• Главная
  • 感光化射线性或感辐射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法

感光化射线性或感辐射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Radiation-sensitive resin composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20220413385A1. Автор: Kazuya KIRIYAMA,Takuhiro Taniguchi,Natsuko Kinoshita,Katsuaki NISHIKORI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2022-12-29.

Radiation-sensitive resin composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US20160363859A1. Автор: Hayato Namai. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-12-15.

Radiation-sensitive resin composition

Номер патента: US20120202150A1. Автор: Koji Ito,Hirokazu Sakakibara,Hiromu Miyata,Taiichi Furukawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-08-09.

Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition, actinic-ray- or radiation-sensitive film and pattern forming method

Номер патента: US20150355541A1. Автор: Kaoru Iwato. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-12-10.

Radiation-sensitive resin composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US09760004B2. Автор: Masafumi Hori,Hayato Namai,Hiromu Miyata. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-09-12.

Radiation-sensitive resin composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20240094634A1. Автор: Takahiro Kawai,Katsuaki NISHIKORI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition and method of forming pattern using the composition

Номер патента: US20150093691A1. Автор: Akinori Shibuya. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-04-02.

Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and resist film

Номер патента: IL228135B. Автор: . Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-03-29.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20130323653A1. Автор: Koji Ito,Hirokazu Sakakibara,Hiromu Miyata,Taiichi Furukawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-12-05.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and method for producing resist pattern

Номер патента: IL311594A. Автор: . Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-05-01.

Negative resist pattern-forming method, and composition for upper layer film formation

Номер патента: US20190004426A1. Автор: Sosuke OSAWA,Taiichi Furukawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2019-01-03.

Negative resist pattern-forming method, and composition for upper layer film formation

Номер патента: US20160299432A1. Автор: Sosuke OSAWA,Taiichi Furukawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-10-13.

Resist pattern-forming method, and radiation-sensitive resin composition

Номер патента: US20140295350A1. Автор: Hirokazu Sakakibara,Masafumi Hori,Reiko Kimura,Taiichi Furukawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-10-02.

Radiation-sensitive resin composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US20160363859A1. Автор: Hayato Namai. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-12-15.

Radiation-sensitive resin composition

Номер патента: US6342542B1. Автор: Satoshi Kobayashi,Haruhiko Itoh,Hidekazu Shioda. Владелец: Clariant Finance BVI Ltd. Дата публикации: 2002-01-29.

Radiation-sensitive resin composition

Номер патента: US6048659A. Автор: Hiromichi Hara,Katsumi Inomata,Masaaki Inoue,Yoshiji Yumoto. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2000-04-11.

Pattern forming method and radiation-sensitive resin composition

Номер патента: TW201232167A. Автор: Hirokazu Sakakibara,Kouji Itou,Masafumi Hori,Taiichi Furukawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-08-01.

Pattern-forming method and radiation-sensitive resin composition

Номер патента: TW201211688A. Автор: Hirokazu Sakakibara,Masafumi Hori,Taiichi Furukawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-03-16.

Pattern forming method and actinic ray- or radiation-sensitive resin composition

Номер патента: JP7216040B2. Автор: 敬充 冨賀,文博 吉野,憲一 原田,真一 杉山. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-01-31.

Radiation sensitive resin composition and resist pattern forming method

Номер патента: JP5472300B2. Автор: 峰規 川上,裕介 浅野. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-04-16.

Radiation-sensitive resin composition and resist pattern forming method

Номер патента: JPWO2011108665A1. Автор: 恭彦 松田,峰規 川上,友洋 柿澤. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-06-27.

Radiation-sensitive resin composition, polymer, and method for forming resist pattern

Номер патента: US20120070783A1. Автор: Hirokazu Sakakibara,Takehiko Naruoka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-03-22.

Radiation-sensitive resin composition

Номер патента: US20120219903A1. Автор: Mitsuo Sato,Hiromitsu Nakashima,Kazuo Nakahara. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-08-30.

Radiation-sensitive resin composition

Номер патента: US20060234153A1. Автор: Hiroyuki Ishii,Isao Nishimura,Yukio Nishimura,Eiichi Kobayashi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-10-19.

