基板的加工方法、微透镜片的制造方法、透射型屏幕.

基板的加工方法、微透镜片的制造方法、透射型屏幕

Номер патента: CN1611320A
Опубликовано: 04-05-2005
Автор(ы): 吉村和人, 尼子淳
Принадлежит: Seiko Epson Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Laser processing method to a micro lens

Номер патента: US5951731A. Автор: Keiji Tsunetomo,Tadashi Koyama. Владелец: Nippon Sheet Glass Co Ltd. Дата публикации: 1999-09-14.

Part for substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20210178523A1. Автор: Michishige Saito,Sho Yamahira. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-06-17.

Substrate processing method

Номер патента: US20180134607A1. Автор: Yasushi Ito,Kenichi Ichikawa,Kaori TATEISHI. Владелец: Via Mechanics Ltd. Дата публикации: 2018-05-17.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12076820B2. Автор: Hirotoshi Mori,Hayato TANOUE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12087588B2. Автор: Yoshihiro Kawaguchi,Hirotoshi Mori,Hayato TANOUE,Kazuya HISANO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240082956A1. Автор: Susumu Hayakawa,Yasutaka Mizomoto,Yohei Yamashita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Micro-lens array based light transmitting screen with tunable gain

Номер патента: US20030210462A1. Автор: David Reed,Robert Freese,Dale Walker. Владелец: BrightView Technologies Inc. Дата публикации: 2003-11-13.

Work processing method in machine tool, processing jig for performing the method, and support device for work processing

Номер патента: CN1729079A. Автор: 菅田秦介,槇山正. Владелец: HOKUNI CO Ltd. Дата публикации: 2006-02-01.

Work processing method in machine tool, processing jig for performing the method, and support device for work processing

Номер патента: AU2003289194A1. Автор: Shinsuke Sugata,Tadashi Makiyama. Владелец: HORKOS CORP. Дата публикации: 2004-07-09.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240355669A1. Автор: Yasutaka Mizomoto,Yohei Yamashita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and substrate manufacturing method

Номер патента: US20240312804A1. Автор: Yohei Yamashita,Gousuke Shiraishi,Hayato TANOUE,Kento ARAKI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing system for removing peripheral portion of substrate, substrate processing method and computer readable recording medium thereof

Номер патента: US11752576B2. Автор: Hayato TANOUE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-12.

Substrate processing method

Номер патента: US20240250064A1. Автор: Yoshihisa Matsubara,Yoshihiro Tsutsumi,Yohei Yamashita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Vacuum molding apparatus, substrate processing system having the same and substrate processing method using the same

Номер патента: US20150056754A1. Автор: Seock Hyun Park. Владелец: Samsung Electro Mechanics Co Ltd. Дата публикации: 2015-02-26.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12020936B2. Автор: Takeshi Tamura,Hirotoshi Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230207344A1. Автор: Seiji Nakano,Tokutarou Hayashi,Yohei Yamawaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Substrate processing module and laser beam providing method

Номер патента: US20240006167A1. Автор: Yunsang Kim,Kwang Ryul Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Substrate processing apparatus control system and substrate processing apparatus control method

Номер патента: US20240149599A1. Автор: Beomjeong OH,Jong Nam NA. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Substrate processing apparatus and display device using the same

Номер патента: US10825837B2. Автор: Jeong Kweon Park,Jinwook KWAK,Jangcheol KIM,Ik Hyun KUON,Ju Ik HONG. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2020-11-03.

Substrate processing apparatus and display device using the same

Номер патента: US20180097018A1. Автор: Jeong Kweon Park,Jinwook KWAK,Jangcheol KIM,Ik Hyun KUON,Ju Ik HONG. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-05.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240087900A1. Автор: Yohei Yamashita,Hayato TANOUE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240006160A1. Автор: Yunsang Kim,Kwangryul Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

MASK BLANK SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, MASK BLANK SUBSTRATE PROCESSING METHOD, MASK BLANK SUBSTRATE FABRICATION METHOD, MASK BLANK FABRICATION METHOD, AND TRANSFER MASK FABRICATION METHOD

Номер патента: US20150370160A1. Автор: YAMADA Takeyuki,ORIHARA Toshihiko,NISHIMURA Takahito. Владелец: HOYA CORPORATION. Дата публикации: 2015-12-24.

Mask blank substrate processing apparatus, mask blank substrate processing method, mask blank substrate manufacturing method, mask blank manufacturing method, and transfer mask manufacturing method

Номер патента: JP5980957B2. Автор: 敏彦折原,山田　剛之,剛之山田,貴仁西村. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2016-08-31.

Mask blank substrate processing device, mask blank substrate processing method, mask blank substrate fabrication method, mask blank fabrication method, and transfer mask fabrication method

Номер патента: KR20150097484A. Автор: 다케유키 야마다,도시히코 오리하라,다카히토 니시무라. Владелец: 호야 가부시키가이샤. Дата публикации: 2015-08-26.

Information processing apparatus, information processing method, display device, display method, robot system, article manufacturing method, and recording medium

Номер патента: US20220410395A1. Автор: Satoshi Sugaya,Hironobu Sasaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-12-29.

Image processing method for character recognition, character recognition apparatus using this method, and program

Номер патента: US09704052B2. Автор: Shiro Fujieda. Владелец: Omron Corp. Дата публикации: 2017-07-11.

Data processing method for coping with ransomware, program for executing the method, and computer-readable recording medium storing the program

Номер патента: US11874925B2. Автор: Ki Yoong HONG. Владелец: Secuve Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-16.

Focus ring, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20230143327A1. Автор: Sang Ki Nam,Kyung-Sun Kim,Kangmin JEON,Nam Kyun Kim,Kuihyun YOON,Seunghan BAEK,Dongseok Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-05-11.

Lift assemblies, and related methods and components, for substrate processing chambers

Номер патента: US20240198468A1. Автор: Shu-Kwan LAU,Martin Jeffrey Salinas,Aniketnitin Patil,Raja Murali Dhamodharan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate processing device using multi-zone heat transfer structure and temperature control method

Номер патента: US20240304487A1. Автор: Ji Hwan Kim,Gi Chung Kwon,Hee Tae KWON,In Young BANG. Владелец: Industry Academic Collaboration Foundation of Kwangwoon University. Дата публикации: 2024-09-12.

High-pressure container, substrate processing apparatus, and method for manufacturing high-pressure container

Номер патента: US20140145390A1. Автор: Kazuyuki Mitsuoka,Takayuki Toshima,Takehiko Orii,Hiroki Ohno,Gen You,Hiroaki Inadomi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-05-29.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: EP4394847A1. Автор: Masayuki Nakanishi,Masayuki Satake,Yuta Mitsuki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-07-03.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230241634A1. Автор: Yuji Okita,Hiroaki Kakuma,Hideji NAOHARA,Tatsuya Masui,Yuichi DEBA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12042813B2. Автор: Hiroshi Abe,Kenji Kobayashi,Takashi Ota,Wataru Sakai,Ryo Muramoto,Manabu Okutani,Takaaki Ishizu,Sei Negoro. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20070277856A1. Автор: Akio Hashizume. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-12-06.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240261814A1. Автор: Hiroshi Abe,Kenji Kobayashi,Takashi Ota,Wataru Sakai,Ryo Muramoto,Manabu Okutani,Takaaki Ishizu,Sei Negoro. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium

Номер патента: US11257701B2. Автор: Hidekazu Kiyama,Kazutoshi Ishimaru,Takehiro Kadokura,Takashige Suematsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-02-22.

Substrate processing method including reprocessing rejected wafers

Номер патента: US09847263B2. Автор: Tsuneo Torikoshi,Hirofumi OTAKI. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-12-19.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240295821A1. Автор: Makoto Muramatsu,Hiroyuki Fujii,Keisuke Yoshida,Soichiro Okada,Yasuyuki Ido,Nanoka Miyahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Substrate processing method, recording medium, and substrate processing apparatus

Номер патента: US12083553B2. Автор: Yusuke MIYAKUBO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20220152780A1. Автор: Junichi Kitano,Yuichi Douki,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-05-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US8883030B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Miyagi,Toru Endo. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2014-11-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11587805B2. Автор: Masanobu Watanabe,Katsunori Ichino,Tomoki Okazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-02-21.

Method for cleaning substrate and substrate processing apparatus

Номер патента: US20180047566A1. Автор: Hideaki Sakurai,Kyo Otsubo,Minako Inukai. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-02-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12027393B2. Автор: Takuya Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210335636A1. Автор: Takuya Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-10-28.

Substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20200126822A1. Автор: Hitoshi Nakai,Manabu Okutani,Yasunori KANEMATSU. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-23.

Substrate processing device

Номер патента: US20170117160A1. Автор: Akio Hashizume,Takashi Ota. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-27.

Substrate processing apparatus, control method, and computer-readable storage medium

Номер патента: US12094737B2. Автор: Atsushi Yamamoto,Kenji Adachi,Masato Imamura,Tomohiko Muta,Masayuki Kajiwara,Katsunori Ichino,Takeaki Sakamoto,Daisuke Ishimaru,Takuya Tajiri,Tetsuro Iriyama,Hiroki Okaguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: EP4421856A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240286168A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate processing method, manufacturing method of euv mask, and euv mask

Номер патента: US20110207031A1. Автор: Hideaki Sakurai,Masatoshi Terayama. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-08-25.

Substrate processing system, liquid amount measuring method, and computer-readable recording medium

Номер патента: US20220171294A1. Автор: Shinichi Hatakeyama,Akihiro TERAMOTO,Yuichiro KUNUGIMOTO,Yuta Nishiyama,Shota Ueyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-06-02.

Substrate processing chamber, substrate processing system including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20230043451A1. Автор: Yongmyung Jun,Seohyun Kim,Hyunjin Ko,Jae Seong RYU,Inkwang BAE,Seungbu BAEK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-02-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230307258A1. Автор: Toru Endo,Keisuke TAKAGI,Yusuke TAKEMATSU,Naohiko YOSHIHARA,Katsuei HIGASHI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Micro-lens array based light transmitting screen with high resolution and low imaging artifacts

Номер патента: WO2005002196A3. Автор: David Reed,Robert P Freese,Dale S Walker. Владелец: Bright View Technologies Inc. Дата публикации: 2005-05-12.

Substrate processing method

Номер патента: US20240246122A1. Автор: kana Tahara,Masaki Inaba,Katsuya Akiyama. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus and method of detecting indentation formed in substrate

Номер патента: SG10201806154TA. Автор: Takahashi Nobuyuki,Wen Zhongxin,Sakugawa Suguru. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-02-27.

Liquid amount measuring method and computer-readable recording medium

Номер патента: US20230418166A1. Автор: Shinichi Hatakeyama,Akihiro TERAMOTO,Yuichiro KUNUGIMOTO,Yuta Nishiyama,Shota Ueyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20150059645A1. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Miyagi,Toru Endo. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2015-03-05.

Substrate processing system and group management device

Номер патента: US20230101147A1. Автор: Ryuichi Kimura,Hiroakira MATSUI,Naruhisa MIYAZAKI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09713822B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Miyagi,Toru Endo. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-25.

Substrate processing device, method for controlling substrate processing device, and storage medium storing a program

Номер патента: US10991605B2. Автор: Takuya Tsushima,Junitsu Yamakawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2021-04-27.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240269862A1. Автор: Takayuki Hatanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate treatment method and substrate treatment device

Номер патента: US20240001411A1. Автор: Takahiro Yamaguchi,Toru Endo,Yuji Okita,Akira Ishimaru,Hideji NAOHARA,Ryuta Tsukahara,Katsuei HIGASHI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200152443A1. Автор: Jiro Higashijima,Yusuke Hashimoto,Nobuhiro Ogata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-14.

Substrate processing apparatus and processing liquid supply method

Номер патента: US20180090306A1. Автор: Jiro Higashijima,Yusuke Hashimoto,Nobuhiro Ogata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-29.

In-situ film growth rate monitoring apparatus, systems, and methods for substrate processing

Номер патента: US12077880B2. Автор: Yong Zheng,TAO Sheng,Nyi Oo Myo,Zhepeng Cong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-03.

Heating plate and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240155741A1. Автор: Minwoo Kim,Seunghwan KO,Kyoungwhan OH,Chulmin Cho,Wooseop SHIN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-09.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20100285225A1. Автор: Shuichi Yasuda,Tadashi Miyagi,Koji Kaneyama,Kazuhito Shigemori,Masashi Kanaoka. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2010-11-11.

Substrate processing apparatus, estimation method of substrate processing and recording medium

Номер патента: US20240355617A1. Автор: Hiroshi Nakamura,Masashi Enomoto,Masahide Tadokoro. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09703213B2. Автор: Jerry Johannes Martinus Peijster,Diederik Geert Femme Verbeek. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2017-07-11.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US11919049B2. Автор: Kei Suzuki,Masaki Inaba,Linh da HO. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

Micro-lens array based light transmitting screen with high resolution and low imaging artifacts

Номер патента: EP1629327A2. Автор: David Reed,Robert P. Freese,Dale S. Walker. Владелец: BrightView Technologies Inc. Дата публикации: 2006-03-01.

Micro-lens array based light transmitting screen with high resolution and low imaging artifacts

Номер патента: WO2005002196A2. Автор: David Reed,Robert P. Freese,Dale S. Walker. Владелец: Bright View Technologies, Inc.. Дата публикации: 2005-01-06.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240207905A1. Автор: Kei Suzuki,Masaki Inaba,Linh da HO. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Home port and substrate processing apparatus using same

Номер патента: US20230195030A1. Автор: Tae Hoon Lee,Do Yeon Kim,Young Jun SON,Hyun Yoon. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-22.

Substrate processing apparatus, estimation method of substrate processing and recording medium

Номер патента: US12051587B2. Автор: Hiroshi Nakamura,Masashi Enomoto,Masahide Tadokoro. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Substrate cleaning device and substrate processing device

Номер патента: US20220402003A1. Автор: Mitsuru Miyazaki,Hisajiro NAKANO,Yohei Eto. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2022-12-22.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09623434B2. Автор: Yoshifumi Amano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US11776823B2. Автор: Kenji Masui,Kaori Umezawa,Kosuke TAKAI,Mana TANABE. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-10-03.

Substrate processing method, substrate processing device, and processing fluid

Номер патента: US20230268172A1. Автор: kana Tahara,Yukifumi Yoshida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-24.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US11823918B2. Автор: Akiko Kai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US11443963B2. Автор: Kenji Masui,Kaori Umezawa,Kosuke TAKAI,Mana TANABE. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2022-09-13.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US11986867B2. Автор: Kenji Kobayashi,Takahiro Kimura,Shohei Nakamura,Motohiro Kono,Akira Horikoshi,Shigeru Takatsuji. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-21.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20190295862A1. Автор: Masayuki Hayashi,Toru Endo,Nobuyuki Shibayama. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-26.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: EP4159325A1. Автор: Yuji Okita,Hiroaki Kakuma,Hideji NAOHARA,Tatsuya Masui,Yuichi DEBA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-05.

Nozzle inspection method, nozzle inspection apparatus, and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US12090754B2. Автор: Dae Sung Kim,Yong Tak Hyun,Sang Uk Son. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing apparatus for coating liquid composed of first coating liquid and second coating liquid on substrate with slit-shaped ejection port

Номер патента: US09623435B2. Автор: Yukihiro Wakamoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Information processing apparatus, information processing method, information processing program, display control device, display control method, and display control program

Номер патента: US20200260694A1. Автор: Yasuhisa Kaneko,Shigetoshi Ishikawa,Haruyasu Nakatsugawa. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2020-08-20.

Substrate processing apparatus, alignment device, substrate processing method and alignment method

Номер патента: US20190049865A1. Автор: Joji KUWAHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-02-14.

Image processing method and transmission electron microscope

Номер патента: EP3742386A1. Автор: Katsunori Ichikawa,Yuji Konyuba,Tomohiro Haruta,Yuta IKEDA,Tomohisa Fukuda. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2020-11-25.

Image Processing Method and Transmission Electron Microscope

Номер патента: US20200371331A1. Автор: Katsunori Ichikawa,Yuji Konyuba,Tomohiro Haruta,Yuta IKEDA,Tomohisa Fukuda. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2020-11-26.

Support information display method, maintenance support method of substrate processing apparatus, support information display control apparatus, substrate processing system and recording medium

Номер патента: US09810905B2. Автор: Hiroshi Nakamura,Toru Yamauchi,Toshiaki Kodama,Sensho Kobayashi,Kazuya Uoyama,Gaku Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-07.

Substrate processing apparatus, alignment device, substrate processing method and alignment method

Номер патента: US10585362B2. Автор: Joji KUWAHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-10.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230168278A1. Автор: Daesung JUNG,Myeongock Ko,Meehyun Lim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-01.

Management system, management method, and management program

Номер патента: US20240045401A1. Автор: Tsuyoshi Moriya,Yuki Kataoka,Takahito Matsuzawa,Hironori MOKI,Kazuya Uoyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

A management device, a substrate processing system, a substrate processing device and a file management method thereof, a file transfer method and a file comparison method, and a computer-readable recording medium

Номер патента: TWI526854B. Автор: Osamu Ueda,Hiroyuki Iwakura,Kazuhide Asai. Владелец: Hitachi Int Electric Inc. Дата публикации: 2016-03-21.

Information processing system, information processing apparatus, information processing method, information processing program, portable communication terminal, and control method and control program of portable communication terminal

Номер патента: US09679458B2. Автор: Yoshikazu Kobayashi. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2017-06-13.

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING METHOD, INFORMATION PROCESSING PROGRAM, PORTABLE COMMUNICATION TERMINAL, AND CONTROL METHOD AND CONTROL PROGRAM THEREOF

Номер патента: US20150112823A1. Автор: KOBAYASHI Yoshikazu. Владелец: NEC Corporation. Дата публикации: 2015-04-23.

Information Processing System, Information Processing Apparatus, Information Processing Method, Information Processing Program, Portable Communication Terminal, and Control Method and Control Program of Portable Communication Terminal

Номер патента: US20150279183A1. Автор: KOBAYASHI Yoshikazu. Владелец: NEC Corporation. Дата публикации: 2015-10-01.

Image processing method, image processing device, detection method, detection device, exposure method and exposure system

Номер патента: AU2002218489A1. Автор: Kouji Yoshida,Tarou Sugihara,Masafumi Mimura. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-06-11.

Data processing method, payment data output method, payment preference data providing method and device

Номер патента: CN112734460A. Автор: 刘畅,李泽源,徐玲燕,吴宇娟,胡奥宇,雍志祥,魏润琪. Владелец: Rajax Network Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-30.

Image processing device, image processing method, image processing program, image display device, image display method, and image display program

Номер патента: US20210082095A1. Автор: Wataru Fukuda. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-03-18.

IMAGE PROCESSING METHOD FOR CHARACTER RECOGNITION, CHARACTER RECOGNITION APPARATUS USING THIS METHOD, AND PROGRAM

Номер патента: US20150023593A1. Автор: Fujieda Shiro. Владелец: Omron Corporation. Дата публикации: 2015-01-22.

IMAGE PROCESSING DEVICE, IMAGE PROCESSING METHOD, IMAGE PROCESSING PROGRAM, IMAGE DISPLAY DEVICE, IMAGE DISPLAY METHOD, AND IMAGE DISPLAY PROGRAM

Номер патента: US20210082095A1. Автор: FUKUDA Wataru. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2021-03-18.

IMAGE PROCESSING METHOD, STORAGE MEDIUM, IMAGE PROCESSING APPARATUS, LEARNED MODEL MANUFACTURING METHOD, AND IMAGE PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20210097650A1. Автор: KOBAYASHI Masakazu. Владелец: . Дата публикации: 2021-04-01.

