Lithographic projection apparatus, a method for determining a position of a substrate alignment mark, a device manufacturing method and device manufactured thereby
Номер патента: US6704089B2
Опубликовано: 09-03-2004
Автор(ы): Everhardus C. Mos, Irwan D. Setija, Maurits van der Schaar
Принадлежит: ASML Netherlands BV
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 09-03-2004
Автор(ы): Everhardus C. Mos, Irwan D. Setija, Maurits van der Schaar
Принадлежит: ASML Netherlands BV
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for removing a deposition on an uncapped multilayer mirror of a lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method
Номер патента: US20110117504A1. Автор: Vadim Yevgenyevich Banine,Martin Jacobus Johan Jak,Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen,Wouter Anthon Soer. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2011-05-19.