感光化射线性或感辐射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法
Номер патента: CN113168099A
Опубликовано: 23-07-2021
Автор(ы): 上村稔, 丹吴直纮, 后藤研由, 小岛雅史, 山本庆, 白川三千纮
Принадлежит: Fujifilm Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 23-07-2021
Автор(ы): 上村稔, 丹吴直纮, 后藤研由, 小岛雅史, 山本庆, 白川三千纮
Принадлежит: Fujifilm Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, method for forming pattern, and method for producing electronic device
Номер патента: EP4446811A1. Автор: Akihiro Kaneko,Minoru Uemura,Akiyoshi Goto,Masafumi KOJIMA,Aina Shibuya. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-10-16.