Processing Method Using Convolutional Neural Network, Convolutional Neural Network Learning Method, and Processing Device Including Convolutional Neural Network

Номер патента: US20180276527A1. Автор: Ono Goichi,TOYODA HIDEHIRO,MOTOYA Toru. Владелец: . Дата публикации: 2018-09-27.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING METHOD, INFORMATION PROCESSING SYSTEM, TERMINAL DEVICE, TERMINAL-DEVICE CONTROL METHOD, AND NON-TRANSITORY COMPUTER READABLE STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20220358550A1. Автор: Endo Yoshihiro,HIDAKA KOJI,Akiyama Naohiro,TANZAWA Masanori,MAMIYA Junichiro. Владелец: SoftBank Corp.. Дата публикации: 2022-11-10.

Signal processing apparatus, signal processing method of the apparatus, operation process program of the method, and storage medium storing the program

Номер патента: EP1229743A2. Автор: Shinya Hirai. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2002-08-07.

Signal processing apparatus, signal processing method of the apparatus, operation process program of the method, and storage medium storing the program

Номер патента: US20020140833A1. Автор: Shinya Hirai. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2002-10-03.

Signal processing apparatus, signal processing method of the apparatus, operation process program of the method, and storage medium storing the program

Номер патента: EP1229743A3. Автор: Shinya Hirai. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-12-15.

Data processing method for coping with ransomware, program for executing the method, and computer-readable recording medium storing the program

Номер патента: US11562072B2. Автор: Ki Yoong HONG. Владелец: Secuve Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-24.

Image processing method, image processing apparatus, image processing program, image composition method, and image composition apparatus

Номер патента: JPWO2010004677A1. Автор: 克洋金森,佐藤　智,智佐藤. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2011-12-22.

Information processing device, information processing method, information processing program, terminal device, terminal device control method, and control program

Номер патента: WO2019220742A1. Автор: 倉田　雅友,荘太松澤,尚史新田,太志竹内. Владелец: ソニー株式会社. Дата публикации: 2019-11-21.

Data processing device, data processing method, data processing program, data extraction device, data extraction method, and data extraction program

Номер патента: EP4123490A4. Автор: Tetsuo Umeda. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2023-08-23.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: EP4393607A1. Автор: Masayuki Nakanishi,Masayuki Satake. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-07-03.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, fluid supplying method and storage medium

Номер патента: US09662685B2. Автор: Gentaro Goshi,Kazuyuki Mitsuoka,Takayuki Toshima,Takehiko Orii,Hiroki Ohno,Gen You. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230101475A1. Автор: Hiroki Tajiri,Masayuki ORISAKA,Takashi Izuta. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20040060574A1. Автор: Kiyofumi Sakaguchi,Hiroshi Watanabe,Shigeru Kido,Tamotsu Mezaki. Владелец: CHEMICAL ART Tech Inc. Дата публикации: 2004-04-01.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US12051571B2. Автор: Tatsuya Yamaguchi,Syuji Nozawa,Kazuya Ichiki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and computer-readable storage medium storing substrate processing program

Номер патента: US09675992B2. Автор: Satoshi Kaneko,Yoshihiro Kawaguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-13.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US10867817B2. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-12-15.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20180218929A1. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-08-02.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20200168487A1. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-28.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US10615062B2. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-07.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20200144052A1. Автор: Gentaro Goshi,Keisuke Egashira. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-07.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20240331998A1. Автор: Susumu Hayakawa,Tomohiro Kaneko,Kazuya IKEUE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Electrostatic chuck, glass substrate processing method, and said glass substrate

Номер патента: US09866151B2. Автор: Toshifumi Sugawara,Yoshiaki Tatsumi. Владелец: Creative Technology Corp. Дата публикации: 2018-01-09.

Substrate processing method and method of manufacturing substrate for liquid discharge head including forming hole in substrate by dry etching

Номер патента: US09676193B2. Автор: Masataka Kato,Hiroshi Higuchi,Toshiyasu Sakai,Masaya Uyama,Seiko Minami,Yoshinao Ogata. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-06-13.

Substrate processing method and substrate processing system using the same

Номер патента: US20240239099A1. Автор: Sujin Kim,Junho Kim,Hyunmin Lee,Solmin PARK. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate Processing Method and Solvent Used for Same Method

Номер патента: US20180323076A1. Автор: Akifumi YAO,Masaki Fujiwara,Soichi Kumon,Hidehisa Nanai. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2018-11-08.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium of performing liquid exchange processing according to liquid exchange condition

Номер патента: US11282719B2. Автор: Kouji Takuma,Go Ayabe,Jong Won Yun,Ryo Manabe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-22.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20180195178A1. Автор: Masayuki Otsuji. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-12.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12094732B2. Автор: Takashi Katayama,Keisuke Miyajima,Keiji Magara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium

Номер патента: US20190139791A1. Автор: Hiromi Kiyose. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-05-09.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: US11764055B2. Автор: Nobuyuki Shibayama,Hiromichi KABA,Toru EDO. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20240307925A1. Автор: Osamu Miyahara,Yoshitomo Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Method for cleaning chamber or component, substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: EP4383314A1. Автор: Sho Kumakura,Yuta NAKANE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-12.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US12062563B2. Автор: Itsuki Kobata,Keita Yagi,Nobuyuki Takahashi,Yoichi Shiokawa,Toru Maruyama,Katsuhide Watanabe. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-08-13.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: EP4404242A1. Автор: Masayuki Nakanishi,Masayuki Satake,Yuta Mitsuki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-07-24.

Substrate processing method and ionic liquid

Номер патента: US20230226571A1. Автор: Mitsuaki Iwashita,Takeo Nakano,Hirokazu Ueda,Ryuichi Asako,Naoki UMESHITA,Kenichi UKI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-07-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20140363587A1. Автор: Jeung Hoon Han,Song Whe Huh. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2014-12-11.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20240242975A1. Автор: Kotaro Tsurusaki,Yoshihiro Kai,Keiji Onzuka,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12074048B2. Автор: Yuji Kawaguchi,Hiroki Harada,Tokutarou Hayashi,Tatsuhiko Tsujihashi,Tsuyoshi OTSUKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Substrate processing device, polishing device, and substrate processing method

Номер патента: US20240139782A1. Автор: Kohei Sato,Hiroki Takahashi,Koichi Fukaya,Daichi Kondo. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09960073B2. Автор: Jeung Hoon Han,Song Whe Huh. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240189856A1. Автор: Koichi Matsunaga,Teruhiko Kodama,Hideaki Iwasaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20200083064A1. Автор: Nobuhiko MOURI,Kento Kurusu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-03-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11482428B2. Автор: Nobuhiko MOURI,Kento Kurusu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-10-25.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230311170A1. Автор: Toru Hirata,Yoshinori Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Etch system and method for single substrate processing

Номер патента: US09852920B2. Автор: Ian J. Brown,Wallace P. Printz. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-26.

Substrate cleaning method and recording medium

Номер патента: US09818598B2. Автор: Itaru Kanno,Yuki Yoshida,Masami Yamashita,Motoyuki Shima,Meitoku Aibara,Kenji Mochida,Hisashi Kawano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-14.

Substrate processing system having susceptorless substrate support with enhanced substrate heating control

Номер патента: US09682398B2. Автор: Joseph M. Ranish,Kailash Patalay. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-06-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20200105574A1. Автор: Satoshi Morita,Katsuhiro Morikawa,Masami Akimoto,Kouichi Mizunaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20220134375A1. Автор: Tomohiro Takahashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-05.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: EP4415033A1. Автор: Kazuki Nakamura,Yoshifumi Okada,Nobuaki Okita. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-14.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210159095A1. Автор: Masami Yamashita,Gentaro Goshi,Toru Ihara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230207339A1. Автор: Kohei Sato,Hiroki Takahashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-06-29.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20240307821A1. Автор: Koji Kagawa,Mitsunori Nakamori,Yosuke Hachiya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240299971A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240361072A1. Автор: Kazuhiro Shoji,Tomohiro Uemura,Shuhei NEMOTO,Ryotaro SHINOHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: EP4447096A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20180185885A1. Автор: Akio Hashizume,Junichi Ishii,Takayuki Nishida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-05.

Substrate processing apparatus including nozzle unit and substrate processing method

Номер патента: US20240091819A1. Автор: Hyeon Jun Lee,So Young PARK,Ju Hwan Lee,Myung A Jeon. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240100647A1. Автор: Boun Yoon,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-28.

Substrate cleaning method, processing container cleaning method, and substrate processing device

Номер патента: US11504751B2. Автор: Kenji Sekiguchi,Shuuichi Nishikido,Kyoko Ikeda,Kazuya Dobashi,Tsunenaga Nakashima,Masato Nakajo,Takahiro YASUTAKE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-11-22.

Substrate processing apparatus for supplying gas of water repellent agent and substrate processing method

Номер патента: US12042815B2. Автор: Koji Tanaka,Koji Yamashita,Yusuke Yamamoto,Kotaro Tsurusaki,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230241636A1. Автор: Yoko TAKAKITA. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2023-08-03.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US12128451B2. Автор: Junichi Ishii,Hiroaki Ishii,Kazuhiro Honsho. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12142483B2. Автор: Yoshihiro Kawaguchi,Seiji Nakano,Hirotoshi Mori,Hayato TANOUE,Munehisa Kodama,Yohei Yamawaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240157408A1. Автор: Jiro Higashijima,Yusuke Hashimoto,Daisuke Goto,Nobuhiro Ogata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Silicon substrate processing method, element embedded substrate, and channel forming substrate

Номер патента: US20140217066A1. Автор: Kazuhiro Gomi. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2014-08-07.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12036662B2. Автор: Yoshifumi Okada,Tomoyuki Shinohara,Nobuaki Okita. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11735457B2. Автор: Hozumi Yasuda,Nobuyuki Takada. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-08-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210237221A1. Автор: Hozumi Yasuda,Nobuyuki Takada. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2021-08-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09815093B2. Автор: Takayoshi Tanaka. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-14.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09795999B2. Автор: Takashi Ootagaki,Konosuke Hayashi,Yosuke Himori. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2017-10-24.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09728443B2. Автор: Kenji Kobayashi,Manabu Okutani,Naohiko YOSHIHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-08.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20180056470A1. Автор: Katsuhiko Tokushige,Mitsuru Miyazaki,Masayoshi Imai,Katsuhide Watanabe,Junji Kunisawa,Takeshi Iizumi,Suguru Ogura. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-03-01.

Substrate processing method

Номер патента: US09956594B2. Автор: Atsuyasu Miura,Naoki Sawazaki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-01.

Substrate processing method

Номер патента: US09937602B2. Автор: Yukiteru Matsui,Masako Kodera,Yosuke Otsuka. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-04-10.

Substrate processing method for transferring a substrate

Номер патента: US09643220B2. Автор: Hiroshi Kato. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Processing liquid ejection nozzle, nozzle arm, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US11776824B2. Автор: Yoshifumi Amano,Kazuhiro Aiura,Tatsuhiro Ueki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Polishing head, substrate processing apparatus including the same and processing method of substrate using the same

Номер патента: US20210114163A1. Автор: Joon-Hwa Bae,Byoung Kwon Choo,Keun Woo Lee,Woo Jin Cho,Sung Hyeon PARK,Seung Bae Kang,Jung Gun Nam,Kyung Bo LEE. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-22.

Liquid chemical supplying system, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US20160368030A1. Автор: Sang Won Bae,Hyosan Lee,Seokhoon Kim,Kuntack Lee,Kyoung Hwan Kim,Jung-min Oh,Ingi KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-12-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240238848A1. Автор: Shuhei Takahashi,Yoshifumi Amano,Yuki Ito,Akira Fujita,Takafumi Kinoshita,Tomoyuki Hashimoto,Kazuhiro Aiura,Daisuke Saiki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12057327B2. Автор: Satoshi BIWA,Satoshi Okamura,Katsuhiro Ookawa,Yuichi Douki,Yuichiro KUNUGIMOTO,Masataka GOSHO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240261932A1. Автор: Yuichi Sato,Kohei Ohshima. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-08-08.

Substrate processing method

Номер патента: US12100578B2. Автор: Sho Kumakura,Yuta NAKANE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-24.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240371661A1. Автор: Satoshi BIWA,Satoshi Okamura,Katsuhiro Ookawa,Yuichi Douki,Yuichiro KUNUGIMOTO,Masataka GOSHO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-07.

Information processing device and information processing method

Номер патента: US20240242960A1. Автор: Mitsunori Sugiyama. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

On the fly automatic wafer centering method and apparatus

Номер патента: US11776834B2. Автор: Nathan SPIKER,Aaron GAWLIK,Bing YIN,Vincent Tsang,Jairo Moura. Владелец: Brooks Automation US LLC. Дата публикации: 2023-10-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09805938B2. Автор: Naozumi Fujiwara,Yuji Sugahara,Toru EDO,Seiji Ano,Jun SAWASHIMA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Methods and apparatus for treating exhaust gas in a processing system

Номер патента: US09597634B2. Автор: Daniel O. Clark,Colin John Dickinson,Mehran Moalem. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-03-21.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20150020967A1. Автор: Akio Hashizume,Takashi Ota,Yuya Akanishi. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2015-01-22.

Method for recycling substrate process components

Номер патента: WO2018182886A1. Автор: Brian T. West. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-10-04.

Substrate processing system

Номер патента: US20200126831A1. Автор: Ting-Yu Wu,Chuan-Chang Feng,Mao-Lin Liu. Владелец: Scientech Corp. Дата публикации: 2020-04-23.

Method for recycling substrate process components

Номер патента: US20180281027A1. Автор: Brian T. West. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-10-04.

Substrate processing method

Номер патента: US20180061631A1. Автор: Sadamu Fujii,Rei Takeaki,Taiki HINODE. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-01.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20190103291A1. Автор: Tooru Nakamura,Kouji Kimoto,Hiroaki Inadomi,Yoshihisa Aoyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-04-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20240253093A1. Автор: Koji Ando,Noritake SUMI,Tomohiro Motono. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4420831A1. Автор: Kenichi Kobayashi,Makoto Kashiwagi,Mao Fujisawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-08-28.

Substrate processing apparatus and method thereof

Номер патента: US20240326406A1. Автор: Seong Soo JEONG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09687886B2. Автор: Shuichi Yasuda,Masakazu Sanada,Osamu Tamada,Tomohiro Goto,Kazuhito Shigemori. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4104941A1. Автор: Hiroyoshi Mori. Владелец: M Dia & Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-21.

Substrate processing apparatus and method of cleaning substrate processing apparatus

Номер патента: US12046485B2. Автор: Shusei TAKEBAYASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US11742223B2. Автор: Yuji Kimura,Yoshihiro Kai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-29.

Substrate processing system and particle removal method

Номер патента: US12062557B2. Автор: Tatsuya Morioka,Daisuke Hara,Akihiro Matsui,Hideyuki Osada,Genichi Nanasaki,Hikaru Nihei. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Substrate processing apparatus and methods

Номер патента: US09972511B2. Автор: Takashi KURATOMI,Brent Biggs. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09852931B2. Автор: Masanobu Sato,Masahiro Miyagi,Hiroyuki Araki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-26.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09687887B2. Автор: Atsuyasu Miura. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Substrate processing apparatus and substrate conveying apparatus for use in the same

Номер патента: US09624046B2. Автор: Ichiro Mitsuyoshi,Ryo Muramoto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Method of substrate processing

Номер патента: RU2436882C2. Автор: Гэри П. ФАДЖИТТ,Террелл Дж. ГРИН,Скотт Э. ДЖИНТЕР,Джон У. СТОЛАРЗ,Роберт У. КАРЛСОН,Стенли Х. мл. МАКГРЮ,Стивен П. МЕЦЛЕР. Владелец: Мидвествако Корпорейшн. Дата публикации: 2011-12-20.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240213077A1. Автор: Woojin Chung,Kyungmo Kim,Jeongcheol LEE,Jungheum NAM,Myunggeun MIN. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing system

Номер патента: WO2024151636A1. Автор: Jairo T. Moura,Robert T. Caveney. Владелец: Brooks Automation Us, Llc. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20220063139A1. Автор: Hiroyoshi Mori. Владелец: M Dia and Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US11986978B2. Автор: Hiroyoshi Mori. Владелец: M Dia and Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-21.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and substrate support

Номер патента: US20230304149A1. Автор: Kenichi Suzaki,Yuma IKEDA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180147609A1. Автор: Katsuhiko Miya,Naozumi Fujiwara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-31.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09630296B2. Автор: Tomoatsu Ishibashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-04-25.

Substrate processing system, substrate processing method and computer-readable recording medium

Номер патента: US11929268B2. Автор: Munehisa Kodama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-12.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US11935736B2. Автор: Mitsunori Nakamori,Rintaro Higuchi,Tsunemoto OGATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-19.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220076968A1. Автор: Hiroshi Marumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-10.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20180158698A1. Автор: Hiroki Tsujikawa,Kazuhiro Fujita,Atsuyasu Miura,Akihiko TAKI,Yuya TSUCHIHASHI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-07.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240173753A1. Автор: Noritake SUMI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US11862483B2. Автор: Hiroshi Marumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200411336A1. Автор: Masanobu Sato,Masayuki ORISAKA,Noritake SUMI,Daiki UEHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-31.

Substrate processing device and control method for substrate processing device

Номер патента: US20230201860A1. Автор: Jae Hong Kim,Young-Joo Seo,Sang Hyun Son,Sang Min HA,Hyeong Jun CHO. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Credential substrate processing authorization

Номер патента: EP2095623A2. Автор: Gary M. Klinefelter,John E. Ekers,Alan D. FONTANELLA,Traci L. Johnson. Владелец: Fargo Electronics Inc. Дата публикации: 2009-09-02.

Credential substrate processing authorization

Номер патента: WO2008060421A3. Автор: Gary M Klinefelter,Alan D Fontanella,John E Ekers,Traci L Johnson. Владелец: Traci L Johnson. Дата публикации: 2008-07-10.

Coating apparatus and substrate processing equipment

Номер патента: EP4368301A1. Автор: Qi Zhang,Jie GENG,Haishang CAO,Hanrong BI. Владелец: Jiangsu Contemporary Amperex Technology Ltd. Дата публикации: 2024-05-15.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20160121373A1. Автор: Daisuke Aoki,Junya Minamida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-05-05.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20160059274A1. Автор: Katsuhiko Miya,Naozumi Fujiwara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-03-03.

Substrate processing apparatus and method of processing substrate

Номер патента: US20190091733A1. Автор: Michinori IWAO. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-03-28.

Substrate processing apparatus for managing transfer state of substrate gas storage container based on supply flow rate

Номер патента: US09960065B2. Автор: Junichi Kawasaki,Mitsuru Funakura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-05-01.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09808836B2. Автор: Kenya Ito,Tetsuji Togawa,Keisuke Uchiyama,Yu Ishii. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-11-07.

Devices and methods for starting strip material in a substrate processing machine

Номер патента: US09764512B2. Автор: Orion A. CAVINS,Cynthia A. STEWART-IRVIN,Martin E. Koeltzow. Владелец: HB Fuller Co. Дата публикации: 2017-09-19.

Devices and methods for starting strip material in a substrate processing machine

Номер патента: US09669588B2. Автор: Orion A. CAVINS,Martin E. Koeltzow. Владелец: HB Fuller Co. Дата публикации: 2017-06-06.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09566616B2. Автор: Kenya Ito,Tetsuji Togawa,Keisuke Uchiyama,Yu Ishii. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-02-14.