Radiation sensitive resin composition

Номер патента: US7078148B2. Автор: Hiroyuki Ishii,Atsushi Nakamura,Masafumi Yamamoto,Motoyuki Shima. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2006-07-18.

Radiation-sensitive resin composition

Номер патента: US20090148790A1. Автор: Hiroyuki Ishii,Isao Nishimura,Yukio Nishimura,Eiichi Kobayashi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-06-11.

Positive type radiation-sensitive resin composition

Номер патента: US20060223010A1. Автор: Takayuki Tsuji,Daisuke Shimizu,Tomoki Nagai,Kentarou Harada. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-10-05.

Positive type radiation-sensitive resin composition

Номер патента: IL174569A. Автор: . Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-11-30.

Positive type radiation-sensitive resin composition

Номер патента: IL174569A0. Автор: . Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2006-08-20.

Radiation-sensitive resin composition, resist pattern-forming method, acid generator and compound

Номер патента: US09523911B2. Автор: Hiroshi Tomioka,Yusuke Asano,Takakazu Kimoto. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-12-20.

Radiation-sensitive resin composition, method for forming pattern, and method for producing monomeric compound

Номер патента: US11709428B2. Автор: Natsuko Kinoshita. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-07-25.

Radiation-sensitive resin composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US20190146340A1. Автор: Hiromu Miyata,Takehiko Naruoka,Motohiro SHIRATANI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2019-05-16.

Radiation-sensitive resin composition, method of forming resist pattern, polymer, and compound

Номер патента: US20220229367A1. Автор: Ryuichi Nemoto,Satoshi Okazaki,Taiichi Furukawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2022-07-21.

Radiation-sensitive resin composition, and method for forming pattern

Номер патента: US20220299875A1. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2022-09-22.

Radiation-sensitive resin composition and method for forming resist pattern

Номер патента: US20230341772A1. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-10-26.

Radiation-sensitive resin composition, method for forming pattern, and method for producing monomeric compound

Номер патента: US20230280652A1. Автор: Natsuko Kinoshita. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-09-07.

Radiation-sensitive resin composition and method for forming pattern

Номер патента: US20240004288A1. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-01-04.

Radiation-sensitive resin composition and method for forming pattern

Номер патента: US11966160B2. Автор: Ryuichi Nemoto. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-04-23.

Radiation-sensitive resin composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20230236506A2. Автор: Kazuya KIRIYAMA,Takuhiro Taniguchi,Ken Maruyama,Katsuaki NISHIKORI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-07-27.

Radiation-sensitive resin composition and method of forming resist pattern

Номер патента: US20220382152A1. Автор: Kazuya KIRIYAMA,Takuhiro Taniguchi,Ken Maruyama,Katsuaki NISHIKORI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2022-12-01.

Pattern forming method, actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and resist film

Номер патента: US8940476B2. Автор: Shuhei Yamaguchi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2015-01-27.

Pattern forming method and actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition

Номер патента: EP2577397A1. Автор: Kaoru Iwato,Shuji Hirano,Sou Kamimura,Keita Kato,Hidenori Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-04-10.

Pattern forming method and actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition

Номер патента: US09760003B2. Автор: Kaoru Iwato,Shuji Hirano,Sou Kamimura,Keita Kato,Hidenori Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-09-12.

Radiation-sensitive resin composition, resist pattern-forming method and acid diffusion control agent

Номер патента: US20180321585A1. Автор: Natsuko Kinoshita. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-11-08.

Radiation-sensitive resin composition and electronic device

Номер патента: US09798233B2. Автор: Satoshi Abe. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Radiation-sensitive resin composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US20180329298A1. Автор: Hayato Namai,Katsuaki NISHIKORI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-11-15.

Radiation-sensitive resin composition, method of forming resist pattern, and compound

Номер патента: US20220091508A1. Автор: Katsuaki NISHIKORI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2022-03-24.

Radiation-sensitive resin composition and pattern formation method

Номер патента: US20230273519A1. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-08-31.

Radiation-sensitive resin composition, method for forming resist pattern, polymer, and compound

Номер патента: US20230393469A1. Автор: Ryuichi Nemoto,Nozomi SAKANO. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-12-07.

