BLOCK COPOLYMER PATTERN FORMATION METHOD AND DIFFRACTION LIMITED OPTICAL ELEMENT
Номер патента: US20180030592A1
Опубликовано: 01-02-2018
Автор(ы): Koike Nobuyuki, TAKADA Akio, Takahashi Eiji
Принадлежит: DEXERIALS CORPORATION
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 01-02-2018
Автор(ы): Koike Nobuyuki, TAKADA Akio, Takahashi Eiji
Принадлежит: DEXERIALS CORPORATION
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for directed self-assembly (DSA) of block copolymers using guiding line sidewalls
Номер патента: US09458531B2. Автор: Lei Wan,Ricardo Ruiz,Julia CUSHEN. Владелец: HGST NETHERLANDS BV. Дата публикации: 2016-10-04.