Substrate processing method, substrate processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US10199240B2. Автор: Hiroshi Tomita,Hidekazu Hayashi,Yohei Sato,Kazuyuki Mitsuoka,Mitsuaki Iwashita,Takayuki Toshima,Takehiko Orii,Hiroki Ohno,Hisashi Okuchi,Gen You. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-02-05.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: US11897009B2. Автор: Hiroaki Kitagawa,Yuta Sasaki,Yosuke Hanawa,Dai Ueda. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.

Substrate processing method, component processing method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US11798793B2. Автор: Yoshihide Kihara,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida,Koki MUKAIYAMA,Yusuke WAKO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-24.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20210138512A1. Автор: Hiroaki Takahashi,Yuya Akanishi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US11869777B2. Автор: Masatoshi Kasahara,Fumihiro Kamimura,Ikuo Sunaka,Teruomi Minami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-09.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US11872605B2. Автор: Yukifumi Yoshida,Katsuya Akiyama. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-16.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20220139682A1. Автор: Tatsuya Yamaguchi,Syuji Nozawa,Kazuya Ichiki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-05-05.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US11404292B2. Автор: Hiroshi Abe,Shuichi Yasuda,Hitoshi Nakai,Yukifumi Yoshida,Manabu Okutani,Yasunori KANEMATSU. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2022-08-02.

Static electricity deflecting device, electron beam irradiating apparatus, substrate processing apparatus, substrate processing method and method of manufacturing substrate

Номер патента: US20070228285A1. Автор: Koji Takeya,Takashi Fuse,Tadashi Kotsugi,Kyo Tsuboi. Владелец: E Beam Corp. Дата публикации: 2007-10-04.

Static electricity deflecting device, electron beam irradiating apparatus, substrate processing apparatus, substrate processing method and method of manufacturing substrate

Номер патента: US20080067429A1. Автор: Koji Takeya,Takashi Fuse,Tadashi Kotsugi,Kyo Tsuboi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-03-20.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and program storage medium

Номер патента: US20090297705A1. Автор: Jiro Higashijima,Norihiro ITOH. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-12-03.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US11967509B2. Автор: Osamu Miyahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-23.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240096654A1. Автор: Masatoshi Kasahara,Fumihiro Kamimura,Ikuo Sunaka,Teruomi Minami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing method, component processing method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240006168A1. Автор: Yoshihide Kihara,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida,Koki MUKAIYAMA,Yusuke WAKO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20240162054A1. Автор: Noritake SUMI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230113052A1. Автор: Yukifumi Yoshida,Katsuya Akiyama. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-13.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20210299712A1. Автор: Yukifumi Yoshida,Katsuya Akiyama. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2021-09-30.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: US20230411146A1. Автор: Hiroki Murakami,Masanobu Igeta. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and computer-readable storage medium storing substrate processing program

Номер патента: US20150165471A1. Автор: Satoshi Kaneko,Yoshihiro Kawaguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-06-18.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240213043A1. Автор: Euisang Lim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Systems and methods for detecting the existence of one or more environmental conditions within a substrate processing system

Номер патента: WO2017132203A1. Автор: David Mordo,Fareen Adeni Khaja. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2017-08-03.

Methods of detecting non-conforming substrate processing events during chemical mechanical polishing

Номер патента: US12036635B2. Автор: Jamie Stuart Leighton,Jeonghoon Oh,Ashish BHUSHAN,John Anthony GARCIA,Stephen Thomas CORMIER,Nick Joseph JACKSON,Manoj BALAKUMAR,Nandkishore PATIDAR. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-16.

Substrate Processing Apparatus and Method of Manufacturing Semiconductor Device

Номер патента: US20220145464A1. Автор: Shuhei SAIDO,Hiroaki Hiramatsu,Takuro Ushida. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-05-12.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200102654A1. Автор: Satoshi Morita,Katsuhiro Morikawa,Masami Akimoto,Kouichi Mizunaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-02.

Substrate processing apparatus and apparatus cleaning method

Номер патента: US12087599B2. Автор: Osamu Kuroda,Hidemasa ARATAKE,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing apparatus, method for processing substrate, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20220243337A1. Автор: Takanori FUKUSUMI. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2022-08-04.

Method of cleaning substrate processing apparatus

Номер патента: US09925571B2. Автор: Akihiro Kikuchi,Mitsuhiro Tomura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Transmission control method and transmission control device for stepless transmission

Номер патента: RU2712713C1. Автор: Даиго КИСИ. Владелец: Ниссан Мотор Ко., Лтд.. Дата публикации: 2020-01-30.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230352328A1. Автор: Takashi Uno,Yoshinori Ikeda,Shigeru Moriyama,Ryo Yamamoto,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium that stores program to cause computer in substrate processing apparatus to execute substrate processing method

Номер патента: US11911868B2. Автор: Takashi Mitsuya,Ayumu Saito,Asagi Matsugu. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-02-27.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US11742232B2. Автор: Takashi Uno,Yoshinori Ikeda,Shigeru Moriyama,Ryo Yamamoto,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-29.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and substrate processing system

Номер патента: US20210187685A1. Автор: Itsuki Kobata,Atsuo Katagiri. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2021-06-24.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US11769663B2. Автор: Masahiko Kato,Hiroaki Takahashi,Yuta Sasaki,Yu Yamaguchi,Masayuki Otsuji. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Substrate processing method

Номер патента: US20240030022A1. Автор: Ji Hoon Kim. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US10672627B2. Автор: Sadamu Fujii,Taiki HINODE,Nobuyuki Shibayama. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-02.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200105550A1. Автор: Satoshi Morita,Katsuhiro Morikawa,Masami Akimoto,Kouichi Mizunaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-02.

Substrate processing apparatus, supply system, substrate processing method, and supply method

Номер патента: US20240047234A1. Автор: Itaru Kanno,Mitsunori Nakamori,Yosuke Hachiya,Hirofumi Takeguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20200411309A1. Автор: Masahiko Kato,Hiroaki Takahashi,Yuta Sasaki,Yu Yamaguchi,Masayuki Otsuji. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-31.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220359218A1. Автор: Shoichiro Hidaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-11-10.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20210134600A1. Автор: Shoichiro Hidaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-06.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12020943B2. Автор: Atsushi Yamashita,Koji Kagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Substrate processing device and control method for substrate processing device

Номер патента: US20230211622A1. Автор: Jae Hong Kim,Young-Joo Seo,Sang Hyun Son,Sang Min HA,Hyeong Jun CHO. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-06.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240194497A1. Автор: Takao Matsumoto,Hajime NISHIDE,Kwichang KANG. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230382069A1. Автор: Makoto Yamashita,Hiroshi Koizumi,Osamu Shindo,Yasuo Kato,Masashi Matsumoto,Yohei Sato,Mitsuyoshi Makida. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230382070A1. Автор: Makoto Yamashita,Hiroshi Koizumi,Osamu Shindo,Yasuo Kato,Masashi Matsumoto,Yohei Sato,Toshinobu Miyagoshi,Seijiro SUNAGA,Mitsuyoshi Makida,Ryo Shindo. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Substrate processing apparatus and method of manufacture using the same

Номер патента: US20180114714A1. Автор: Taewoo Kang,Byung Lyul Park,Kyoung Hwan Kim,Hyungjun Jeon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-04-26.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20170278729A1. Автор: Takashi Ootagaki,Konosuke Hayashi. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2017-09-28.

Substrate Processing System with a Damage Preventing Function

Номер патента: US20150129420A1. Автор: Sang Hyun Park,Dong Hyun Lee,Sung Jin Park,Kwang Jin Jeon,Jin Haon Kwon,Hyun Pil Oh. Владелец: SNU PRECISION CO LTD. Дата публикации: 2015-05-14.

Substrate processing apparatus, substrate checking method, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20240321612A1. Автор: Takuya Saito,Shin Hiyama,Taiyo OKAZAKI,Shin TSUJIMURA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Robot assemblies, substrate processing apparatus, and methods for transporting substrates in electronic device manufacturing

Номер патента: US09799544B2. Автор: Paul Z. Wirth. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-24.

Substrate processing apparatus and maintenance method thereof

Номер патента: US09613837B2. Автор: Ken Horiuchi,Koji Ando,Shigeru Senzaki,Michishige Saito,Shingo Koiwa,Daiki Satoh. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-04.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: US10886133B2. Автор: Daisuke Shimizu,Masayuki Otsuji,Shota IWAHATA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-05.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US7767472B2. Автор: Hiroyuki Yano,Atsushi Shigeta,Kenya Ito,Gen Toyota,Kenji Yamaguchi,Kunio Oishi,Masayuki Nakanishi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2010-08-03.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US11731229B2. Автор: Osamu Miyahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-22.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US11769661B2. Автор: Kazuyoshi Shinohara,Hirofumi Takeguchi,Takahisa OTSUKA,Suguen Lee. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20200286754A1. Автор: Koji Yamashita,Kotaro Tsurusaki,Kazuya Koyama,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-09-10.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20190091736A1. Автор: Hiroshi Abe,Hiroaki Takahashi,Hitoshi Nakai,Yuta Sasaki,Masayuki Otsuji,Chikara MAEDA,Manabu Okutani. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-03-28.

Substrate processing method, substrate processing apparatus, and processing liquid

Номер патента: US20230271230A1. Автор: Yukifumi Yoshida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US11854840B2. Автор: Yuji Takimoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Substrate liquid processing apparatus, substrate liquid processing method and recording medium

Номер патента: US11862486B2. Автор: Hiroshi Komiya,Gentaro Goshi,Yoshihiro Kai,Kazuki Kosai,Takahisa OTSUKA,Seiya Fujimoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US11958087B2. Автор: Kei Suzuki,Masaki Inaba. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-16.

Substrate processing method, substrate processing apparatus, substrate processing system and recording medium

Номер патента: US9514951B2. Автор: Keisuke Yoshida,Masatoshi Kaneda,Yuzo Ohishi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-06.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20240173742A1. Автор: Takayuki Matsukawa,Takahito NAKASHOYA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate processing device, substrate processing method, and program recording medium

Номер патента: US20200020563A1. Автор: Junichi Ishii,Takayuki Nishida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-01-16.

Substrate processing apparatus, raw material cartridge, substrate processing method, and raw material cartridge manufacturing method

Номер патента: US20220411929A1. Автор: Muneo Harada,Tsuneyuki Okabe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20210098279A1. Автор: Katsuhiro Yamazaki,Emi Matsui,Yoshikazu Ohtani,Kyouhei TOMIOKA,Shunya KUBOTA. Владелец: Shin Etsu Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-01.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20130256267A1. Автор: Akio Hashizume,Takashi Ota,Yuya Akanishi. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2013-10-03.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240216960A1. Автор: Kei Suzuki,Masaki Inaba. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: SG10201807288PA. Автор: Toriyabe Toyonaga. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-03-28.

Substrate processing system, aligning apparatus, and substrate shape monitoring method

Номер патента: US20230294932A1. Автор: Kento TOKAIRIN. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

A substrate processing apparatus and a method

Номер патента: WO2023041844A1. Автор: Jani KIVIOJA,Tom Blomberg,Juho Poutiainen,Antti KUITUNEN,Heikki Alakoski. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2023-03-23.

Coating apparatus and substrate processing equipment

Номер патента: US20240246110A1. Автор: Qi Zhang,Jie GENG,Haishang CAO,Hanrong BI. Владелец: Jiangsu Contemporary Amperex Technology Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20210210363A1. Автор: Takashi Nakazawa,Yusuke Hashimoto,Hiroki Sakurai,Daisuke Goto,Yusuke Takamatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-07-08.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200135505A1. Автор: Takashi Ootagaki,Konosuke Hayashi. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2020-04-30.

A substrate processing apparatus and a method

Номер патента: EP4402301A1. Автор: Jani KIVIOJA,Tom Blomberg,Juho Poutiainen,Antti KUITUNEN,Heikki Alakoski. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2024-07-24.

Electrical break for substrate processing systems

Номер патента: US20240339302A1. Автор: Andrew Nguyen,Tom K. Cho,Yogananda SARODE VISHWANATH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-10.

Substrate processing apparatus, storage device, and method of transporting substrate storing container

Номер патента: US09728434B2. Автор: Yukihiko Inagaki,Jun Yamamoto,Kensaku ONISHI. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-08.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US10730059B2. Автор: Kenji Kobayashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-04.

Liquid processing method, substrate processing apparatus and recording medium

Номер патента: US10727042B2. Автор: Koji Yamashita,Mitsunori Nakamori,Yosuke Kawabuchi,Takuro Masuzumi,Shozou MAEDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-07-28.

Work-in-progress substrate processing methods and systems for use in the fabrication of integrated circuits

Номер патента: US09632499B2. Автор: William Fosnight,Detlef Pabst,Chinmay Oza,Gero Grau. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-04-25.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240242985A1. Автор: Kuntack Lee,Jihwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing method and control apparatus

Номер патента: US09798317B2. Автор: Katsuhiko Komori,Yuichi Takenaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Substrate processing apparatus, model data generation apparatus, substrate processing method, and model data generation method

Номер патента: US20240194507A1. Автор: Kiyoshi Mori,Tsuyoshi Moriya,Takayuki Yamagishi,Haruhiko Furuya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240321650A1. Автор: Yuji Otsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate processing device, substrate processing method, and substrate processing system

Номер патента: US20160189991A1. Автор: Seiichiro Sano,Katsuaki Takagi,Satoshi Yamanaka,Yuzo Uchida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-30.

Substrate processing system, substrate processing method, and control program

Номер патента: US12062559B2. Автор: Minoru Nagasawa,Kunio Takano,Toshiharu Hirata,Takafumi Matsuhashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US09978619B2. Автор: Naoki Tajima,Koji Motoi,Terutaka YAMAOKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Substrate processing device, substrate processing method, and substrate processing system

Номер патента: US09673072B2. Автор: Seiichiro Sano,Katsuaki Takagi,Satoshi Yamanaka,Yuzo Uchida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-06.

Semiconductive substrate processing methods and methods of processing a semiconductive substrate

Номер патента: US20030022076A1. Автор: David Wells,Eric Knappenberger,James Alwan,John Michiels. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-01-30.

Method and apparatus for measuring the temperature of a semiconductor substrate by means of a resonant circuit

Номер патента: WO2001065224A1. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2001-09-07.

Substrate processing method, micropattern forming method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US12057323B2. Автор: Kuntack Lee,Jihoon Jeong,Sangjine Park,Seohyun Kim,Sukhoon KIM,Younghoo KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-06.

Board processing apparatus, board processing method, and board processing system

Номер патента: US20160161941A1. Автор: Takashi Koshida. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-09.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and memory medium

Номер патента: US09601394B2. Автор: Teruhiko Kodama,Masashi Enomoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20210063882A1. Автор: Keiichi Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240304439A1. Автор: Koji Akiyama,Philippe Gaubert,Hajime Nakabayashi,Chihiro Tamura,Hisashi WARASHINA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US12045037B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Yamamoto,Shinji Shimizu,Hiroshi Horiguchi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20210063883A1. Автор: Keiichi Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20070065760A1. Автор: Yoshitake Ito. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-03-22.

Substrate processing method, thermal processing apparatus, and semiconductor manufacturing equipment

Номер патента: US20240186161A1. Автор: Sung Kyu Park,Sung Yong Lee,Myung Hwan Oh. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Substrate processing apparatus, data processing method, and data processing program

Номер патента: US20240272592A1. Автор: Yuki Kataoka,Takuro TSUTSUI,Yukiya SAITOU,Yuanchieh LING. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Prediction method and apparatus for substrate processing apparatus

Номер патента: US20070215574A1. Автор: Hideki Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-09-20.

Substrate processing method

Номер патента: US20110200949A1. Автор: Hiroshi Nakamura,Tadatoshi Tomita,Takafumi Niwa,Yuhei Kuwahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-08-18.

Substrate processing method

Номер патента: US8367308B2. Автор: Hiroshi Nakamura,Tadatoshi Tomita,Takafumi Niwa,Yuhei Kuwahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-02-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240128111A1. Автор: Tae Yong Kim,Byungin AN. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-18.

Substrate processing baffle, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240280906A1. Автор: Kuntack Lee,Ji Hwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate transferring unit, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20230062447A1. Автор: Kuntack Lee,Jihwan Park,Sangjine Park,Seungmin SHIN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-02.

Substrate processing method, substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20240288775A1. Автор: Soichiro Okada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20130340796A1. Автор: Itaru Kanno,Norihiro Ito,Yosuke Hachiya,Kotaro Ooishi,Hisashi Kawano,Jun Nogami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-12-26.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240274451A1. Автор: Masanobu Sato,Hiroshi Horiguchi,Saki Miyagawa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240274450A1. Автор: Masanobu Sato,Hiroshi Horiguchi,Saki Miyagawa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Information processing device, substrate processing device, and information processing method

Номер патента: US20240302817A1. Автор: Takamasa Nakamura,Hirofumi OTAKI,Sho ICHINOSE. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240231232A1. Автор: Tsuyoshi Watanabe,Yoji SAKATA,Masashi Tsuchiyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing method

Номер патента: US20210028199A1. Автор: Posung Pan. Владелец: Chongqing HKC Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-28.

Substrate processing apparatus, information processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20210020487A1. Автор: Yuichi Takenaga,Youngtai KANG. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-01-21.

Substrate inspection system, substrate inspection method and recording medium

Номер патента: US20200386538A1. Автор: Hiroshi Nakamura,Toyohisa Tsuruda,Yasuaki Noda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-12-10.

Substrate processing method

Номер патента: US12074176B2. Автор: Posung Pan. Владелец: Chongqing HKC Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Substrate processing apparatus and method for fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20240153811A1. Автор: Young Joon Kim,Sang Duk HWANG,Jai Hoon KANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240258107A1. Автор: kana Tahara,Masaki Inaba,Ryo Muramoto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing system, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20240355644A1. Автор: Naoki Shibata,Shinsuke TAKAKI,Yoji SAKATA,Tomoya ONITSUKA,Hiroki Tadatomo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Substrate processing method, program, computer-readable storage medium, and substrate processing system

Номер патента: US09690185B2. Автор: Hidetami Yaegashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Information transmission method, lightweight processing method and related communication apparatus

Номер патента: EP4220490A1. Автор: WEN Yan,Shuigen Yang,Xietian HUANG,Dongrun QIN,Chujie WANG. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-02.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: EP3904979A2. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-11-03.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: US20210333722A1. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-10-28.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: US20230161270A1. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-05-25.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: EP3904979A3. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-01-12.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: US20240288780A1. Автор: Takahiro Takiguchi,Kenta Kita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-08-29.

Method and apparatus for focused beam processing of recording media

Номер патента: US20050286391A1. Автор: Christopher Formato,Neil Deeman. Владелец: SEAGATE TECHNOLOGY LLC. Дата публикации: 2005-12-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12044973B2. Автор: Hiroki Sakurai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20220334491A1. Автор: Hiroki Sakurai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-10-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240329547A1. Автор: Shinichi Machidori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09966282B2. Автор: Kunihiro Miyazaki,Kenji Minami,Yuji Nagashima,Konosuke Hayashi. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

Rear projection display device and transmission screen

Номер патента: US20070222951A1. Автор: Takaaki Iwaki,Minoru Makida. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2007-09-27.

Substrate processing system and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240112933A1. Автор: Bongcheol Kim,Jeonghee Choi,Hyungwan Do. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240248417A1. Автор: Hiroyuki Iwaki,Shinsuke TAKAKI,Ryohei FUJISE,Yoji SAKATA,Kenichirou Matsuyama,Tomoya ONITSUKA,Hiroki Tadatomo,Shingo Katsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09703199B2. Автор: Takashi Taguchi,Toru Asano,Tsuyoshi Mitsuhashi,Yukio Toriyama. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-11.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240201602A1. Автор: Cheng Cheng,HUI Wang,Jun Wang,Jun Wu,Mark Lee,Andrew Jung,Bruce SOHN,Yy KIM. Владелец: Cleanchip Technologies Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate processing device and determination method

Номер патента: US11461136B2. Автор: Ken Watanabe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-10-04.

