개질 수소화 폴리실록사잔, 이를 포함하는 실리카계 절연층 형성용 조성물, 실리카계 절연층 형성용 조성물의 제조방법, 실리카계 절연층 및 실리카계 절연층의 제조방법
Номер патента: KR20140087998A
Опубликовано: 09-07-2014
Автор(ы): 곽택수, 김고은, 김미영, 김보선, 김봉환, 나융희, 박은수, 배진희, 서진우, 송현지, 윤희찬, 이한송, 임상학, 전종대, 한권우, 홍승희, 황병규
Принадлежит: 제일모직주식회사
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Method for pattern formation, method and composition for resist underlayer film formation, and resist underlayer film
Номер патента: US20120129353A1. Автор: Toru Kimura,Satoru Murakami,Shin-Ya Nakafuji,Shin-ya MINEGISHI. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-05-24.