A method of manufacturing a membrane assembly for euv lithography, a membrane assembly, a lithographic apparatus, and a device manufacturing method
Номер патента: EP3391151B1
Опубликовано: 16-02-2022
Автор(ы): Alexandar Nikolov Zdravkov, Johan Hendrik Klootwijk, Paul JANSSEN, Wilhelmus Theodorus Anthonius Johannes Van Den Einden
Принадлежит: ASML Netherlands BV
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 16-02-2022
Автор(ы): Alexandar Nikolov Zdravkov, Johan Hendrik Klootwijk, Paul JANSSEN, Wilhelmus Theodorus Anthonius Johannes Van Den Einden
Принадлежит: ASML Netherlands BV
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
An apparatus for shielding a reticle for lithography, a method for shielding a reticle of a lithography apparatus, a reticle assembly for lithography, and a pellicle assembly
Номер патента: TWI621909B. Автор: 詹姆士 諾門 威立,路奇 史卡巴羅茲,德克 瑟華提思 傑卓達 布朗司,埃斯皮諾札 朱安 狄亞哥 亞利亞司,威特 羅那堤 康尼斯 戴,佛羅利恩 笛狄爾 雅賓 答禮安,狄雅歌 佩卓 珠麗安 李左. Владелец: Asml荷蘭公司. Дата публикации: 2018-04-21.