Machine learning platform for substrate processing

Номер патента: EP4405766A1. Автор: David Everton Norman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-31.

Substrate processing system and substrate transfer control method

Номер патента: US09646864B2. Автор: Daisuke Morisawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20240219837A1. Автор: Ki Won Han,Jun Ho Seo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Liquid processing apparatus and liquid processing method

Номер патента: US20180032092A1. Автор: Hiroshi Komiya,Keigo Satake,Kouji Ogura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-01.

Autoconfiguration of hardware components of various modules of a substrate processing tool

Номер патента: WO2021141665A1. Автор: Bridget Hill,Scott Baldwin,Raymond Chau,Rainer UNTERGUGGENBERGER,Thomas A. STUBBLEBINE. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2021-07-15.

Substrate processing system

Номер патента: US20200257269A1. Автор: Masanori Nakayama,Tsukasa Kamakura. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2020-08-13.

Substrate processing system, substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240014055A1. Автор: Kazuyoshi Yamamoto,Kazuhide Asai,Hidemoto HAYASHIHARA,Kayoko Yashiki,Kyohei Kita. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-01-11.

Substrate processing apparatus equipped with substrate scanner

Номер патента: US20210280444A1. Автор: Hsin-Hsu Lin,Ming-Tso Chen,Kao-Hua Wu,Ming-Che Lai,Hua-Wei Peng,Chia-He Cheng,Chao-Chi Lu,Kuo-Tsai Lo,Huan-Hsin Yeh. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2021-09-09.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20200168434A1. Автор: Masanori Nakayama,Teruo Yoshino,Koichiro Harada,Hiroto Igawa,Masaki Murobayashi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2020-05-28.

In-situ light detection methods and apparatus for ultraviolet semiconductor substrate processing

Номер патента: US20210223707A1. Автор: LIN Zhang,Shuran Sheng,Joseph C. Werner,Ralph Peter ANTONIO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-07-22.

Autoconfiguration of hardware components of various modules of a substrate processing tool

Номер патента: US12073224B2. Автор: Bridget Hill,Scott Baldwin,Raymond Chau,Rainer UNTERGUGGENBERGER,Thomas A. STUBBLEBINE. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Arc detection method and arc detection system

Номер патента: US20220268828A1. Автор: Hee-Woong SHIN,Hyeong-Shin Cho. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2022-08-25.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20190057890A1. Автор: Yoshitomo Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-02-21.

Systems and methods for monitoring of a controlled environment in a substrate processing system

Номер патента: US20240304477A1. Автор: Bert Jongbloed,Gido Van Der Star. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-09-12.

Position detection method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240320837A1. Автор: Hikaru Sato,Yuta Haga,Motoi Okada,Kei Sano,Motohiro Okaya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate processing apparatus, monitoring device of substrate processing apparatus, and monitoring method of substrate processing apparatus

Номер патента: US09927373B2. Автор: Motoi Okada,Shigeyuki IIDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Optimization program and substrate process system

Номер патента: US09804592B2. Автор: Kazuya Fukao. Владелец: Fuji Machine Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Control apparatus, substrate processing apparatus, and substrate processing system

Номер патента: US09772624B2. Автор: Takanori Saito,Yuichi Takenaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09766617B2. Автор: Keiji Osada,Junichi Ogawa,Youichi Nakayama,Hiroaki DEWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Substrate processing apparatus, method of operating substrate processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US09696262B2. Автор: Katsuhiro Morikawa,Ikuo Sunaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-07-04.

Method and device for automatic adjustment of mirror telescopes

Номер патента: RU2690723C1. Автор: Олег Александрович Ивлев,Евгений Алексеевич Гришин,Вячеслав Валерьевич Полунадеждин,Александра Дмитриевна Сергеева,Роман Александрович Фенин. Владелец: Российская Федерация, от имени которой выступает Министерство обороны Российской Федерации. Дата публикации: 2019-06-05.

Substrate processing apparatus and method thereof

Номер патента: US20240210836A1. Автор: Young Seop CHOI,Joo Sung Lee,Bok Kyu Lee,Je Myung Cha,Myung A Jeon. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing apparatus, substrate processing module, and semiconductor device fabrication method

Номер патента: US20210148760A1. Автор: Jongwoo SUN,Hyung Joo Lee,Kyeonghun KIM,Jeongil MUN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-05-20.

Substrate processing system and its control method

Номер патента: US20240055283A1. Автор: Kenji Ikeda,Tasuku Suzuki,Nobuyuki Kawabata,Jun Kitagawa,Masato Anzai,Taichi YOSHIOKA. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-02-15.

Method and apparatus of manufacturing magnetic recording medium

Номер патента: SG134223A1. Автор: Shimizu Takahiro,HARA Akihide. Владелец: Fuji Elec Device Tech Co Ltd. Дата публикации: 2007-08-29.

Method and apparatus of manufacturing magnetic recording medium

Номер патента: MY148831A. Автор: Takahiro Shimizu,Akihide Hara. Владелец: Fuji Electric Co Ltd. Дата публикации: 2013-06-14.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180164702A1. Автор: Naofumi Ohashi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-06-14.

Substrate processing apparatus and process control method thereof

Номер патента: US20230163003A1. Автор: Young Hwan YANG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-25.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230178396A1. Автор: Seok Heo,Young Ho Hwang,Eun Seok SEO,Jun O PARK,Jae Hong Lim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-08.

Substrate weight measurement apparatus, a substrate processing apparatus including the same, and a method of processing a substrate using the substrate processing apparatus

Номер патента: US20230384681A1. Автор: Kuntack Lee,Ji Hwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-30.

Substrate processing apparatus, and magnetic recording medium manufacturing method

Номер патента: US20100025363A1. Автор: Kazuto Yamanaka,Satoshi Hitomi,David Djulianto DJAYAPRAWIRA,Masahiro Shibamoto,Ayumu Miyoshi. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2010-02-04.

Method, computer program product and apparatus for scheduling maintenance actions in a substrate processing system

Номер патента: US20050033463A1. Автор: Wim Tel,Harm Rossing,Suzan Auer-Jongepier. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2005-02-10.

Substrate processing system

Номер патента: US20240355654A1. Автор: Jairo T. Moura,Robert T. Caveney. Владелец: Brooks Automation US LLC. Дата публикации: 2024-10-24.

Method, device, and non-transitory computer readable medium for determining timing of removing substrate from cassette in substrate processing device, and substrate processing device

Номер патента: US12119246B2. Автор: Hidetatsu Isokawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-10-15.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09847239B2. Автор: Yuichiro Inatomi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-19.

Electronic message processing method and server used therein

Номер патента: RU2610584C2. Автор: Егор Владимирович Ганин,Анна Александровна Демьяненко. Владелец: Общество С Ограниченной Ответственностью "Яндекс". Дата публикации: 2017-02-13.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US11915930B2. Автор: Masaki Inaba,Naoko ARIMA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240184208A1. Автор: Hyun Min Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Substrate processing device and method for measuring process gas temperature and concentration

Номер патента: US20240241042A1. Автор: Yuji Obata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: US20240213059A1. Автор: Gyeong Won SONG,Hee Man AHN,Sung Hun Eom,Jae Seung YU. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing management system

Номер патента: EP3661343A1. Автор: Toshiya Suzuki. Владелец: Fuji Corp. Дата публикации: 2020-06-03.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20230027653A1. Автор: Kazuyoshi Yamamoto,Kazuhide Asai,Hidemoto HAYASHIHARA,Kayoko Yashiki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-01-26.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240319707A1. Автор: Shinichiro Mori,Hiroyuki Mitsui,Yuji Yamaoka,Hiroshi Ekko,Kyo TAKATA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and program

Номер патента: EP4435537A1. Автор: Shinichiro Mori,Hiroyuki Mitsui,Yuji Yamaoka,Hiroshi Ekko,Kyo TAKATA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-25.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240321624A1. Автор: Kenichiro Saito,Satoshi Ushida. Владелец: Daikin Finetech Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate processing apparatus, processing apparatus, and method for manufacturing device

Номер патента: US09651868B2. Автор: Masaki Kato,Tohru Kiuchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Substrate processing apparatus and method for detecting an abnormality of an ozone gas concentration

Номер патента: US09618493B2. Автор: Masaki Kondo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20240030049A1. Автор: Yukinobu OTSUKA,Shinsuke TAKAKI,Yasuhiro Kuga,Koji Ushimaru,Ryohei FUJISE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20220415643A1. Автор: Anton Koriakin,Kuntack Lee,Hae-Won Choi,Jihoon Jeong,Young-Hoo Kim,Seohyun Kim,Keonyoung KIM,Sukhoon KIM,Sangjine Park PARK. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-29.

Substrate processing system, substrate processing method, and control program

Номер патента: US20220148898A1. Автор: Minoru Nagasawa,Kunio Takano,Toshiharu Hirata,Takafumi Matsuhashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-05-12.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240038533A1. Автор: Makoto Muramatsu,Kenichi Ueda,Keisuke Yoshida,Arnaud Alain Jean Dauendorffer,Tomoya ONITSUKA,Hiroki Tadatomo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US11798821B2. Автор: Yukinobu OTSUKA,Shinsuke TAKAKI,Yasuhiro Kuga,Koji Ushimaru,Ryohei FUJISE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-24.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240142886A1. Автор: Dongjin Lee,Inho Choi,Injae Lee,Dohyun Jung,SungHyup KIM,Jeonggil KIM,Jonggu LEE,Dongsik JEONG,Daegeun YOON,Yebin Nam,Sungyong Bae,Euishin Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-02.

Substrate processing apparatus and method of processing substrate

Номер патента: US11733612B2. Автор: Kazuya Iwata,Norihisa Koga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-22.

Substrate processing management system

Номер патента: US20200375076A1. Автор: Toshiya Suzuki. Владелец: Fuji Corp. Дата публикации: 2020-11-26.

Substrate processing in a process chamber for semiconductor manufacturing and apparatus management controller with error analysis

Номер патента: US11086304B2. Автор: Kazuyoshi Yamamoto,Hiroyuki Iwakura,Kazuhide Asai,Hidemoto HAYASHIHARA,Takayuki KAWAGISHI,Kayoko Yashiki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2021-08-10.

Methods and systems for cleaning process sequence management

Номер патента: EP4430658A1. Автор: Chongyang C. Wang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-18.

Adjustment apparatus for adjusting processing units provided in a substrate processing apparatus, and a substrate processing apparatus having such an adjustment apparatus

Номер патента: US09915938B2. Автор: Koichi Takeda,Takamasa Nakamura. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US09606454B2. Автор: Takashi Taguchi,Joji KUWAHARA. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-28.

Substrate processing system, substrate processing method, and map creating device

Номер патента: US20230253224A1. Автор: Takeshi Akimoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and recording medium

Номер патента: US20240004301A1. Автор: Yoshitomo Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20190214277A1. Автор: Hideaki Hirabayashi,Yoshihiro Ogawa,Yoshihiro Uozumi,Yuji Nagashima,Shinsuke Kimura,Hiroyasu Iimori,Tatsuhiko Koide. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-07-11.

Substrate processing system, substrate processing method, and controller

Номер патента: US11823877B2. Автор: Satoshi Gomi,Koichi Miyashita,Makoto Horikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220181171A1. Автор: Hideaki Hirabayashi,Yoshihiro Ogawa,Yoshihiro Uozumi,Yuji Nagashima,Shinsuke Kimura,Hiroyasu Iimori,Tatsuhiko Koide. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2022-06-09.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US20160274469A1. Автор: Naoki Tajima,Koji Motoi,Terutaka YAMAOKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-22.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US11921428B2. Автор: Hideaki Hirabayashi,Yoshihiro Ogawa,Yoshihiro Uozumi,Yuji Nagashima,Shinsuke Kimura,Hiroyasu Iimori,Tatsuhiko Koide. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-03-05.

Sacrificial film forming method, substrate treatment method, and substrate treatment device

Номер патента: US20190258166A1. Автор: Masayuki Otsuji. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-08-22.

Substrate processing apparatus, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240212989A1. Автор: Shin Hiyama,Hidehiro Yanai,Toru Kakuda,Toshiya Shimada,Tomohiro Amano. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240194517A1. Автор: Jong Gun Lee,Minyoung Kim,Jumi Lee,Jaeoh Bang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240176256A1. Автор: Kun-Lin Chou. Владелец: Eclat Forever Machinery Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Semiconductor substrate processing apparatus and the method thereof

Номер патента: US20230203654A1. Автор: Todd Dunn,Taku Omori,Cheuk Li,Aadil Vora,Paridhi GUPTA. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-06-29.

Methods, systems, and apparatus for conducting a calibration operation for a plurality of mass flow controllers (mfcs) of a substrate processing system

Номер патента: US20230366715A1. Автор: Zhiyuan Ye,Ala Moradian,Errol Antonio C. Sanchez,Patricia M. Liu,Zuoming Zhu,Bindusagar MARATH SANKARATHODI,Jyothi RAJEEVAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-16.

Management device for substrate processing system and management method for substrate processing system

Номер патента: US20230205174A1. Автор: Man Gyu LEE. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Recipe creation method or apparatus utilizing a series of steps according to a target recipe file for semiconductor manufacturing or substrating processing

Номер патента: US12066815B2. Автор: Takatoshi Seki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-08-20.

Methods, systems, and apparatus for conducting a calibration operation for a plurality of mass flow controllers (mfcs) of a substrate processing system

Номер патента: WO2022220900A1. Автор: Zhiyuan Ye,Ala Moradian,Errol Antonio C. Sanchez,Patricia M. Liu,Zuoming Zhu,Bindusagar MARATH SANKARATHODI,Jyothi RAJEEVAN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-10-20.

Substrate processing apparatus, program, storage medium and conditioning necessity determining method

Номер патента: US20090143890A1. Автор: Daisuke Morisawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-06-04.

Substrate processing apparatus, program, storage medium and conditioning necessity determining method

Номер патента: US8255072B2. Автор: Daisuke Morisawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-08-28.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20240310739A1. Автор: Jaehong Lee,Ho Young Kim,Sunghwan Kim,Kyoungwhan OH,Jaekyung PARK,Yohan CHOE. Владелец: SEOUL NATIONAL UNIVERSITY R&DB FOUNDATION. Дата публикации: 2024-09-19.

Temperature measuring method, substrate processing system and component to be provided in substrate processing apparatus of the substrate processing system

Номер патента: US09952032B2. Автор: Chishio Koshimizu,Tatsuo Matsudo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09933702B2. Автор: Jiro Higashijima,Nobuhiro Ogata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-03.

Liquid treatment method, substrate processing apparatus and non-transitory storage medium

Номер патента: US09766543B2. Автор: Izumi Hasegawa,Yuichiro KUNUGIMOTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Substrate processing system, substrate processing apparatus and method for accumulating data for substrate processing apparatus

Номер патента: US09720407B2. Автор: Yoshitaka Koyama,Hiroyuki Iwakura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-08-01.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US5665200A. Автор: Kiyomi Sonobe,Takashi Takekuma,Akihiro Fujimoto. Владелец: Tokyo Electron Kyushu Ltd. Дата публикации: 1997-09-09.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and recording medium

Номер патента: US20240027923A1. Автор: Hisashi Genjima,Shinichiro KAWAKAMI,Tomoya ONITSUKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Conveyance method and processing system

Номер патента: US20230411194A1. Автор: Naoyuki Sato,Shigeru Kubota,Keisuke Hiraide,Tatsuya Mukoyama,Wataru Nakagomi,Shotaro MURAKAWA,Fumitaka SENTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US11822318B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Yamamoto,Shinji Shimizu,Hiroshi Horiguchi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240047223A1. Автор: Shinya Ishikawa,Sho Kumakura,Kenta Ono. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US20230418267A1. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Yamamoto,Shinji Shimizu,Hiroshi Horiguchi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20230253219A1. Автор: Hideki Kajiwara,Yuji Sakai,Kazuhiro Matsuura,Yuichiro KUNUGIMOTO,Akihiro Toyozawa,Shinichi MIZUSHINO,Hokuto SHIGEMOTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium thereof

Номер патента: US20240087926A1. Автор: Youngtai KANG. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US11789365B2. Автор: Hideaki Sakurai,Noriko Sakurai,Takeharu Motokawa,Ryu Komatsu. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-10-17.

Substrate processing condition setting method, substrate processing method, substrate processing condition setting system, and substrate processing system

Номер патента: US20230268208A1. Автор: Kensuke Shinohara,Sei Negoro,Masahiro TOKUYAMA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-24.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20210080831A1. Автор: Hideaki Sakurai,Noriko Sakurai,Takeharu Motokawa,Ryu Komatsu. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2021-03-18.

Schedule creation method, schedule creating device, substrate processing apparatus, substrate processing system, and storage medium

Номер патента: US20230041766A1. Автор: Jun Kawai,Takashi Kasahara,Keisuke Inugai. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-09.

Three-dimensional point cloud data processing method and apparatus, and storage medium and electronic apparatus

Номер патента: EP4276764A1. Автор: Cheng Huang,Yaxian BAI. Владелец: ZTE Corp. Дата публикации: 2023-11-15.

Method and apparatus for immediate and reaction-free transmission of log messages

Номер патента: US20200322236A1. Автор: Martin Wimmer,Matthias Seifert,Rainer Falk. Владелец: Siemens Mobility GmbH. Дата публикации: 2020-10-08.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4333035A1. Автор: Jun Komori. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-06.

Guardbands in substrate processing systems

Номер патента: US20230376020A1. Автор: Fei Li,James Robert Moyne,Jimmy Iskandar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-23.

Guardbands in substrate processing systems

Номер патента: US20230376374A1. Автор: Fei Li,James Robert Moyne,Jimmy Iskandar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-23.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4333036A1. Автор: Jun Komori. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-06.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240079251A1. Автор: Jun Komori. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-07.

Substrate processing apparatus and monitoring method

Номер патента: US11765879B2. Автор: Junnosuke Taguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20190094833A1. Автор: Satoshi Aizawa,Hiroto IWAKI. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2019-03-28.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240339334A1. Автор: Kuntack Lee,Jihoon Jeong,Sangjine Park,Seohyun Kim,Sukhoon KIM,Younghoo KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-10.

Disturbance compensation for substrate processing recipes

Номер патента: US12130606B2. Автор: Paul Z. Wirth,Atilla KILICARSLAN,Raechel Chu-Hui Tan,Brooke Elise Montgomery. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-29.

Data acquisition method of substrate processing apparatus and sensing substrate

Номер патента: US09915677B2. Автор: Hikaru AKADA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-13.

Schedule creation program generating method, schedule creation program generating apparatus, schedule creating apparatus, recording medium, substrate processing apparatus, and substrate processing system

Номер патента: US20240329624A1. Автор: Jun Kawai,Takashi Kasahara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Vehicle network transmission method and transmission system

Номер патента: US09729486B2. Автор: Po-Chun Kang,Tzu-Hsiang Su,Kuo-Huang HSU. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2017-08-08.

Substrate processing method, substrate processing apparatus, and recipe selection method

Номер патента: US11921426B2. Автор: Song Zhang,Yukifumi Yoshida,Katsuya Akiyama. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

Substrate processing apparatus, information processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US11804395B2. Автор: Yuichi Takenaga,Youngtai KANG. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-31.

Substrate processing equipment, plasma generation equipment, semiconductor device manufacturing method, plasma generation method and program

Номер патента: JP7342138B2. Автор: 大介原,剛竹田. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-09-11.

