMPRISING RED MUD SOLIDS

Номер патента: US20170306211A1. Автор: Pisklak Thomas Jason,Agapiou Kyriacos,Martinez Juan Humberto. Владелец: Halliburton Energy Services, Inc.. Дата публикации: 2017-10-26.

Extended-Life Settable Compositions Comprising Red Mud

Номер патента: US20170369762A1. Автор: Darrell Chad Brenneis,Jiten Chatterji,Thomas Jason Pisklak,Juan Humberto Martinez. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2017-12-28.

Low-portland extended life slurries for use in oilwell cementing

Номер патента: WO2021137878A1. Автор: James Robert Benkley,Ronnie Glen MORGAN,Thomas Jason Pisklak,Claudia Carmen Pineda. Владелец: Halliburton Energy Services, Inc.. Дата публикации: 2021-07-08.

Air-conditioning filter - of extended life and improved efficiency

Номер патента: FR2166298A1. Автор: . Владелец: PROD PLASTIQUES FRAN. Дата публикации: 1973-08-17.

Prefilter protecting and extending life of main filter - easily cleaned and maintained useful in dusty atmospheres

Номер патента: FR2301152A7. Автор: . Владелец: Seplast. Дата публикации: 1976-09-10.

Extended-life calcium aluminate cementing methods

Номер патента: GB2544434B. Автор: Agapiou Kyriacos,Jason Pisklak Thomas,J Lewis Samuel. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2021-11-24.

FUNCTIONAL OIL WITH EXTENDED LIFE

Номер патента: DE2304486A1. Автор: Edward Gotthard Foehr,Richard Edward Lyle. Владелец: Chevron Research and Technology Co. Дата публикации: 1973-08-23.

Retinal pigment epithelial cell lines with extended life-span and their applications

Номер патента: WO2001081551A2. Автор: Peter Adamson,John Greenwood,Raymond Lund. Владелец: Neurotech S.A.. Дата публикации: 2001-11-01.

Retinal pigment epithelial cell lines with extended life-span and their applications

Номер патента: WO2001081551A9. Автор: Peter Adamson,John Greenwood,Raymond Lund. Владелец: Raymond Lund. Дата публикации: 2002-08-15.

HIGH-PURITY YTTRIUM, PROCESS OF PRODUCING HIGH-PURITY YTTRIUM, HIGH-PURITY YTTRIUM SPUTTERING TARGET, METAL GATE FILM DEPOSITED WITH HIGH-PURITY YTTRIUM SPUTTERING TARGET, AND SEMICONDUCTOR ELEMENT AND DEVICE EQUIPPED WITH THE METAL GATE FILM

Номер патента: US20140140884A1. Автор: Takahata Masahiro. Владелец: JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION. Дата публикации: 2014-05-22.

MAGNETIC RECORDING MEDIUM, SPUTTERING TARGET, SPUTTERING TARGET MANUFACTURING METHOD, AND MAGNETIC STORAGE APPARATUS

Номер патента: US20190180782A1. Автор: ZHANG LEI,Kanbe Tetsuya,Niwa Kazuya,Xu Chen,SHIGE Tomoo,Fukushima Takayuki,Yamaguchi Takehiro,Murofushi Katsumi,SHIBATA Hisato,MURAKAMI Yuji,ISHIBASHI Yoshitaka. Владелец: . Дата публикации: 2019-06-13.

HOT ROLLED PLATE MADE OF COPPER ALLOY USED FOR A SPUTTERING TARGET AND SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20150318153A1. Автор: Koide Masato,OKUBO Kiyoyuki. Владелец: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION. Дата публикации: 2015-11-05.

Preparation method of tungsten sputtering targets for semiconductors and the tungsten sputtering target prepared thereby

Номер патента: KR20150070608A. Автор: 양승호,윤원규,이효원,홍길수. Владелец: 희성금속 주식회사. Дата публикации: 2015-06-25.

Schottky emitter having extended life

Номер патента: EP1123558A1. Автор: Gregory A. Schwind,David S. Jun,James B. McGinn,Gerald G. Magera,Sander G. Den Hartog. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2001-08-16.

Extended life battery

Номер патента: US09966780B2. Автор: Mykola Sherstyuk,Tymofiy Sherstyuk. Владелец: Gbatteries Energy Canada Inc. Дата публикации: 2018-05-08.

Method of extending life expectancy of surface mount components

Номер патента: US20020006033A1. Автор: Mahesh K. Chengalva. Владелец: Delphi Technologies Inc. Дата публикации: 2002-01-17.

Extended life food product

Номер патента: WO2012049519A1. Автор: Peter Sadd,Solene Pont,Robin Clifton,Tim Fenton,Joanna Emery. Владелец: Premier Foods Group Limited. Дата публикации: 2012-04-19.

Check Valve and Method and Apparatus for Extending Life of Check Valve

Номер патента: US20160186736A1. Автор: Curtis Roys. Владелец: Compressor Products International LLC. Дата публикации: 2016-06-30.

Check Valve and Method and Apparatus for Extending Life of Check Valve

Номер патента: US20140000983A1. Автор: Curtis Roys. Владелец: Coltec Industrial Products Inc. Дата публикации: 2014-01-02.

Extended life food product

Номер патента: GB201017468D0. Автор: . Владелец: Premier Foods Group Ltd. Дата публикации: 2010-12-01.

Extended life food product

Номер патента: EP2627188A1. Автор: Peter Sadd,Solene Pont,Robin Clifton,Tim Fenton,Joanna Emery. Владелец: Premier Foods Group Ltd. Дата публикации: 2013-08-21.

Extended-life asymmetric cryptographic key scheme

Номер патента: US20210344486A1. Автор: Narayana Aditya Madineni,Simon D. McMahon,Peter T. Waltenberg. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2021-11-04.

Check valve and method and apparatus for extending life of check valve

Номер патента: US09938969B2. Автор: Curtis Roys. Владелец: Compressor Products International LLC. Дата публикации: 2018-04-10.

