Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

Monolithic anisotropic substrate supports

Номер патента: US20240128062A1
Опубликовано: 18-04-2024
Автор(ы): Joel Hollingsworth, Karl Leeser, Noah Elliot BAKER, Ramkishan LINGAMPALLI, Stephen TOPPING
Принадлежит: Lam Research Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Substrate support with varying depths of areas between mesas and corresponding temperature dependent method of fabricating

Номер патента: US20220380894A1. Автор: Ann Erickson,Keith Gaff,Devin Ramdutt. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2022-12-01.

Method of processing a substrate support assembly

Номер патента: US09580806B2. Автор: Vijay D. Parkhe,Wendell Glen BOYD, JR.,Sehn THACH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-02-28.

Rotating substrate support

Номер патента: US12106944B2. Автор: Yukihiro Mori. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-10-01.

Substrate support plate, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method

Номер патента: US20240363331A1. Автор: Seunghwan Lee,DaeYoun Kim,Jaehyun Kim. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-10-31.

Substrate supporting plate, apparatus including the substrate supporting plate, and method of using same

Номер патента: US20230392278A1. Автор: Seungwoo Choi,YongMin Yoo,Sungbae Kim,Dongseok Kang,JongWon Shon. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-12-07.

Substrate support with quadrants

Номер патента: US09677177B2. Автор: Soo Young Choi,Shinichi Kurita,Beom Soo Park,Robin L. Tiner,Gaku Furuta,Bora OH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-06-13.

SYSTEM AND METHOD FOR SUBSTRATE SUPPORT FEED-FORWARD TEMPERATURE CONTROL BASED ON RF POWER

Номер патента: US20180005857A1. Автор: Zhang Tao,PAPE Eric A.,Tian Siyuan,Zaninovich Jorge Jose. Владелец: . Дата публикации: 2018-01-04.

AN IMPROVED SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20180016677A1. Автор: WON Tae Kyung,ROY Subhasish,YADAV Sanjay D.,ACHARY Umesha,SEETHARAMU Raghav Mirle. Владелец: . Дата публикации: 2018-01-18.

SUBSTRATE SUPPORT WITH INCREASING AREAL DENSITY AND CORRESPONDING METHOD OF FABRICATING

Номер патента: US20180033672A1. Автор: Leeser Karl,Woytowitz Peter,Burkhart Vincent,Rumer Michael. Владелец: . Дата публикации: 2018-02-01.

Substrate supporter and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20140251540A1. Автор: Kyu-Sang Lee,Young-soo Seo,Young-Ki Han,Jun-Hyeok LEE. Владелец: Charm Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2014-09-11.

SUBSTRATE SUPPORTS WITH MULTI-LAYER STRUCTURE INCLUDING INDEPENDENT OPERATED HEATER ZONES

Номер патента: US20170229327A1. Автор: Comendant Keith,Benjamin Neil,Singh Harmeet,Gaff Keith. Владелец: . Дата публикации: 2017-08-10.

Substrate support, plasma processing system, and method of placing annular member

Номер патента: US20210280396A1. Автор: Kenichi Kato,Shin Matsuura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-09-09.

Substrate supporting apparatus and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: KR101420709B1. Автор: 이준혁,이규상,한영기,서영수. Владелец: 참엔지니어링(주). Дата публикации: 2014-07-22.

Substrate supporter and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: CN104046961A. Автор: 徐映水,韩泳琪,李埈爀,李奎尙. Владелец: Charm Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2014-09-17.

SUBSTRATE SUPPORTING PLATE, THIN FILM DEPOSITION APPARATUS INCLUDING THE SAME, AND THIN FILM DEPOSITION METHOD

Номер патента: US20210054519A1. Автор: CHOI Seung Woo,Yoo Yong Min,SHON Jong Won,Kang Dong Seok. Владелец: . Дата публикации: 2021-02-25.

METHOD OF PROCESSING A SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY

Номер патента: US20170167018A1. Автор: Thach Senh,Boyd,PARKHE Vijay D.,JR. Wendell Glen. Владелец: . Дата публикации: 2017-06-15.

Substrate Support Unit and Deposition Apparatus Including the Same

Номер патента: US20190203353A1. Автор: Lee Jun Sung,Im Ji Woon,JEON IL JUN,Uh Ji Ho,Lee Je Hak. Владелец: . Дата публикации: 2019-07-04.

SUBSTRATE SUPPORTING PLATE, THIN FILM DEPOSITION APPARATUS INCLUDING THE SAME, AND THIN FILM DEPOSITION METHOD

Номер патента: US20170271191A1. Автор: CHOI Seung Woo,Yoo Yong Min,SHON Jong Won,Kang Dong Seok. Владелец: . Дата публикации: 2017-09-21.

SUBSTRATE SUPPORT PEDESTAL HAVING PLASMA CONFINEMENT FEATURES

Номер патента: US20170306494A1. Автор: Hammond,Rocha-Alvarez Juan Carlos,ZHOU Jianhua,Lin Xing,Cho Jaeyong,YE Zheng John,PARKHE Vijay D.,IV Edward P.,SU Zonghui. Владелец: . Дата публикации: 2017-10-26.

Substrate support, apparatus for processing substrate, and method of adjusting temperature of substrate

Номер патента: KR20220007518A. Автор: 도시키 고바야시,에이노스케 츠다. Владелец: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤. Дата публикации: 2022-01-18.

Substrate support assembly with non-uniform gas flow clearance

Номер патента: KR200496457Y1. Автор: 시니치 쿠리타,로빈 엘. 티너. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2023-02-06.

Substrate support with radio frequency (RF) return path

Номер патента: US09340866B2. Автор: Thanh X. Nguyen,Ananthkrishna Jupudi,Alan Ritchie,Kirankumar Savandaiah,Donny Young,Wei W. Wang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-05-17.

Substrate support assembly, substrate support, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20230352280A1. Автор: Yuki AHIKO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Substrate support for processing a substrate, vacuum processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: WO2019096425A1. Автор: Reiner Hinterschuster,Anke Hellmich,Simon Lau. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2019-05-23.

Esc substrate support with chucking force control

Номер патента: US20190067070A1. Автор: Wendell Glenn Boyd, JR.,Zhenwen Ding,Jim Zhongyi He. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-02-28.

Esc substrate support with chucking force control

Номер патента: WO2019046054A1. Автор: Zhenwen Ding,Jim Zhongyi He,Jr. Wendell Glenn Boyd. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2019-03-07.

Substrate supporting device, a substrate processing apparatus including the same, and a substrate processing method using the same

Номер патента: US20240162017A1. Автор: Heewon MIN,Dongyun Yeo,Juho Kim,Songyun Kang,Kuihyun YOON,Seungbin LIM,Youngrok KWON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-16.

Substrate supporting plate, thin film deposition apparatus including the same, and thin film deposition method

Номер патента: US11965262B2. Автор: Yong Min Yoo,Seung Woo Choi,Dong Seok Kang,Jong Won SHON. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-04-23.

Adjustable thermal break in a substrate support

Номер патента: US11764041B2. Автор: Andreas Schmid,Stephen Donald PROUTY,Alvaro Garcia de Gorordo,Andrew Antoine NOUJAIM,Daniel Sang BYUN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-19.

Substrate supporting plate, thin film deposition apparatus including the same, and thin film deposition method

Номер патента: US20240158942A1. Автор: Yong Min Yoo,Seung Woo Choi,Dong Seok Kang,Jong Won SHON. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-05-16.

Substrate supporting member and substrate processing apparatus including same

Номер патента: US20220406577A1. Автор: Sang Kee LEE. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-22.

Substrate supports including metal-ceramic interfaces

Номер патента: US20200173017A1. Автор: JIAN Li,Juan Carlos Rocha,Chidambara A. Ramalingam,Katty Marie Lydia Gamon GUYOMARD,Joseph M. POLESE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-06-04.

Substrate supporting member and substrate processing apparatus including same

Номер патента: US20190115194A1. Автор: Sang Kee LEE. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2019-04-18.

Substrate support apparatus and method for manufacturing substrate using the same

Номер патента: US20240258143A1. Автор: Dongwook Kim,Jewook KIM,Indeock HONG,Chansuk PARK,JaeKwang RYU. Владелец: Sunic System Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate support apparatus and method

Номер патента: US12027407B2. Автор: Chi-Hung Liao,Fei-Gwo Tsai,Yueh Lin YANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

Substrate support assembly and substrate processing device including the same

Номер патента: US12107000B2. Автор: Jaemin Roh,JuIll Lee,GunYong Park. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-10-01.

Substrate supports with mesochannel assemblies

Номер патента: US20240213081A1. Автор: Kevin Flynn,Spoorthi SUBRAMANYA,Shivakumara REVANNA,Chandrashekara Kuashik GANDUR BALAGANGADHARA,Muskaan JAIN,Santosh Kumar KRISHNA MURTHY. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate supports including bonding layers with stud arrays for substrate processing systems

Номер патента: WO2021183279A1. Автор: Ann Erickson,Siyuan Tian. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2021-09-16.

Batch substrate support with warped substrate capability

Номер патента: US20210233790A1. Автор: Ananthkrishna Jupudi,Ribhu GAUTAM,Shashidhara Patel. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-07-29.

Batch substrate support with warped substrate capability

Номер патента: WO2019213109A1. Автор: Ananthkrishna Jupudi,Ribhu GAUTAM,Shashidhara Patel. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2019-11-07.

Batch substrate support with warped substrate capability

Номер патента: US11784075B2. Автор: Ananthkrishna Jupudi,Ribhu GAUTAM,Shashidhara Patel. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-10.

Batch substrate support with warped substrate capability

Номер патента: US20190341286A1. Автор: Ananthkrishna Jupudi,Ribhu GAUTAM,Shashidhara Patel. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-11-07.

Substrate supports, semiconductor processing systems having substrate supports, and methods of making substrate supports for semiconductor processing systems

Номер патента: US20230212752A1. Автор: Hong Gao,Zhengyan Zhou. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-07-06.

Gas cooled substrate support for stabilized high temperature deposition

Номер патента: US09790589B2. Автор: Brian West,Jeonghoon Oh,Michael S. Cox. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-17.

Substrate support assembly and substrate processing device including the same

Номер патента: US20230253238A1. Автор: Jaemin Roh,JuIll Lee,GunYong Park. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-08-10.

Shadow ring alignment for substrate support

Номер патента: US20240203703A1. Автор: Vinayakaraddy GULABAL,Ravi Vellanki,Gary B. Lind,Andrew Paul EIB. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate support unit, and apparatus and method for depositing a layer using the same

Номер патента: US20240063051A1. Автор: Klaus MÜNDLE,Andreas Mark,Florian HAGMANN. Владелец: EVATEC AG. Дата публикации: 2024-02-22.

Low mass substrate support

Номер патента: EP4338199A1. Автор: Hui Chen,Zhiyuan Ye,Shu-Kwan LAU,Lori D. Washington,John Newman,Xinning Luan,Kirk Allen Fisher,James M. AMOS,Shawn Joseph Bonham,Philip Michael Amos,Aimee S. Erhardt. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-20.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and substrate support

Номер патента: US20230304149A1. Автор: Kenichi Suzaki,Yuma IKEDA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate support with edge seal

Номер патента: US20190326152A1. Автор: CHANG Ke,LEI Zhou,Cheng-Hsiung Tsai,David Langtry,Song-Moon Suh,Yuanhong Guo,Bonnie Chia. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-10-24.

Overlapping substrate supports and pre-heat rings, and related process kits, processing chambers, methods, and components

Номер патента: WO2024167634A1. Автор: TAO Sheng,Hui Chen,Xinning Luan,Zhepeng Cong,Chen-ying WU,NIMROD SMITH. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-15.

Overlapping substrate supports and pre-heat rings, and related process kits, processing chambers, methods, and components

Номер патента: US20240274463A1. Автор: TAO Sheng,Hui Chen,Xinning Luan,Zhepeng Cong,Chen-ying WU,NIMROD SMITH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-15.

Gas flow substrate supports, processing chambers, and related methods and apparatus, for semiconductor manufacturing

Номер патента: US20240363390A1. Автор: Hui Chen,Shawn Thomas,Xinning Luan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-31.

Gas flow substrate supports, processing chambers, and related methods and apparatus, for semiconductor manufacturing

Номер патента: WO2024226125A1. Автор: Hui Chen,Shawn Thomas,Xinning Luan. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-10-31.

Substrate support chuck cooling for deposition chamber

Номер патента: US09865489B2. Автор: Brian West,Vijay Parkhe,Robert Hirahara,Dan Deyo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-01-09.

Substrate support chuck cooling for deposition chamber

Номер патента: US09668373B2. Автор: Brian West,Vijay Parkhe,Robert Hirahara,Dan Deyo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-05-30.

Coated substrate support assembly for substrate processing

Номер патента: EP4367715A1. Автор: HAO WANG,Yi-Chiau Huang,Songjae Lee,David Jorgensen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-15.

Substrate support device

Номер патента: US09551071B2. Автор: Toshihiko Hanamachi,Daisuke Hashimoto,Yasuaki Ishioka. Владелец: NHK Spring Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-24.

Tab arrangement for retaining support elements of substrate support

Номер патента: US20230402311A1. Автор: Yao-Hung Yang,Gaurav Shrivastava,Pavankumar Ramanand HARAPANHALLI,Fred Eric Ruhland. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-14.

Tab arrangement for retaining support elements of substrate support

Номер патента: WO2023244497A1. Автор: Yao-Hung Yang,Gaurav Shrivastava,Pavankumar Ramanand HARAPANHALLI,Fred Eric Ruhland. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-12-21.