Communication processing system, communication processing method, communication processing apparatus, communication managing apparatus, and control methods and control programs of communication processing apparatus and communication managing apparatus

Номер патента: US20200304341A1. Автор: Takeshi Hayashi. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2020-09-24.

COMMUNICATION PROCESSING SYSTEM, COMMUNICATION PROCESSING METHOD, COMMUNICATION PROCESSING APPARATUS, COMMUNICATION MANAGING APPARATUS, AND CONTROL METHODS AND CONTROL PROGRAMS OF COMMUNICATION PROCESSING APPARATUS AND COMMUNICATION MANAGING APPARATUS

Номер патента: US20200304341A1. Автор: Hayashi Takeshi. Владелец: NEC Corporation. Дата публикации: 2020-09-24.

A kind of processing method of the black silicon silicon chip of wet method and the preparation method of the black silicon silicon chip of wet method

Номер патента: CN108807568A. Автор: 金浩,张昕宇,金井升,张艳鹤. Владелец: Jinko Solar Co Ltd. Дата публикации: 2018-11-13.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING METHOD, INFORMATION PROCESSING PROGRAM, DISPLAY CONTROL DEVICE, DISPLAY CONTROL METHOD, AND DISPLAY CONTROL PROGRAM

Номер патента: US20200260694A1. Автор: NAKATSUGAWA Haruyasu,KANEKO Yasuhisa,ISHIKAWA Shigetoshi. Владелец: . Дата публикации: 2020-08-20.

The processing method of water-repellent/oil-repellent composition, its manufacture method and article

Номер патента: CN102395644B. Автор: 岛田三奈子,大森勇一,音泽信行,杉山和典. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2016-05-04.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09768042B2. Автор: Ayumi Higuchi,Asuka WAKITA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20120160805A1. Автор: Mitsuo Suzuki,Kiyoshi Ehara. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2012-06-28.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20110065288A1. Автор: Toru Harada,Masayoshi Minami. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2011-03-17.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: EP4231785A1. Автор: Kiyoshi Maeda,Yasuhiko Saito,Atsutoshi Inokuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-23.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: EP4428898A2. Автор: Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-11.

Organic solvent supplying apparatus, substrate processing method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240203726A1. Автор: Ki Bong Kim,Yong Hyun Choi,Myung Seok Cha,Ju Yeon SONG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220285166A1. Автор: Takumi Honda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220251709A1. Автор: Takafumi Niwa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-11.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12065746B2. Автор: Masaki Inaba,Yasutoshi Okuno,Akihisa Iwasaki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220189779A1. Автор: Tsuyoshi Takahashi,Yu Nunoshige. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-06-16.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240304452A1. Автор: Hiroshi Marumoto,Tsunemoto OGATA,Suguen Lee. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and computer-readable medium storing program

Номер патента: US09859109B2. Автор: Hideaki Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Substrate processing method, substrate processing apparatus, and computer-readable storage medium stored with substrate processing program

Номер патента: US09627192B2. Автор: Naoyuki Okamura,Kazuki Kosai,Fumihiro Kamimura,Kazuhiro Teraoka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and substrate

Номер патента: US20240162052A1. Автор: Nobuhiko MOURI,Takanori Obaru. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220384151A1. Автор: Shinya Ishikawa,Sho Kumakura,Yuta NAKANE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Package substrate processing method and protective tape

Номер патента: US20190109094A1. Автор: Youngsuk Kim,Byeongdeck Jang. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2019-04-11.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240290609A1. Автор: Tadahiro Ishizaka,Takashi Sakuma,Yoshiyuki Hanada,Kunihiro Tada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20190206695A1. Автор: Kazuya Koyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-07-04.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: US20220068642A1. Автор: Yoshihisa Matsubara,Daisuke Suzuki,Koji Kagawa,Kenji Sekiguchi,Yoshihiro Takezawa,Syuhei YONEZAWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Substrate processing apparatus, mixing method, and substrate processing method

Номер патента: US12068175B2. Автор: Hiroshi Yoshida,Yoshinori Nishiwaki,Takao Inada,Jun Nonaka,Kouji Ogura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Substrate treatment method and substrate treatment device

Номер патента: US09991137B2. Автор: Tatsuya Fujii. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and computer-readable storage medium recording therein substrate processing program

Номер патента: US09805957B2. Автор: Hiroyuki Suzuki,Yuki Yoshida,Satoru Tanaka,Kazuyoshi Shinohara,Yosuke Kawabuchi,Kotaro Oishi,Hisashi Kawano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12033864B2. Автор: Hiromi Miyashita,Rei Shoji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Substrate processing device, substrate processing method, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20220406626A1. Автор: Hiroshi Fujita,Tomohiko Sugita,Tatsuhiko Koide. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2022-12-22.

Substrate processing method and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20060289431A1. Автор: Shinichi Ito,Tsuyoshi Shibata,Kei Hayasaki,Koutarou Sho. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-12-28.

Processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20190393031A1. Автор: Toru Hisamatsu,Masahiro Tabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-26.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: EP4421850A1. Автор: Takayoshi Tanaka,Tomoya Tanaka,Masayuki Otsuji,Akihisa Iwasaki,Ryuta Tsukahara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-28.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20150243536A1. Автор: Yoshifumi Okada. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2015-08-27.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US10186418B2. Автор: Yoshifumi Okada. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-01-22.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230057538A1. Автор: Chul-Joo Hwang,Duck Ho Kim,Il Hyong CHO. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-23.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12054824B2. Автор: Nobuhiro Takahashi,Kiyotaka Horikawa,Junichiro Matsunaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240096659A1. Автор: Takashi Watanabe,Jun Takagi,Hiroyasu Iimori,Fuyuma ITO,Yuya Akeboshi,Ai MORI,Yosuke Maruyama. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230207376A1. Автор: Kiyoshi Mori,Haruhiko Furuya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12054828B2. Автор: Kohei Fukushima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240274433A1. Автор: Takayuki Komiya,Tsuyoshi Tsunatori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing apparatus, semiconductor device manufacturing method, and substrate processing method

Номер патента: US20240363309A1. Автор: Naofumi Ohashi,Tsuyoshi Takeda,Teruo Yoshino. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-10-31.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US09953840B2. Автор: Mitsunori Nakamori,Hiromi Kiyose,Kazuyuki Mitsuoka,Hiroshi Marumoto,Hisashi Kawano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Substrate-processing method and substrate-processing apparatus

Номер патента: US20240234162A9. Автор: Rui KANEMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230395390A1. Автор: Yoshihide Kihara,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240242972A1. Автор: Kei Suzuki,Masaki Inaba. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US9337070B2. Автор: Hideaki Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-05-10.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20240282578A1. Автор: Takayuki Katsunuma,Masanobu Honda,Yoshihide Kihara,Toru Hisamatsu,Shinya Ishikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: EP1801860A1. Автор: Takehiko c/o Tokyo Electron AT Limited ORII,Kenji c/o Tokyo Electron AT Limited SEKIGUCHI,Noritaka c/o Tokyo Electron Kyushu Ltd. UCHIDA,Satoru c/o Tokyo Electron Kyushu Limited TANAKA,Hiroki c/o Tokyo Electron AT Limited OHNO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-06-27.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20240355647A1. Автор: Takashi Uno,Naoyuki Okamura,Keisuke Sakaguchi,Katsufumi Matsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and recording medium

Номер патента: US09852933B2. Автор: Norihiro Ito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-26.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210366721A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Masaru Izawa,Nobuya MIYOSHI,Kazunori Shinoda,Yutaka Kouzuma. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-11-25.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20200243350A1. Автор: Hiroshi Abe,Manabu Okutani,Naohiko YOSHIHARA,Katsuei HIGASHI,Tsutomu Osuka. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-30.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: US20240096652A1. Автор: Kaori Umezawa,Kosuke TAKAI,Mana TANABE. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Method of Manufacturing Semiconductor Device, Substrate Processing Method and Apparatus, Non-Transitory Computer Readable Recording Medium, and Semiconductor Device

Номер патента: US20140084389A1. Автор: Arito Ogawa. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2014-03-27.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230085449A1. Автор: Takafumi Niwa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: EP4418307A1. Автор: Keisuke Sakaguchi,Hiroshi Marumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-21.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20190153602A1. Автор: Shinichiro Misaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-05-23.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240071772A1. Автор: Masanobu Honda,Shinya Ishikawa,Kenta Ono. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-29.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09970109B2. Автор: Jun Yoshikawa,Motoshi Fukudome. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09929008B2. Автор: Yu Sasaki,Kosuke Takahashi,Masahiko Kaminishi,Yu WAMURA,Fumiaki Hayase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09865452B2. Автор: Keisuke Egashira,Kouzou Tachibana,Kotaro Oishi,Hideaki Udou. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Plasma processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230402256A1. Автор: Takeshi Kobayashi,Jun Sato,Takashi Chiba. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Surface treatment method and substrate treatment device

Номер патента: US20240191344A1. Автор: Yumiko Kawano,Hiroki Murakami,Shuji Azumo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20180197748A1. Автор: Kazuaki Nishimura,Koji Takeya,Jun Lin. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-07-12.

Film forming method and substrate processing device

Номер патента: US20240274436A1. Автор: Keiichi Nagasaka,Toru Kitada,Shota ISHIBASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing tool with integrated metrology and method of using

Номер патента: US20190295870A1. Автор: Robert Clark,Kandabara Tapily. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-09-26.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12125710B2. Автор: Sho Kumakura,Yusuke Takino. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US09790597B2. Автор: Kenichi Yamaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-17.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US8034720B2. Автор: Eiichi Nishimura,Jun Yamawaku,Chie Kato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-10-11.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium recording substrate processing program

Номер патента: US09824861B2. Автор: Junya Sato,Yoshikazu Ishikawa,Toshihiko Hamada,Toshiyuki Kobayashi,Masahiro Numakura,Shouichi Otake. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-21.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20240087918A1. Автор: Katsuhiro Sato,Hiroshi Fujita,Tomohiko Sugita,Tatsuhiko Koide. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-03-14.

Substrate processing method, method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230091850A1. Автор: Yuji Takebayashi,Shota Tanaka,Yusaku OKAJIMA,Hiroki HATTA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-23.

Substrate processing method

Номер патента: SG177250A1. Автор: Shinya Nakamura,Yoshinori Fujii,Hideto Nagashima. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2012-02-28.

Substrate processing method

Номер патента: US20240234189A1. Автор: Tomohiro Takahashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Semiconductor substrate processing method

Номер патента: US20010012649A1. Автор: Yasuo Yamaguchi,Toshiaki Iwamatsu,Yasuhiro Kimura,Yuuichi Hirano,Hideki Naruoka,Yoshiko Yoshida. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2001-08-09.

Semiconductor substrate processing method

Номер патента: US20030148595A1. Автор: Yasuo Yamaguchi,Toshiaki Iwamatsu,Yasuhiro Kimura,Yuuichi Hirano,Hideki Naruoka,Yoshiko Yoshida. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2003-08-07.

Substrate processing method and apparatus

Номер патента: US11189461B2. Автор: Yoshinori Yamamoto,Naoki Takahashi,Hideomi Hosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-11-30.

Substrate processing method, substrate processing device, and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US20240120177A1. Автор: Kyung-Sun Kim,Seung Bo SHIM,Tae-Hwa Kim,Ji Mo LEE,Jae Bin KIM,Dong Hyeon Na,Myeong Soo SHIN,Woong Jin CHEON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-11.

Method and system for forming copper thin film

Номер патента: US20020052109A1. Автор: Atsushi Sekiguchi,Akiko Kobayashi,Toshiaki Sasaki,Susumu Akiyama,Minjuan Zhang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-05-02.

Substrate processing method and apparatus

Номер патента: US20200294767A1. Автор: Yoshinori Yamamoto,Naoki Takahashi,Hideomi Hosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-09-17.

Method and apparatus for on the fly positioning and continuous monitoring of a substrate in a chamber

Номер патента: US20080077271A1. Автор: Satish Sundar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2008-03-27.

Detection system, detection method, and storage medium

Номер патента: US20230187247A1. Автор: Junnosuke Maki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-15.

Bevel peeling and defectivity solution for substrate processing

Номер патента: US20200365404A1. Автор: Abdul Aziz KHAJA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-11-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230085592A1. Автор: Jong Sik Kim,Ji Hun Lee. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US09601357B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Miyagi,Mitsukazu Takahashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20240249964A1. Автор: Seiji Nakashima,Shinsuke TAKAKI,Akihiro TERAMOTO,Ryo SHOBU. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing tool with integrated metrology and method of using

Номер патента: US11769677B2. Автор: Robert Clark,Kandabara Tapily. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Substrate processing method

Номер патента: US20230235457A1. Автор: Ji Hyun Cho,Hong Min Yoon,Jae Sung Roh,Chul Joo Hwang,Cheong SON,Se Whan JIN,Hong Soo YOON,Youn Joo JANG. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-27.

Modulation of oxidation profile for substrate processing

Номер патента: US12087573B2. Автор: Bart J. van Schravendijk,Gerald Joseph Brady,Kevin M. McLaughlin,Shriram Vasant BAPAT,Pratik Sankhe. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US12106941B2. Автор: Chul-Joo Hwang. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, non-transitory computer-readable recording medium and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12106998B2. Автор: Naofumi Ohashi,Masanori Nakayama,Teruo Yoshino. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: EP4456119A1. Автор: Ju Young Park,So Jin Jeong,Seong Min Nam,Da In Kim. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-10-30.

Substrate processing apparatus including exhaust ports and substrate processing method

Номер патента: US09875895B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang,Sung-Tae Je. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12033872B2. Автор: Hiroshi Yoshida,Takashi Nagai,Koji Ogura,Takumi Honda,Jun Nonaka,Keita Hirase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Electrostatic chuck, vacuum processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US12014946B2. Автор: Genji Sakata,Hidekazu Yokoo. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2024-06-18.

Substrate Processing Apparatus, Method of Manufacturing Semiconductor Device and Substrate Processing Method

Номер патента: US20220090260A1. Автор: Hirohisa Yamazaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-03-24.

Substrate Processing Apparatus, Substrate Processing Method, Method of Manufacturing Semiconductor Device and Non-transitory Computer-readable Recording Medium

Номер патента: US20230081219A1. Автор: Hirohisa Yamazaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate processing method

Номер патента: US20110237083A1. Автор: Akira Nakagawa,Yoshinobu Hayakawa,Yusuke Okazaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-09-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20130084709A1. Автор: Masahiro Miyagi,Kazunori Fujikawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-04-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240240321A1. Автор: Jin An JUNG,Da Un Jung,In Woo BACK. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Method and system for forming copper thin film

Номер патента: US6726954B2. Автор: Atsushi Sekiguchi,Akiko Kobayashi,Toshiaki Sasaki,Susumu Akiyama,Minjuan Zhang. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 2004-04-27.

Method and system for maintaining an edge exclusion shield

Номер патента: WO2014075729A1. Автор: Ralph Lindenberg,Erkan Koparal. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-05-22.

Substrate processing method

Номер патента: US20070004057A1. Автор: Toshio Kaneko,Toru Nishiwaki. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-01-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240301555A1. Автор: Tatsuya Yamaguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09997382B2. Автор: Kenji Kobayashi,Kazuhide Saito,Kenji Izumoto,Akihisa Iwasaki,Takemitsu Miura. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09859136B2. Автор: Yoshifumi Amano,Yoichi Tokunaga,Hiromitsu Namba,. Fitrianto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Substrate processing device and substrate processing method for carrying out chemical treatment for substrate

Номер патента: US09786527B2. Автор: Nobuyuki Shibayama. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-10.

Method for processing substrate and substrate processing apparatus

Номер патента: US09768012B2. Автор: Masanori Sakai,Tsutomu Kato,Yuji Takebayashi,Hirohisa Yamazaki. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-09-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09721815B2. Автор: Hiroaki Takahashi,Kentaro Tokuri. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09640382B2. Автор: Kenichiro Arai,Masahiro Miyagi,Toru Endo,Hirofumi MASUHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-02.

Method and system for maintaining an edge exclusion shield

Номер патента: US09640372B2. Автор: Ralph Lindenberg,Erkan Koparal. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-05-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240234170A9. Автор: Kenji Fukushima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240234173A1. Автор: Hiroki Koyama. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing method

Номер патента: US20230335399A1. Автор: Sungha CHOI,Kihun KIM,HongSuk Kim,SangHeon Yong,JuHyuk Park. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-10-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240282598A1. Автор: Hiroshi Marumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing method, substrate processing system and computer-readable recording medium

Номер патента: US20240290607A1. Автор: Takashi Uno,Satoshi Okawa,Naoyuki Okamura,Katsufumi Matsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Method and devices for qualifying substrate-processing production processes

Номер патента: AU2002351691A1. Автор: Bernd Muller,Ulrich Wittreich,Hartmut Meier. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2003-06-10.

Ignition control method, film formation method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240312763A1. Автор: Takeshi Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09972515B2. Автор: Kenichiro Arai,Masahiro Miyagi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09964358B2. Автор: Takashi Miyamoto,Osamu Yamazaki,Konosuke Hayashi,Jun Matsushita. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

Substrate processing method, substrate processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US09881784B2. Автор: Kazuyuki Mitsuoka,Takayuki Toshima,Takehiko Orii,Hiroki Ohno,Keiji Tanouchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09870914B2. Автор: Yuki Yoshida,Koji Kagawa,Meitoku Aibara,Hisashi Kawano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Electromagnetic dipole for plasma density tuning in a substrate processing chamber

Номер патента: US09779953B2. Автор: Joseph F. Aubuchon,Tza-Jing Gung,Samer Banna. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240234100A9. Автор: Je Ho Kim,Tae Suk Jung. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Silicon carbide substrate or substrate processing method

Номер патента: US20240055487A1. Автор: Tien-Hsi Lee,Wei-Chi Huang,Yu-Tang Lin,Jun-Huang Wu,Yu-Sheng Chiou,Shu-Cheng Li. Владелец: National Central University. Дата публикации: 2024-02-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230307262A1. Автор: Koichi Higuchi,Konosuke Hayashi. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing method

Номер патента: US20240150890A1. Автор: Atsuki Fukazawa,Hiroki Maehara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Substrate Processing Apparatus and Substrate Processing Method

Номер патента: US20180037995A1. Автор: Takayuki Karakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-08.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12057326B2. Автор: Hiroaki Inadomi,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Methods and apparatus for minimizing substrate backside damage

Номер патента: US11756819B2. Автор: Yoichi Suzuki,Prashant Kumar KULSHRESHTHA,Abdul Aziz KHAJA,Sarah Michelle Bobek,Liangfa Hu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240309506A1. Автор: Sung Hwan Lee,Kun Woo Park,Woo Young Park,Jae Jin Han. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240312849A1. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12094694B2. Автор: Sumi Tanaka,Tamihiro Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240339339A1. Автор: Hiroaki Inadomi,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240332041A1. Автор: Yoshifumi Amano,Kazuhiro Aiura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09865454B2. Автор: Hitoshi Kato,Jun Sato,Masato Yonezawa,Hiroyuki Kikuchi,Shigehiro Miura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Substrate processing tube, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method using the apparatus

Номер патента: US20240011154A1. Автор: Jaehyung Lee,Hyunju Lee,Hyouncheol Kim,Byunghwan Kong,ByeongHoon Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-01-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20180033618A1. Автор: Kazuo Yabe,Jun Ogawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-01.

Method and apparatus for dampening pressure fluctuations in a fluid delivery system

Номер патента: WO2009152103A3. Автор: Mariusch Gregor,John William Lane,Emir Vukotic. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2010-03-11.