Radiation sensitive resin composition

Номер патента: US5494777A. Автор: Toshiyuki Ota,Shinji Shiraki,Masaaki Inoue,Hidetoshi Miyamoto,Takao Miura,Yoshiji Yumoto. Владелец: Japan Synthetic Rubber Co Ltd. Дата публикации: 1996-02-27.

Radiation-sensitive resin composition and electronic device

Номер патента: US09880468B2. Автор: Takashi Tsutsumi. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2018-01-30.

Pattern forming method and radiation-sensitive resin composition

Номер патента: TW201229067A. Автор: Koji Ito,Hirokazu Sakakibara,Masafumi Hori,Reiko Kimura,Taiichi Furukawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-07-16.

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20160202608A1. Автор: NAMAI Hayato. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2016-07-14.

Pattern forming method and radiation-sensitive resin composition

Номер патента: JPWO2011158687A1. Автор: 雅史 堀,泰一 古川,宏和 榊原,岳史 石井. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-08-19.

Pattern formation method, and radiation-sensitive resin composition

Номер патента: TW201202850A. Автор: Hirokazu Sakakibara,Takeshi Ishii,Masafumi Hori. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-01-16.

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20200117087A1. Автор: KANEKO Tetsurou. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2020-04-16.

Radiation sensitive resin composition for roller coating and roller coating method

Номер патента: MY133351A. Автор: Yamamoto Kenji. Владелец: Az Electronic Mat Japan K K. Дата публикации: 2007-11-30.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern forming method, and method of manufacturing electronic device

Номер патента: IL265033B. Автор: . Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-01-01.

Pattern forming method, kit, and resist composition

Номер патента: US20230350290A1. Автор: Tetsuya Kamimura,Satomi Takahashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-11-02.

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST PATTERN-FORMING METHOD, AND COMPOUND

Номер патента: US20200102270A9. Автор: Nishikori Katsuaki,KINOSHITA Natsuko,FURUICHI Kouta. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2020-04-02.

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST PATTERN-FORMING METHOD, AND COMPOUND

Номер патента: US20180319740A1. Автор: Nishikori Katsuaki,KINOSHITA Natsuko,FURUICHI Kouta. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2018-11-08.

Radiation-Sensitive Resin Composition, Resist Pattern Forming Method, and Acid Diffusion Control Agent

Номер патента: JP7140100B2. Автор: 克聡 錦織,聡司 岡嵜. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2022-09-21.

Radiation sensitive resin composition, resist pattern forming method, acid generator and compound

Номер патента: JP6421449B2. Автор: 裕介 浅野,孝和 木元,寛 冨岡. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-11-14.

Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition and method of forming pattern using the same

Номер патента: TW201207557A. Автор: Akinori Shibuya. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-02-16.

PATTERN-FORMING METHOD, AND RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION

Номер патента: US20130224661A1. Автор: Ito Koji,SAKAKIBARA Hirokazu,HORI Masafumi,FURUKAWA Taiichi,KIMURA Reiko. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2013-08-29.

RESIST PATTERN-FORMING METHOD, AND RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION

Номер патента: US20130230803A1. Автор: Ito Koji,SAKAKIBARA Hirokazu,HORI Masafumi,FURUKAWA Taiichi. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2013-09-05.

RESIST PATTERN-FORMING METHOD, AND RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION

Номер патента: US20130295506A1. Автор: Ito Koji,SAKAKIBARA Hirokazu,HORI Masafumi,FURUKAWA Taiichi,MIYATA Hiromu. Владелец: . Дата публикации: 2013-11-07.

RESIST PATTERN-FORMING METHOD, AND RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION

Номер патента: US20140363766A9. Автор: Ito Koji,SAKAKIBARA Hirokazu,HORI Masafumi,FURUKAWA Taiichi,MIYATA Hiromu. Владелец: . Дата публикации: 2014-12-11.

Resist pattern forming method and radiation-sensitive resin composition

Номер патента: JP5263453B2. Автор: 雅史 堀,泰一 古川,亘史 伊藤,宏和 榊原. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-08-14.

Radiation-sensitive resin composition, resist pattern formation method, and compound

Номер патента: WO2020246143A1. Автор: 克聡 錦織. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2020-12-10.

ACTINIC-RAY-OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN THEREWITH

Номер патента: US20130130178A1. Автор: Shibuya Akinori,Iizuka Yusuke. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2013-05-23.