Systems and methods of write precompensation to extend life of a solid-state memory

Номер патента: WO2014165550A1. Автор: Haibo Li,Kroum S. Stoev,Dengtao Zhao,Yongke Sun. Владелец: WESTERN DIGITAL TECHNOLOGIES, INC.. Дата публикации: 2014-10-09.

Systems and methods of write precompensation to extend life of a solid-state memory

Номер патента: EP2981966A1. Автор: Haibo Li,Kroum S. Stoev,Dengtao Zhao,Yongke Sun. Владелец: Western Digital Technologies Inc. Дата публикации: 2016-02-10.

Gas Distribution Plate with Enhanced Gas Hole Consistency and Extended Life

Номер патента: US20240290580A1. Автор: Sam Kim. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-29.

System having an extended life high performance sensor

Номер патента: EP3816577A1. Автор: Alan Bruce Touchberry,Dean Eivind Johnson. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2021-05-05.

Top drive bearing for use in a top drive system, and made of non-vacuum arc remelted steel configured to achieve an extended life cycle at least equivalent to a life factor of three for a vacuum arc remelted steel

Номер патента: US09695875B2. Автор: Steven Parkinson. Владелец: Roller Bearing Company of America Inc. Дата публикации: 2017-07-04.

Multi-path valve structure having extended life

Номер патента: US4183375A. Автор: Ralph L. Vick. Владелец: Bendix Corp. Дата публикации: 1980-01-15.

Extended life solenoid

Номер патента: US5652560A. Автор: Philip A. Billings,Daniel L. Carter,Geoffrey C. Williams. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 1997-07-29.

Battery life extender for lead acid battery, method for extending life of lead acid battery, electrolyte solution of lead acid battery, and lead acid battery

Номер патента: TW200835019A. Автор: Norihiro Ohishi. Владелец: Norihiro Ohishi. Дата публикации: 2008-08-16.

Electroadhesive actuators with extended life

Номер патента: WO2022146596A1. Автор: Eun Kyung Lee,Iustinia Koshkaroff,Steven H. Walker,Christopher Andon,Daniel Stuart. Владелец: Nike Innovate C.V.. Дата публикации: 2022-07-07.

Extending life cycles of vacuum pumps used in manufacturing processes

Номер патента: US11905955B1. Автор: Yoshinori Christopher Dokko. Владелец: Kashiyama Industries Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

TOP DRIVE BEARING FOR USE IN A TOP DRIVE SYSTEM, AND MADE OF NON-VACUUM ARC REMELTED STEEL CONFIGURED TO ACHIEVE AN EXTENDED LIFE CYCLE AT LEAST EQUIVALENT TO A LIFE FACTOR OF THREE FOR A VACUUM ARC REMELTED STEEL

Номер патента: US20150023626A1. Автор: Parkinson Steven. Владелец: ROLLER BEARING COMPANY OF AMERICA, INC.. Дата публикации: 2015-01-22.

METHOD OF EXTENDING LIFE EXPECTANCY OF HIGH-TEMPERATURE PIPING AND LIFE EXPECTANCY EXTENSION STRUCTURE OF HIGH-TEMPERATUE PIPING

Номер патента: US20160208978A1. Автор: Fujita Masaaki,Watanabe Daigo,Tokiyoshi Takumi,Chuman Yasuharu,MATSUMOTO Shintaro,SAKATA Fumitoshi,FUKAHORI Takuya,KANEMAKI Yuichi,OHYAMA Hiroyuki,OHTSU Ichiro. Владелец: . Дата публикации: 2016-07-21.

Method of extending life expectancy of high-temperature piping and life expectancy extension structure of high-temperature piping

Номер патента: EP2975314B1. Автор: Hiroyuki Ohyama,Daigo WATANABE,Fumitoshi Sakata,Takumi Tokiyoshi,Yasuharu Chuman,Takuya FUKAHORI,Yuichi Kanemaki,Shintaro Matsumoto,Masaaki Fujita,Ichiro OHTSU. Владелец: Mitsubishi Hitachi Power Systems Ltd. Дата публикации: 2017-05-10.

Formulations to Extend Life and Health Life

Номер патента: KR20200015897A. Автор: 브라이언 케네디,고든 제이. 리스고,토마스 웰던,다니엘 에드가,마크 루카닉. Владелец: 버크 인스티튜트 포 리서치 온 에이징. Дата публикации: 2020-02-13.

Method of extending life expectancy of high-temperature piping and life expectancy extension structure of high-temperature piping

Номер патента: US9739412B2. Автор: Hiroyuki Ohyama,Daigo WATANABE,Fumitoshi Sakata,Takumi Tokiyoshi,Yasuharu Chuman,Takuya FUKAHORI,Yuichi Kanemaki,Shintaro Matsumoto,Masaaki Fujita,Ichiro OHTSU. Владелец: Mitsubishi Hitachi Power Systems Ltd. Дата публикации: 2017-08-22.

Extended life smoke detector

Номер патента: US5444434A. Автор: Victor M. Serby. Владелец: Individual. Дата публикации: 1995-08-22.

Counting circuit employing more equatably used plural counters for extended life

Номер патента: US4757522A. Автор: Dirk Kieselstein. Владелец: Mannesmann VDO AG. Дата публикации: 1988-07-12.

Electroadhesive actuators with extended life

Номер патента: EP4272304A1. Автор: Eun Kyung Lee,Iustinia Koshkaroff,Steven H. Walker,Christopher Andon,Daniel Stuart,Nina Yashkova. Владелец: Nike Innovate CV USA. Дата публикации: 2023-11-08.

Downhole On-Demand Extended-Life Power Source System

Номер патента: US20190316446A1. Автор: James Daniel Montoya. Владелец: Chevron USA Inc. Дата публикации: 2019-10-17.

Extended life mower blade

Номер патента: WO2023149871A1. Автор: John Southwell. Владелец: HUSQVARNA AB. Дата публикации: 2023-08-10.

Electron gun and method for extending life of the same

Номер патента: GB9914729D0. Автор: . Владелец: Advantest Corp. Дата публикации: 1999-08-25.

Extended life traveling grate side plate

Номер патента: AU2001249145A1. Автор: James D Foresman. Владелец: Svedala Industries Inc. Дата публикации: 2001-10-03.