Coated substrate support assembly for substrate processing in processing chambers

Номер патента: US20240141488A1. Автор: HAO WANG,Yi-Chiau Huang,Songjae Lee,David Jorgensen,Christopher BEAUDRY. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Coated substrate support assembly for substrate processing in processing chambers

Номер патента: WO2024091303A1. Автор: HAO WANG,Yi-Chiau Huang,Songjae Lee,David Jorgensen,Christopher BEAUDRY. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-05-02.

Coated substrate support assembly for substrate processing

Номер патента: WO2023282982A1. Автор: HAO WANG,Yi-Chiau Huang,Songjae Lee,David Jorgensen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-01-12.

Substrate support device

Номер патента: US20150376783A1. Автор: Toshihiko Hanamachi,Daisuke Hashimoto,Yasuaki Ishioka. Владелец: NHK Spring Co Ltd. Дата публикации: 2015-12-31.

Substrate supporting unit and film forming device having substrate supporting unit

Номер патента: EP3591690A1. Автор: Toshihiko Hanamachi,Go Takahara,Arata Tatsumi. Владелец: NHK Spring Co Ltd. Дата публикации: 2020-01-08.

A substrate support for supporting a substrate having a front surface to be processed and an opposing back surface, a method for processing a substrate, a vacuum processing apparatus and a substrate processing system

Номер патента: TW201936949A. Автор: 賽門 勞,安格 海幕奇,萊納 亨特史豪特. Владелец: 美商應用材料股份有限公司. Дата публикации: 2019-09-16.

Substrate supporting unit and film forming device having the substrate supporting unit

Номер патента: US11201040B2. Автор: Toshihiko Hanamachi,Go Takahara,Arata Tatsumi. Владелец: NHK Spring Co Ltd. Дата публикации: 2021-12-14.

Structure of substrate supporting table, and plasma processing apparatus

Номер патента: US20120111502A1. Автор: Ryuichi Matsuda,Kazuto Yoshida. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2012-05-10.

Soft chucking and dechucking for electrostatic chucking substrate supports

Номер патента: US20190080949A1. Автор: Wendell Glenn Boyd, JR.,Jim Zhongyi He. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-03-14.

SUBSTRATE SUPPORT WITH VARYING DEPTHS OF AREAS BETWEEN MESAS AND CORRESPONDING TEMPERATURE DEPENDENT METHOD OF FABRICATING

Номер патента: US20180148835A1. Автор: Gaff Keith,Ramdutt Devin,ERICKSON Ann. Владелец: . Дата публикации: 2018-05-31.

SUBSTRATE SUPPORTS INCLUDING METAL-CERAMIC INTERFACES

Номер патента: US20200173017A1. Автор: Li Jian,Rocha Juan Carlos,RAMALINGAM Chidambara A.,POLESE Joseph M.,GUYOMARD Katty Marie Lydia Gamon. Владелец: . Дата публикации: 2020-06-04.

BOLTLESS SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY

Номер патента: US20180261492A1. Автор: Chen Zhigang,Fu Yuehong,HAO Fangli. Владелец: . Дата публикации: 2018-09-13.

SUBSTRATE SUPPORTING MEMBER AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING SAME

Номер патента: US20220406577A1. Автор: LEE Sang Kee. Владелец: SEMES CO., LTD.. Дата публикации: 2022-12-22.

Gas cooled substrate support for stabilized high temperature deposition

Номер патента: KR102299392B1. Автор: 브라이언 웨스트,미쉘 에스. 콕스,정훈 오. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2021-09-06.

Substrate support pedestal with plasma limited features

Номер патента: CN109314039A. Автор: 周建华,J·赵,林兴,Z·J·叶,J·C·罗查-阿尔瓦雷斯,E·P·哈蒙德四世,Z·苏. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-02-05.

Substrate support and method for substrate processing

Номер патента: TWI785812B. Автор: 艾瑞克 Ａ 派博. Владелец: 美商蘭姆研究公司. Дата публикации: 2022-12-01.

SUBSTRATE SUPPORTING UNIT, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE SUPPORTING UNIT

Номер патента: US20160049317A1. Автор: Yang Il-Kwang,Je Sung-Tae,LEE Dong-Keun,CHU Kyung-Jin. Владелец: . Дата публикации: 2016-02-18.

Substrate support device

Номер патента: TWI621204B. Автор: Toshihiko Hanamachi,Daisuke Hashimoto,Junichi Miyahara,Kazuhiro Yonekura,Jun Futakuchiya,Toshihiro Tachikawa,Go Takahara. Владелец: NHK Spring Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-11.

Substrate support assembly and substrate processing device including the same

Номер патента: US20210013085A1. Автор: Jaemin Roh,JuIll Lee,GunYong Park. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2021-01-14.

SUBSTRATE SUPPORT APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20190027392A1. Автор: Tsai Fei-Gwo,Liao Chi-Hung,YANG Yueh Lin. Владелец: . Дата публикации: 2019-01-24.

ELECTROSTATIC SHIELD FOR SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20190043698A1. Автор: PARKHE Vijay D.. Владелец: . Дата публикации: 2019-02-07.

METHOD OF PROCESSING A SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY

Номер патента: US20150059974A1. Автор: Boyd,PARKHE Vijay D.,JR. Wendell Glen,THACH Sehn. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2015-03-05.

SUBSTRATE SUPPORT WITH COOLED AND CONDUCTING PINS

Номер патента: US20190088518A1. Автор: Lee Wonseok,KOH Travis Lee,KRAUS Philip Allan. Владелец: . Дата публикации: 2019-03-21.

SUBSTRATE SUPPORT CHUCK COOLING FOR DEPOSITION CHAMBER

Номер патента: US20170229334A1. Автор: West Brian,Hirahara Robert,Parkhe Vijay,DEYO DAN. Владелец: . Дата публикации: 2017-08-10.

SUBSTRATE SUPPORT WITH QUADRANTS

Номер патента: US20170231033A1. Автор: CHOI Soo Young,PARK Beom Soo,KURITA Shinichi,FURUTA Gaku,TINER Robin L.,OH Bora. Владелец: . Дата публикации: 2017-08-10.

Substrate supporting apparatus and manufacturing method thereof

Номер патента: US20190226085A1. Автор: Sung Ho Park,Il Kim,Chan Oh,Suk Chae JANG,Sung Woon JUNG,Sang Koo JANG. Владелец: Sang Gu Precision Co Ltd. Дата публикации: 2019-07-25.

Substrate support unit, thin film deposition apparatus including the same, and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US11414760B2. Автор: Yonggyu Han,KiChul Um,JeungHoon Han,DooHan Kim. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2022-08-16.

Substrate supporting assembly and substrate processing device comprising same

Номер патента: CN112216646A. Автор: 李主日,卢载旻,朴健溶. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2021-01-12.

Substrate supporting unit, thin film deposition apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: CN111005007A. Автор: 韩政勋,严基喆,金头汉,韩镕圭. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2020-04-14.

Substrate supporting unit

Номер патента: CN114657541A. Автор: 高东铉,韩政勋,严基喆,金头汉,韩镕圭,柳太熙,林完奎. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2022-06-24.

ball bushing for substrate support member

Номер патента: KR101990542B1. Автор: 정미자. Владелец: 주식회사 트리셀. Дата публикации: 2019-06-18.

Substrate support structure with rapid temperature change

Номер патента: WO2008051670A2. Автор: David Bour,Lori D. Washington. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2008-05-02.

Substrate processing apparatus, substrate support, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11929272B2. Автор: Kenichi Suzaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-03-12.

Susceptor, Substrate Support Member, Apparatus for Processing Substrate Including Susceptor and Substrate Support Member, Method of Manufacturing Susceptor, and Method of Manufacturing Substrate Support Member

Номер патента: KR20220025800A. Автор: 권수영,박상화. Владелец: 주성엔지니어링(주). Дата публикации: 2022-03-03.

SUBSTRATE SUPPORTING UNIT, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE SUPPORTING UNIT

Номер патента: US20170110347A1. Автор: Yang Il-Kwang,Je Sung-Tae,LEE Dong-Keun,CHU Kyung-Jin. Владелец: EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.. Дата публикации: 2017-04-20.

Substrate supporting unit and substrate processing apparatus manufacturing method of the substrate supporting unit

Номер патента: US9761473B2. Автор: Sung-kil CHO,Hai Won Kim. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-12.

Substrate support assembly and support method

Номер патента: JP2004505446A. Автор: ビョルクマン　クレス,ドアン　ケニー,プ　ブライヤン,ノールバクシュ　ハミド. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-02-19.

Substrate support with adjustable lift and rotation mount

Номер патента: TWI372442B. Автор: Jeffrey Campbell,Brian H Burrows. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2012-09-11.

Substrate support with adjustable lift and rotation mount

Номер патента: TW200822278A. Автор: Jeffrey Campbell,Brian H Burrows. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2008-05-16.

SUBSTRATE SUPPORTING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20220044956A1. Автор: CHOI Seung Woo,LEE Seung Hwan,Park Ju Hyuk. Владелец: . Дата публикации: 2022-02-10.

BATCH SUBSTRATE SUPPORT WITH WARPED SUBSTRATE CAPABILITY

Номер патента: US20210233790A1. Автор: Jupudi Ananthkrishna,GAUTAM RIBHU,Patel Shashidhara. Владелец: . Дата публикации: 2021-07-29.

SUBSTRATE SUPPORTING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20190311940A1. Автор: CHOI Seung Woo,LEE Seung Hwan,Park Ju Hyuk. Владелец: . Дата публикации: 2019-10-10.

SUBSTRATE SUPPORT PEDESTAL

Номер патента: US20200312683A1. Автор: Miller Keith A.,Mazzocco John J.,WANG Wei W.,LAVITSKY Ilya. Владелец: . Дата публикации: 2020-10-01.

SUBSTRATE SUPPORT WITH EDGE SEAL

Номер патента: US20190326152A1. Автор: Zhou Lei,SUH SONG-MOON,Tsai Cheng-Hsiung,Langtry David,Guo Yuanhong,KE CHANG,CHIA BONNIE. Владелец: . Дата публикации: 2019-10-24.

BATCH SUBSTRATE SUPPORT WITH WARPED SUBSTRATE CAPABILITY

Номер патента: US20190341286A1. Автор: Jupudi Ananthkrishna,GAUTAM RIBHU,Patel Shashidhara. Владелец: . Дата публикации: 2019-11-07.

Smooth multipart substrate support member for cvd

Номер патента: WO2002095808A1. Автор: William A. Bagley,Ericka M. Ramirez,Stephen C. Wolgast. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2002-11-28.

Substrate support shield in wafer processing reactors

Номер патента: KR100252334B1. Автор: 두보오이스 달리알,알란에프.모리손,리챠드에이.마르쉬,메이챵. Владелец: 조셉 제이. 스위니. Дата публикации: 2000-05-01.

Semiconductor substrate-supporting apparatus

Номер патента: KR100861564B1. Автор: 기요시 사토,히로끼 아라이. Владелец: 에이에스엠 저펜 가부시기가이샤. Дата публикации: 2008-10-02.

Substrate support device of system for manufacturing OLED

Номер патента: KR101367159B1. Автор: 정기택,안재곤. Владелец: 엘아이지에이디피 주식회사. Дата публикации: 2014-02-26.

Substrate support lift mechanism

Номер патента: US7871470B2. Автор: Eric W. Schieve,Keith K. Koai,David T. Or,Rene T. Correa. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2011-01-18.

Smooth multipart substrate support member for ???

Номер патента: KR100570559B1. Автор: 윌리암 에이. 배글리,에리카 엠. 라미레즈,스티븐 씨. 울가스트. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2006-04-13.

Rotating substrate support and methods of use

Номер патента: KR100979329B1. Автор: 니르 메리,알렉산더 탐,자콥 스미쓰,알 설야나라야난 아이어,션 셰터,빈 트란,아담 브라이러브,로버트 시도 주니어.,로버트 앤드류,프랭크 로버트,테오도레 스믹크,제프리 리딩. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2010-08-31.

Substrate support lift mechanism

Номер патента: KR20050109547A. Автор: 에릭 더블유. 쉬에브,데이비드 티. 오알,케이쓰 케이. 코아이,레네 티. 코레아. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2005-11-21.

Roughened substrate support

Номер патента: CN104508180A. Автор: D·李,崔寿永,W·N·斯特林,朴范洙. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2015-04-08.

Semiconductor substrate-supporting apparatus

Номер патента: US6761771B2. Автор: Hiroki ARAI,Kiyoshi Satoh. Владелец: ASM Japan KK. Дата публикации: 2004-07-13.

Methods for using a rotating substrate support

Номер патента: KR101343025B1. Автор: 니르 메리,알렉산더 탐,자콥 스미쓰,알 설야나라야난 아이어,션 셰터,빈 트란,아담 브라이러브,로버트 시도 주니어.,로버트 앤드류,프랭크 로버트,테오도레 스믹크,제프리 리딩. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2013-12-18.

Substrate supports for semiconductor processing systems

Номер патента: US20230128390A1. Автор: Xing Lin,Wentao Wang,Zhizhong Chen,Shujin Huang,Junweli Su,Jiwen Xiang. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-04-27.

Use of rotatable substrate supporting mechanism with temperature sensing device in chemical vapor deposition equipment

Номер патента: EP0592017B1. Автор: Albert E. Ozias,Wiebe De Boer. Владелец: ASM America Inc. Дата публикации: 2001-09-12.