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20190243244A1. Автор: Naruoka Takehiko,KANEKO Tetsurou. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2019-08-08.

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20180329298A1. Автор: NAMAI Hayato,Nishikori Katsuaki. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2018-11-15.

Radiation-sensitive resin composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US20210124263A1. Автор: Kazuya KIRIYAMA,Takuhiro Taniguchi,Ken Maruyama,Katsuaki NISHIKORI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2021-04-29.

Radiation-sensitive resin composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US20210389667A9. Автор: Kazuya KIRIYAMA,Takuhiro Taniguchi,Ken Maruyama,Katsuaki NISHIKORI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2021-12-16.

Treatment liquid and pattern forming method

Номер патента: US20180217503A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Kei Yamamoto,Toru Tsuchihashi,Wataru Nihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-08-02.

Treatment liquid and pattern forming method

Номер патента: US20210200097A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Kei Yamamoto,Toru Tsuchihashi,Wataru Nihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-07-01.

Pattern formation method and method for producing electronic device

Номер патента: EP4282887A1. Автор: Keita Kato,Tetsuya Shimizu,Satomi Takahashi,Michihiro Shirakawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-11-29.

Pattern forming method and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20230367212A1. Автор: Keita Kato,Tetsuya Shimizu,Satomi Takahashi,Michihiro Shirakawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-11-16.

Treatment liquid and pattern forming method

Номер патента: US20180217499A1. Автор: Shuji Hirano,Hideaki Tsubaki,Kei Yamamoto,Toru Tsuchihashi,Wataru Nihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-08-02.

Pattern formation method and method for producing electronic device

Номер патента: EP4372014A1. Автор: Satomi Takahashi,Kazuhiro Marumo,Michihiro Shirakawa,Yohei Ishiji,Akiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-05-22.

Pattern forming method and method for producing electronic device

Номер патента: US20240219831A1. Автор: Satomi Takahashi,Kazuhiro Marumo,Michihiro Shirakawa,Yohei Ishiji,Akiyoshi Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST PATTERN-FORMING METHOD AND ACID DIFFUSION CONTROL AGENT

Номер патента: US20180321585A1. Автор: KINOSHITA Natsuko. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2018-11-08.

Radiation sensitive resin composition, resist pattern forming method, polymer and compound

Номер патента: JP6421757B2. Автор: 準人 生井,仁視 大▲崎▼. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-11-14.

Method for forming pattern, and optical element

Номер патента: EP1498776A3. Автор: Masaaki Hanamura,Atsushi Kumano,Shinji Shiraki. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2005-02-09.

Method for forming pattern, and optical element

Номер патента: US20050014100A1. Автор: Masaaki Hanamura,Atsushi Kumano,Shinji Shiraki. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2005-01-20.

Radiation sensitive resin composition and resist pattern forming method

Номер патента: WO2018230334A1. Автор: 哲朗 金子. Владелец: Jsr株式会社. Дата публикации: 2018-12-20.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20150050600A9. Автор: Hiromitsu Tanaka,Hirokazu Sakakibara,Takashi Mori,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Taiichi Furukawa,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-02-19.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20170322492A1. Автор: Hiromitsu Tanaka,Hirokazu Sakakibara,Takashi Mori,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Taiichi Furukawa,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-11-09.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20160320705A1. Автор: Hiromitsu Tanaka,Hirokazu Sakakibara,Takashi Mori,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Taiichi Furukawa,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-11-03.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20160097978A1. Автор: Hiromitsu Tanaka,Hirokazu Sakakibara,Takashi Mori,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Taiichi Furukawa,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-04-07.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20150160556A1. Автор: Hiromitsu Tanaka,Hirokazu Sakakibara,Takashi Mori,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Taiichi Furukawa,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-06-11.

Resist pattern-forming method

Номер патента: US20140134544A1. Автор: Hiromitsu Tanaka,Hirokazu Sakakibara,Takashi Mori,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Taiichi Furukawa,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-05-15.

RESIST PATTERN-FORMING METHOD, AND RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION

Номер патента: US20130224666A1. Автор: SAKAKIBARA Hirokazu,HORI Masafumi,FURUKAWA Taiichi,KIMURA Reiko. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2013-08-29.