Maintenance free extended life cam follower for a necker machine

Номер патента: EP3885610A3. Автор: Bradley Smith,Robert Pallini,Michael Coppola. Владелец: Roller Bearing Company of America Inc. Дата публикации: 2021-11-10.

Extended life battery cell

Номер патента: US20210151731A1. Автор: Jiang Fan,David Christian,Gerardo Jimenez. Владелец: American Lithium Energy Corp. Дата публикации: 2021-05-20.

Right angle time-of-flight detector with an extended life time

Номер патента: GB202017344D0. Автор: . Владелец: Leco Corp. Дата публикации: 2020-12-16.

Right angle time-of-flight detector with an extended life time

Номер патента: GB201616443D0. Автор: . Владелец: Leco Corp. Дата публикации: 2016-11-09.

Apparatus and method for extending life of a storage unit by delaying transitioning to a hibernation state for a predetermined time calculated based on a number of writing times of the storage unit

Номер патента: US09423857B2. Автор: Yuichi KONOSU. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-08-23.

Fixing devices including extended-life components and methods of fixing marking material to substrates

Номер патента: US20120039647A1. Автор: Grace T. Brewington,Bin Zhang,Daniel M. Bray,Santokh Badesha,James R. Beachner,Dale R. Mashtare,Anthony S. Condello,Christopher G. Lynn,Richard W. Seyfried,Robert W. Phelps. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 2012-02-16.

Lamp controller with extended life

Номер патента: US20130162148A1. Автор: Huaqing HUANG. Владелец: Xiamen Xing Henglong Lighting Tech Co Ltd. Дата публикации: 2013-06-27.

EXTENDED LIFE FOOD PRODUCT

Номер патента: US20130323367A1. Автор: Pont Solene,Clifton Robin,Fenton Tim,Sadd Peter,Emery JoAnna. Владелец: Premier Foods Group Limited. Дата публикации: 2013-12-05.

Check Valve and Method and Apparatus for Extending Life of Check Valve

Номер патента: US20140000983A1. Автор: Roys Curtis. Владелец: COLTEC INDUSTRIAL PRODUCTS LLC. Дата публикации: 2014-01-02.

GAS ENGINE IGNITION SYSTEM FOR EXTENDING LIFE AND LEAN LIMIT

Номер патента: US20180073481A1. Автор: SINGH Jaswinder,Ginter David M.. Владелец: CATERPILLAR INC.. Дата публикации: 2018-03-15.

CONFINEMENT RING WITH EXTENDED LIFE

Номер патента: US20200075295A1. Автор: CANNIFF Justin Charles. Владелец: . Дата публикации: 2020-03-05.

SYSTEM HAVING AN EXTENDED LIFE HIGH PERFORMANCE SENSOR

Номер патента: US20210123738A1. Автор: Touchberry Alan Bruce,Johnson Dean Eivind. Владелец: HONEYWELL INTERNATIONAL INC.. Дата публикации: 2021-04-29.

Exchangeable extended life connections for mass interconnects

Номер патента: US20210143592A1. Автор: Darryl M Ashby,David L Rocker,Christopher Joseph Church-DiCicco,Randall L Herron. Владелец: Virginia Panel Corp. Дата публикации: 2021-05-13.

SURFACE PROFILE MODIFICATIONS FOR EXTENDED LIFE OF CONSUMABLE PARTS IN SEMICONDUCTOR PROCESSING EQUIPMENT

Номер патента: US20160155657A1. Автор: YAVELBERG Simon,GOPALAN Ramesh. Владелец: . Дата публикации: 2016-06-02.

Efficiently Managing Unmapped Blocks to Extend Life of Solid State Drive with Low Over-Provisioning

Номер патента: US20170160976A1. Автор: Olbrich Aaron K.,Thangaraj Senthil M.,Reddy Divya. Владелец: . Дата публикации: 2017-06-08.

SELECTIVELY EXTENDING LIFE OF PREFETCHED CONTENT FOR DOMAIN NAME SYSTEM CONTENT DELIVERY

Номер патента: US20180159815A1. Автор: Halley Robert Thomas,Wellington Brian. Владелец: . Дата публикации: 2018-06-07.

Variable Bit Encoding Per NAND Flash Cell to Extend Life of Flash-Based Storage Devices and Preserve Over-Provisioning

Номер патента: US20170168713A1. Автор: Kankani Navneeth,Truong Linh Tien. Владелец: . Дата публикации: 2017-06-15.

MAINTENANCE FREE EXTENDED LIFE CAM FOLLOWER FOR A NECKER MACHINE

Номер патента: US20200158221A1. Автор: Smith Bradley,Coppola Michael,Pallini Robert. Владелец: ROLLER BEARING COMPANY OF AMERICA, INC.. Дата публикации: 2020-05-21.

Check Valve and Method and Apparatus for Extending Life of Check Valve

Номер патента: US20160186736A1. Автор: Roys Curtis. Владелец: . Дата публикации: 2016-06-30.

SYSTEMS AND METHODS OF WRITE PRECOMPENSATION TO EXTEND LIFE OF A SOLID-STATE MEMORY

Номер патента: US20140301142A1. Автор: Zhao Dengtao,Li Haibo,Sun Yongke,STOEV KROUM S.. Владелец: . Дата публикации: 2014-10-09.

Variable Bit Encoding Per NAND Flash Cell to Improve Device Endurance and Extend Life of Flash-Based Storage Devices

Номер патента: US20170220269A1. Автор: Kankani Navneeth,Truong Linh Tien. Владелец: . Дата публикации: 2017-08-03.

Extended Life Roller Grill

Номер патента: US20200214495A1. Автор: James Humphrey. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-07-09.

SYSTEM AND METHOD FOR PRESERVING VALUE AND EXTENDING LIFE OF LEGACY SOFTWARE IN FACE OF PROCESSOR UNAVAILABILITY, RISING PROCESSOR COSTS, OR OTHER ISSUES

Номер патента: US20170228225A1. Автор: Rachlin Elliott. Владелец: . Дата публикации: 2017-08-10.

