OXIDE SINTERED BODY, SPUTTERING TARGET, AND OXIDE SEMICONDUCTOR THIN FILM OBTAINED USING SPUTTERING TARGET
Номер патента: US20170029336A1
Опубликовано: 02-02-2017
Автор(ы): Eiichiro Nishimura, Fumihiko Matsumura, Masashi Iwara, Tokuyuki Nakayama
Принадлежит: SUMITOMO METAL MINING CO LTD
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 02-02-2017
Автор(ы): Eiichiro Nishimura, Fumihiko Matsumura, Masashi Iwara, Tokuyuki Nakayama
Принадлежит: SUMITOMO METAL MINING CO LTD
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Oxide sintered body, sputtering target, and oxide semiconductor thin film obtained using sputtering target
Номер патента: US09732004B2. Автор: Fumihiko Matsumura,Eiichiro Nishimura,Tokuyuki Nakayama,Masashi Iwara. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2017-08-15.