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20130216948A1. Автор: HORI Masafumi,NAKASHIMA Hiromitsu,YOSHIDA Masafumi,Kasahara Kazuki. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2013-08-22.

Radiation-sensitive resin composition and resist pattern forming method

Номер патента: JP5581726B2. Автор: 晃雅 征矢野,芳史 大泉. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-09-03.

Photosensitive resin composition for optical waveguide formation and optical waveguide

Номер патента: US7394965B2. Автор: Yuuichi Eriyama,Hideaki Takase,Tomohiro Utaka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-07-01.

Radiation-sensitive resin composition, resist pattern-forming method, polymer, and method for producing compound

Номер патента: US09703195B2. Автор: Hayato Namai,Kota Nishino. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-07-11.

Radiation-sensitive resin composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US09874816B2. Автор: Hayato Namai. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-01-23.

Radiation-sensitive resin composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US20170363961A9. Автор: Hayato Namai. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-12-21.

Radiation-sensitive resin composition, polymer and compound

Номер патента: US09459532B2. Автор: Norihiko Ikeda,Shin-ichi Nakamura. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-10-04.

Radiation-sensitive resin composition and compound

Номер патента: US8697335B2. Автор: Mitsuo Sato,Kazuo Nakahara. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-04-15.

Radiation-sensitive resin composition and method for forming resist pattern

Номер патента: US20220342307A1. Автор: Ryuichi Nemoto,Hajime Inami,Kota FURUICH. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2022-10-27.

Radiation-sensitive resin composition and pattern formation method

Номер патента: US20240152048A1. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-05-09.

Radiation-sensitive resin composition, compound and producing method of compound

Номер патента: US9120726B2. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-09-01.

Radiation-sensitive resin composition, compound and producing method of compound

Номер патента: US20120258399A1. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-10-11.

Photosensitive resin composition

Номер патента: US6537719B1. Автор: Shuichi Takahashi. Владелец: Clariant Finance BVI Ltd. Дата публикации: 2003-03-25.

Radiation-sensitive resin composition and resist pattern-forming method

Номер патента: US20210124263A1. Автор: Kazuya KIRIYAMA,Takuhiro Taniguchi,Ken Maruyama,Katsuaki NISHIKORI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2021-04-29.

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST-PATTERNING METHOD, AND BLOCK COPOLYMER

Номер патента: US20150093704A1. Автор: Osaki Hitoshi. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2015-04-02.

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20150093703A1. Автор: NAMAI Hayato,HORI Masafumi,MIYATA Hiromu. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2015-04-02.

Radiation-sensitive resin composition, active matrix substrate and method for producing the same

Номер патента: TW200905391A. Автор: Makoto Fujimura,Takeyoshi Kato,Azusa Wada,Yumi Osaku. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2009-02-01.

Method for producing radiation-sensitive resin composition

Номер патента: US12122883B2. Автор: Kenichi Harada,Takumi Tanaka,Hiroyuki Ezoe. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-10-22.

Radiation-sensitive resin composition, onium salt compound and method for forming resist pattern

Номер патента: US20190285983A1. Автор: Katsuaki NISHIKORI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2019-09-19.

Radiation-sensitive resin composition, polymer, compound, and method for producing compound

Номер патента: US09465291B2. Автор: Hayato Namai. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-10-11.

Production method for radiation-sensitive resin composition

Номер патента: EP3992713A1. Автор: Kenichi Harada,Takumi Tanaka,Hiroyuki Ezoe. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-05-04.

Method for producing radiation-sensitive resin composition

Номер патента: US20220081518A1. Автор: Kenichi Harada,Takumi Tanaka,Hiroyuki Ezoe. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-03-17.

Pattern forming method and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20240295822A1. Автор: Tetsuya Kamimura,Satoru Murayama,Tetsuya Shimizu. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-09-05.

Treatment liquid and pattern forming method

Номер патента: US20180101100A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Toru Tsuchihashi,Wataru Nihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-04-12.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and resist film and pattern forming method using the same

Номер патента: IL217702A0. Автор: . Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-03-29.

Radiation-sensitive resin composition, resist pattern-forming method, polymer, and method for producing compound

Номер патента: US20150323866A1. Автор: Hayato Namai,Kota Nishino. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-11-12.

