Method and device for deposition reactors (versions)
Номер патента: RU2503744C2
Опубликовано: 10-01-2014
Автор(ы): Пекка Й. СОИНИНЕН, Свен ЛИНДФОРС
Принадлежит: Пикосун Ой
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 10-01-2014
Автор(ы): Пекка Й. СОИНИНЕН, Свен ЛИНДФОРС
Принадлежит: Пикосун Ой
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Methods and apparatus for depositing tantalum metal films to surfaces and substrates
Номер патента: US20080050916A1. Автор: Clement R. Yonker,Dean W. Matson,John T. Bays. Владелец: Battelle Memorial Institute Inc. Дата публикации: 2008-02-28.