COMPOSITION FOR EXTENDING LIFE OF LEAD ACID BATTERIES

Номер патента: US20150303523A1. Автор: LARIN Emilia. Владелец: . Дата публикации: 2015-10-22.

Downhole On-Demand Extended-Life Power Source System

Номер патента: US20190316446A1. Автор: Montoya James Daniel. Владелец: . Дата публикации: 2019-10-17.

Variable Bit Encoding Per NAND Flash Cell to Improve Device Endurance and Extend Life of Flash-Based Storage Devices

Номер патента: US20160342345A1. Автор: Kankani Navneeth,Truong Linh Tien. Владелец: . Дата публикации: 2016-11-24.

Refrigerant Leak Sensor With Extended Life

Номер патента: US20220349600A1. Автор: ALFANO David A.. Владелец: EMERSON CLIMATE TECHNOLOGIES, INC.. Дата публикации: 2022-11-03.

Ferroelectric Memory Devices with Extended Life

Номер патента: KR100548847B1. Автор: 강영민. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2006-03-31.

Accumulator with extended life

Номер патента: DE102009016867A1. Автор: Andreas Dr. Gutsch,Tim Schäfer,Walter Dr. Lachenmeier. Владелец: Li Tec Battery GmbH. Дата публикации: 2010-10-14.

Rechargeable battery for extended life

Номер патента: EP2141763A2. Автор: Jürgen Hofmann,Tim Schäfer,Günter Dr. Eichinger,Magnus Mickel. Владелец: Li Tec Battery GmbH. Дата публикации: 2010-01-06.

Extended life fuel cell system and method for reducing MEA damage to a fuel cell stack

Номер патента: DE102009050935B4. Автор: Robert S. Foley,Clark G. Hochgraf,Paul Taichiang Yu,Frederick T. Wagner. Владелец: GM GLOBAL TECHNOLOGY OPERATIONS LLC. Дата публикации: 2016-12-29.

Extended Life LED Fixture with Distributed Controller and Multi-Chip LEDS

Номер патента: US20090128052A1. Автор: II Jack Leighton Ries. Владелец: ABL IP HOLDING LLC. Дата публикации: 2009-05-21.

Extended life LED fixture with central controller and LED lamps

Номер патента: US8242927B2. Автор: II Jack Leighton Ries. Владелец: ABL IP HOLDING LLC. Дата публикации: 2012-08-14.

Extended Life LED Fixture with Central Controller and LED Lamps

Номер патента: US20090128054A1. Автор: II Jack Leighton Ries. Владелец: ABL IP HOLDING LLC. Дата публикации: 2009-05-21.

Extended life LED fixture with distributed controller and multi-chip LEDs

Номер патента: US8237582B2. Автор: II Jack Leighton Ries. Владелец: ABL IP HOLDING LLC. Дата публикации: 2012-08-07.

Extended life LED fixture with central controller and multi-chip LEDs

Номер патента: US8237581B2. Автор: II Jack Leighton Ries. Владелец: ABL IP HOLDING LLC. Дата публикации: 2012-08-07.

Extended Life LED Fixture with Central Controller and Multi-Chip LEDS

Номер патента: US20090128060A1. Автор: II Jack Leighton Ries. Владелец: ABL IP HOLDING LLC. Дата публикации: 2009-05-21.

Formulations for extended life and health

Номер патента: CN110913847A. Автор: 布莱恩·肯尼迪,戈登·J·利思戈,托马斯·韦尔登,丹尼尔·埃德加,马克·卢卡尼克. Владелец: BUCK INSTITUTE FOR RESEARCH ON AGING. Дата публикации: 2020-03-24.

Variable bit encoding per NAND flash cell to extend life of flash-based storage devices and preserve over-provisioning

Номер патента: US9606737B2. Автор: Linh Tien Truong,Navneeth Kankani. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2017-03-28.

Variable bit encoding per NAND flash cell to improve device endurance and extend life of flash-based storage devices

Номер патента: US9891844B2. Автор: Linh Tien Truong,Navneeth Kankani. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2018-02-13.

Efficiently managing unmapped blocks to extend life of solid state drive

Номер патента: US9946473B2. Автор: Aaron K. Olbrich,Senthil M. Thangaraj,Divya Reddy. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2018-04-17.

Efficiently managing unmapped blocks to extend life of solid state drive with low over-provisioning

Номер патента: US9946483B2. Автор: Aaron K. Olbrich,Senthil M. Thangaraj,Divya Reddy. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2018-04-17.

Variable bit encoding per NAND flash cell to extend life of flash-based storage devices and preserve over-provisioning

Номер патента: US9864525B2. Автор: Linh Tien Truong,Navneeth Kankani. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2018-01-09.

Precision micro-hole for extended life batteries

Номер патента: US7379555B2. Автор: Richard Gable,Ross Baker,Tom O'Hara. Владелец: Insound Medical Inc. Дата публикации: 2008-05-27.

Redundant excess voltage circuit breaker with rotational disk and with added electronic assembly intended to extend life span of excess-voltage component

Номер патента: CN103703534A. Автор: 伊格尔·朱利塞弗. Владелец: Iskra Zascite doo. Дата публикации: 2014-04-02.

RECEIVER FOR SOLAR POWER PLANT WITH EXTENDED LIFE

Номер патента: FR2976054B1. Автор: Raphaël Couturier,Etienne Bregeard,Gatien Fleury,Arnaud Bruch. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA. Дата публикации: 2013-07-05.

Electrically conductive polymer thick film of improved wear characteristics and extended life

Номер патента: CA2085220A1. Автор: Wayne P. Bosze. Владелец: Bourns Inc. Дата публикации: 1991-12-16.

Drive Method for Extending Life of a Passive Matrix Organic Electro Luminescence Display

Номер патента: KR100845185B1. Автор: 임성규,이순석. Владелец: 이순석. Дата публикации: 2008-07-10.

Extended life LED fixture

Номер патента: US7839295B2. Автор: II Jack Leighton Ries. Владелец: ABL IP HOLDING LLC. Дата публикации: 2010-11-23.

Extended life led fixture.