Radiation-sensitive resin composition, resist pattern forming method, polymer and compound production method

Номер патента: JPWO2014148241A1. Автор: 準人 生井,晃太 西野. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-02-16.

Radiation sensitive resin composition, resist pattern forming method, polymer and compound

Номер патента: JPWO2011125684A1. Автор: 浩光 中島,祐亮 庵野,光央 佐藤. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-07-08.

Radiation-sensitive resin composition, resist pattern formation method, and polymer

Номер патента: TW201128315A. Автор: Mitsuo Satou,Tomohiro Kakizawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-08-16.

Radiation-sensitive resin composition, polymer, and resist pattern-forming method

Номер патента: US20130203000A1. Автор: Yasuhiko Matsuda,Norihiko Sugie,Tomohiro Kakizawa,Takakazu Kimoto. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-08-08.

Radiation-sensitive resin composition, pattern-forming method, polymer, and compound

Номер патента: US20130260315A1. Автор: Mitsuo Sato,Takehiko Naruoka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-10-03.

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20190146340A1. Автор: Naruoka Takehiko,MIYATA Hiromu,SHIRATANI Motohiro. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2019-05-16.

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD

Номер патента: US20170363961A9. Автор: NAMAI Hayato. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2017-12-21.

Radiation-sensitive resin composition, polymer, and resist pattern forming method

Номер патента: JPWO2012036250A1. Автор: 紀彦 杉江,恭彦 松田,友洋 柿澤,孝和 木元. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2014-02-03.

Radiation-sensitive resin composition and resist pattern forming method

Номер патента: JP6304246B2. Автор: 準人 生井. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-04-04.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and pattern forming method using the same

Номер патента: WO2011002102A1. Автор: Toru Fujimori,Kana Fujii. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2011-01-06.

Radiation-sensitive resin composition and electronic component

Номер патента: US20200004145A1. Автор: Makoto Fujimura. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2020-01-02.

Radiation-sensitive resin composition, method for forming pattern, and onium salt compound

Номер патента: US20230400765A1. Автор: Ryuichi Nemoto,Nozomi SAKANO. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-12-14.

Photopolymerizable radiation-sensitive resin composition and radiation-sensitive sheet material

Номер патента: US4370403A. Автор: Kiyofumi Takaki. Владелец: TAKLE BIRGER. Дата публикации: 1983-01-25.

Radiation-sensitive resin composition and radiation-sensitive acid generating agent

Номер патента: US20130260316A1. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-10-03.

Pattern forming method, method for producing electronic device, and kit

Номер патента: US20230333478A1. Автор: Tetsuya Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-10-19.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern forming method, and method of manufacturing electronic device

Номер патента: IL265647A. Автор: . Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-05-30.

Inspection method, method for producing composition, and method for verifying composition

Номер патента: US20230266675A1. Автор: Takashi Nakamura,Shinichi Sugiyama. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-08-24.

Rinsing liquid and pattern forming method

Номер патента: US20230132693A1. Автор: Satomi Takahashi,Toru Tsuchihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-05-04.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern forming method, and method of manufacturing electronic device

Номер патента: IL265647B. Автор: . Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2022-03-01.

Radiation-sensitive resin composition and resist pattern forming method

Номер патента: JP5673670B2. Автор: 恭彦 松田,峰規 川上. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-02-18.

Pattern forming method and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20180321589A1. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Akihiro Kaneko,Wataru Nihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-11-08.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and pattern forming method using the same

Номер патента: TW201120564A. Автор: Toru Fujimori,Kana Fujii. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2011-06-16.

Treatment liquid and pattern forming method

Номер патента: US20190258168A1. Автор: Tetsuya Kamimura,Michihiro Shirakawa,Tadashi OOMATSU. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2019-08-22.

Curable composition, pattern forming method, pattern, and method for manufacturing device

Номер патента: US20170190820A1. Автор: Hirotaka Kitagawa,Yuichiro Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-07-06.

Data compression method and data decompression method for electronic device, and electronic device

Номер патента: US20220121626A1. Автор: Qin Liu,Huan He,Dongwei ZHAO. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2022-04-21.

Photosensitive resin composition for forming a polyimide film pattern

Номер патента: US5176982A. Автор: Shuzi Hayase,Yukihiro Mikogami,Yoshihiko Nakano. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1993-01-05.