Plasma processing method and plasma processing apparatus including applying a voltage to a lower electrode in a substrate support with a gas supplied into a chamber

Номер патента: US20240222085A1. Автор: Koichiro Nakamura,Norihisa Kiyofuji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Substrate supporting unit and a substrate processing device including the same

Номер патента: US11866823B2. Автор: Seunghwan Lee,HakYong Kwon,Sungbae Kim,Jongsu Kim,JuHyuk Park. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-01-09.

METHOD FOR MAKING A SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: FR2960340B1. Автор: Frank Fournel,Marc Zussy,Laurent Bally,Dominique Jourde. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA. Дата публикации: 2012-06-29.

METHOD FOR MAKING A SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: FR2960340A1. Автор: Frank Fournel,Marc Zussy,Laurent Bally,Dominique Jourde. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA. Дата публикации: 2011-11-25.

Structure composite comprenant une couche mince monocristalline sur un substrat support en carbure de silicium poly-cristallin et procede de fabrication associe

Номер патента: WO2024175519A1. Автор: Christophe Bommier,Alexandre Potier,Hugo BIARD,Marc Ferrato. Владелец: SOITEC. Дата публикации: 2024-08-29.

Structure composite comprenant une couche mince monocristalline sur un substrat support en carbure de silicium poly-cristallin et procede de fabrication associe

Номер патента: FR3146236A1. Автор: Christophe Bommier,Alexandre Potier,Hugo BIARD,Marc Ferrato. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2024-08-30.

Laminate body, method, and materials for temporary substrate support and support separation

Номер патента: EP2828883A1. Автор: Eric G. Larson,Wayne S. Mahoney,Blake R. Dronen. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2015-01-28.

Structure composite comprenant une couche mince monocristalline sur un substrat support en carbure de silicium poly-cristallin et procede de fabrication associe

Номер патента: WO2023186498A1. Автор: Alexandre Potier,Hugo BIARD,Marc Ferrato,Pablo LEFEVRE. Владелец: SOITEC. Дата публикации: 2023-10-05.

Structure composite comprenant une couche mince monocristalline sur un substrat support en carbure de silicium poly-cristallin et procede de fabrication associe

Номер патента: FR3134234B1. Автор: Alexandre Potier,Hugo BIARD,Marc Ferrato,Pablo LEFEVRE. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2024-02-23.

Substrate supports, semiconductor processing systems, and material layer deposition methods

Номер патента: US20230386874A1. Автор: Xing Lin,Wentao Wang,Junwei Su,Shujin Huang. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-11-30.

Structure composite comprenant une couche mince monocristalline sur un substrat support en carbure de silicium poly-cristallin et procede de fabrication associe

Номер патента: FR3134234A1. Автор: Alexandre Potier,Hugo BIARD,Marc Ferrato,Pablo LEFEVRE. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2023-10-06.

Automated temperature controlled substrate support

Номер патента: WO2022256138A1. Автор: Robert Hartwig,Brian T. West,Dinkesh HUDERI SOMANNA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-12-08.

Automated temperature controlled substrate support

Номер патента: US11981989B2. Автор: Robert Hartwig,Brian T. West,Dinkesh HUDERI SOMANNA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-14.

Method of mounting wires to substrate support ceramic

Номер патента: US20230253192A1. Автор: Quan Chau,Oleksandr MIKHNENKO. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-08-10.

Substrate support having dynamic temperature control

Номер патента: US20110262315A1. Автор: Robert J. Steger. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2011-10-27.

GAS COOLED SUBSTRATE SUPPORT FOR STABILIZED HIGH TEMPERATURE DEPOSITION

Номер патента: US20180037987A1. Автор: OH JEONGHOON,Cox Michael S.,West Brian. Владелец: . Дата публикации: 2018-02-08.

SUBSTRATE SUPPORTING UNIT AND A SUBSTRATE PROCESSING DEVICE INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20200141003A1. Автор: Kim Sungbae,Lee SeungHwan,KIM Jongsu,KWON HakYong,PARK Juhyuk. Владелец: . Дата публикации: 2020-05-07.

HEATING AND COOLING OF SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20150364350A1. Автор: WHITE John M.,TINER Robin L.. Владелец: . Дата публикации: 2015-12-17.

Clamshell and small volume chamber with fixed substrate support

Номер патента: US20030221780A1. Автор: Avi Tepman,Ming Xi,Alfred Mak,Lawrence Lei,Gwo-Chuan Tzu,Walter Glenn. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-12-04.

Clamshell and small volume chamber with fixed substrate support

Номер патента: US6866746B2. Автор: Avi Tepman,Ming Xi,Gwo-Chuan Tzu,Lawrence C. Lei,Alfred W. Mak,Walter Benjamin Glenn. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2005-03-15.

Clamshell and small volume chamber with fixed substrate support

Номер патента: US20050139160A1. Автор: Avi Tepman,Ming Xi,Alfred Mak,Lawrence Lei,Gwo-Chuan Tzu,Walter Glenn. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2005-06-30.

Substrate supports with multilayer structure including coupled heater zones with local thermal control

Номер патента: WO2022035629A1. Автор: Slobodan Mitrovic,Harmeet Singh,Darrell EHRLICH,Benny Wu. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2022-02-17.

Substrate support structures and methods of making substrate support structures

Номер патента: US20230013637A1. Автор: Hong Gao,Joaquin Aguilar SANTILLAN,Shanker KUTTATH. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-01-19.

Trim and deposition profile control with multi-zone heated substrate support for multi-patterning processes

Номер патента: US12071689B2. Автор: Ravi Kumar,Adrien Lavoie,Pulkit Agarwal,Ramesh Chandrasekharan,Michael Philip Roberts,Nuoya YANG,Chan Myae Myae SOE,Ashish Saurabh. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Heating a substrate support in a substrate handling chamber

Номер патента: EP1097111A1. Автор: Emanuel Beer,Duoyan Shen,Eitan Zohar,Marc M. Kollrack. Владелец: Beer Emanuel. Дата публикации: 2001-05-09.

Connector for substrate support with embedded temperature sensors

Номер патента: US12077862B2. Автор: Donald J. Miller,Siyuan Tian. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-09-03.

Substrate support device for a reaction chamber of an epitaxial reactor with gas flow rotation, reaction chamber and epitaxial reactor

Номер патента: EP4065747A1. Автор: Maurilio Meschia,Silvio PRETI. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2022-10-05.

Heating a substrate support in a substrate handling chamber

Номер патента: WO2000002824A1. Автор: Emanuel Beer,Duoyan Shen,Eitan Zohar,Marc M. Kollrack. Владелец: Applied Komatsu Technology, Inc.. Дата публикации: 2000-01-20.

Substrate support unit, substrate processing apparatus, and method for manufacturing substrate support unit

Номер патента: JP5395810B2. Автор: リ，ドンーキュン,チョ，ギョンージン,ジェ，ソンーテ,ヤン，イルークァン. Владелец: ユージン テクノロジー カンパニー リミテッド. Дата публикации: 2014-01-22.

Substrate Support, Substrate Processing Apparatus and Method of Manufacturing Semiconductor Device

Номер патента: US20240162067A1. Автор: Daiki Taniguchi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-05-16.

Substrate support in a reactive sputter chamber

Номер патента: WO2010077750A3. Автор: David Tanner,Hien-Minh Huu Le. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2010-10-21.

Substrate support in a reactive sputter chamber

Номер патента: WO2010077750A2. Автор: David Tanner,Hien-Minh Huu Le. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2010-07-08.

Apparatuses for measuring gap between a substrate support plane and gas distribution device

Номер патента: US20240213060A1. Автор: Adriana VINTILA,Shriram Vasant BAPAT,Emily Ann ALDEN,Damien Martin SLEVIN. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

System for depositing one or more layers on a substrate supported by a carrier and method using the same

Номер патента: US09899635B2. Автор: Dieter Haas,Stefan Bangert,Jose Manuel Dieguez-Campo,Uwe Schüβler. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-02-20.

Substrate processing apparatus, substrate support, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20210035835A1. Автор: Kenichi Suzaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2021-02-04.

SUBSTRATE SUPPORT WITH QUADRANTS

Номер патента: US20150114948A1. Автор: CHOI Soo Young,PARK Beom Soo,KURITA Shinichi,FURUTA Gaku,TINER Robin L.,OH Bora. Владелец: . Дата публикации: 2015-04-30.

System for depositing one or more layers on a substrate supported by a carrier, and methods of using the system

Номер патента: JP6741594B2. Автор: シュテファン バンゲルト，,ウーヴェ シューラー，,ホセ マヌエル ディエゲス−カンポ，,ホセ マヌエル ディエゲス−カンポ，,ディーター ハース，. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-08-19.

System for depositing one or more layers on a substrate supported by a carrier and method using the same

Номер патента: KR101985922B1. Автор: 디에터 하아스,슈테판 뱅거트,우베 슈외클러,요제 마누엘 디에구에츠-챔포. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2019-06-04.

Substrate support with real time force and film stress control

Номер патента: US20240258075A1. Автор: Matthew James Busche,Wendell Glenn Boyd, JR.,Govinda Raj. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Full-area counter-flow heat exchange substrate support

Номер патента: WO2017192265A1. Автор: John M. White. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2017-11-09.

Substrate support with real time force and film stress control

Номер патента: US20230253188A1. Автор: Matthew James Busche,Wendell Glenn Boyd, JR.,Govinda Raj. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-08-10.

Substrate support with real time force and film stress control

Номер патента: US11915913B2. Автор: Matthew James Busche,Wendell Glenn Boyd, JR.,Govinda Raj. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-27.

Dynamic temperature control of substrate support in substrate processing system

Номер патента: US11908715B2. Автор: Ramesh Chandrasekharan,Sairam Sundaram,Aaron Durbin. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-02-20.

Substrate support with ceramic insulation

Номер патента: WO2013133983A4. Автор: Soo Young Choi,John M. White,Shinichi Kurita,Suhail Anwar,Robin L. Tiner,Gaku Furuta. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2013-10-31.

Substrate support with radio frequency (rf) return path

Номер патента: WO2013184378A1. Автор: Vijay D. Parkhe,Ryan Hanson. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2013-12-12.

Systems and methods for substrate support temperature control

Номер патента: US11981998B2. Автор: JIAN Li,Rui CHENG,Zubin HUANG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-14.

Systems and methods for substrate support temperature control

Номер патента: US20240229240A1. Автор: JIAN Li,Rui CHENG,Zubin HUANG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Semiconductor substrate support power transmission components

Номер патента: WO2022081354A1. Автор: JIAN Li,Matthew Miller,Paul L. Brillhart,Katherine Woo,Shinnosuke KAWAGUCHI. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-04-21.

Substrate support including multiple radio frequency (rf) electrodes

Номер патента: US20240321560A1. Автор: Yulin Peng,Jinrong ZHAO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate support and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240339305A1. Автор: Hajime Tamura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Plasma processing apparatus and substrate support body

Номер патента: US20240266154A1. Автор: Shinya Ishikawa,Daiki HARIU,Haruka ENDO,Miyuki AOYAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Substrate support and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240339303A1. Автор: Makoto Kato,Takashi Kanazawa,Shin Yamaguchi,Daiki Satoh. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Substrate support and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240212996A1. Автор: Naoyuki Satoh,Shu KUSANO,Toshiyuki ARAKANE,Hikaru KIKUCHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Semiconductor substrate support leveling apparatus

Номер патента: US12131934B2. Автор: JIAN Li,David W. Groechel,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Paul L. Brillhart,Paul E. Fisher,Chidambara A. Ramalingam,Katherine Woo,Dorothea Buechel-Rimmel,Shinnosuke KAWAGUCHI,Joseph J. Farah. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-29.

Plasma processing apparatus and substrate support of plasma processing apparatus

Номер патента: US11972933B2. Автор: Masahiro DOGOME. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-30.

Systems and methods for substrate support temperature control

Номер патента: US12062567B2. Автор: Satish Radhakrishnan,Rui CHENG,Karthik Janakiraman,Diwakar Kedlaya,Zubin HUANG,Badri N. RAMAMURTHI,Paul L. Brillhart,Venkatanarayana SHANKARAMURTHY,Anton V. Baryshnikov. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-13.

Substrate support with improved process uniformity

Номер патента: US20240282551A1. Автор: Fangli Hao,Zhigang Chen,Yuehong Fu. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate support assembly having metal bonded protective layer

Номер патента: US09685356B2. Автор: Vijay D. Parkhe,Kadthala Ramaya Narendrnath. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-06-20.

Substrate support

Номер патента: US12148636B2. Автор: Masanori Takahashi,Shota Ezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-19.

Substrate support, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US11929240B2. Автор: Takehiro Ueda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-12.

Substrate support and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220254671A1. Автор: Shinya Ishikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-11.

Substrate support and plasma processing apparatus

Номер патента: US11798791B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Shingo Koiwa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-24.

Substrate support and substrate processing apparatus

Номер патента: US11961755B2. Автор: Shinya Ishikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-16.

Semiconductor substrate support with internal channels

Номер патента: US20210320023A1. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-10-14.

Semiconductor substrate support with internal channels

Номер патента: US20230005780A1. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-01-05.

Substrate support including multiple radio frequency (rf) electrodes

Номер патента: WO2024040522A1. Автор: Yulin Peng,Jinrong ZHAO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co., Ltd.. Дата публикации: 2024-02-29.

