Composition for removing protective layer in fabrication of mems and method for removing same
Номер патента: US20090270300A1
Опубликовано: 29-10-2009
Автор(ы): Gu Xu, Hiroyuki Uehara, Kazuhiro Aoba, Xing-Fu Zhong
Принадлежит: Brewer Science Inc, Nissan Chemical Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 29-10-2009
Автор(ы): Gu Xu, Hiroyuki Uehara, Kazuhiro Aoba, Xing-Fu Zhong
Принадлежит: Brewer Science Inc, Nissan Chemical Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Supercritical carbon dioxide/chemical formulation for removal of photoresists
Номер патента: WO2004042472B1. Автор: Thomas H Baum,Michael B Korzenski,Chongying Xu,Eliodor G Ghenciu. Владелец: Advanced Tech Materials. Дата публикации: 2004-09-10.