Номер патента: MX2008013051A. Автор: II Jack Leighton Ries. Владелец: ABL IP HOLDING LLC. Дата публикации: 2009-05-12.

Three-phase alternating current plasma generator having adjustable, extended life electrodes and multiple stream injector rings

Номер патента: CA2397756A1. Автор: Paul E. Chism, Jr.,Philip G. Rutberg,Alexei A. Safronov,Vasili N. Shiriaev. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-07-16.

Precision micro-hole for extended life batteries

Номер патента: US20050259840A1. Автор: Richard Gable,Ross Baker,Tom O'Hara. Владелец: Insound Medical Inc. Дата публикации: 2005-11-24.

Method for extending life of storage battery for photovoltaic power gerneration system and apparatus for performing the method

Номер патента: KR101467741B1. Автор: 김범수,황혜린,전진성. Владелец: 주식회사 미지에너텍. Дата публикации: 2014-12-04.

Plasma torch with extended life electrodes

Номер патента: CA2029318A1. Автор: Charles Bernard Wolf,William John Melilli,Shyam Vasant Dighe,Paul Edward Martin,Raymond Francis Taylor Jr.. Владелец: Westinghouse Electric Corp. Дата публикации: 1991-06-22.

Extended life animal-repelling spray chemical composition

Номер патента: CA2996061A1. Автор: Joseph A. Dussich, Jr.,James A. Dussich. Владелец: MINT-X LLC. Дата публикации: 2017-03-16.

Extended life electronic tags

Номер патента: US20050189679A1. Автор: Anthony Veneruso,Michael Kenison,Randolph Sheffield,Matthew Rouse. Владелец: Rouse Matthew D.. Дата публикации: 2005-09-01.

NICKEL HYDROGEN ACCUMULATOR CELL WITH EXTENDED LIFE.

Номер патента: DE3879934D1. Автор: S Lim,A Verzwyvelt. Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1993-05-06.

Extended life led fixture

Номер патента: US20090091467A1. Автор: II Jack Leighton Ries. Владелец: ABL IP HOLDING LLC. Дата публикации: 2009-04-09.

Inlet guide vane bushing having extended life expectancy

Номер патента: US7121727B2. Автор: Robert William Bruce,Timothy David Distler. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2006-10-17.

RECEIVER FOR SOLAR POWER PLANT WITH EXTENDED LIFE

Номер патента: FR2976054A1. Автор: Raphaël Couturier,Etienne Bregeard,Gatien Fleury,Arnaud Bruch. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA. Дата публикации: 2012-12-07.

A kind of preparation process of extended-life lithium ion battery

Номер патента: CN109309233A. Автор: 何彬,汤小龙. Владелец: Dongguan Sanzhen Science And Technology Development Co Ltd. Дата публикации: 2019-02-05.

Approach to extending life of gas turbine engine

Номер патента: US20050086942A1. Автор: Sridhar Adibhatla. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2005-04-28.

Fuel cell assembly with operating temperatures for extended life

Номер патента: WO2006071233A1. Автор: Richard D. Breault,Carl Rohrbach, JR.. Владелец: UTC Power Corporation. Дата публикации: 2006-07-06.

OPERATION PROCEDURE OF A NUCLEAR REACTOR WITH EXTENDED LIFE CYCLE.

Номер патента: ES2041848T3. Автор: David Carl Little. Владелец: Westinghouse Electric Corp. Дата публикации: 1993-12-01.

Cooled turbine blade with extended life

Номер патента: DE602006009748D1. Автор: Patrice Eneau,Jacques Boury,Guy Moreau. Владелец: SNECMA SAS. Дата публикации: 2009-11-26.

Power control method and device for maintaining brightness and extending life of LED lighting using optical sensor

Номер патента: KR102452507B1. Автор: 장유진. Владелец: 장유진. Дата публикации: 2022-10-06.

Extended life mineral acid detection tape

Номер патента: CA2516605A1. Автор: Tamami Yamaguchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-02-27.

Method for extending life-time of rhodium detector

Номер патента: KR102087902B1. Автор: 유성훈,유춘성. Владелец: 유춘성. Дата публикации: 2020-03-11.

Nuclear reactor operating method with extended life cycle

Номер патента: EP0329985B1. Автор: David Carl Little. Владелец: Westinghouse Electric Corp. Дата публикации: 1993-06-23.

Energy storage unit with extended life

Номер патента: DE102009048249A1. Автор: Andreas Dr. Gutsch,Tim Schäfer,Markus Dr. Wohnig,Claus-Rupert Dr. Hohenthanner. Владелец: Li Tec Battery GmbH. Дата публикации: 2011-04-07.

Extended life mineral acid detection tape

Номер патента: KR101199248B1. Автор: 야마구치 타마미. Владелец: 하니웰 아날리틱스 아게. Дата публикации: 2012-11-09.

Multi-cylinder internal combustion engine with extended life

Номер патента: DE102006043832A1. Автор: Franz Josef Dipl.-Ing. Quadflieg,Taner Dipl.-Ing. Göcmez. Владелец: FEV Motorentechnik GmbH and Co KG. Дата публикации: 2008-03-27.

Extended life electrical contact means

Номер патента: US3284586A. Автор: Marcius N Gover. Владелец: Individual. Дата публикации: 1966-11-08.

Electroadhesive actuators with extended life

Номер патента: US20220202109A1. Автор: Eun Kyung Lee,Iustinia Koshkaroff,Steven H. Walker,Christopher Andon,Daniel Stuart. Владелец: Sigma Designs Inc. Дата публикации: 2022-06-30.

A kind of for extended-life lithium ion battery under shallow charge and discharge condition and preparation method thereof

Номер патента: CN103022552B. Автор: 郑威,王睿,吴仕明,胡蕴成,王瑨. Владелец: Dongfang Electric Corp. Дата публикации: 2016-02-03.

Game device with feature for extending life of variable displays in configurable game buttons

Номер патента: WO2007146435A3. Автор: Peter R Anderson,Mark B Gagner,Larry J Pacey. Владелец: Larry J Pacey. Дата публикации: 2008-12-04.

