Method for creating extreme ultraviolet irradiation and source of such irradiation used in lithography
Номер патента: RU2249926C2
Опубликовано: 10-04-2005
Автор(ы): Даниель БАБОНО, Лоранс БОННЕ
Принадлежит: Коммиссариат А Л`Энержи Атомик
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 10-04-2005
Автор(ы): Даниель БАБОНО, Лоранс БОННЕ
Принадлежит: Коммиссариат А Л`Энержи Атомик
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Acoustic particle deflection in lithography tool
Номер патента: US20230333491A1. Автор: Tai-Yu Chen,Shang-Chieh Chien,Sheng-Kang Yu,Sagar Deepak KHIVSARA,Kai Tak Lam. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-19.