Substrate support and plasma processing apparatus

Номер патента: US20230268216A1. Автор: Takahiko Sato,Tsutomu Nagai,Shinya Ishikawa,Keigo TOYODA,Daiki HARIU,Takafumi TSUDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-24.

Substrate supporting apparatus

Номер патента: US20240079264A1. Автор: Jeonggil KIM,Jonggu LEE,Hyeonjin Kim,Kyoungwhan OH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-07.

A component of a substrate support assembly producing localized magnetic fields

Номер патента: WO2013039718A1. Автор: Sung Lee,Harmeet Singh,Brett Richardson,Keith Gaff. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2013-03-21.

Semiconductor substrate support with internal channels

Номер патента: WO2021206939A1. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-10-14.

Substrate support system for reduced autodoping and backside deposition

Номер патента: US7648579B2. Автор: Tony Keeton,Mike Halpin,Mark Hawkins,Robert Vyne,Paul Brabant,Matt G. Goodman,Jereon Stoutyesdijk,Ravinder Aggarwal,Lee Haen,Armand Ferro,Gregory M. Bartlett,Joseph P. Italiano,Bob Haro. Владелец: ASM America Inc. Дата публикации: 2010-01-19.

Plasma processing apparatus and substrate support

Номер патента: US20220415627A1. Автор: Akira Ishikawa,Ryota Nishi,Genki HIRATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-29.

Substrate support assembly, plasma processing apparatus, and plasma processing method

Номер патента: US20230298865A1. Автор: Yasuharu Sasaki,Masashi Ikegami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Substrate support

Номер патента: US11791139B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Shin Yamaguchi,Koei ITO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Substrate support and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240038507A1. Автор: Satoshi Taga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Substrate support and substrate processing device

Номер патента: US20240162075A1. Автор: Masato Takayama,Atsushi Kawabata,Akira Nagayama,Takeshi Akao,Koji Kawanishi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Semiconductor substrate support leveling apparatus

Номер патента: US20220108907A1. Автор: JIAN Li,David W. Groechel,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Paul L. Brillhart,Paul E. Fisher,Chidambara A. Ramalingam,Katherine Woo,Dorothea Buechel-Rimmel,Shinnosuke KAWAGUCHI,Joseph J. Farah. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-04-07.

Process kit for a substrate support

Номер патента: US20190229007A1. Автор: Yu Lei,Avgerinos V. Gelatos,Vikash Banthia,Muhannad MUSTAFA,Muhammad M. Rasheed,Victor H. Calderon,Shi Wei Toh,Yung-Hsin Lee,Anindita Sen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-07-25.

Substrate Support and Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20180374740A1. Автор: Takayuki Sato,Naoya Matsuura. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2018-12-27.

Substrate supporting apparatus and substrate treating apparatus including the same

Номер патента: US20240038508A1. Автор: Hyung Joon Kim,Jong Gun Lee,So Hyung Jiong. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Systems for controlling plasma density distribution profiles including multi-rf zoned substrate supports

Номер патента: US20230352272A1. Автор: Alexander Miller PATERSON,Juline Shoeb. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-11-02.

Substrate support gap pumping to prevent glow discharge and light-up

Номер патента: WO2023114410A1. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,Michael R. Rice,James David Carducci,Silverst Antony RODRIGUES. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-06-22.

Plasma processing apparatus and substrate support

Номер патента: US20240087857A1. Автор: Makoto Kato,Shoichiro Matsuyama,Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Substrate support and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240194514A1. Автор: Makoto Kato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate support with improved process uniformity

Номер патента: US11984296B2. Автор: Fangli Hao,Zhigang Chen,Yuehong Fu. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-05-14.

Substrate support device and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20230377932A1. Автор: Dongchan Lee,Su Hyung Lee. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Substrate support and plasma processing apparatus

Номер патента: US11935729B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Hajime Tamura,Shin Yamaguchi,Katsuyuki Koizumi,Tsuguto SUGAWARA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-19.

Edge ring assembly for a substrate support in a plasma processing chamber

Номер патента: US20200066495A1. Автор: Hamid Noorbakhsh,Anwar Husain,Reyn Wakabayashi. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-02-27.

Substrate support unit and plasma processing apparatus

Номер патента: US20230215708A1. Автор: Dongchan Lee,Jaekyung LEE,Jiseok Kim,Jehee Lee,Kiryong Lee. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-06.

Substrate support and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240194457A1. Автор: Yasuharu Sasaki,Hajime Tamura,Shin Yamaguchi,Katsuyuki Koizumi,Tsuguto SUGAWARA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate support and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240194458A1. Автор: Yasuharu Sasaki,Hajime Tamura,Shin Yamaguchi,Katsuyuki Koizumi,Tsuguto SUGAWARA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

LAMINATE BODY, METHOD, AND MATERIALS FOR TEMPORARY SUBSTRATE SUPPORT AND SUPPORT SEPARATION

Номер патента: US20150034238A1. Автор: Mahoney Wayne S.,Larson Eric G.,Dronen Blake R.. Владелец: . Дата публикации: 2015-02-05.

SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY WITH DEPOSITED SURFACE FEATURES

Номер патента: US20170140970A1. Автор: Boyd,PARKHE Vijay D.,JR. Wendell Glenn,Kuo Teng-Fang,Ding Zhenwen. Владелец: . Дата публикации: 2017-05-18.

METHODS FOR PROCESSING A SUBSTRATE USING MULTIPLE SUBSTRATE SUPPORT POSITIONS

Номер патента: US20140263169A1. Автор: LEE JOUNG JOO,Ritchie Alan A.,Miller Keith A.,JOHANSON William. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-09-18.

SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY HAVING SURFACE FEATURES TO IMPROVE THERMAL PERFORMANCE

Номер патента: US20180204747A1. Автор: KNYAZIK VLADIMIR. Владелец: . Дата публикации: 2018-07-19.

SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY WITH NON-UNIFORM GAS FLOW CLEARANCE

Номер патента: US20170275759A1. Автор: KURITA Shinichi,TINER Robin L.. Владелец: . Дата публикации: 2017-09-28.

SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY WITH DEPOSITED SURFACE FEATURES

Номер патента: US20180301364A1. Автор: Boyd,PARKHE Vijay D.,JR. Wendell Glenn,Kuo Teng-Fang,Ding Zhenwen. Владелец: . Дата публикации: 2018-10-18.

Substrate supporting device and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20180350653A1. Автор: Ju Hyuk Park,Young Seok Choi,Sang Jin Jeong,Jeung Hoon Han. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2018-12-06.

MULTIPLE ELECTRODE SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY AND PHASE CONTROL SYSTEM

Номер патента: US20160372307A1. Автор: Collins Kenneth S.,NGUYEN ANDREW,Ramaswamy Kartik,Lane Steven,Yang Yang,Rauf Shahid,Wong Lawrence,LINDLEY Roger Alan. Владелец: . Дата публикации: 2016-12-22.

Substrate support having dynamic temperature control

Номер патента: KR101476566B1. Автор: 로버트 제이 스티거. Владелец: 램 리써치 코포레이션. Дата публикации: 2014-12-24.

Substrate support with controlled sealing gap

Номер патента: US09543186B2. Автор: Gwo-Chuan Tzu,Olkan Cuvalci,Joel M. Huston. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Substrate support with gas introduction openings

Номер патента: WO2010083271A2. Автор: Soo Young Choi,John M. White,Sam H. Kim,Beom Soo Park,Robin L. Tiner,Carl A. Sorensen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2010-07-22.

Heated substrate support

Номер патента: EP1476896A1. Автор: Emanuel Beer,Makoto Inagawa. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-11-17.

Method of assembling substrate supporting apparatus

Номер патента: US20240261882A1. Автор: Kyu Tae Cho. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Substrate support and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200365380A1. Автор: Takehiro Ueda,Jun Hirose. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-11-19.

Substrate support and semiconductor manufacturing apparatus

Номер патента: US20130327274A1. Автор: Zempei Kawazu,Akihito Ohno. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2013-12-12.

Tunable temperature controlled substrate support assembly

Номер патента: US20240321620A1. Автор: Vijay D. Parkhe,Phillip R. Sommer,Konstantin Makhratchev,Steven E. Babayan,Zhiqiang Guo,Dan A. Marohl. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate support and semiconductor manufacturing apparatus

Номер патента: US09824911B2. Автор: Zempei Kawazu,Akihito Ohno. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Heated substrate support with temperature profile control

Номер патента: US09698074B2. Автор: Nir Merry,Leon Volfovski. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-07-04.

Tunable temperature controlled substrate support assembly

Номер патента: US09472435B2. Автор: Vijay D. Parkhe,Phillip R. Sommer,Konstantin Makhratchev,Steven E. Babayan,Zhiqiang Guo,Dan A. Marohl. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-10-18.

Substrate support apparatus

Номер патента: US20240222177A1. Автор: Yong Park. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Substrate supporter

Номер патента: US20240321619A1. Автор: Minsung Kim,Jun Hyung Kim,Sangyeon OH,Yunjae Lee,Youngil KANG,Inhwan Park,Jihyeong LEE,Yonjoo Kang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate support assembly having a plasma resistant protective layer

Номер патента: US09916998B2. Автор: Jennifer Y. Sun,Senh Thach,Biraja P. Kanungo,Vahid Firouzdor. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-03-13.

Substrate support assembly having rapid temperature control

Номер патента: US09883549B2. Автор: Michael D. Willwerth,Dan Katz,Theodoros Panagopoulos,John Holland,Alexander Matyushkin. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-01-30.

Locally heated multi-zone substrate support

Номер патента: US09472434B2. Автор: Michael S. Cox. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-10-18.

Substrate support in a millisecond anneal system

Номер патента: US10734262B2. Автор: Joseph Cibere. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-04.

Substrate support in a millisecond anneal system

Номер патента: US11810802B2. Автор: Joseph Cibere. Владелец: Mattison Technology Inc. Дата публикации: 2023-11-07.

A programmable substrate support for a substrate system

Номер патента: WO1999050891A1. Автор: Richard E. Shultz. Владелец: Progressive System Technologies, Inc.. Дата публикации: 1999-10-07.

Substrate Support with Gas Introduction Openings

Номер патента: US20120149194A1. Автор: Soo Young Choi,John M. White,Sam H. Kim,Beom Soo Park,Robin L. Tiner,Carl A. Sorensen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2012-06-14.

Substrate supporting unit, and apparatus and method for polishing substrate using the same

Номер патента: US20100130105A1. Автор: Taek Youb Lee. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2010-05-27.

Substrate Support Structure and Method for maintaining a substrate clamped to a substrate support Structure

Номер патента: GB2469113A. Автор: Hendrik Jan De Jong. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2010-10-06.

Substrate supporting edge ring with coating for improved soak performance

Номер патента: US20150187631A1. Автор: Joseph M. Ranish,Aaron Muir Hunter. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2015-07-02.

Substrate supporting table, substrate processing apparatus, and manufacture method for semiconductor device

Номер патента: US9786528B2. Автор: Masakazu Sakata. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-10-10.

Substrate support for reduced damage substrate backside

Номер патента: US11955362B2. Автор: Cheng-Hsiung Tsai,Gwo-Chuan Tzu,Joel M Huston. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-09.

Substrate support, method for loading a substrate on a substrate support location, lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US20170192359A1. Автор: Mircea Dusa,Martinus Hendrikus Antonius Leenders,Martijn Houben,Thomas Poiesz,Abraham Alexander SOETHOUDT,Justin Johannes Hermanus Gerritzen,Johannes Gerardus Maria Mulder,Paul VAN DONGEN,Marco Adrianus Peter Van Den Heuvel,Niek Elout De Kruijf,Antonie Hendrik VER WEIJ. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2017-07-06.

Substrate supporting apparatus

Номер патента: US20240105496A1. Автор: Yang Liu,Feng Liu,HUI Wang,Fuping CHEN,Xiaofeng Tao,Shena JIA,Haibo Hu. Владелец: ACM Research Shanghai Inc. Дата публикации: 2024-03-28.

Substrate support assembly

Номер патента: SG145633A1. Автор: Abhijit Desai,Christopher Richard Mahon,Robert T Hirahira. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2008-09-29.

Reducing temperature transition in a substrate support

Номер патента: US20180174879A1. Автор: Tao Zhang,Eric A. Pape,Ole Waldmann. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-06-21.

Apparatus, system, and method for non-contact temperature monitoring of substrate supports

Номер патента: US20230282500A1. Автор: Thomas Brezoczky,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Bhaskar PRASAD,Srinivasa Rao Yedla. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-07.

Electrical connector for a substrate support assembly

Номер патента: US20240235097A1. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate support carrier having multiple ceramic discs

Номер патента: US20240249965A1. Автор: Glen T. Mori,Stephen Donald PROUTY,Arvinder Manmohan Singh CHADHA,Christopher BEAUDRY,Jonathan Simmons,Anand Durairajan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Electrical connector for a substrate support assembly

Номер патента: WO2024151413A1. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate support designs for a deposition chamber

Номер патента: US20210375658A1. Автор: Govinda Raj,Kaushik RAO,Anubhav Srivastava,Santhosh Kumar PILLAPPA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-12-02.

Substrate support carrier having multiple ceramic discs

Номер патента: WO2024155491A1. Автор: Glen T. Mori,Stephen Donald PROUTY,Arvinder Manmohan Singh CHADHA,Christopher BEAUDRY,Jonathan Simmons,Anand Durairajan. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-07-25.

Locally heated multi-zone substrate support

Номер патента: US09735037B2. Автор: Michael S. Cox. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-08-15.

