Россия, г. Королев.
eburdiyg@gmail.com
8 (903) 781-84-63
© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.
Reflective mask blank for EUV lithography and process for its production
Номер патента: US09423684B2. Автор: Kazunobu Maeshige,Masaki Mikami. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-23.