Hardness measurement method, and fouling prevention method for hardness-measuring device

Номер патента: US10718746B2. Автор: Junichi Takahashi. Владелец: Kurita Water Industries ltd. Дата публикации: 2020-07-21.

Elastic matrix determination method and vibration analysis method for laminated iron core

Номер патента: CA3089090A1. Автор: Misao Namikawa,Gou Kijima. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2019-08-01.

Elasticity matrix determination method and vibration analysis method for laminated iron core

Номер патента: EP3745286A1. Автор: Misao Namikawa,Gou Kijima. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2020-12-02.

Elastic matrix determination method and vibration analysis method for laminated iron core

Номер патента: US20200340952A1. Автор: Misao Namikawa,Gou Kijima. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2020-10-29.

Operation right interlinking method and cooperative working method for shared application programs

Номер патента: CA2194520A1. Автор: Hiromi Mizuno,Hideyuki Fukuoka. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1997-07-13.

Method and system for method for estimating a present energy consumption of an electrically propelled vehicle

Номер патента: US11890963B2. Автор: Il Cho. Владелец: Volvo Truck Corp. Дата публикации: 2024-02-06.

Content delivery method and content update method for internet of vehicles

Номер патента: US10911917B2. Автор: Weibing Gong. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2021-02-02.

Data backup method and data recovery method for NVDIMM, NVDIMM controller, and NVDIMM

Номер патента: US11966298B2. Автор: Xiaofeng Zhou,Xiping Jiang. Владелец: Xian Unilc Semiconductors Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-23.

Gantry stage orthogonality error measurement method and error compensation method for position processing

Номер патента: US20110061441A1. Автор: Byoung gwan Ko. Владелец: SOONHAN ENGINEERING CORP. Дата публикации: 2011-03-17.

Driving method and driving control method for pixel circuit

Номер патента: US20210193044A1. Автор: Song Meng,Yongqian Li. Владелец: Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-24.

Press forming method and shape evaluation method for press formed part

Номер патента: US12090541B2. Автор: Masaki Urabe,Yusuke Fujii,Shunsuke Tobita. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Curable resin composition, water-soluble ink composition, ink set, and image-forming method

Номер патента: US09458337B2. Автор: Katsuyuki Yofu. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-10-04.

Production method and disintegration suppression method for sintered ore

Номер патента: EP4299774A1. Автор: Tetsuya Yamamoto,Takahide Higuchi,Kenta Takehara. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2024-01-03.

Layer mapping method and data transmission method for MIMO system

Номер патента: US09496986B2. Автор: Ki Jun Kim,Bong Hoe Kim,Dong Youn Seo,Joon Kui Ahn,Dong Wook Roh,Young Woo Yun. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2016-11-15.

Method and relates to it installation for manufacturing of steel strips with discontinuity

Номер патента: RU2381847C1. Автор: Джованни АРВЕДИ. Владелец: Джованни АРВЕДИ. Дата публикации: 2010-02-20.

Tape printing apparatus and image forming method and label producing method for the tape printing apparatus

Номер патента: US20020197090A1. Автор: Masao Akaiwa. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2002-12-26.

Press forming method and shape evaluation method for press formed part

Номер патента: US20240207917A1. Автор: Akinobu Ishiwatari,Taira NAKAMOTO. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Melt-to-Make Bulk Gummy Form, Method of Making and Method of Using

Номер патента: US20240032562A1. Автор: Sarah C. Walker-Mclaughlin,Siyue Gao. Владелец: C/o M2m Gummies LLC. Дата публикации: 2024-02-01.

Melt-to-make bulk gummy form, method of making and method of using

Номер патента: EP4326081A1. Автор: Sarah C. Walker-Mclaughlin,Siyue Gao. Владелец: M2m Gummies LLC. Дата публикации: 2024-02-28.

Processing method and thermocompression bonding method for workpiece

Номер патента: US11222807B2. Автор: Atsushi Kubo,Naoko Yamamoto,Yoshiaki Yodo. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2022-01-11.

Method and system for method for providing a bale of crop material

Номер патента: WO2017218607A1. Автор: Willem Jacobus Reijersen Van Buuren,Mark Core. Владелец: Vermeer Manufacturing Company. Дата публикации: 2017-12-21.