Extended life animal-repelling spray chemical composition

Номер патента: WO2017044460A1. Автор: James A. Dussich,Joseph A DUSSICH, Jr.. Владелец: MINT-X LLC. Дата публикации: 2017-03-16.

Refrigerant leak sensor with extended life

Номер патента: WO2022235572A1. Автор: David A. Alfano. Владелец: EMERSON CLIMATE TECHNOLOGIES, INC.. Дата публикации: 2022-11-10.

Systems and methods of write precompensation to extend life of a solid-state memory

Номер патента: EP2981966A4. Автор: Haibo Li,Dengtao Zhao,Yongke Sun,Kroum S Stoev. Владелец: Western Digital Technologies Inc. Дата публикации: 2016-12-07.

Maintenance free extended life cam follower for a necker machine

Номер патента: EP3680515B1. Автор: Bradley Smith,Robert Pallini,Michael Coppola. Владелец: Roller Bearing Company of America Inc. Дата публикации: 2024-04-10.

Refrigerant leak sensor with extended life

Номер патента: EP4334653A1. Автор: David A. Alfano. Владелец: Copeland LP. Дата публикации: 2024-03-13.

Maintenance free extended life cam follower for a necker machine

Номер патента: US20210293318A1. Автор: Bradley Smith,Robert Pallini,Michael Coppola. Владелец: Roller Bearing Company of America Inc. Дата публикации: 2021-09-23.

Maintenance free extended life cam follower for a necker machine

Номер патента: EP3885610B1. Автор: Bradley Smith,Robert Pallini,Michael Coppola. Владелец: Roller Bearing Company of America Inc. Дата публикации: 2024-06-05.

Precision Micro-Hole For Extended Life Batteries

Номер патента: US20120230527A1. Автор: Richard Gable,Ross Baker,Tom O'Hara. Владелец: Insound Medical Inc. Дата публикации: 2012-09-13.

Right Angle Time-of-Flight Detector With An Extended Life Time

Номер патента: US20170025265A1. Автор: Verenchikov Anatoly N.,VOROBYEV Aleksey. Владелец: LECO Corporation. Дата публикации: 2017-01-26.

EXTENDED LIFE BATTERY

Номер патента: US20150048796A1. Автор: Sherstyuk Mykola,Sherstyuk Tymofiy. Владелец: Gbatteries Energy Inc.. Дата публикации: 2015-02-19.

EXTENDED LIFE ANIMAL-REPELLING SPRAY CHEMICAL COMPOSITION

Номер патента: US20170071195A1. Автор: JR. Joseph A.,DUSSICH JAMES A.,DUSSICH. Владелец: . Дата публикации: 2017-03-16.

EXTENDED-LIFE ASSET TRACKING AND SENSING POWER SOURCE AND MANAGEMENT SYSTEM

Номер патента: US20180090937A1. Автор: Ehrman Michael L.,Grohman Wojciech,Gripp James,Sheth Gaurav. Владелец: . Дата публикации: 2018-03-29.

METHOD FOR EXTENDING LIFE EXPECTANCY OF DISKS IN CLOUD-BASED SERVICE SYSTEM AND SYSTEM USING THE SAME

Номер патента: US20180101313A1. Автор: CHEN Wen Shyen,HUANG Chun Fang,HUANG Ming Jen. Владелец: ProphetStor Data Services, Inc.. Дата публикации: 2018-04-12.

Efficiently Managing Unmapped Blocks to Extend Life of Solid State Drive

Номер патента: US20170160957A1. Автор: Olbrich Aaron K.,Thangaraj Senthil M.,Reddy Divya. Владелец: . Дата публикации: 2017-06-08.

Variable Bit Encoding Per NAND Flash Cell to Extend Life of Flash-Based Storage Devices and Preserve Over-Provisioning

Номер патента: US20160342344A1. Автор: Kankani Navneeth,Truong Linh Tien. Владелец: . Дата публикации: 2016-11-24.

Method for searching for a reference radioactive waste drum to verify effectiveness of indirect calibration of a gamma scanner and method for verifying a calibration to extend life of standard radioactive material

Номер патента: WO2011102625A3. Автор: 정성엽. Владелец: (주)성우이앤티. Дата публикации: 2011-12-29.

Confinement ring with extended life

Номер патента: US11515128B2. Автор: Justin Charles CANNIFF. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2022-11-29.

Nuclear Reactor operating method with extended life cycle

Номер патента: EP0329985A2. Автор: David Carl Little. Владелец: Westinghouse Electric Corp. Дата публикации: 1989-08-30.

Extended life traveling grate side plate

Номер патента: WO2001071254A1. Автор: James D. Foresman. Владелец: Svedala Industries, Inc.. Дата публикации: 2001-09-27.

Refrigerant leak sensor with extended life

Номер патента: US11965663B2. Автор: David A. Alfano. Владелец: Copeland LP. Дата публикации: 2024-04-23.

Maintenance free extended life cam follower for a necker machine

Номер патента: EP3885610A2. Автор: Bradley Smith,Robert Pallini,Michael Coppola. Владелец: Roller Bearing Company of America Inc. Дата публикации: 2021-09-29.

Method of extending life period of furnace roofs and device therefor

Номер патента: GB1403048A. Автор: . Владелец: NII MEK PRI MO G UNI IM M V LO. Дата публикации: 1975-08-13.

Magnetron with a rotating center magnet for a vault shaped sputtering target

Номер патента: WO2002037528A2. Автор: Praburam Gopalraja,Jianming Fu,Umesh Kelkar,Anantha Subramani. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2002-05-10.

Sputtering Target for Oxide Thin Film and Process for Producing the Sputtering Target

Номер патента: US20130285053A1. Автор: YANO Koki,INOUE Kazuyoshi,KAWASHIMA Hirokazu,UTSUNO Futoshi. Владелец: . Дата публикации: 2013-10-31.

PSEUDO DEFECT SAMPLE, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, METHOD FOR ADJUSTING ULTRASONIC FLAW DETECTION MEASUREMENT CONDITION, METHOD FOR INSPECTING TARGET MATERIAL, AND PROCESS FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET

Номер патента: US20190265201A1. Автор: NISHIOKA Koji,SUGAWARA Hiroaki. Владелец: Sumitomo Chemical Company, Limited. Дата публикации: 2019-08-29.

