MASK, FILM FORMING METHOD USING THE SAME, AND FILM FORMING APPARATUS
Номер патента: US20190093216A1
Опубликовано: 28-03-2019
Автор(ы): JIANG Zhiliang, QIAO Zi, ZHOU Zhenli
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 28-03-2019
Автор(ы): JIANG Zhiliang, QIAO Zi, ZHOU Zhenli
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Si-containing film forming precursors and methods of using the same
Номер патента: US09777025B2. Автор: Jean-Marc Girard,Peng Zhang,Antonio Sanchez,Manish Khandelwal,Gennadiy Itov,Reno Pesaresi. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2017-10-03.