Substrate support with pressure zones having reduced contact area and temperature feedback

Номер патента: US5761023A. Автор: Shijian Li,Fred C. Redeker,Tetsuya Ishikawa,Brian Lue,Manus Wong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1998-06-02.

Tunable temperature controlled substrate support assembly

Номер патента: US12009244B2. Автор: Vijay D. Parkhe,Phillip R. Sommer,Konstantin Makhratchev,Steven E. Babayan,Zhiqiang Guo,Dan A. Marohl. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-11.

Substrate supporting apparatus

Номер патента: WO2014082196A1. Автор: HUI Wang,Fuping CHEN,Wenjun Wang,Huaidong ZHANG. Владелец: ACM Research (Shanghai) Inc.. Дата публикации: 2014-06-05.

Long-life high-power terminals for substrate support with embedded heating elements

Номер патента: WO2020061019A1. Автор: Siyuan Tian. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2020-03-26.

Spring-loaded seal cover band for protecting a substrate support

Номер патента: WO2024059276A1. Автор: Feng Wang,Slobodan Mitrovic,Darrell EHRLICH,Eric SAMULON,Yixuan Yu,Khoa Dang TRUONG,Behnam BEHZIZ,Roger LIE,Andra Yuting CHEN. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate support for chucking of mask for deposition processes

Номер патента: US11967516B2. Автор: Jun Li,Tae Kyung Won,Shouqian Shao,Jrjyan Jerry Chen,Sanjay D. Yadav,Surendra Kanimihally SETTY. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-23.

Substrate support assembly having a plasma resistant protective layer

Номер патента: WO2014089244A1. Автор: Jennifer Y. Sun,Senh Thach,Biraja P. Kanungo,Vahid Firouzdor. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-06-12.

Substrate supporting apparatus

Номер патента: US20190311938A1. Автор: HUI Wang,Jun Wu,Fuping CHEN,Wenjun Wang,Fufa Chen,Zhiyou Fang. Владелец: ACM Research Shanghai Inc. Дата публикации: 2019-10-10.

Substrate supporting apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230030470A1. Автор: Ryo SHINOZAKI. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-02-02.

Substrate support designs for a deposition chamber

Номер патента: WO2020086122A1. Автор: Govinda Raj,Kaushik RAO,Anubhav Srivastava,Santhosh Kumar PILLAPPA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-04-30.

High-temperature substrate support assembly with failure protection

Номер патента: US20230377930A1. Автор: Ashish Goel,Martin Perez-Guzman,Suresh Gupta,Denis Martin Koosau. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-23.

High-temperature substrate support assembly with failure protection

Номер патента: WO2023224994A1. Автор: Ashish Goel,Martin Perez-Guzman,Suresh Gupta,Denis Martin Koosau. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-11-23.

Substrate support assemblies having internal shaft areas with isolated environments that mitigate oxidation

Номер патента: WO2023064299A1. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-04-20.

High-temperature substrate support assembly with failure protection

Номер патента: US20230380016A1. Автор: Ashish Goel,Martin Perez-Guzman,Suresh Gupta,Denis Martin Koosau. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-23.

Substrate processing system having susceptorless substrate support with enhanced substrate heating control

Номер патента: US09682398B2. Автор: Joseph M. Ranish,Kailash Patalay. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-06-20.

Laminate body, method, and materials for temporary substrate support and support separation

Номер патента: EP2828883A4. Автор: Eric G Larson,Blake R Dronen,Wayne S Mahoney. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2015-10-28.

Procede de fabrication d'une structure composite comprenant une couche mince en sic monocristallin sur un substrat support en sic

Номер патента: EP4128328C0. Автор: Hugo BIARD. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2024-04-03.

SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM HAVING SUSCEPTORLESS SUBSTRATE SUPPORT WITH ENHANCED SUBSTRATE HEATING CONTROL

Номер патента: US20170259294A1. Автор: Ranish Joseph M.,PATALAY KAILASH. Владелец: . Дата публикации: 2017-09-14.

Electromagnetically levitated substrate support

Номер патента: US20030183611A1. Автор: Mariusch Gregor,Peter Reimer,Vincent Seidl. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-10-02.

Electromagnetically levitated substrate support

Номер патента: US6800833B2. Автор: Mariusch Gregor,Peter Reimer,Vincent Seidl. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-10-05.

GLASS SUBSTRATE WITH HOLDER, METHOD FOR HEAT TREATMENT OF GLASS SUBSTRATE, AND GLASS SUBSTRATE SUPPORT UNIT

Номер патента: JP6065722B2. Автор: 妥夫 寺西,尚利 稲山,博通 梅村. Владелец: Nippon Electric Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-25.

Glass substrate with holding part, method for heat treating glass substrate, and glass substrate supporting unit

Номер патента: KR102160928B1. Автор: 야스오 테라니시,나오토시 이나야마,히로미치 우메무라. Владелец: 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤. Дата публикации: 2020-09-29.

Method and tool for restricting substrate a support bead inside an opening formed in a substrate support

Номер патента: US20240297066A1. Автор: Songjae Lee,Liurui Li. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-05.

Substrate support, lithographic apparatus and loading method

Номер патента: US12032301B2. Автор: Johannes Onvlee,David Ferdinand VLES,Wim Symens,Antonius Franciscus Johannes De Groot. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-07-09.

Substrate supporting member, substrate treating apparatus including the same and substrate treating method thereof

Номер патента: US12040216B2. Автор: Kang Suk Lee,Hyeon Jun Lee,Yong Hoon HONG,So Young Jang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Substrate support, lithographic apparatus and loading method

Номер патента: US20190113853A1. Автор: Johannes Onvlee,David Ferdinand VLES,Wim Symens,Antonius Franciscus Johannes De Groot. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2019-04-18.

Substrate support

Номер патента: EP1485946A1. Автор: Wendell T. Blonigan,Shinichi Kurita,Suhail Anwar,Hung T. Nguyen,Toshio Kiyotake. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-12-15.

Substrate support structure, vacuum drying device and vacuum drying method

Номер патента: US09903650B2. Автор: Dejiang Zhao. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-27.

Substrate support for substrate backside contamination control

Номер патента: US09490150B2. Автор: YU Chang,Gwo-Chuan Tzu,Xiaoxiong Yuan,Olkan Cuvalci. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-11-08.

Substrate support device, thermal processing apparatus, substrate support method, and thermal processing method

Номер патента: US20230253237A1. Автор: Scott PRENGLE. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Substrate supporting apparatus and method of controlling substrate supporting apparatus

Номер патента: US12094754B2. Автор: Mitsuru Miyazaki,Takuya Inoue. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate support bushing

Номер патента: US09991153B2. Автор: Tao HOU. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-06-05.

Substrate support with multi-piece sealing surface

Номер патента: US09916994B2. Автор: Gwo-Chuan Tzu,Xiaoxiong Yuan,Olkan Cuvalci. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-03-13.

Substrate support for use with multi-zonal heating sources

Номер патента: US09570328B2. Автор: Kailash Patalay,Errol Sanchez. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-02-14.

Substrate support device

Номер патента: US20130134147A1. Автор: Daisuke Hashimoto,Junichi Miyahara,Jun Futakuchiya. Владелец: NHK Spring Co Ltd. Дата публикации: 2013-05-30.

Substrate supporting apparatus, substrate processing apparatus, substrate supporting method, control program of substrate supporting apparatus, and recording medium

Номер патента: US8340811B2. Автор: Majima Kazuyuki,Goshokubo Gen. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2012-12-25.

Procede de transfert d'une couche utile sur une face avant d'un substrat support

Номер патента: EP4399738A1. Автор: Nadia Ben Mohamed,Cedric Charles-Alfred. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2024-07-17.

Substrate support system and method

Номер патента: EP1769102A2. Автор: Sidlgata V. Sreenivasan,Pawan K. Nimmakayala. Владелец: University of Texas System. Дата публикации: 2007-04-04.

Procédé de fabrication d’une structure composite comprenant une couche mince en sic monocristallin sur un substrat support en sic polycristallin

Номер патента: FR3127627B1. Автор: Eric Guiot,Frederic Allibert. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2024-08-09.

Procédé de fabrication d'une structure composite comprenant une couche mince en sic monocristallin sur un substrat support en sic polycristallin

Номер патента: EP4409621A1. Автор: Eric Guiot,Frederic Allibert. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2024-08-07.

Procede de transfert d’une couche utile sur une face avant d’un substrat support

Номер патента: FR3126809B1. Автор: Mohamed Nadia Ben,Cedric Charles-Alfred. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2024-10-25.

Substrate support ring for more uniform layer thickness

Номер патента: WO2015009447A1. Автор: Lara Hawrylchak,Christopher S. Olsen,Heng Pan. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2015-01-22.

Semitransparent substrate support for microwave degas chamber

Номер патента: WO2022266358A1. Автор: Prashant Agarwal,Ananthkrishna Jupudi,Tuck Foong Koh. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-12-22.

Substrate supports and transfer apparatus for substrate deformation

Номер патента: WO2024136950A1. Автор: Xinning Luan,Zhepeng Cong. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-06-27.

Substrate supports and transfer apparatus for substrate deformation

Номер патента: US20240213078A1. Автор: Xinning Luan,Zhepeng Cong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Counter-balanced substrate support

Номер патента: WO2009061737A1. Автор: Dmitry Lubomirsky,Ellie Y. Yieh,Toan Q. Tran,Lun Tsuei,Manuel A. Hernandez,Kirby H. Floyd. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2009-05-14.

Substrate support apparatus and substrate cleaning apparatus

Номер патента: US11766756B2. Автор: Mitsuru Miyazaki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-09-26.

Detection and analysis of substrate support and pre-heat ring in a process chamber via imaging

Номер патента: US20240145281A1. Автор: Hui Chen,Ashur J. Atanos,Xinning Luan,Zhepeng Cong,Martin Jeffrey Salinas. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Detection and analysis of substrate support and pre-heat ring in a process chamber via imaging

Номер патента: WO2024091304A1. Автор: Hui Chen,Ashur J. Atanos,Xinning Luan,Zhepeng Cong,Martin Jeffrey Salinas. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-05-02.

Substrate support mechanism, substrate cleaning device and substrate processing method

Номер патента: US11948827B2. Автор: Mitsuru Miyazaki,Takuya Inoue,Hisajiro NAKANO. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-04-02.

Low temperature biasable substrate support

Номер патента: WO2020222939A1. Автор: Brian T. West,Soundarrajan JEMBULINGAM,Dinkesh HUDERI SOMANNA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-11-05.

Low temperature biasable substrate support

Номер патента: US20200350195A1. Автор: Brian T. West,Soundarrajan JEMBULINGAM,Dinkesh HUDERI SOMANNA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-11-05.

Method of mounting substrate support in chamber, method of dismounting substrate support and auxiliary transport tool

Номер патента: US10010987B2. Автор: Taku Hitomi,Miho MAJIMA. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2018-07-03.

A system, a lithographic apparatus, and a method for reducing oxidation or removing oxide on a substrate support

Номер патента: US20200150549A1. Автор: Nina Vladimirovna DZIOMKINA,Lucas Henricus Johannes Stevens,Johannes Adrianus Cornelis Maria Pijnenburg,Laura Maria FERNANDEZ DIAZ. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-05-14.

Cover ring, substrate support and lithographic apparatus

Номер патента: WO2024208491A1. Автор: Adrianus Johannes Petrus Maria Vermeer,Dirk-Jan Bijvoet,Erik Willem BOGAART,Gijs Kramer,Roland Petrus Hendrikus HANEGRAAF,Godefridus Walterus Henrica VAN DER VORST,Freek Hendricus Gerardus FENNIS. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-10-10.

System and method to detect substrate and/or substrate support misalignment using imaging

Номер патента: US09959610B2. Автор: Schubert S. Chu,Leonid M. Tertitski,Zhepeng Cong,Shay Assaf,Kim R. Vellore. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-05-01.

Substrate support with feedthrough structure

Номер патента: US09706605B2. Автор: Leon Volfovski,Mayur G. Kulkarni. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-07-11.

Substrate supporting and transferring apparatus, method of supporting and transferring substrate, and manufacturing method of display apparatus using the same

Номер патента: US20190139809A1. Автор: Sang-hyun Park,Sang-Joon HONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-05-09.

Substrate support assembly for substrate treatment apparatus

Номер патента: US20230060570A1. Автор: Taek Youb Lee. Владелец: Ltd Deviceeng C. Дата публикации: 2023-03-02.

Substrate support, test device, and method of adjusting temperature of substrate support

Номер патента: US11810800B2. Автор: Hiroyuki Nakayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-07.

Substrate support assembly for substrate treatment apparatus

Номер патента: US20230062042A1. Автор: Taek Youb Lee. Владелец: Deviceeng Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-02.

Slip ring for use in rotatable substrate support

Номер патента: US20180358768A1. Автор: YU Chang,Muhannad MUSTAFA,Muhammad M. Rasheed,William Kuang,Xiping Huo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-12-13.

Substrate support device

Номер патента: US20220246459A1. Автор: Atsushi Kobayashi,Wataru Omuro. Владелец: Kelk Ltd. Дата публикации: 2022-08-04.

Electrostatic chuck, substrate support, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240186917A1. Автор: Yasuharu Sasaki,Masashi Shimoda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Temperature controlled substrate support assembly

Номер патента: US20170110298A1. Автор: Henry Povolny,Anthony Ricci. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-04-20.

SUBSTRATE SUPPORT WITH REAL TIME FORCE AND FILM STRESS CONTROL

Номер патента: US20210066038A1. Автор: Boyd,RAJ Govinda,JR. Wendell Glenn,BUSCHE Matthew James. Владелец: . Дата публикации: 2021-03-04.

