SUBSTRATE SUPPORT AND BAFFLE APPARATUS
Номер патента: US20170098542A1
Опубликовано: 06-04-2017
Автор(ы): Han-Wen Chen, Jean Delmas, Roman Gouk, Steven Verhaverbeke
Принадлежит: Applied Materials Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 06-04-2017
Автор(ы): Han-Wen Chen, Jean Delmas, Roman Gouk, Steven Verhaverbeke
Принадлежит: Applied Materials Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Substrate support mechanism, substrate cleaning device and substrate processing method
Номер патента: US11948827B2. Автор: Mitsuru Miyazaki,Takuya Inoue,Hisajiro NAKANO. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-04-02.