Plasma Device with an External RF Hollow Cathode for Plasma Cleaning of High Vacuum Systems
Номер патента: US20200058472A1
Опубликовано: 20-02-2020
Автор(ы): Vane Ronald A.
Принадлежит: XEI Scientific, Inc.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 20-02-2020
Автор(ы): Vane Ronald A.
Принадлежит: XEI Scientific, Inc.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for the plasma cleaning of the surface of a material coated with an organic substance and the installation for carrying out said method
Номер патента: AU2003224204A1. Автор: Eric Michel,Eric Silberberg,Francois Reniers,Claudine Buess-Herman. Владелец: USINOR SA. Дата публикации: 2003-09-09.