TEMPERATURE CONTROLLED SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY

Номер патента: US20140356985A1. Автор: Ricci Anthony,Povolny Henry. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2014-12-04.

Substrate support having dynamic temperature control

Номер патента: TWI338931B. Автор: Robert J Steger. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2011-03-11.

Optically heated substrate support assembly with removable optical fibers

Номер патента: US20170303338A1. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-19.

Optically heated substrate support assembly with removable optical fibers

Номер патента: WO2017184405A1. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2017-10-26.

Independently moving substrate supports

Номер патента: TWI322191B. Автор: Shinichi Kurita,Robin Tiner. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2010-03-21.

Substrate support device for a reaction chamber of an epitaxial reactor with gas flow rotation, reaction chamber and epitaxial reactor

Номер патента: EP4065747B1. Автор: Maurilio Meschia,Silvio PRETI. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2024-06-12.

Substrate support device for a reaction chamber of an epitaxial reactor with gas flow rotation, reaction chamber and epitaxial reactor

Номер патента: EP4065747C0. Автор: Maurilio Meschia,Silvio PRETI. Владелец: LPE SpA. Дата публикации: 2024-06-12.

SYSTEM FOR DEPOSITING ONE OR MORE LAYERS ON A SUBSTRATE SUPPORTED BY A CARRIER AND METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20170244070A1. Автор: Haas Dieter,DIEGUEZ-CAMPO Jose Manuel,Bangert Stefan,SCHÜßLER Uwe. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2017-08-24.

Substrate support for a thermal processing chamber

Номер патента: KR20010042416A. Автор: 아빌래쉬 메이어,루이스 에이. 스턴. Владелец: 조셉 제이. 스위니. Дата публикации: 2001-05-25.

Rotating substrate support and methods of use

Номер патента: CN101194040B. Автор: J·斯密斯,A·特安,R·S·伊叶尔,S·佐伊特,B·特兰,N·梅里,A·布莱烙夫,小罗伯特·谢杜,R·安德芮斯,F·罗伯茨,T·斯密克,G·拉玎. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2012-04-18.

Trim and deposition profile control with multi-zone heated substrate support for multi-patterning processes

Номер патента: US20220205105A1. Автор: Ravi Kumar,Adrien Lavoie,Pulkit Agarwal,Ramesh Chandrasekharan,Michael Philip Roberts,Nuoya YANG,Chan Myae Myae SOE,Ashish Saurabh. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2022-06-30.

High flow vacuum chamber including equipment modules such as a plasma generating source, vacuum pumping arrangement and/or cantilevered substrate support

Номер патента: US5948704A. Автор: Neil Benjamin,Jon Hylbert,Stefano Mangano. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 1999-09-07.

Substrate support with substrate heater and symmetric rf return

Номер патента: US20130001215A1. Автор: YU Chang,Gwo-Chuan Tzu,Olkan Cuvalci,Anqing Cui,William W. Kuang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2013-01-03.

Integrated electrode and ground plane for a substrate support

Номер патента: US12020912B2. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-25.

Substrate supporting apparatus, substrate processing system including the same, and manufacturing method thereof

Номер патента: US20240038492A1. Автор: Youngkwon KIM,Jaehyun Kim,Jonghyun Lee,Kiyong Kim,Hyungjoon Kim,Iljun Jeon,Hee Jong Jeong,Yoodong YANG,Minsuck Yoo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-01.

Substrate supports for a sputtering device

Номер патента: US20190382883A1. Автор: XU Ouyang,Ye Guang Pan. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2019-12-19.

Substrate support apparatus and vacuum processing apparatus

Номер патента: US20110286826A1. Автор: Tadashi Ikeda,Hiroshi Sone,Gen Goshokubo. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2011-11-24.

Substrate processing apparatus, transfer method of substrate support, recording medium, and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20240249963A1. Автор: Naofumi Ohashi,Yukinori Aburatani. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate supporting units and substrate treating apparatuses including the same

Номер патента: US20130001213A1. Автор: Seungbae Lee,Wonhaeng Lee. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2013-01-03.

Substrate support with multiple heating zones

Номер патента: US09888528B2. Автор: Jallepally Ravi,Cheng-Hsiung Tsai,Tomoharu Matsushita,Xiaoxiong Yuan,Manjunatha KOPPA,Aravind KAMATH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-02-06.

Method for transporting a substrate with a substrate support

Номер патента: US20130064637A1. Автор: Martin Hosek. Владелец: Persimmon Technologies Corp. Дата публикации: 2013-03-14.

Substrate support with switchable multizone heater

Номер патента: US09538583B2. Автор: Michael R. Rice,Leon Volfovski,Mayur G. Kulkarni,Alex Minkovich. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-01-03.

Substrate support with wire mesh plasma containment

Номер патента: US09478447B2. Автор: Gwo-Chuan Tzu,Olkan Cuvalci. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-10-25.

Methods and apparatus for cooling a substrate support

Номер патента: US20240130082A1. Автор: Robert Irwin Decottignies,Roger Bradford Fish,Steven SZUDARSKI,Shane Lawrence KINTNER. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-18.

Methods and apparatus for cooling a substrate support

Номер патента: WO2024081210A1. Автор: Robert Irwin Decottignies,Roger Bradford Fish,Steven SZUDARSKI,Shane Lawrence KINTNER. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-04-18.

Distance measurement between gas distribution device and substrate support at high temperatures

Номер патента: US12050112B2. Автор: Nick Ray Linebarger, JR.,Mark E. Emerson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-07-30.

Distance measurement between gas distribution device and substrate support at high temperatures

Номер патента: WO2020142367A1. Автор: Nick Ray Linebarger, JR.,Mark E. Emerson. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2020-07-09.

Substrate support temperature control

Номер патента: US8596336B2. Автор: Paul Brillhart,Richard Fovell,Jivko Dinev,Sang In Yi,Anisul H. Khan,Shane Nevil. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2013-12-03.

Distance measurement between gas distribution device and substrate support at high temperatures

Номер патента: US20200217657A1. Автор: Nick Ray Linebarger, JR.,Mark E. Emerson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2020-07-09.

Plasma Reactor Having Radial Struts for Substrate Support

Номер патента: US20190085467A1. Автор: Shahid Rauf,Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,Andrew Nguyen,Ajit Balakrishna,Douglas A. Buchberger, Jr.,Richard Fovell,Ankur Agarwal,Jason A. Kenney,James D. Carducci,Leonid Dorf. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-03-21.

FULL-AREA COUNTER-FLOW HEAT EXCHANGE SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20170321323A1. Автор: WHITE John M.. Владелец: . Дата публикации: 2017-11-09.

SUBSTRATE SUPPORT UNIT, THIN FILM DEPOSITION APPARATUS INCLUDING THE SAME, AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20220349058A1. Автор: Um KiChul,Han JeungHoon,Kim DooHan,Han YongGyu. Владелец: . Дата публикации: 2022-11-03.

Method of handling a substrate support structure in a lithography system

Номер патента: US20130234040A1. Автор: Hendrik Jan De Jong. Владелец: MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V.. Дата публикации: 2013-09-12.

Multi-zone semiconductor substrate supports

Номер патента: US11915950B2. Автор: Dmitry Lubomirsky,Peter Hillman,Soonam Park,Mehmet Tugrul Samir,Dongqing Yang,Martin Yue Choy,Lala Zhu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-27.

Multi-zone semiconductor substrate supports

Номер патента: US20180337074A1. Автор: Dmitry Lubomirsky,Peter Hillman,Soonam Park,Mehmet Tugrul Samir,Dongqing Yang,Martin Yue Choy,Lala Zhu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-11-22.

Substrate support, substrate processing apparatus, substrate processing system, and method of detecting erosion of adhesive in substrate support

Номер патента: US20200185204A1. Автор: Takehiro Ueda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-06-11.

Substrate supporting unit and the substrate board treatment comprising the substrate supporting unit

Номер патента: CN104681387B. Автор: 卢载旻,金炯俊. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-20.

Substrate support suitable for using in a semiconductor processing chamber

Номер патента: TWM318185U. Автор: Jivko Dinev,Sharma Pamarthy,Huutri Dao,Kelly A Mcdonough,Xiao-Ping Zhou. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2007-09-01.

Lift Pin Assembly, Substrate Support Apparatus and Substrate Processing Apparatus Having the Same

Номер патента: US20190080955A1. Автор: Ja-Woo Lee,Su-Ho Lee,Seung-Won Shin. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-03-14.

Ring assembly, substrate support apparatus and plasma processing apparatus including the same

Номер патента: US12068141B2. Автор: Sungki Lee,Jonggun YOON,Sungkyu CHOI. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-20.

Electrostatic chuck, substrate support, plasma processing apparatus, and method of manufacturing electrostatic chuck

Номер патента: US20230064309A1. Автор: Atsushi Kawabata,Masanori Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-03-02.

Substrate support with symmetrical feed structure

Номер патента: US20120097332A1. Автор: Xing Lin,Xiaoping Zhou,Andrew Nguyen,Douglas A. Buchberger, Jr.,Anchel Sheyner. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2012-04-26.

Component of a substrate support assembly producing localized magnetic fields

Номер патента: US20130072025A1. Автор: Sung Lee,Harmeet Singh,Brett Richardson,Keith Gaff. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2013-03-21.

LIFT PIN INTERFACE IN A SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20220028720A1. Автор: SULYMAN Alexander. Владелец: . Дата публикации: 2022-01-27.

SUBSTRATE SUPPORT APPARATUS AND PLASMA PROCESSING APPARATUS HAVING THE SAME

Номер патента: US20200027705A1. Автор: Kim Kwang-Nam,KIM Sung-Yeon,KIM Hyung-Jun,SUN Jong-Woo,OH Sang-Rok,HONG Jung-Pyo. Владелец: . Дата публикации: 2020-01-23.

SUBSTRATE SUPPORTING DEVICE AND PLASMA PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20200035536A1. Автор: ETO Hideo. Владелец: Toshiba Memory Corporation. Дата публикации: 2020-01-30.

Substrate support with symmetrical feed structure

Номер патента: US20190051551A1. Автор: Xing Lin,Xiaoping Zhou,Andrew Nguyen,Douglas A. Buchberger, Jr.,Anchel Sheyner. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-02-14.

SUBSTRATE SUPPORT UNIT AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20210057187A1. Автор: KIM Dae Hyun,Na Sae Won. Владелец: . Дата публикации: 2021-02-25.

ESC SUBSTRATE SUPPORT WITH CHUCKING FORCE CONTROL

Номер патента: US20190067070A1. Автор: Boyd,JR. Wendell Glenn,Ding Zhenwen,HE Jim Zhongyi. Владелец: . Дата публикации: 2019-02-28.

EDGE RING ASSEMBLY FOR A SUBSTRATE SUPPORT IN A PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20200066495A1. Автор: NOORBAKHSH HAMID,Husain Anwar,WAKABAYASHI REYN. Владелец: . Дата публикации: 2020-02-27.

SUBSTRATE SUPPORT AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20210074524A1. Автор: KOSHIMIZU Chishio. Владелец: . Дата публикации: 2021-03-11.

Substrate support with dual embedded electrodes

Номер патента: US20190088519A1. Автор: Philip Allan Kraus,Jaeyong Cho. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-03-21.

SEMICONDUCTOR SUBSTRATE SUPPORTS WITH EMBEDDED RF SHIELD

Номер патента: US20200090972A1. Автор: LUBOMIRSKY DMITRY,Cho Jaeyong,Benjaminson David,Park Soonam,GRACE Michael,Kalnin Nikolai,Kaluarachchi Don Channa K.. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-03-19.

SUBSTRATE SUPPORT UNIT, SUBSTRATE TREATING APPARATUS INCLUDING THE SAME, AND METHOD FOR CONTROLLING THE SAME

Номер патента: US20180102238A1. Автор: GU JAMYUNG,NAM SHIN-WOO,AN JONG HWAN,RO Sooryun. Владелец: SEMES CO., LTD.. Дата публикации: 2018-04-12.

CMP SOFT POLISHING OF ELECTROSTATIC SUBSTRATE SUPPORT GEOMETRIES

Номер патента: US20190111541A1. Автор: Boyd,JR. Wendell Glenn,HE Jim Zhongyi. Владелец: . Дата публикации: 2019-04-18.

Methods and apparatus for shielding substrate supports

Номер патента: US20190115246A1. Автор: Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,Michael R. Rice,James David Carducci. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-04-18.

Plasma processing apparatus and substrate supporter

Номер патента: US20220270854A1. Автор: Eitaro KATAOKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-25.

SUBSTRATE SUPPORT, PLASMA PROCESSING SYSTEM, AND PLASMA ETCHING METHOD

Номер патента: US20220270862A1. Автор: TAKAHASHI Tomoyuki,KAWADA Yuki,HAYASAKA Naoto. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2022-08-25.

SUBSTRATE SUPPORT WITH MULTIPLE EMBEDDED ELECTRODES

Номер патента: US20200118861A1. Автор: Cho Jaeyong,Chua Thai Cheng,KRAUS Philip Allan. Владелец: . Дата публикации: 2020-04-16.

SUBSTRATE SUPPORT WITH IMPROVED PROCESS UNIFORMITY

Номер патента: US20210166914A1. Автор: Chen Zhigang,Fu Yuehong,HAO Fangli. Владелец: . Дата публикации: 2021-06-03.

SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20220285138A1. Автор: Sasaki Yasuharu,Yamaguchi Shin,ITO Koei. Владелец: . Дата публикации: 2022-09-08.

SUBSTRATE SUPPORT WITH MULTIPLE EMBEDDED ELECTRODES

Номер патента: US20210183681A1. Автор: Cho Jaeyong,Chua Thai Cheng,KRAUS Philip Allan. Владелец: . Дата публикации: 2021-06-17.

Substrate support and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200152429A1. Автор: Yasuharu Sasaki,Shingo Koiwa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-14.

SUBSTRATE SUPPORT WITH IMPROVED PROCESS UNIFORMITY

Номер патента: US20180190526A1. Автор: Chen Zhigang,Fu Yuehong,HAO Fangli. Владелец: . Дата публикации: 2018-07-05.

HELICAL PLUG FOR REDUCTION OR PREVENTION OF ARCING IN A SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20210242063A1. Автор: NOORBAKHSH HAMID,Husain Anwar,WAKABAYASHI REYN T.. Владелец: . Дата публикации: 2021-08-05.

Methods for Controlling Clamping of Insulator-Type Substrate on Electrostatic-Type Substrate Support Structure

Номер патента: US20180233393A1. Автор: Gopalakrishnan Padma,Liu Chin-Yi,Lai Daniel,Vemuri Rajitha. Владелец: . Дата публикации: 2018-08-16.

SUBSTRATE SUPPORT WITH MULTIPLE EMBEDDED ELECTRODES

Номер патента: US20210313213A1. Автор: Cho Jaeyong,Chua Thai Cheng,KRAUS Philip Allan. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-10-07.

SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY HAVING METAL BONDED PROTECTIVE LAYER

Номер патента: US20170271179A1. Автор: NARENDRNATH Kadthala Ramaya,PARKHE Vijay D.. Владелец: . Дата публикации: 2017-09-21.

COOLED SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY FOR RADIO FREQUENCY ENVIRONMENTS

Номер патента: US20210343512A1. Автор: Schmid Andreas,PARKHE Vijay D.,GARCIA DE GORORDO ALVARO,PROUTY Stephen Donald,NOUJAIM Andrew Antoine,Perez-Guzman Martin. Владелец: . Дата публикации: 2021-11-04.

SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20210358725A1. Автор: OSHIMA Kazuki. Владелец: . Дата публикации: 2021-11-18.

SUBSTRATE SUPPORT WITH THERMAL ZONES FOR SEMICONDUCTOR PROCESSING

Номер патента: US20160300741A1. Автор: Comendant Keith,Benjamin Neil,Singh Harmeet,Gaff Keith. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2016-10-13.

Substrate support assembly

Номер патента: US20170345691A1. Автор: Vijay D. Parkhe,Kadthala Ramaya Narendrnath. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-11-30.

MULTI-ZONE GASKET FOR SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY

Номер патента: US20190341289A1. Автор: PARKHE Vijay D.. Владелец: . Дата публикации: 2019-11-07.

Extreme uniformity heated substrate support assembly

Номер патента: US20190371577A1. Автор: Vijay D. Parkhe,Dmitry Lubomirsky,Justin Wang,Mehmet Tugrul Samir,Kirby H. Floyd,David Benjaminson,Onkara Swamy KORA SIDDARAMAIAH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-12-05.

SUBSTRATE SUPPORT PEDESTAL

Номер патента: US20190371578A1. Автор: Prouty Stephen,LAROSA Steven Joseph. Владелец: . Дата публикации: 2019-12-05.

ADJUSTABLE THERMAL BREAK IN A SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20200395197A1. Автор: Schmid Andreas,BYUN Daniel Sang,GARCIA DE GORORDO ALVARO,PROUTY Stephen Donald,NOUJAIM Andrew Antoine. Владелец: . Дата публикации: 2020-12-17.

APPARATUS FOR REDUCTION OR PREVENTION OF ARCING IN A SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20200411355A1. Автор: Ramaswamy Kartik,NOORBAKHSH HAMID,Husain Anwar,WAKABAYASHI Reyn Tetsuro,Shoji Sergio Fukuda. Владелец: . Дата публикации: 2020-12-31.

SUBSTRATE SUPPORT AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20220415693A1. Автор: KATO Makoto,Yamaguchi Shin,SAITO Hideto,KANAZAWA Takashi,MUTO Ryoma. Владелец: . Дата публикации: 2022-12-29.

Substrate support with improved process uniformity

Номер патента: KR102458699B1. Автор: 팡리 하오,여홍 푸,지강 첸. Владелец: 램 리써치 코포레이션. Дата публикации: 2022-10-24.

Semiconductor substrate supports with built-in RF shields

Номер патента: KR20210044906A. Автор: 재용 조,수남 박,드미트리 루보미르스키,데이비드 벤자민슨,마이클 그레이스,니콜라이 칼닌,돈 찬나 케이 칼루아라치치. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2021-04-23.

Substrate supporting device and substrate treating apparatus including the same

Номер патента: KR102200315B1. Автор: 김형준,정소형. Владелец: 세메스 주식회사. Дата публикации: 2021-01-08.

Substrate supporting device and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: CN112309816A. Автор: 郑韶滢,金炯俊. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2021-02-02.

Substrate support apparatus and plasma processing apparatus having the same

Номер патента: KR102487930B1. Автор: 김형준,오상록,김성연,홍정표,김광남,선종우. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2023-01-12.

Substrate support with symmetrical feed structure

Номер патента: KR102069550B1. Автор: 싱 린,앤드류 뉴옌,더글라스 에이. 주니어. 버크버거,샤오핑 저우,안첼 쉐이너. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2020-02-11.

Substrate support with symmetrical feed structure

Номер патента: TWI538093B. Автор: 林欣,布希博格二世道格拉斯Ａ,周逍平,蓋葉安德魯恩,喜納安克. Владелец: 應用材料股份有限公司. Дата публикации: 2016-06-11.

Substrate support structure, clamp preparation unit, and lithography system.

Номер патента: NL1037754C2. Автор: Hendrik Jan Jong. Владелец: Mapper Lithography Ip Bv. Дата публикации: 2011-08-30.

Substrate supporting device and substrate treating apparatus comprising the same

Номер патента: KR102322187B1. Автор: 조준영,강정석. Владелец: 세메스 주식회사. Дата публикации: 2021-11-04.

Substrate support with electrically floating power supply

Номер патента: WO2019060031A1. Автор: HAITAO Wang,Robert Casanova,Vijay D. Parkhe,Christopher A. Rowland,Philip Allan Kraus,Travis Lee Koh,Daniel Distaso,Mark MARKOVSKY. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2019-03-28.

Structure composite comprenant une couche utile en sic monocristallin sur un substrat support en sic poly-cristallin et procede de fabrication de ladite structure

Номер патента: EP4413611A1. Автор: Radu Ionut,Christophe Maleville,Gweltaz Gaudin,Hugo BIARD,Sidoine ODOUL. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2024-08-14.

Structure composite comprenant une couche utile en sic monocristallin sur un substrat support en sic poly-cristallin et procede de fabrication de ladite structure

Номер патента: FR3127842B1. Автор: Radu Ionut,Christophe Maleville,Gweltaz Gaudin,Hugo BIARD,Sidoine ODOUL. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2024-08-02.

Procédé de fabrication de deux substrats dits pseudo-substrats donneurs comprenant chacun au moins deux pavés sur un substrat support

Номер патента: FR3143840A1. Автор: Didier Landru,Catherine Maddalon,Odile MOUREY,Francois Xavier Darras. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2024-06-21.

Procede de transfert d’une couche mince sur un substrat support

Номер патента: FR3132788A1. Автор: Marcel Broekaart,Oleg Kononchuk,Didier Landru,Frédéric Mazen,Vincent Larrey,Pablo Acosta Alba,Nadia Ben Mohamed,Franck Colas. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2023-08-18.

Procede de fabrication d'une structure composite comprenant une couche mince en sic monocristallin sur un substrat support en sic poly-cristallin

Номер патента: EP4413613A1. Автор: Ionut Radu,Frederic Allibert,Hugo BIARD. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2024-08-14.

Procede de transfert d’une couche mince sur un substrat support

Номер патента: FR3134229B1. Автор: Mohamed Nadia Ben,Oleg Kononchuk,Didier Landru,Frédéric Mazen,Marianne Coig. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2024-03-08.

Procede de fabrication d'un substrat support en carbure de silicium poly-cristallin

Номер патента: EP4406004A1. Автор: Hugo BIARD,Mélanie LAGRANGE. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2024-07-31.

Procede de transfert d’une couche mince sur un substrat support

Номер патента: FR3132788B1. Автор: Mohamed Nadia Ben,Marcel Broekaart,Oleg Kononchuk,Didier Landru,Alba Pablo Acosta,Frédéric Mazen,Vincent Larrey,Franck Colas. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2024-01-05.

Procede de fabrication d’une structure composite comprenant une couche mince en sic monocristallin sur un substrat support en sic poly-cristallin

Номер патента: FR3128057B1. Автор: Ionut Radu,Frederic Allibert,Hugo BIARD. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2023-09-15.

Procédé de fabrication de deux substrats dits pseudo-substrats donneurs comprenant chacun au moins deux pavés sur un substrat support

Номер патента: WO2024134078A1. Автор: Didier Landru,Catherine Maddalon,Odile MOUREY,Francois Xavier Darras. Владелец: SOITEC. Дата публикации: 2024-06-27.

Procédé de fabrication d’un substrat support pour application radiofréquences

Номер патента: FR3138239B1. Автор: Young-Pil Kim,Chee-Hoe WONG. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2024-06-21.

Procédé de fabrication d’un substrat donneur pour le transfert d’une couche piézoélectrique et procédé de transfert d’une couche piézoélectrique sur un substrat support

Номер патента: FR3131979A1. Автор: Marcel Broekaart,Thierry Barge,Morgane Logiou,Luciana Capello,Cedric Charles-Alfred. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2023-07-21.

Procede de preparation d'un substrat support muni d'une couche de piegeage de charges

Номер патента: EP4430653A1. Автор: Oleg Kononchuk,YoungPil Kim,Chee Hoe WONG. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2024-09-18.

Procede de transfert d’une couche mince sur un substrat support

Номер патента: FR3132384B1. Автор: Mohamed Nadia Ben,Oleg Kononchuk,Didier Landru,Frédéric Mazen,Helen Grampeix. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2024-01-12.

Procede de fabrication d’une structure composite comprenant une couche mince en sic monocristallin sur un substrat support en sic poly-cristallin

Номер патента: FR3128056B1. Автор: Ionut Radu,Frederic Allibert,Hugo BIARD. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2023-10-27.

Procede de fabrication d’une structure adaptee pour les applications radiofrequences, et substrat support pour ladite structure

Номер патента: FR3119929B1. Автор: Isabelle Bertrand,Romain BOUVEYRON,Maël COCHE. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2023-11-03.

Procede de transfert d'une couche mince sur un substrat support

Номер патента: WO2023186595A1. Автор: Ben Mohamed Nadia,Oleg Kononchuk,Didier Landru,Frédéric Mazen,Marianne Coig. Владелец: Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives. Дата публикации: 2023-10-05.

Procede de transfert d’une couche mince sur un substrat support

Номер патента: FR3134229A1. Автор: Oleg Kononchuk,Didier Landru,Frédéric Mazen,Nadia Ben Mohamed,Marianne Coig. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2023-10-06.

Substrat support en silicium adapte aux applications radiofrequences et procede de fabrication associe

Номер патента: EP4278374A1. Автор: Oleg Kononchuck,Christophe Maleville,YoungPil Kim,Isabelle Bertrand,Chee Hoe WONG. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2023-11-22.

Procede de fabrication d'une structure composite comprenant une couche mince en semi-conducteur monocristallin sur un substrat support

Номер патента: EP4315396A1. Автор: Didier Landru,Hugo BIARD. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2024-02-07.

Procede de fabrication d’une structure composite comprenant une couche mince en semi-conducteur monocristallin sur un substrat support

Номер патента: FR3121281B1. Автор: Didier Landru,Hugo BIARD. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2023-11-24.

Procede de fabrication d’un substrat support en carbure de silicium poly-cristallin

Номер патента: FR3127330B1. Автор: Hugo BIARD,Mélanie LAGRANGE. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2023-09-22.

Procédé d’amincissement d’une structure composite portée par un substrat support SiC polycristallin, à gondolement réduit

Номер патента: FR3139410A1. Автор: Walter Schwarzenbach,Séverin Rouchier,Sylvain MONNOYE. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2024-03-08.

Procédé de fabrication d'un substrat support pour application radiofréquences

Номер патента: WO2024018149A1. Автор: Young-Pil Kim,Chee-Hoe WONG. Владелец: SOITEC. Дата публикации: 2024-01-25.

Procédé de fabrication d’un substrat support pour application radiofréquences

Номер патента: FR3138239A1. Автор: Young-Pil Kim,Chee-Hoe WONG. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2024-01-26.

Procede de preparation d’un substrat support muni d’une couche de piegeage de charges

Номер патента: FR3129028B1. Автор: ISHII Masato,Oleg Kononchuk,YoungPil Kim,Chee Hoe WONG,Zang KEYAN,Chien Shen Kuan,Hoe Tan Seng. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2023-11-10.

Procede de preparation d’un substrat support muni d’une couche de piegeage de charges

Номер патента: FR3129029B1. Автор: Oleg Kononchuk,YoungPil Kim,Chee Hoe WONG. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2023-09-29.

