RASTER METHODOLOGY, APPARATUS AND SYSTEM FOR ELECTRON BEAM LAYER MANUFACTURING USING CLOSED LOOP CONTROL
Номер патента: US20140158667A1
Опубликовано: 12-06-2014
Автор(ы): Stecker Scott, Wollenhaupt Phillip E.
Принадлежит: Sciaky, Inc.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 12-06-2014
Автор(ы): Stecker Scott, Wollenhaupt Phillip E.
Принадлежит: Sciaky, Inc.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for electron beam surfacing with vertical filler wire supply
Номер патента: RU2753069C1. Автор: Дмитрий Николаевич Трушников,Степан Владимирович Варушкин. Владелец: федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Пермский национальный исследовательский политехнический университет". Дата публикации: 2021-08-11.