Sputtering target and method/apparatus for cooling the target

Номер патента: US20070089982A1. Автор: Uwe Kriltz,Hendryk Richert,Patrick Wieland,Armin Schmidt,Gerald Janicke,Roland Weidl,Bernd Gruenler,Hans-Jurgen Tiller. Владелец: Guardian Industries Corp. Дата публикации: 2007-04-26.

Sputtering target and method/apparatus for cooling the target

Номер патента: US7560011B2. Автор: Uwe Kriltz,Hendryk Richert,Armin Schmidt,Gerald Janicke,Roland Weidl. Владелец: Guardian Industries Corp. Дата публикации: 2009-07-14.

Sputtering target and method/apparatus for cooling the target

Номер патента: US7504011B2. Автор: Uwe Kriltz,Bernd E. Gruenler,Hendryk Richert,Armin Schmidt,Gerald Janicke,Roland Weidl,Hans-Jurgen Tiller. Владелец: Guardian Industries Corp. Дата публикации: 2009-03-17.

Extended-life settable compositions comprising red mud

Номер патента: MY175625A. Автор: Darrell Chad Brenneis,Jiten Chatterji,Thomas Jason Pisklak,Juan Humberto Martinez. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2020-07-02.

Blank and a box therefrom having extended life

Номер патента: CA1283642C. Автор: Richard Edwin Bishop. Владелец: Domtar Inc. Дата публикации: 1991-04-30.

SPUTTERING TARGET ASSEMBLY AND METHOD OF MAKING SAME

Номер патента: US20120000594A1. Автор: Ivanov Eugene Y.,Theado Erich. Владелец: TOSOH SMD, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

SPUTTERING TARGETS INCLUDING EXCESS CADMIUM FOR FORMING A CADMIUM STANNATE LAYER

Номер патента: US20120000776A1. Автор: Feldman-Peabody Scott Daniel. Владелец: PRIMESTAR SOLAR, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Manufacturing method of sputtering targets from cast disilicide of refractory metal and facility for its implementation

Номер патента: RU2356964C1. Автор: Вадим Георгиевич Глебовский,Евгений Дмитриевич Штинов. Владелец: Вадим Георгиевич Глебовский. Дата публикации: 2009-05-27.

Method for obtaining sputtering target from aluminium-based alloy

Номер патента: RU2446228C1. Автор: Владимир Иванович Ищенко,Вадим Георгиевич Глебовский,Евгений Дмитриевич Штинов,Жаннета Юрьевна Чашечкина,Петр Яковлевич Бывшев. Владелец: Учреждение Российской академии наук Институт физики твердого тела РАН (ИФТТ РАН). Дата публикации: 2012-03-27.

Sputtering target and method for manufacturing same

Номер патента: MY190417A. Автор: Koichi Sakamaki,Hiroaki SOGAME,Hidetaka Yakabe,Jun Fukuoka. Владелец: Hitachi Metals Ltd. Дата публикации: 2022-04-21.

Procedure for production of high purity cobalt for sputtering target

Номер патента: RU2434955C1. Автор: Вадим Георгиевич Глебовский,Евгений Дмитриевич Штинов,Николай Сергеевич Сидоров,Андрей Вячеславович Пальниченко. Владелец: Учреждение Российской академии наук Институт физики твердого тела РАН (ИФТТ РАН). Дата публикации: 2011-11-27.

Method for obtaining high-purity nickel for sputtering targets

Номер патента: RU2446219C1. Автор: Вадим Георгиевич Глебовский,Евгений Дмитриевич Штинов,Николай Сергеевич Сидоров. Владелец: Учреждение Российской академии наук Институт физики твердого тела РАН (ИФТТ РАН). Дата публикации: 2012-03-27.

Procedure for production of titanium of high purity for sputtering target

Номер патента: RU2418874C1. Автор: Вадим Георгиевич Глебовский,Евгений Дмитриевич Штинов,Николай Сергеевич Сидоров. Владелец: Учреждение Российской академии наук Институт физики твердого тела РАН (ИФТТ РАН). Дата публикации: 2011-05-20.

Method for obtaining sputtering target from aluminium-based alloy

Номер патента: RU2446229C1. Автор: Владимир Иванович Ищенко,Вадим Георгиевич Глебовский,Евгений Дмитриевич Штинов,Жаннета Юрьевна Чашечкина,Петр Яковлевич Бывшев. Владелец: Учреждение Российской академии наук Институт физики твердого тела РАН (ИФТТ РАН). Дата публикации: 2012-03-27.

Nickel-based alloy sputtering target and nickel-based alloy layer

Номер патента: MY182002A. Автор: Chih-Wei Lin,Chih-Wen Tang,Shang-Hsien Rou. Владелец: Solar Applied Materials Tech Corp. Дата публикации: 2021-01-18.

Co-fe-nb-based sputtering target

Номер патента: MY183961A. Автор: LIN Hung-Cheng,Huang Wei-Chih,CHENG Hui-Wen,Liu I-Lung. Владелец: Solar Applied Materials Tech Corp. Дата публикации: 2021-03-17.

Method of production of high purity titanium for sputtered targets

Номер патента: RU2370559C1. Автор: Вадим Георгиевич Глебовский,Евгений Дмитриевич Штинов,Николай Сергеевич Сидоров. Владелец: Вадим Георгиевич Глебовский. Дата публикации: 2009-10-20.

Method of extending life and increasing watertightness of underground facilities and surounding soil

Номер патента: PL252465A1. Автор: . Владелец: Mta Termeszeltudomanyi Kutato. Дата публикации: 1985-11-19.

Method of extending life and increasing watertightness of underground facilities and surounding soil

Номер патента: PL147254B1. Автор: . Владелец: Mta Termeszettudomanyi Kutato Laboratoriumaihu. Дата публикации: 1989-05-31.

Extended life pastry process

Номер патента: GB201310466D0. Автор: . Владелец: SAMWORTH BROTHERS Ltd. Дата публикации: 2013-07-24.