Substrate processing method

Номер патента: US11264236B2. Автор: Takayuki Katsunuma,Masanobu Honda,Yoshihide Kihara,Toru Hisamatsu,Shinya Ishikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-01.

Centering Device, Centering Method and Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20240258148A1. Автор: Itsuki Kajino,Shuhei NEMOTO. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Qfn substrate processing method

Номер патента: MY147723A. Автор: Kazuma Sekiya. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2013-01-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: EP4432335A2. Автор: Masafumi Suzuki,Shigehiro Goto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-18.

Substrate support plate, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method

Номер патента: US20240363331A1. Автор: Seunghwan Lee,DaeYoun Kim,Jaehyun Kim. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-10-31.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US09607865B2. Автор: Masahiro Abe,Yuji Nagashima,Masaaki Furuya,Takashi Ootagaki,Konosuke Hayashi,Atsushi Kinase. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Substrate processing method

Номер патента: US20100048026A1. Автор: Takashi Sone,Ellchl Nishimura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-02-25.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240178047A1. Автор: Yungi Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230116739A1. Автор: Sung-Yeol Kim,Sung Yong Lim,Woong Jin CHEON,Sung Hwi Cho,Mee Hyun LIM,Seong Ha JEONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-04-13.

Method and apparatus for controlling a deposition process

Номер патента: WO2004048639A3. Автор: Gavin Charles Rider,Jeffrey James Harris,David Charles Poole. Владелец: David Charles Poole. Дата публикации: 2004-11-18.

Methods and apparatus for calibration of substrate processing chamber placement via imaging

Номер патента: US20240258141A1. Автор: TAO Sheng,Zhepeng Cong,NIMROD SMITH,Vinh N. TRAN,Khokan C. PAUL,Awse MA'AYA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230257877A1. Автор: Yasushi Takeuchi,Manabu Honma,Junnosuke Taguchi,Ibuki HAYASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240242977A1. Автор: Mikio Nakashima,Takahiro Hayashida,Shota Umezaki,Takafumi YASUNAGA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Package substrate processing method

Номер патента: US12080564B2. Автор: Kazuma Sekiya. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2024-09-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20170278726A1. Автор: Katsuhiko Miya. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-28.

Methods and apparatus for calibration of substrate processing chamber placement via imaging

Номер патента: WO2024158630A1. Автор: TAO Sheng,Zhepeng Cong,NIMROD SMITH,Vinh N. TRAN,Khokan C. PAUL,Awse MA'AYA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-02.

Substrate processing method

Номер патента: US20240254619A1. Автор: SeungJu Chun. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-08-01.

Conveying method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09899245B2. Автор: Hiroshi Kikuchi,Eiki Fujii. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Substrate processing method

Номер патента: US20240376625A1. Автор: HUI Wang,Jian Wang,Zhaowei Jia,Meng Wu,Chenhua LU,Quan Cao. Владелец: ACM Research Shanghai Inc. Дата публикации: 2024-11-14.

Substrate processing method

Номер патента: US20240258102A1. Автор: Sungha CHOI,Kihun KIM,HongSuk Kim,Jihye YANG,SangHeon Yong,JuHyuk Park. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20080075640A1. Автор: Teruo Yoshino,Tomohiko Takeda,Nobuo Ishimaru,Katsuyoshi Hamano,Ken Sugihara. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2008-03-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20090192652A1. Автор: Tomoyuki Yamada. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2009-07-30.

Etching processing method

Номер патента: US20150170933A1. Автор: Shin Okamoto,Fumio Yamazaki,Takashi Nishijima,Hiromasa Mochiki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-06-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240282557A1. Автор: Jinuk Park,Euijin Park,Dongyup Choo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240266144A1. Автор: Kyung-Sun Kim,Jaewon Jeong,Naohiko Okunishi,SeungBo SHIM,Kyeongtea BANG,Kihwan Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-08.

Method and system for monitoring substrate processing apparatus

Номер патента: US12068140B2. Автор: Sejin Oh,Jongwoo SUN,Taemin EARMME,Eunwoo LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-20.

Method and system for monitoring substrate processing apparatus

Номер патента: US20240371611A1. Автор: Sejin Oh,Jongwoo SUN,Taemin EARMME,Eunwoo LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-11-07.

Substrate processing unit, substrate transfer method, substrate cleansing process unit, and substrate plating apparatus

Номер патента: EP1920458A1. Автор: Kenichi Suzuki,Masahiko Sekimoto,Kenichi Kobayashi,Toshio Yokoyama,Ryo Kato,Teruyuki Watanabe. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2008-05-14.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20240243019A1. Автор: Masanori Nakayama,Hiroki Kishimoto,Hiroto Igawa,Yuki Yamakado,Yuichiro Takeshima,Yasutoshi Tsubota. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing device and etching liquid

Номер патента: US20220213382A1. Автор: Koji Kagawa,Kenji Sekiguchi,Koukichi Hiroshiro,Tetsuya SAKAZAKI,Kazuyoshi Mizumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-07-07.

Data processing method and apparatus, communication device, and storage medium

Номер патента: EP4007227A1. Автор: Daliang Sun. Владелец: Beijing Xiaomi Mobile Software Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-01.

Substrate processing apparatus including heat-shield plate

Номер патента: US09953850B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang,Sung-Tae Je. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Compact substrate processing tool with multi-station processing and pre-processing and/or post-processing stations

Номер патента: US09916995B2. Автор: Karl Leeser. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Substrate processing apparatus including processing unit

Номер патента: US09869019B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09818600B2. Автор: Takayuki Sato. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-14.

Methods and apparatus for in-situ cleaning of a process chamber

Номер патента: US09627185B2. Автор: Chien-Teh Kao,Joel M. Huston,Nicholas R. Denny. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-04-18.

Substrate processing apparatus including auxiliary gas supply port

Номер патента: US09593415B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang,Sung-Tae Je. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Substrate transferring apparatus, and liquid processing apparatus and substrate processing equipment including same

Номер патента: US20240222174A1. Автор: Eun Jung Lee,Young Jin Jang,Gui Su PARK,Jun Hyun LIM,Hee Jun YOUN,Seul Gi CHOI. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Substrate processing apparatus, operating method thereof, and photo spinner equipment

Номер патента: US20240178011A1. Автор: Ho Jin Jang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and program

Номер патента: US9153430B2. Автор: Jie Wang,Takaaki Noda. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2015-10-06.

Substrate processing apparatus and spray module of substrate processing apparatus

Номер патента: US20220392790A1. Автор: Jongchul Kim,InWoo BACK,YeongSeop BYEON,InCheol YEO. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-08.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230084826A1. Автор: Jung Hwan Lee,Young Jun Kim,Sung Ho ROH,Cheong Hwan Jeong,Tae Dong Kim. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Methods and apparatuses for carbon deposition

Номер патента: US20240222107A1. Автор: Varun Sharma. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-07-04.

Substrate processing method

Номер патента: US20240258101A1. Автор: Sungha CHOI,Kihun KIM,HongSuk Kim,Jihye YANG,SangHeon Yong,JuHyuk Park. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230102650A1. Автор: Sungjoo An,Janghee Lee,Geuno JEONG,Seran OH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-30.

Substrate processing apparatus, method of processing substrate, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240249962A1. Автор: Naofumi Ohashi,Hideharu Itatani. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing method

Номер патента: US20230326740A1. Автор: Minjung Kim,HyungSuk MOON,Seungkoo Shin,Sanghwang Park,Hyejoo Yoon. Владелец: POSTECH Research and Business Development Foundation. Дата публикации: 2023-10-12.

Control method of substrate processing apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240153748A1. Автор: Morihito Inagaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US12091751B2. Автор: Satoshi Takano,Naofumi Ohashi,Tomihiro Amano. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US10186422B2. Автор: Keiji Osada,Daisuke Morisawa,Naohide Ito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-01-22.

Apparatus for transferring substrate, substrate processing system and method of processing substrate

Номер патента: US20240120225A1. Автор: Akinori Shimamura,Dongwei Li,Hiromitsu Sakaue,Takehiro Shindo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: EP4407661A1. Автор: YANG Han,Xi Wang,HUI Wang,Jun Wang,Jian Wang,Hui Shen,Xiaoyan Zhang,Fuping CHEN,Shena JIA,Wenjun Wang,Yinxiao LU. Владелец: ACM Research Shanghai Inc. Дата публикации: 2024-07-31.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240014011A1. Автор: Hyun Kim,Kang Hee KIM,Yong Taek Eom. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230253221A1. Автор: Kaoru Sato,Hiromi Nitadori,Kiyohiko Gokon,Masato Kadobe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230253230A1. Автор: Kaoru Sato,Hiromi Nitadori,Kiyohiko Gokon,Masato Kadobe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240290577A1. Автор: Naoki Fujiwara,Naoki Matsumoto,Hiroki Endo,Naoki Mihara,Koichi Nagami,Nozomu Nagashima,Shinya Ishikawa,Shinya Tamonoki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Method of cleaning semiconductor substrate, and method of manufacturing semiconductor device and semiconductor substrate processing apparatus for use in the same

Номер патента: US20060046500A1. Автор: MAKOTO Miyamoto. Владелец: Renesas Technology Corp. Дата публикации: 2006-03-02.

Substrate processing apparatus and method for processing substrate

Номер патента: US20230245858A1. Автор: Hitoshi Kato,Hiroyuki Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Substrate processing apparatus and method of processing a substrate and of manufacturing a processed workpiece

Номер патента: WO2019105944A8. Автор: Hartmut Rohrmann,Hubert Breuss,Heinz Felzer,Dominik Jaeger. Владелец: EVATEC AG. Дата публикации: 2020-05-22.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and maintenance method

Номер патента: US12040166B2. Автор: Jun Hirose,Atsushi Sawachi,Takuya Nishijima,Ichiro SONE,Suguru Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Internal pressure control apparatus and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240304427A1. Автор: Tae-hyun Kim,Sang Ki Nam,Sung Ho Jang,Seul Gi Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and maintenance method

Номер патента: US20240339306A1. Автор: Jun Hirose,Atsushi Sawachi,Takuya Nishijima,Ichiro SONE,Suguru Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Method and apparatus for cleaning a reaction chamber

Номер патента: FI131079B1. Автор: Tom Blomberg,Vaino Kilpi,Veli-Matti Rissa. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2024-09-09.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09816183B2. Автор: HIROSHI Ashihara,Motoshi Sawada. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-14.

Substrate processing apparatus and method of transferring a substrate

Номер патента: US09786532B2. Автор: Takashi Mitsuya,Keiichi Kurashina,Masahiko Sekimoto,Kenichi Kobayashi,Toshio Yokoyama,Kenichi Akazawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-10-10.

Continuous substrate processing system

Номер патента: US09748125B2. Автор: Nag B. Patibandla,Li-Qun Xia,Banqiu Wu,Toshiaki Fujita,Pravin K. Narwankar,Ralf Hofmann,Jeonghoon Oh,Srinivas Satya. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-08-29.

Gas injection apparatus and substrate processing apparatus using same

Номер патента: US09732424B2. Автор: Jung-Hwan Lee,Woo-young Park,Tae-Ho Hahm. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-15.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09732421B2. Автор: Tsukasa Kamakura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-08-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09666464B2. Автор: Hiroshi Kikuchi,Naoto Saito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Batch-type vertical substrate processing apparatus and substrate holder

Номер патента: US09613838B2. Автор: Mitsuhiro Okada,Kazuhide Hasebe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-04.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20240120213A1. Автор: Sung Yong Park,Woo Rim LEE,Myoung Jae Seo,Sung Gil Kang,Hyun Ho Doh,In Hye Jeong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-11.

Cooling flow in substrate processing according to predicted cooling parameters

Номер патента: WO2024147966A1. Автор: Umesh Kelkar,Ala Moradian,Karthik Ramanathan,Orlando Trejo,Elizabeth Kathryn Neville. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240224238A1. Автор: Tomoshi Taniyama,Takayuki Nakada,Kenji Shirako,Daigi KAMIMURA,Hironori Shimada,Akira Horii,Norihiro YAMASHIMA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Power processing method and device, and storage medium

Номер патента: EP3684094A1. Автор: Zhaohua Zeng,Wenjuan JIA. Владелец: ZTE Corp. Дата публикации: 2020-07-22.

Substrate processing apparatus, substrate mounting table cover, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer readable recording medium

Номер патента: US20220415700A1. Автор: Takayuki Sato,Yuichiro Takeshima,Masaki Murobayashi,Tomokazu WAKUI. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-12-29.

Systems and methods for removing particles from a substrate processing chamber using rf plasma cycling and purging

Номер патента: US20170011893A1. Автор: Hu Kang,Adrien Lavoie. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-01-12.

Substrate processing apparatus and fluid heating device

Номер патента: US20240234172A9. Автор: Takahiro Hayashida,Shigeru Moriyama,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220068658A1. Автор: Yasutaka HAMA,Shu Kino,Motoki NORO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing system, and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230099451A1. Автор: Osamu Ueda,Kazuhide Asai,Norihito SHINOZAWA,Takanori KYOGOKU. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-30.

Substrate processing baffle, substrate processing apparatus including the same, and processing apparatus fabrication method

Номер патента: US20240175629A1. Автор: Kuntack Lee,Ji Hwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-30.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20090178762A1. Автор: Hironobu Shimizu,Nobuo Ishimaru. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2009-07-16.

Precoat method for substrate processing apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240191349A1. Автор: Atsushi Tanaka,Taichi Monden. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Methods and systems for temperature control for a substrate

Номер патента: US20240258140A1. Автор: Kiyki-Shiy SHANG,Mikhail Taraboukhine,Paul Zachary WIRTH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing apparatus and semiconductor device producing method

Номер патента: US8901011B2. Автор: Masanori Sakai,Tomohiro Yoshimura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2014-12-02.

Substrate processing module and method of moving a workpiece

Номер патента: US20240258136A1. Автор: Thomas Brezoczky,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Srinivasa Rao Yedla. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12080526B2. Автор: Do Hyung Kim,Young Woon Kim,Woong Kyo Oh,Kwang Su YOO,Yun Gyu HA. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Substrate processing apparatus and manufacturing method of substrate holding unit

Номер патента: US20180342479A1. Автор: Takashi Terada,Yoshitaka Otsuka,Munehisa Kodama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-11-29.

Substrate processing apparatus and manufacturing method of substrate holding unit

Номер патента: US10833045B2. Автор: Takashi Terada,Yoshitaka Otsuka,Munehisa Kodama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-11-10.

Proximity pin, substrate processing apparatus, and method of processing substrate in substrate processing apparatus

Номер патента: WO2019100201A1. Автор: Rong Li,Bin Hu,Hanlin Wang,Dawei Yang,Xinjie Zhang,Weishuai Zhang. Владелец: HEFEI XINSHENG OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD.. Дата публикации: 2019-05-31.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180305816A1. Автор: Akira Takahashi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-10-25.

Substrate processing module and method of moving a workpiece

Номер патента: US12080571B2. Автор: Thomas Brezoczky,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Srinivasa Rao Yedla. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-03.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, electrical power supply system, and electrical power supply method

Номер патента: US20240297054A1. Автор: Naoki Fujiwara,Naoki Matsumoto,Naoki Mihara,Koichi Nagami,Shinya Ishikawa,Shinya Tamonoki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Substrate processing system

Номер патента: US20200411341A1. Автор: George Xinsheng Guo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-12-31.

Substrate processing device, manufacturing method for semiconductor device, and reaction tube

Номер патента: US12062546B2. Автор: Tomoshi Taniyama,Takayuki Nakada,Hidenari YOSHIDA,Shigeru Odake. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-08-13.

Substrate processing module and substrate processing device equipped with same

Номер патента: EP4459663A1. Автор: Yasunori DEGUCHI. Владелец: Daikin Finetech Ltd. Дата публикации: 2024-11-06.

Systems and methods for removing particles from a substrate processing chamber using RF plasma cycling and purging

Номер патента: US09899195B2. Автор: Hu Kang,Adrien Lavoie. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09875920B1. Автор: Yasuhiro Mizuguchi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-01-23.

Cooled pin lifter paddle for semiconductor substrate processing apparatus

Номер патента: US09859145B2. Автор: Andreas Fischer,Dean Larson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US09842754B2. Автор: Akira Takahashi,Hiroyuki Ogawa,Takeshi Yasui,Naoya Matsuura,Kazuya NABETA. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-12-12.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09768039B2. Автор: Yuki Yoshida,Satoru Tanaka,Kazuyoshi Shinohara,Hidetoshi Nakao,Norihiro Ito,Meitoku Aibara,Kazuhiro Aiura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US09646862B2. Автор: Atsushi UMEKAWA,Akinori Ishii,Masahisa OKUNO,Katsuyoshi Hamano,Takuya Joda. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-05-09.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20070224811A1. Автор: Haruko Ono,Daisuke Takagi,Xinming Wang,Tomoatsu Ishibashi,Akira Owatari. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-09-27.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230323538A1. Автор: Yusuke Kikuchi,Masato Shinada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Substrate processing method and recording medium

Номер патента: US20170250086A1. Автор: Takashi Kobayashi,Satoshi Wakabayashi,Osamu Yokoyama,Takashi Sakuma,Tomonari URANO,Kyohei Noguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-08-31.

Substrate processing method and recording medium

Номер патента: US10242878B2. Автор: Takashi Kobayashi,Satoshi Wakabayashi,Osamu Yokoyama,Takashi Sakuma,Tomonari URANO,Kyohei Noguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-03-26.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US11908680B2. Автор: Akira Fujita,Hiroki Aso,Kyosei GOTO,Daisuke Saiki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240153756A1. Автор: Akira Fujita,Hiroki Aso,Kyosei GOTO,Daisuke Saiki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: EP4207246A1. Автор: Masayuki Nakanishi,Masayuki Satake,Michiyoshi Yamashita. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-07-05.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230326757A1. Автор: Masayuki Nakanishi,Masayuki Satake,Michiyoshi Yamashita. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-10-12.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: US20240203709A1. Автор: Dong Hwan Choi,Kwang su PARK,Kyung Ran PARK,Won Uk CHAE,Cheol Young Choi. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Cooling flow in substrate processing according to predicted cooling parameters

Номер патента: US20240230189A1. Автор: Umesh Kelkar,Ala Moradian,Karthik Ramanathan,Orlando Trejo,Elizabeth Kathryn Neville. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and program

Номер патента: EP4060077A2. Автор: Taketoshi Sato,Makoto Sambu,Hideharu Itatani. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-09-21.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230085140A1. Автор: Naofumi Ohashi,Hideharu Itatani,Shun Matsui,Toshiro Koshimaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate processing apparatus and fluid heating device

Номер патента: US20240136206A1. Автор: Takahiro Hayashida,Shigeru Moriyama,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Plasma shutter and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240096606A1. Автор: Hyungsik KO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20150303077A1. Автор: Masatoshi Kaneda,Ryo Shimada,Kazuki NAGAMOTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-10-22.

Defect control and stability of dc bias in rf plasma-based substrate processing systems using molecular reactive purge gas

Номер патента: US20180347046A1. Автор: Arul Dhas,Christopher Ramsayer,Kareem Boumatar. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-12-06.

Substrate processing system

Номер патента: US20240258147A1. Автор: Shinichi Taniguchi,Akihiro Iwasaki,Tsuyoshi Tomita,Kenji Amahisa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Capacitively coupled plasma substrate processing apparatus

Номер патента: US20240258079A1. Автор: Seungho Lee,Taeho Shin,Buil Jeon,JungSu Park,Dooho LIM,Bumsoo ON. Владелец: Innovation For Creative Devices Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20160010210A1. Автор: Hidehiro Yanai. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-01-14.

