Integrated circuit device and method of producing the same
Номер патента: US7923283B2
Опубликовано: 12-04-2011
Автор(ы): Yuji Awano
Принадлежит: Fujitsu Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 12-04-2011
Автор(ы): Yuji Awano
Принадлежит: Fujitsu Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Deposition method and a deposition apparatus of fine particles, a forming method and a forming apparatus of carbon nanotubes, and a semiconductor device and a manufacturing method of the same
Номер патента: US20150207074A1. Автор: Noriyoshi Shimizu,Yuji Awano. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2015-07-23.