Meandering amount detection method and meandering control method for metal strip

Номер патента: US20230390818A1. Автор: Masanori Hoshino. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2023-12-07.

Meandering amount detection method and meandering control method for metal strip

Номер патента: US20230390817A1. Автор: Masanori Hoshino. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2023-12-07.

Method and 3d printing method for layer-by-layer fabrication of objects using layer transfer printing

Номер патента: US20230330927A1. Автор: Klaus Eller,Johannes NEUWIRTH. Владелец: Wacker Chemie AG. Дата публикации: 2023-10-19.

Protection setting method and protection releasing method for portable device

Номер патента: US8600350B2. Автор: Shih-Chan Hsu. Владелец: MStar Semiconductor Inc Taiwan. Дата публикации: 2013-12-03.

Meandering amount detection method and meandering control method for metal strip

Номер патента: EP4238668A1. Автор: Masanori Hoshino. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2023-09-06.

Dam forming method and method for manufacturing laminate

Номер патента: US20220332104A1. Автор: Yuko Takebayashi. Владелец: Dexerials Corp. Дата публикации: 2022-10-20.

Dam formation method and layered body manufacturing method

Номер патента: EP4032622A1. Автор: Yuko Takebayashi. Владелец: Dexerials Corp. Дата публикации: 2022-07-27.

Digital signature method and verification method for digital signature

Номер патента: US20230353385A1. Автор: Li-Po Chou. Владелец: Realtek Semiconductor Corp. Дата публикации: 2023-11-02.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20120003590A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD

Номер патента: US20120003586A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

Radiation sensitive resin composition and color filter

Номер патента: SG141403A1. Автор: Tatsuyoshi Kawamoto,Kazuhiro Kobayashi,Masashi Arai,Ryu Matsumoto,Isamu Makihira. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2008-04-28.

ACTINIC-RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20120164573A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-06-28.

PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC-RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM

Номер патента: US20120264054A1. Автор: Yamaguchi Shuhei. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-10-18.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20120015302A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-19.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20120094237A1. Автор: Fujimori Toru,FUJII Kana. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-04-19.

FLAME-RETARDANT POLY LACTIC ACID-CONTAINING FILM OR SHEET, AND METHOD FOR MANUFACTURING THEREOF

Номер патента: US20120003459A1. Автор: . Владелец: NITTO DENKO CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition and pattern formation method using the composition

Номер патента: JP5292216B2. Автор: 孝之 伊藤. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2013-09-18.

ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM THEREFROM AND METHOD OF FORMING PATTERN THEREWITH

Номер патента: US20120034559A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-02-09.

Radiation-sensitive resin composition, resist pattern forming method and compound

Номер патента: JP6926406B2. Автор: 準人 生井,晃太 西野. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2021-08-25.

Radiation-sensitive resin composition, resist pattern forming method, and radiation-sensitive acid generator

Номер патента: JP7192589B2. Автор: 龍一 根本. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2022-12-20.

Radiation-sensitive resin composition, resist pattern forming method, polymer and compound

Номер патента: JP6825249B2. Автор: 準人 生井,泰一 古川,奈津子 木下. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2021-02-03.

ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION

Номер патента: US20120094235A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-04-19.

ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION

Номер патента: US20120156618A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-06-21.

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMATION METHOD, AND POLYMER

Номер патента: US20120171612A1. Автор: KAKIZAWA Tomohiro,Satou Mitsuo. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2012-07-05.

Radiation-sensitive resin composition and resist pattern forming method

Номер патента: JP6451427B2. Автор: 仁視 大▲崎▼. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2019-01-16.

Polymer, radiation-sensitive resin composition, and resist pattern forming method

Номер патента: JP6264144B2. Автор: 準人 生井,仁視 大▲崎▼. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2018-01-24.

Polymer, radiation-sensitive resin composition, and resist pattern forming method

Номер патента: JP4848843B2. Автор: 幸生 西村,峰規 川上,賢二 星子. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-12-28.

Radiation sensitive resin composition and pattern forming method using the same

Номер патента: JP5673038B2. Автор: 岳彦 成岡,光央 佐藤. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-02-18.

Radiation-sensitive resin composition for liquid immersion exposure and pattern forming method

Номер патента: JP2011095623A. Автор: 裕介 浅野,Yusuke Asano. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-05-12.