Substrate processing apparatus and producing method of semiconductor device

Номер патента: US7892983B2. Автор: Masanori Sakai,Taketoshi Sato,Takaaki Noda,Norikazu Mizuno,Hironobu Miya. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2011-02-22.

Substrate processing apparatus and semiconductor device producing method

Номер патента: US20110212626A1. Автор: Masanori Sakai,Tomohiro Yoshimura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-09-01.

Substrate Processing Apparatus and Semiconductor Device Producing Method

Номер патента: US20080153309A1. Автор: Masanori Sakai,Tomohiro Yoshimura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2008-06-26.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20070009649A1. Автор: Hiroshi Nakamura,Seiichi Kaise. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-01-11.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180019145A1. Автор: Eiichi Sugawara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-18.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230282505A1. Автор: Satoshi Takano,Naofumi Ohashi,Atsushi Moriya,Yukinori Aburatani. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-09-07.

Improved heater for use in substrate processing apparatus to deposit tungsten

Номер патента: EP1080485A1. Автор: Jun Zhao,Talex Sajoto,Leonid Selyutin. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-03-07.

Upper electrode unit and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240297023A1. Автор: Jong Chan Lee,Kwang Sung Yoo,Seong Min Nam. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-09-05.

Substrate processing apparatus and substrate placing method

Номер патента: US20240274462A1. Автор: Makoto Fujiwara,Daisuke Ikemoto,Hideyuki Fukushima,Kenji SUGAKAWA,Norifumi Kohama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing system having improved substrate transport system

Номер патента: US20090060689A1. Автор: G. X. Guo,K. A. Wang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-03-05.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12080572B2. Автор: Masahiro DOGOME,Masatomo KITA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Substrate processing system

Номер патента: EP4407665A2. Автор: Shinichi Taniguchi,Akihiro Iwasaki,Tsuyoshi Tomita,Kenji Amahisa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-31.

Substrate processing apparatus and substrate processing apparatus maintenance method

Номер патента: US20240240859A1. Автор: Mikio Nakashima,Takahiro Hayashida,Shota Umezaki,Takafumi YASUNAGA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Upper electrode unit and substrate processing apparatus comprising same

Номер патента: EP4428897A1. Автор: Jong Chan Lee,Kwang Sung Yoo,Seong Min Nam. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-09-11.

Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20170062245A1. Автор: Sang-Dong Kwon,Sang-Rok Oh,Jong-Woo Sun,Kwang-Nam Kim,Jung-pyo HONG,Yong-Moon Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-03-02.

Substrate processing apparatus and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240312800A1. Автор: Hakuba KITAGAWA. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-09-19.

Method of performing maintenance on substrate processing apparatus, and the substrate processing apparatus

Номер патента: US20240339307A1. Автор: Takahiro Murakami,Takayuki Suzuki,Yuya MINOURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Substrate processing device

Номер патента: US20240312803A1. Автор: Shusaku Matsumoto,Koichiro Kawano,Shiguma KATO,Tomoya Iwasaki. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4451310A1. Автор: Jong Chan Lee,Kwang Sung Yoo,Hyen Woo Chu. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-10-23.

High-density substrate processing systems and methods

Номер патента: US12074042B2. Автор: Tuan A. Nguyen,Jason M. Schaller,Khokan Chandra Paul,Swaminathan T. Srinivasan,Charles T. Carlson,Steve Hongkham. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-27.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09970112B2. Автор: Kenichi Suzaki,Yasunobu Koshi,Akihito Yoshino. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-05-15.

Methods and apparatus for improved metal ion filtering

Номер патента: US09953813B2. Автор: Joung Joo Lee,Xianmin Tang,Guojun Liu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-04-24.

Substrate processing apparatus, method for manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US09816182B2. Автор: HIROSHI Ashihara,Yuichi Wada,Iwao Nakamura,Manabu Izumi,Hideto TATENO,Keishin Yamazaki,Takurou USHIDA. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-14.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09799542B2. Автор: Eiichi Sugawara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09721814B2. Автор: Masanobu Sato,Hiroyuki Yashiki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240376603A1. Автор: Masato Kadobe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-14.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09698037B2. Автор: Yuichi Matsuda,Tomoyuki Yamada,Takashi Nogami,Shinobu Sugiura,Seiyo Nakashima. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-07-04.

Substrate processing apparatus, purging apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US09695509B2. Автор: Makoto Hirano,Akinari Hayashi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-07-04.

Substrate processing apparatus and processed substrate manufacturing method

Номер патента: US09673067B2. Автор: Mitsuru Miyazaki,Toshio Yokoyama,Junji Kunisawa,Teruaki HOMBO,Naoki TOYOMURA. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-06-06.

Method and apparatus for configuration of transmission power of demodulation reference signal

Номер патента: RU2518909C2. Автор: Цзин ЦЗЯН,Юфенг СУН,Венфенг ЧЖАНГ,Джанфенг ЧЖАНГ. Владелец: Зте Корпорэйшен. Дата публикации: 2014-06-10.

Zirconium compositions of pretreatment including rare-earth metal, appropriate procedures of metal substrates processing and metal substrates with appropriate coatings

Номер патента: RU2578287C2. Автор: Марк В. МАКМИЛЛЕН,Шань ЧЭН,Натан Дж. СИЛЬВЕРНЕЙЛ. Владелец: Ппг Индастриз Огайо, Инк.. Дата публикации: 2016-03-27.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230420294A1. Автор: Takashi Matsumoto,Makoto Wada,Ryota IFUKU,Nobutake KABUKI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20210296090A1. Автор: Satoru Nakamura,Shinya Morikita,Fumiya TANIFUJI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-09-23.

Processing condition specifying method, substrate processing method, substrate product production method, computer program, storage medium, processing condition specifying device, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230053059A1. Автор: Takashi Ota,Tatsuya Shimano,Dai Inagi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-16.

Substrate Processing Method and Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20200299840A1. Автор: Tatsuya Yamaguchi,Syuji Nozawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-09-24.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220230893A1. Автор: Fumihiro Kamimura,Teruomi Minami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-07-21.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: US20200303207A1. Автор: Ayumi Higuchi,Yuya Akanishi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-09-24.

Substrate processing method and template

Номер патента: US20160108538A1. Автор: Toshiyuki Matsumoto,Haruo Iwatsu,Tomohisa Hoshino. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-04-21.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240071728A1. Автор: Shota Yoshimura,Takanori BANSE,Hsinkai WANG. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-29.

Substrate processing method, substrate processing apparatus using the same, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US11965244B2. Автор: Kyung Park,Dae Seong LEE,Hyeon Beom GWON. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-23.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US11948804B2. Автор: Takumi Honda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-02.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240047194A1. Автор: Kenichi KOTE,Takafumi Nogami,Kazui KOBAYASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20240105457A1. Автор: Woo Rim LEE,Myoung Jae Seo,Sung Gil Kang,In Hye Jeong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-28.

Substrate treatment method and substrate treatment device

Номер патента: EP4343818A1. Автор: Keiji Magara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-27.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230386794A1. Автор: Satoru Nakamura,Shinya Morikita,Fumiya TANIFUJI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Substrate processing method and template

Номер патента: US20140311530A1. Автор: Kazuo Sakamoto,Takayuki Toshima,Haruo Iwatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-10-23.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20170316947A1. Автор: Shuji Moriya,Masahiko Tomita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-02.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230096299A1. Автор: Masami Oikawa,Yuya Takamura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230392262A1. Автор: Tae-Kwang Kim. Владелец: Tes Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12009217B2. Автор: Tsuyoshi Takahashi,Yu Nunoshige. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-11.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240096669A1. Автор: Fumiki Aiso. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240234160A1. Автор: Keiji Magara. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Slide and pivot assemblies for process module bias assemblies of substrate processing systems

Номер патента: US20230154772A1. Автор: BIN Yuan,Michael C. Kellogg,David William Paquet,Dexter Yuk Hing CHONG. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-05-18.

Substrate processing apparatus and semiconductor device producing method

Номер патента: US20020160560A1. Автор: Satoshi Okada,Eisuke Nishitani,Michiko Nishiwaki,Katsuhisa Kasanami. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2002-10-31.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: WO2022238622A1. Автор: Tom Blomberg,Vaino Kilpi. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2022-11-17.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180096837A1. Автор: Yi-Cheng Wang. Владелец: Wet Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-05.

Multi-time interval data transmission method and apparatus, and user equipment

Номер патента: US20240244526A1. Автор: Yun Deng,Xingya SHEN. Владелец: Spreadtrum Communications Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: EP4338191A1. Автор: Tom Blomberg,Vaino Kilpi. Владелец: Picosun Oy. Дата публикации: 2024-03-20.

Substrate processing device and dielectric plate alignment method

Номер патента: EP4394850A1. Автор: Ju-Young Park,Kwang-Sung YOO. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-07-03.

Substrate processing apparatus for processing substrates

Номер патента: US12040199B2. Автор: Jeroen Fluit. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-07-16.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240249956A1. Автор: Yohei Midorikawa,Ryo Kuwajima,Yohei NAKAGOMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus and substrate support

Номер патента: US20240258083A1. Автор: Makoto Kato,Ryoma Muto,Kaisei SUGA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate stage and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240167162A1. Автор: Yihwan Kim,Minsung Kim,Byeongsang KIM,Sangchul Han,Sangyeon OH,Jihyeong LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-23.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240254628A1. Автор: Manabu Honma. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240234093A1. Автор: Sejin Oh,Dougyong Sung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing system

Номер патента: US20240191351A1. Автор: Dieter Pierreux. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing apparatus and method of driving relay member

Номер патента: US20220037125A1. Автор: Shin Matsuura,Nobutaka Sasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-02-03.

Chiller make-break connector for substrate processing systems

Номер патента: US12074039B2. Автор: Alexander Charles Marcacci. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Substrate processing system with vertical arrangement structure

Номер патента: US20230260806A1. Автор: Hyung Chul Kim,Dong Hwa Lee,You Sun JUNG. Владелец: KCTech Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12087598B2. Автор: Takashi Tsukamoto,Akinori Tanaka,Sadayoshi Horii,Daisuke Hara,Masahisa OKUNO,Toru Kakuda,Hideto TATENO,Takuya Joda. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12091753B2. Автор: Manabu Honma. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing apparatus for processing substrates

Номер патента: US20240339340A1. Автор: Jeroen Fluit. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-10-10.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240332047A1. Автор: Yoshitaka Miura,Tomoyuki NAGATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US09911635B2. Автор: Makoto Hirano. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-03-06.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4451311A1. Автор: Kwang Sung Yoo. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-10-23.

Methods for removing contamination from surfaces in substrate processing systems

Номер патента: US09805914B2. Автор: Chun Yan,Xinyu Bao,Adam Lane,Zhenwen Ding,Teng-Fang Kuo,Jim Zhongyi He. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-31.

Heater moving type substrate processing apparatus

Номер патента: US09644895B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus and non-transitory computer readable recording medium

Номер патента: US09644265B2. Автор: Tetsuo Yamamoto,Takafumi Sasaki. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-05-09.

Method and device for transmission of upstream communication line acknowledgement information in ofdma communication system

Номер патента: RU2338326C2. Автор: Дзае-Хо ДЗЕОН,Сеунг-Дзоо МАЕНГ,Дзеонг-Тае ОХ,Дзеонг-Хеон КИМ,Хее-Санг СЕО,Миунг-Кванг БИУН. Владелец: САМСУНГ ЭЛЕКТРОНИКС КО., ЛТД.. Дата публикации: 2008-11-10.

System, method and device to measure and transmit working conditions of electrolytic cell

Номер патента: RU2542869C2. Автор: Сянвэнь Ван,Роберт ХОСЛЕР,Гари ТАРСИ. Владелец: Алкоа Инк.. Дата публикации: 2015-02-27.

Method and device for transmitting machine-to-machine downlink control information, base station and user equipment

Номер патента: RU2754867C1. Автор: Цинь МУ. Владелец: Бейдзин Сяоми Мобайл Софтвэр Ко., Лтд.. Дата публикации: 2021-09-08.

Switching control method and switching control device

Номер патента: RU2660189C1. Автор: Юнпин ВАН,Вэймин ПАНЬ,Дунбинь ЛУ,Чжэньси ВАН,Цзюньшэн ВАН. Владелец: Нр Электрик Ко., Лтд. Дата публикации: 2018-07-05.

Substrate processing method and apparatus

Номер патента: US5664927A. Автор: Mitsuo Takeuchi. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1997-09-09.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and non-transitory computer-readable recording medium therefor

Номер патента: US11926893B2. Автор: Naofumi Ohashi,Tetsuaki Inada. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-03-12.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US11732357B2. Автор: Shinji Kawasaki,Mitsuhiro Okada,Yasushi Fujii,Tsuyoshi Takahashi,Toshio Takagi,Yu Nunoshige,Hirotaka Kuwada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-22.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220238348A1. Автор: Hiromi Miyashita,Rei Shoji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-07-28.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US11869764B2. Автор: Akinori Tanaka,Sadayoshi Horii,Hideto TATENO. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-01-09.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20210159089A1. Автор: Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-27.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium

Номер патента: US10651061B2. Автор: Takao Inada,Hiroki Ohno,Hisashi Kawano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-12.

Substrate processing method

Номер патента: US11875998B2. Автор: Sang Jun Park,Byung Chul Cho,Jin Sung Chun,Kwang Seon JIN,Jun Hyuck KWON. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-16.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240120183A1. Автор: Takashi Matsumoto,Makoto Wada,Hiroki Yamada,Ryota IFUKU. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220344128A1. Автор: Akira Hidaka,Shinya Morikita,Shu Kino. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-10-27.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20080003365A1. Автор: Eiichi Nishimura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-01-03.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium

Номер патента: US20170084480A1. Автор: Takashi Tanaka,Mitsuaki Iwashita,Nobutaka Mizutani. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-23.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230386787A1. Автор: Kiyoshi Maeda,Yasuhiko Saito,Atsutoshi Inokuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and chemical liquid

Номер патента: US20230041889A1. Автор: Hitoshi Kosugi,Tetsuya SAKAZAKI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-02-09.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230420225A1. Автор: Shuhei Ogawa,Cedric THOMAS,Tejung HUANG. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240047220A1. Автор: Masanobu Honda,Tetsuya Nishizuka,Shinya Ishikawa,Kenta Ono. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and a semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20230089765A1. Автор: Katsuhiro Sato,Hiroshi Fujita,Tatsuhiko Koide. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-03-23.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and a semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US11929250B2. Автор: Katsuhiro Sato,Hiroshi Fujita,Tatsuhiko Koide. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-03-12.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230349036A1. Автор: Naoki Takahashi,Masato Shinada,Junichi Takei. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Substrate processing method

Номер патента: US20210193472A1. Автор: Sang Jun Park,Byung Chul Cho,Jin Sung Chun,Kwang Seon JIN,Jun Hyuck KWON. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-24.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230077197A1. Автор: Akinori Tanaka,Sadayoshi Horii,Hideto TATENO. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-09.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: US20220333249A1. Автор: Munehito Kagaya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-10-20.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium

Номер патента: US20190122905A1. Автор: Takao Inada,Hiroki Ohno,Hisashi Kawano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-04-25.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230395371A1. Автор: Kazumasa Igarashi,Yuki Tanaka,Jun Ogawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US11993841B2. Автор: Tadahiro Ishizaka,Takashi Sakuma,Masato Araki,Kohichi Satoh. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-28.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240234183A1. Автор: Naofumi Ohashi,Teruo Yoshino,Tadashi Takasaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Motor attachment bracket, motor attachment structure, and substrate processing apparatus

Номер патента: SG10201800586RA. Автор: Tanaka Hideaki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-08-30.

Signal processing method and apparatus, storage medium, processor, and electronic device

Номер патента: EP4093082A1. Автор: Weijie XU,Shukun Wang. Владелец: GUANGDONG OPPO MOBILE TELECOMMUNICATIONS CORP LTD. Дата публикации: 2022-11-23.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240105479A1. Автор: WonKi Jeong,DaeYoun Kim. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-03-28.

Heating element for a substrate processing system.

Номер патента: NL2033372B1. Автор: Van Rijn Richard,Joseph Wehenkel Dominique. Владелец: Applied Nanolayers B V. Дата публикации: 2024-05-08.

Substrate processing system and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230175124A1. Автор: Jiwon KWAK,Songyi Baek,Taemin Kim,Sejin KYUNG,Daewee KONG,Youngtack SIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-08.

Substrate processing device

Номер патента: US20240213041A1. Автор: Thomas Jongwan Kwon,Youngdae Chung,Chengyeh Hsu,Taeshin KIM. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Method and device for wireless transmission

Номер патента: US11711749B2. Автор: WEN Chen,HAN Liu,Jiangang WU,Jiangjian JIANG,Swee Ann Teo. Владелец: Espressif Systems Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-25.

Method for performing preventative maintenance in a substrate processing system

Номер патента: WO2011112968A1. Автор: Robert D. Clark,Cory Wajda,Steven P. CONSIGLIO. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2011-09-15.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200411296A1. Автор: Jeong Seok Kang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-31.

Method of manufacturing semiconductor device and substrate processing apparatus

Номер патента: US20110294280A1. Автор: Yoshiro Hirose,Yushin Takasawa,Hajime Karasawa. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2011-12-01.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240295024A1. Автор: Tatsuya Yamaguchi,Makoto Takahashi,Masato Kadobe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240295023A1. Автор: Makoto Takahashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Method of fixing substrate using electrostatic chuck and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20170098567A1. Автор: Chang-Oh Jeong,Su-Kyoung YANG,Gyung-Min Baek,Yoon-Yong Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-06.

Method and device for wireless transmission

Номер патента: US12035223B2. Автор: WEN Chen,HAN Liu,Jiangang WU,Jiangjian JIANG,Swee Ann Teo. Владелец: Espressif Systems Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Method and device for wireless transmission

Номер патента: US20210368423A1. Автор: WEN Chen,HAN Liu,Jiangang WU,Jiangjian JIANG,Swee Ann Teo. Владелец: Espressif Systems Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-25.

Substrate Processing Apparatus and Substrate Rotating Device

Номер патента: US20080042328A1. Автор: Sumi Tanaka,Kouki Suzuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-02-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing apparatus maintenance method

Номер патента: US20240242978A1. Автор: Yuichi Tanaka,Manabu Yamanaka,Shigeru Moriyama,Shota Umezaki,Katsuhiro Ookawa,Tomotaka OMAGARI,Takuya ITAHASHI,Keiichi Yahata,Shuji OIE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus and substrate placing method

Номер патента: US20240282617A1. Автор: Kimio Motoda,Norio Wada,Shintaro SUGIHARA,Hideyuki Fukushima,Kenji SUGAKAWA,Norifumi Kohama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Batch type substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230054580A1. Автор: Minju Lee,Hyungjoon Kim,Sangyub IE,Eunyeoung CHOI. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-02-23.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and abnormality detection method

Номер патента: US12087562B2. Автор: Katsuhito Hirose,Kazushi HIKAWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing system including coil with RF powered faraday shield

Номер патента: US12087557B2. Автор: SHEN Peng,Anthony Nguyen,Dan Marohl,Tamarak Pandhumsoporn. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing device and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20180082869A1. Автор: Katsuhiro Sato,Hiroaki Yamada,Yuya Akeboshi,Shinsuke MURAKI. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-03-22.

Substrate processing system, substrate detecting apparatus, and substrate detecting method

Номер патента: US20120160040A1. Автор: Yuichi Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-06-28.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12119211B2. Автор: Changmin Lee. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-10-15.

Terminal, method, and integrated circuit for controlling transmit powers

Номер патента: US09980080B2. Автор: Shoichi Suzuki,Hiroki Takahashi,Kimihiko Imamura,Kazunari Yokomakura,Tatsushi Aiba. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2018-05-22.

