Optical monitoring and control system and method for plasma reactors
Номер патента: US20030201162A1
Опубликовано: 30-10-2003
Автор(ы): Lianjun Liu, Wayne Johnson
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 30-10-2003
Автор(ы): Lianjun Liu, Wayne Johnson
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Workpiece holder, system, and operating method for pecvd
Номер патента: US20230349044A1. Автор: Jens-Uwe FUCHS,Ralf Reize,Mirko Tröller,Roland Leichtle. Владелец: Centrotherm International AG. Дата публикации: 2023-11-02.