Method of extending life of filament

Номер патента: JPS5249760A. Автор: Haabaato Niidohamu Rid Jiyooji. Владелец: RCA Corp. Дата публикации: 1977-04-21.

EXTENDED LIFE DEPOSITION RING

Номер патента: US20120042825A1. Автор: HAWRYLCHAK LARA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-02-23.

DRILL BIT WITH EXTENDED LIFE SEAL

Номер патента: US20120111639A1. Автор: . Владелец: Halliburton Energy Services, Inc.. Дата публикации: 2012-05-10.

EXTENDED LIFE CAPACITORS

Номер патента: US20120127632A1. Автор: Evans David A.,Reardon Jeffrey N.,Zawacki David I.. Владелец: EVANS CAPACITOR COMPANY. Дата публикации: 2012-05-24.

EXTENDED LIFE PROSTHETIC HIP JOINT

Номер патента: US20120203351A1. Автор: Thompson Daniel C.. Владелец: . Дата публикации: 2012-08-09.

EXTENDED LIFE TEXTURED CHAMBER COMPONENTS AND METHOD FOR FABRICATING SAME

Номер патента: US20120258280A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-10-11.

NONWOVEN ABRASIVE ARTICLE WITH EXTENDED LIFE

Номер патента: US20130012112A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2013-01-10.

Method for reducing burnt adhesion to heater of ink jet recording head, ink jet recording method, ink jet recording apparatus, recording unit, and method for extending life of recording head

Номер патента: JP4497623B2. Автор: 真 塩谷,隆司 ▲葛▼城. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2010-07-07.

Ink, method for reducing burnt adhesion to heater surface of ink jet recording head, ink jet recording method, ink jet recording apparatus, recording unit, and method for extending life of recording head

Номер патента: JP4994610B2. Автор: 隆司 葛城. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-08-08.

Ink, inkjet ink, method of reducing kogation adhesion to heater of inkjet recording head, inkjet recording method, inkjet recording apparatus, recording unit, and method of extending life of recording head

Номер патента: JP4803895B2. Автор: 真 塩谷,隆司 葛城. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-10-26.

Reduced Flammability Halogen-Free Polymer Composition for Extended Life Cables

Номер патента: RU2016150881A. Автор: Михаил Кузьмич Каменский,Геннадий Иванович Мещанов,Евгения Вячеславовна Кувардина,Ольга Ивановна Герасимова,Михаил Юрьевич Шувалов,Надежда Егоровна Бахромкина. Владелец: Открытое акционерное общество Всероссийский научно-исследовательский, проектно-конструкторский и технологический институт кабельной промышленности (ВНИИ КП). Дата публикации: 2018-06-25.

Extended life battery pack

Номер патента: GB9813033D0. Автор: . Владелец: Geco As. Дата публикации: 1998-08-12.

Extended life wear part

Номер патента: ZA200509037B. Автор: Daniel Minnaar. Владелец: Daniel Minnaar. Дата публикации: 2006-08-30.

Solar energy optoelectric quaternary CIGS sputtering target, production method thereof, binding method of the samr with target backplate, and materialsupplying method thereof

Номер патента: TW201114931A. Автор: sheng-chang Zhang. Владелец: sheng-chang Zhang. Дата публикации: 2011-05-01.

Backing plate for sputtering target and target/backing plate assembly body

Номер патента: TW426749B. Автор: Mitsuaki Shibata,Shunichiro Yamaguchi,Gakuo Okabe. Владелец: Japan Energy Corp. Дата публикации: 2001-03-21.

Sputtering Target and Method of Processing a Sputtering Target

Номер патента: US20120055787A1. Автор: Harada Nobuhiro,Kim Poong,Ohba Akira,Nitta Junichi,Mihara Yasuo. Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2012-03-08.

Sputtering Targets And Recording Materials Of Hard Disk Formed From The Sputtering Target

Номер патента: US20120114975A1. Автор: Liu Wen-Tsang,Lin Shou-Hsien. Владелец: Solar Applied Materials Technology Corp.. Дата публикации: 2012-05-10.

GADOLINIUM SPUTTERING TARGET AND PRODUCTION METHOD OF SAID TARGET

Номер патента: US20120255859A1. Автор: . Владелец: JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION. Дата публикации: 2012-10-11.

SPUTTERING TARGET WITH REDUCED PARTICLE GENERATION AND METHOD OF PRODUCING SAID TARGET

Номер патента: US20120273347A1. Автор: Koide Kei. Владелец: JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION. Дата публикации: 2012-11-01.

SPUTTERING TARGET, METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR FORMING THIN FILM

Номер патента: US20120312681A1. Автор: . Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-12-13.

SPUTTERING TARGET, METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR FORMING THIN FILM

Номер патента: US20120325650A1. Автор: . Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-12-27.

SPUTTERING TARGET, METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR FORMING THIN FILM

Номер патента: US20130011962A1. Автор: . Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2013-01-10.

Backing Plate for a Sputter Target, Sputter Target, and Sputter Device

Номер патента: US20140110254A1. Автор: Fischer Markus,Karcher Wolfram,Jeansannetas Barbara. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2014-04-24.

Cu-Ga alloy cylindrical sputtering target, Cu-Ga alloy cylindrical ingot, method for producing Cu-Ga alloy cylindrical sputtering target, and method for producing Cu-Ga alloy cylindrical ingot

Номер патента: JP6390432B2. Автор: 慎司 加藤,翔一郎 矢野,喬 園畠,加藤　慎司. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2018-09-19.

Manufacturing method of cylindrical sputtering target, sintered body and cylindrical sputtering target

Номер патента: JP6861048B2. Автор: 欽哉 大井川. Владелец: Mitsui Mining and Smelting Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-21.

Regeneration method of sputtering target, and regenerated sputtering target

Номер патента: JP2015120974A. Автор: Yuichi Iwamoto,丸子　智弘,Toshihiro Maruko,智弘 丸子,智明 宮澤,Tomoaki Miyazawa,祐一 岩本. Владелец: Furuya Metal Co Ltd. Дата публикации: 2015-07-02.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.