Substrate processing apparatus having ground electrode

Номер патента: US09970111B2. Автор: Kohei Fukushima,Takeshi Ando,Koichi Shimada,Hiroyuki Matsuura,Yutaka Motoyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Method of manufacturing semiconductor device and substrate processing apparatus

Номер патента: US09966268B2. Автор: Arito Ogawa,Atsuro Seino. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-05-08.

Reflective deposition rings and substrate processing chambers incorporating same

Номер патента: US09905443B2. Автор: Ashish Goel,Joung Joo Lee,Joseph M. Ranish,Xiaoxiong Yuan,Anantha K. Subramani. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-02-27.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09899229B2. Автор: Naoki Fujiwara,Takashi Ota,Taiki HINODE. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09869022B2. Автор: Motoshi Sawada. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-01-16.

Substrate processing apparatus having a pillar support structure for preventing transformation of a ceiling portion

Номер патента: US09683290B2. Автор: Manabu Honma. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-20.

METHOD AND SYSTEM FOR PROCESSING OF PoC-CALLS ON BASIS OF COMMUNICATION SYSTEM RESPONSE MODE WITH SWITCHING BETWEEN RECEPTION AND TRANSMISSION OVER CELLULAR COMMUNICATION

Номер патента: RU2347321C1. Автор: Дзоон-Гоо ПАРК,Санг-Киунг СУНГ,Киунг-так ЛИ,Сунг-Дзин ПАРК. Владелец: САМСУНГ ЭЛЕКТРОНИКС КО., ЛТД.. Дата публикации: 2009-02-20.

Method and device for carrying out the fractional subchannel transmission

Номер патента: RU2669363C2. Автор: Ган Ван,Лэй ЦЗЯН,Чуансинь ЦЗЯН,Хунмэй ЛЮ,Чжэньнянь СУНЬ. Владелец: Нек Корпорейшн. Дата публикации: 2018-10-12.

Data transmission system for supporting carrier aggregation and method and apparatus for updating system information thereof

Номер патента: RU2537789C2. Автор: Юйсинь ВЭЙ. Владелец: Сони Корпорейшн. Дата публикации: 2015-01-10.

Method and device for obtaining information about channel state

Номер патента: RU2643348C1. Автор: Цзянь ЛИ,Дагэн ЧЭНЬ,Сяоянь БИ. Владелец: Хуавей Текнолоджиз Ко., Лтд.. Дата публикации: 2018-02-01.

Method and device for harq feedback generation, as well as a method and device for harq feedback transmission

Номер патента: RU2707142C1. Автор: Цзюецзя ЧЖОУ. Владелец: Бейдзин Сяоми Мобайл Софтвэр Ко., Лтд.. Дата публикации: 2019-11-22.

Transmission device and method, receiving device and method and transmission and receiving system

Номер патента: RU2556242C2. Автор: Ясуаки ЯМАГИСИ,Наохиса КИТАДЗАТО. Владелец: Сони Корпорейшн. Дата публикации: 2015-07-10.

Broadcasting system, transmission device and transmission method, reception device and reception method, and programme

Номер патента: RU2454024C2. Автор: Тецудзиро КОНДО. Владелец: Сони Корпорейшн. Дата публикации: 2012-06-20.

Method and system for targeted transmission of information over alternating current power supply lines

Номер патента: RU2735950C1. Автор: Максим Игоревич Вавуло,Андрей Иванович Киричок,Александр Николаевич Притула,Михаил Николаевич Юханов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью «Светосервис ТелеМеханика». Дата публикации: 2020-11-11.

Substrate processing method and apparatus

Номер патента: US7735451B2. Автор: Takahiro Ogawa,Masahiko Sekimoto,Seiji Katsuoka,Mitsuru Miyazaki,Kenichi Kobayashi,Toshio Yokoyama,Teruyuki Watanabe,Yasuyuki Motojima. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2010-06-15.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240035141A1. Автор: Takayoshi Tanaka,Teppei Nakano,Shota IWAHATA,Hiroyuki Yashiki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240006166A1. Автор: Minyoung Kim,Hanglim Lee. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240038544A1. Автор: Hikaru KAWARAZAKI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20180019441A1. Автор: Beom Jun KIM,Il Ho Noh,Seung Duk Bang,Soo Ho Oh,Sin Pyoung Kim. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-18.

Plasma Processing Method and Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20230420223A1. Автор: Soya Todo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Substrate processing method

Номер патента: EP4343819A1. Автор: Tomohiro Takahashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-27.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220285169A1. Автор: Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20200194286A1. Автор: Hiroshi Yoshida,Takahiro Kawazu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-06-18.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230377953A1. Автор: Hiroki Murakami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20190228989A1. Автор: Masayuki Hayashi,Takashi Ota,Rei Takeaki. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-07-25.

Substrate processing apparatus, mixing method, and substrate processing method

Номер патента: US11257692B2. Автор: Hiroshi Yoshida,Yoshinori Nishiwaki,Takao Inada,Jun Nonaka,Kouji Ogura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-02-22.

Processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20190378730A1. Автор: Toru Hisamatsu,Masahiro Tabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-12.

Substrate processing pallet and related substrate processing method and machine

Номер патента: US20020034883A1. Автор: Martin Klein,Piero Sferlazzo,David Felsenthal. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-03-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240055277A1. Автор: Masayuki ORISAKA,Noritake SUMI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220165578A1. Автор: Yoshihide Kihara,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-05-26.

Substrate Processing Method and Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20090020408A1. Автор: Tsukasa Yashima,Hiroshi Ekko,Shigeki Nogami. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2009-01-22.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220310361A1. Автор: Tsukasa Hirayama,Taku GOHIRA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-29.

Substrate-processing method and substrate-processing apparatus

Номер патента: US20240136198A1. Автор: Rui KANEMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220380892A1. Автор: Nobuhiro Takahashi,Kiyotaka Horikawa,Junichiro Matsunaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Substrate treatment method and substrate treatment device

Номер патента: US20240153780A1. Автор: Takayoshi Tanaka. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Substrate processing method

Номер патента: US20150308010A1. Автор: Ryuya KOIZUMI. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2015-10-29.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium recording substrate processing program

Номер патента: US20160190024A1. Автор: Junya Sato,Yoshikazu Ishikawa,Toshihiko Hamada,Toshiyuki Kobayashi,Masahiro Numakura,Shouichi Otake. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-06-30.

Substrate processing apparatus, processing method, and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20240096615A1. Автор: Akinori Tanaka,Sadayoshi Horii,Hideto TATENO. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US11996296B2. Автор: Hiroki Murakami,Kenji Ouchi,Maju TOMURA,Munehito Kagaya,Ryutaro Suda,Kae KUMAGAI,Shuichiro SAKAI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-28.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20190228992A1. Автор: Masami Oikawa,Keisuke Fujita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-07-25.

Substrate processing apparatus, mixing method, and substrate processing method

Номер патента: US20220139734A1. Автор: Hiroshi Yoshida,Yoshinori Nishiwaki,Takao Inada,Jun Nonaka,Kouji Ogura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-05-05.

Substrate processing method

Номер патента: US20230323533A1. Автор: Byoung Ha Cho,Ji Hyun Cho,Hong Min Yoon,Jae Sung Roh,Cheong SON,Se Whan JIN,Hong Soo YOON,Youn Joo JANG. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Substrate processing device, substrate processing method, and semiconductor manufacturing method

Номер патента: US20200312697A1. Автор: Tetsuo Ito,Kunio Yamada,Kazuki Inoue,Noriyuki Kikumoto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-10-01.

Substrate processing method and apparatus

Номер патента: US12027353B2. Автор: Hiroyuki Iwashita,Hiroyuki Toshima,Tatsuo HIRASAWA,Shota ISHIBASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

Substrate processing device and method for manufacturing same

Номер патента: US20240136162A1. Автор: Young Gon Kim,Dongwook Kim,Jong Woo Lim,Nam Hui LEE,Min Choul HYUN,Jewook KIM. Владелец: Electro Static Technology Inc. Дата публикации: 2024-04-25.

Substrate Processing Apparatus and Method of Manufacturing Semiconductor Device

Номер патента: US20240096597A1. Автор: Takeshi Yasui,Koichiro Harada,Katsunori Funaki,Yasutoshi Tsubota. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing apparatus and shutter

Номер патента: US20240128058A1. Автор: Takashi Aramaki,Atsushi Ogata,Gyeong Min Park,Lifu Li,Kojiro MATSUZAKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-18.

Substrate processing device and method for manufacturing same

Номер патента: US20240234109A9. Автор: Young Gon Kim,Dongwook Kim,Jong Woo Lim,Nam Hui LEE,Min Choul HYUN,Jewook KIM. Владелец: Electro Static Technology Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Method and apparatus for adjusting transmission power

Номер патента: EP3520506A1. Автор: Eunyong Kim,Chulhee Jang,Joseph Jeon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-08-07.

Signal processing method and apparatus, storage medium, processor, and electronic device

Номер патента: US20220353895A1. Автор: Weijie XU,Shukun Wang. Владелец: GUANGDONG OPPO MOBILE TELECOMMUNICATIONS CORP LTD. Дата публикации: 2022-11-03.

Method and device for wireless transmission

Номер патента: US20230239770A1. Автор: WEN Chen,HAN Liu,Jiangang WU,Jiangjian JIANG,Swee Ann Teo. Владелец: Espressif Systems Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-27.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20220293398A1. Автор: WonKi Jeong,DaeYoun Kim,JuIll Lee,Hyungchul Moon,GeunHwi Kim. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2022-09-15.

Substrate processing apparatus and method of cleaning the same

Номер патента: US20190055647A1. Автор: Kook Tae Kim,Bongjin Kuh,In-Sun Yi,Soojin HONG,Sukjin CHUNG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-02-21.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20150241125A1. Автор: Won Sik Nam,Kang Heum YEON,Dae Seok SONG. Владелец: NPS CORP. Дата публикации: 2015-08-27.

Method and apparatus for etch processing with end point detection thereof

Номер патента: US20040087040A1. Автор: Daniel Baer,Aaron Gustafson,Leonard Moravek,John Kettley. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-05-06.

Plasma generating device, substrate processing apparatus, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240249923A1. Автор: Akihiro Sato,Tsuyoshi Takeda,Yukitomo Hirochi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240203702A1. Автор: Seungpil Chung,Sungik Park,Yongsu Jang,Jungyoon Yang,Inseong Lim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate processing device

Номер патента: US20240318307A1. Автор: Heeyeon Kim,Seongho Park,Hyunho Choi,Byunghwan Kong,Seongwan KIM,Heesun Song. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-26.

Feedback method and acquisition method for grouping indication information and device

Номер патента: US20240322889A1. Автор: Yijian Chen,Zhaohua Lu,Yu Ngok Li,Shujuan Zhang,Yuhong Gong. Владелец: Xian Zhongxing New Software Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Valve module and substrate processing device comprising the same

Номер патента: US12092235B2. Автор: Jae Min Lee,Sang Min Kim. Владелец: Presys Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

RF reference measuring circuit for a direct drive system supplying power to generate plasma in a substrate processing system

Номер патента: US12106947B2. Автор: Maolin Long. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Substrate supporting apparatus, substrate processing apparatus, substrate supporting method, control program of substrate supporting apparatus, and recording medium

Номер патента: US8340811B2. Автор: Majima Kazuyuki,Goshokubo Gen. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2012-12-25.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12123091B2. Автор: Takashi Nogami,Tomoshi Taniyama,Takayuki Nakada,Daigi KAMIMURA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-10-22.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09988717B2. Автор: Manabu Honma. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09966286B2. Автор: Takashi Nogami,Tomoshi Taniyama,Kazuma Yoshioka. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-05-08.

Substrate processing device and substrate transfer method

Номер патента: US09929030B2. Автор: Shinji Wakabayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09892942B2. Автор: Won Sik Nam,Kang Heum YEON,Dae Seok SONG. Владелец: NPS CORP. Дата публикации: 2018-02-13.

Coating system and method for coating interior fluid wetted surfaces of a component of a semiconductor substrate processing apparatus

Номер патента: US09873940B2. Автор: Tom Stevenson,LIN Xu,Hong Shih,John Daugherty,John Michael Kerns,Robert Griffith O'Neill,Nash Anderson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-01-23.

Component of substrate processing apparatus and method for forming a film thereon

Номер патента: US09828690B2. Автор: Koji Mitsuhashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-28.

Method and apparatus for transmitting and receiving signals in wireless communication system

Номер патента: US09699742B2. Автор: Hyunsoo Ko,Jaehoon Chung,Jinmin Kim. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2017-07-04.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and method of processing substrate

Номер патента: US09695511B2. Автор: Hitoshi Murata,Masaaki Ueno,Tetsuya Kosugi,Masashi Sugishita. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-07-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09524847B2. Автор: Makoto Kobayashi,Jun Tamura,Hiroshi Tsujimoto,Nobuhiro Wada,Jun Oyabu,Mamoru NAOI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-20.

Transmission/reception method and apparatus for uplink mimo retransmission in lte system

Номер патента: RU2566498C2. Автор: Дзин-Киу ХАН,Йоун Сун КИМ. Владелец: САМСУНГ ЭЛЕКТРОНИКС КО., ЛТД.. Дата публикации: 2015-10-27.

Wireless communication device, allocated resource notification method and data allocation method

Номер патента: RU2546980C2. Автор: Акихико НИСИО,Даити ИМАМУРА,Такаси ИВАИ,Йосихико ОГАВА,Синсуке ТАКАОКА. Владелец: Панасоник Интеллекчуал Проперти Корпорэйшн оф Америка. Дата публикации: 2015-04-10.

Method and device for initiating point-to-point call during transmission of broadcast content on shared channel in wireless telephone network

Номер патента: RU2357368C2. Автор: Тао ЧЭНЬ,Рагулан СИННАРАДЖАХ,Цзунь ВАНГ,Тао ЧЭНЬ (US),Рагулан СИННАРАДЖАХ (US),Цзунь ВАНГ (US). Владелец: Квэлкомм Инкорпорейтед. Дата публикации: 2009-05-27.

Method and apparatus for coordination between user equipment and network using interaction information

Номер патента: RU2452136C2. Автор: Крейг БИШОП,Чэнь Хо ЧИНЬ. Владелец: САМСУНГ ЭЛЕКТРОНИКС КО., ЛТД.. Дата публикации: 2012-05-27.

Method and device for uplink transmission in frequency-division multiple access system with single carrier with multiple inputs and multiple outputs

Номер патента: RU2407177C2. Автор: Дональд М. ГРИЕКО,Кайл Цзюн-Линь ПАНЬ,Инсюэ ЛИ,Роберт Линд ОЛЕСЕН. Владелец: Интердиджитал Текнолоджи Корпорейшн. Дата публикации: 2010-12-20.

Method and device for distributing data streams specified by transmission time interval limits

Номер патента: RU2288548C2. Автор: Франческо ГРИЛЛИ,Пенг ЛИ,Алкиноос ВАЯНОС. Владелец: Квэлкомм Инкорпорейтед. Дата публикации: 2006-11-27.

Method and apparatus for uplink acknowledgement allocation

Номер патента: RU2439855C2. Автор: Хуан МОНТОХО,Дурга Прасад МАЛЛАДИ,Сяося ЧЖАН. Владелец: Квэлкомм Инкорпорейтед. Дата публикации: 2012-01-10.

Substrate processing method

Номер патента: US10748779B2. Автор: Hiroaki Mochizuki,Shinobu Kinoshita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-08-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method which performs predetermined processing on a substrate which is positioned approximately horizontally at a substrate processing position

Номер патента: US7503978B2. Автор: Katsuhiko Miya,Eiji Fukatsu. Владелец: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2009-03-17.

Substrate transport method and substrate processing system

Номер патента: US20230230862A1. Автор: Kiyoshi Suzuki,Koichi Miyashita,Hiroshi Hirose,Ryota Goto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-07-20.

A method and apparatus for cleaning semiconductor substrates

Номер патента: WO2006057678A1. Автор: Steven Verhaverbeke,Roman Gouk,Dennis Yost. Владелец: APPLIED MATERIALS, INC. Дата публикации: 2006-06-01.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240044006A1. Автор: Hiroki ARAI,Tadashi MITSUNARI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US11837445B2. Автор: Chul-Joo Hwang. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-05.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and substrate processing program

Номер патента: US20170040177A1. Автор: Mitsuru Sasaki,Tatsuya Miura,Ryu KITAHARA,Toshihiro OHNO,Kazumune ONO,Shoko ENDO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-09.

Substrate processing method and selective deposition method using the same

Номер патента: US20230323528A1. Автор: Woohee Kim,Jeongmin Lee,Jihun Lee,SungWoong CHUNG,Junghun KAWK,Seohyun Lee. Владелец: Sk Specialty Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Substrate processing liquid for etching a metal layer, substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US11908938B2. Автор: Yosuke Hanawa,Dai Ueda. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

Substrate processing method, semiconductor device manufacturing method, substrate processing apparatus, and recording medium for forming containing silicon

Номер патента: US20230357926A1. Автор: KIMIHIKO Nakatani. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-11-09.

IMAGE PROCESSING METHOD, APPARATUS AND COMPUTER PROGRAM PRODUCT, AND IMAGING APPARATUS, METHOD AND COMPUTER PROGRAM PRODUCT

Номер патента: US20120092523A1. Автор: NAKAMURA Tomokazu. Владелец: . Дата публикации: 2012-04-19.

Image processing apparatus, display apparatus, portable display apparatus, image processing method, display apparatus display method, portable display apparatus display method, and program

Номер патента: JP6419894B2. Автор: 実吉村,吉村　実,道弘 ▲高▼田. Владелец: Denso Ten Ltd. Дата публикации: 2018-11-07.

Laser processing method for glass substrate, diffraction grating obtained by this method, and microlens array

Номер патента: JP3797702B2. Автор: 正小山,啓司常友. Владелец: Nippon Sheet Glass Co Ltd. Дата публикации: 2006-07-19.

Texture data processing apparatus, texture data processing method, program, embossed plate manufacturing apparatus, embossed plate manufacturing method, and sheet

Номер патента: JP5471495B2. Автор: 優岡本,和夫松藤,快勢櫻井. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2014-04-16.

The expansion of real-world information processing methods, the expansion of real processing modules, Data integration method and data integration module

Номер патента: TWI570664B. Автор: Kith Ng,Shinobu Tshii,Chien Hung Shih. Владелец: Next Animation Studio Ltd. Дата публикации: 2017-02-11.

Image processing apparatus, image processing method, image processing program, image forming apparatus, image forming method, and computer-readable recording medium

Номер патента: JP4850040B2. Автор: 雅人石井. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2012-01-11.

METHODS AND APPARATUS FOR RADIO FREQUENCY (RF) PLASMA PROCESSING

Номер патента: US20120000888A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE TRANSFER METHOD ADOPTED IN SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120004753A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120000886A1. Автор: NISHINO Masaru,HONDA Masanobu,Kubota Kazuhiro,Ooya Yoshinobu. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND APPARATUS FOR THERMAL BASED SUBSTRATE PROCESSING WITH VARIABLE TEMPERATURE CAPABILITY

Номер патента: US20120003388A1. Автор: Wu Kai,YUAN XIAOXIONG,TZU GWO-CHUAN,KHANDELWAL AMIT,WANG BENJAMIN CHENG,GELATOS AVGERINOS V.,KARAZIM MICHAEL P.,LIN JING,CUVALCI OLKAN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

基板的加工方法、微透镜片的制造方法、透射型屏幕

Вам могут быть интересны следующие патенты

Главная

Проекты и услуги

Контакты