Verfahren und vorrichtung zur maskeninspektion
Номер патента: WO2019096574A1
Опубликовано: 23-05-2019
Автор(ы): Jörg Frederik Blumrich
Принадлежит: CARL ZEISS SMT GMBH
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 23-05-2019
Автор(ы): Jörg Frederik Blumrich
Принадлежит: CARL ZEISS SMT GMBH
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Euv mask inspection apparatus and method, and euv mask manufacturing method including euv mask inspection method
Номер патента: US20200003685A1. Автор: Byeong-Hwan Jeon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-01-02.