Procédé d'amincissement d'une structure composite portée par un substrat support sic polycristallin, à gondolement réduit

Номер патента: WO2024052619A1. Автор: Walter Schwarzenbach,Séverin Rouchier,Sylvain MONNOYE. Владелец: SOITEC. Дата публикации: 2024-03-14.

Procédé de fabrication d’un substrat support pour application radiofréquences

Номер патента: FR3138240A1. Автор: Young-Pil Kim,Chee-Hoe WONG. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2024-01-26.

Procédé de fabrication d’un substrat support pour application radiofréquences

Номер патента: FR3138240B1. Автор: Young-Pil Kim,Chee-Hoe WONG. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2024-06-14.

Substrate support device and substrate cleaning device including the same

Номер патента: US11302540B2. Автор: Kyeong bin LIM,Jong Keun OH,Byung Gook Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-04-12.

Substrate supporter, substrate processing apparatus, method of measuring temperature, method of manufacturing semiconductor device and recording medium

Номер патента: US20240234187A1. Автор: Hitoshi Murata,Masaaki Ueno,Takayuki Nakada. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate support having customizable and replaceable features for enhanced backside contamination performance

Номер патента: US20200066570A1. Автор: John Baggett,Dave Shaner. Владелец: Axcelis Technologies Inc. Дата публикации: 2020-02-27.

Substrate support device and substrate cleaning device including the same

Номер патента: US20190221451A1. Автор: Kyeong bin LIM,Jong Keun OH,Byung Gook Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-07-18.

Substrate support structure, heat treatment apparatus using same, first sheet-like object for use in the substrate support structure, method of manufacturing the substrate support structure, heat treatment apparatus, and substrate sucking method

Номер патента: TW200802680A. Автор: Hiroshi Miyauchi,Masao Tsuji,Hideyuki Taniguchi,Yasuhiro Fukumoto. Владелец: Dainippon Screen Mfg. Дата публикации: 2008-01-01.

Apparatus, hybrid laminated body, method and materials for temporary substrate support

Номер патента: US9184083B2. Автор: Wayne S. Mahoney,Rajdeep S. Kalgutkar. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2015-11-10.

Apparatus, hybrid laminated body, method, and materials for temporary substrate support

Номер патента: EP2810300A1. Автор: Eric G. Larson,Blake R. Dronen. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2014-12-10.

SUBSTRATE SUPPORTING UNIT AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS MANUFACTURING METHOD OF THE SUBSTRATE SUPPORTING UNIT

Номер патента: US20140174356A1. Автор: Kim Hai Won,CHO Sung-kil. Владелец: EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.. Дата публикации: 2014-06-26.

SUBSTRATE SUPPORTING PIN, SUBSTRATE SUPPORTING DEVICE AND SUBSTRATE ACCESS SYSTEM

Номер патента: US20180158715A1. Автор: Wang Xiaojun,SHI Xu,Li DongQing,XU Zhilong,LIU Dagang,XU Jianfan. Владелец: . Дата публикации: 2018-06-07.

SUBSTRATE SUPPORT, METHOD FOR LOADING A SUBSTRATE ON A SUBSTRATE SUPPORT LOCATION, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20170192359A1. Автор: Leenders Martinus Hendrikus Antonius,Houben Martijn,DUSA Mircea,GERRITZEN Justin Johannes Hermanus,POIESZ Thomas,SOETHOUDT Abraham Alexander,VAN DEN HEUVEL Marco Adrianus Peter,DE KRUIJF Niek Elout,MULDER Johannes Gerardus Maria,VAN DONGEN Paul,VER WEIJ Antonie Hendrik. Владелец: . Дата публикации: 2017-07-06.

SUBSTRATE SUPPORTING UNIT AND FILM FORMING DEVICE HAVING THE SUBSTRATE SUPPORTING UNIT

Номер патента: US20190385827A1. Автор: Hanamachi Toshihiko,TATSUMI Arata,TAKAHARA Go. Владелец: . Дата публикации: 2019-12-19.

Substrate support and apparatus for treating substrate having thereof substrate support

Номер патента: KR101432157B1. Автор: 지상현,권창민,문용수,최승애. Владелец: 에이피시스템 주식회사. Дата публикации: 2014-08-20.

Lift pin actuator,substrate support assembly, and method for utilizing substrate support assembly

Номер патента: TWI674168B. Автор: 威沃斯麥克Ｄ,寇雷亞羅伯托西薩. Владелец: 美商應用材料股份有限公司. Дата публикации: 2019-10-11.

Stand-off pad for supporting a wafer on a substrate support chuck and method of fabricating same

Номер патента: EP0856882A3. Автор: Vijay Parkhe,Hyman J. Levinstein,Shamouil Shamouilian,Anada H. Kumar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1999-10-27.

Substrate support pin, baseplate support device and substrate clamping and placing system

Номер патента: CN104658959B. Автор: 李冬青,王小军,徐志龙,刘大刚,石旭,许建凡. Владелец: Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-04.

Substrate support, method for loading a substrate on a substrate support location, lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: IL248384A0. Автор: . Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2016-11-30.

Method for supporting substrate, substrate supporting apparatus and exposure apparatus

Номер патента: AU2003298996A1. Автор: Hidekazu Kikuchi. Владелец: Sendai Nikon Corp. Дата публикации: 2004-04-08.

Procede de report d'une couche mince sur un substrat support muni d'une couche de piegeage de charges

Номер патента: EP4189734B1. Автор: Marcel Broekaart,Daniel Delprat,Ludovic Ecarnot,Carine Duret,Séverin Rouchier,Bruno Clemenceau,Stephane Thieffry,Aymen Ghorbel. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2024-06-26.

Substrate support and inspection apparatus

Номер патента: EP3929603B1. Автор: Hiroyuki Nakayama,Masahito Kobayashi,Dai Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-10.

Heated substrate support

Номер патента: TW200302913A. Автор: Emanuel Beer,Makoto Inagawa. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-08-16.

Heated substrate support

Номер патента: TWI276771B. Автор: Emanuel Beer,Makoto Inagawa. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2007-03-21.

Substrate supporting apparatus

Номер патента: TW200908201A. Автор: Suk-Min Son. Владелец: Advanced Display Proc Eng Co. Дата публикации: 2009-02-16.

Substrate supporting member

Номер патента: TW200828491A. Автор: Tomoyuki Fujii,Yasufumi Aihara,Tetsuya Kawajiri. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2008-07-01.

Procede de report d'une couche mince sur un substrat support muni d'une couche de piegeage de charges

Номер патента: EP4189734C0. Автор: Marcel Broekaart,Daniel Delprat,Ludovic Ecarnot,Carine Duret,Séverin Rouchier,Bruno Clemenceau,Stephane Thieffry,Aymen Ghorbel. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2024-06-26.

Forming thermal sprayed protrusions using the mask, and method of manufacturing a substrate supporting apparatus using the mask

Номер патента: TW201002426A. Автор: Sang-Won Lee,In-Su Yoon,Hai-Tai Lee,Chi-Won Oh. Владелец: Mico C & C Ltd. Дата публикации: 2010-01-16.

Substrat support pour structure soi et procede de fabrication associe

Номер патента: EP4176463C0. Автор: Walter Schwarzenbach,Isabelle Bertrand,Frederic Allibert,Romain BOUVEYRON. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2024-06-12.

Locally heated multi-zone substrate support

Номер патента: US09984912B2. Автор: Michael S. Cox. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-05-29.

Substrate support and semiconductor manufacturing apparatus

Номер патента: US20130327274A1. Автор: Zempei Kawazu,Akihito Ohno. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2013-12-12.

Non-Contact Substrate Chuck and Vertical Type Substrate Supporting Apparatus Using the Same

Номер патента: US20140048994A1. Автор: TSAI WEN-PING,LI Wei-Chen. Владелец: SCIENTECH CORP.. Дата публикации: 2014-02-20.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20210005495A1. Автор: Sasaki Yasuharu,KISHI Hiroki,TOMIOKA Taketoshi,SUH Jisoo. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2021-01-07.

Apparatus, hybrid laminated body, method, and materials for temporary substrate support

Номер патента: US20150017434A1. Автор: Eric G. Larson,Blake R. Dronen. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2015-01-15.

Substrate support ring for more uniform layer thickness

Номер патента: US20150020736A1. Автор: Lara Hawrylchak,Christopher S. Olsen,Heng Pan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2015-01-22.

LOCALLY HEATED MULTI-ZONE SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20180019148A1. Автор: Cox Michael S.. Владелец: . Дата публикации: 2018-01-18.

TUNABLE TEMPERATURE CONTROLLED SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY

Номер патента: US20160027678A1. Автор: Guo Zhiqiang,BABAYAN Steven E.,PARKHE Vijay D.,MAROHL DAN A.,Sommer Phillip R.,Makhratchev Konstantin. Владелец: . Дата публикации: 2016-01-28.

APPARATUS, HYBRID LAMINATED BODY, METHOD AND MATERIALS FOR TEMPORARY SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20150031215A1. Автор: Mahoney Wayne S.,KALGUTKAR RAJDEEP S.. Владелец: 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY. Дата публикации: 2015-01-29.

LOCALLY HEATED MULTI-ZONE SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20170032995A1. Автор: Cox Michael S.. Владелец: . Дата публикации: 2017-02-02.

SUBSTRATE SUPPORTING DEVICE AND SUBSTRATE TREATING APPARATUS INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20210035782A1. Автор: Kim Hyung Joon,Jiong So Hyung. Владелец: . Дата публикации: 2021-02-04.

EDGE RING, SUBSTRATE SUPPORT, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20210035783A1. Автор: KIKUCHI Takaaki,TAIRA Takashi. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2021-02-04.

SEMICONDUCTOR SUBSTRATE SUPPORTS WITH IMPROVED HIGH TEMPERATURE CHUCKING

Номер патента: US20210035843A1. Автор: Li Jian,Padhi Deenesh,Srivastava Shailendra,Benjamin Raj Daemian Raj,Rocha Juan C.,HAN Xinhai,HU Kesong,Ye Zheng J.,Wang Chuan-Ying. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-02-04.

LOCALLY HEATED MULTI-ZONE SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20150043123A1. Автор: Cox Michael S.. Владелец: . Дата публикации: 2015-02-12.

THIN HEATED SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20170040192A1. Автор: YOUSIF IMAD,SALINAS MARTIN JEFFREY,Lee Jared Ahmad,Reuter Paul B.,Pal Aniruddha. Владелец: . Дата публикации: 2017-02-09.

MOVABLE GROUND RING FOR MOVABLE SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY OF A PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20160050781A1. Автор: Dhindsa Rajinder,Kellogg Michael C.,Marakhtanov Alexei. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2016-02-18.

Alignment of an electrostatic chuck with a substrate support

Номер патента: US20220076978A1. Автор: Thomas Brezoczky,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Bhaskar PRASAD,Srinivasa Rao Yedla,Nitin Bharadwaj SATYAVOLU. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-03-10.

OPTICAL HEATING OF LIGHT ABSORBING OBJECTS IN SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20180061684A1. Автор: PARKHE Vijay D.. Владелец: . Дата публикации: 2018-03-01.

METHOD OF CLAMPING A SUBSTRATE TO A CLAMPING SYSTEM, A SUBSTRATE HOLDER AND A SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20220082952A1. Автор: POIESZ Thomas,SOETHOUDT Abraham Alexander. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2022-03-17.

Substrate support having customizable and replaceable features for enhanced backside contamination performance

Номер патента: US20200066570A1. Автор: John Baggett,Dave Shaner. Владелец: Axcelis Technologies Inc. Дата публикации: 2020-02-27.

HEATED SUBSTRATE SUPPORT WITH TEMPERATURE PROFILE CONTROL

Номер патента: US20150076135A1. Автор: VOLFOVSKI LEON,MERRY NIR. Владелец: . Дата публикации: 2015-03-19.

SUBSTRATE SUPPORTING UNIT AND SUBSTRATE TREATING APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20140151332A1. Автор: Fukasawa Takayuki. Владелец: . Дата публикации: 2014-06-05.

SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY HAVING A PLASMA RESISTANT PROTECTIVE LAYER

Номер патента: US20140154465A1. Автор: Sun Jennifer Y.,Thach Senh,Kanungo Biraja P.,Firouzdor Vahid. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-06-05.

Rotatable substrate support having radio frequency applicator

Номер патента: US20150083042A1. Автор: Dmitry Lubomirsky,Hiroji Hanawa,Satoru Kobayashi,Soonam Park,Kirby Hane FLOYD. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2015-03-26.

SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY HAVING METAL BONDED PROTECTIVE LAYER

Номер патента: US20140159325A1. Автор: NARENDRNATH Kadthala Ramaya,PARKHE Vijay D.. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-06-12.

SUBSTRATE SUPPORTING APPARATUS

Номер патента: US20210082738A1. Автор: CHEON Min Ho,Kim Jong Sik,Hwang Chul Joo,Kim Jeong Mi,Jung Won Woo,CHUN Dong Seok. Владелец: . Дата публикации: 2021-03-18.

SUBSTRATE SUPPORT FOR REDUCED DAMAGE SUBSTRATE BACKSIDE

Номер патента: US20190080951A1. Автор: TZU GWO-CHUAN,HUSTON Joel M.,Tsai Cheng-Hsiung. Владелец: . Дата публикации: 2019-03-14.

Lift Pin Assembly, Substrate Support Apparatus and Substrate Processing Apparatus Having the Same

Номер патента: US20190080955A1. Автор: LEE Su-ho,Lee Ja-Woo,Shin Seung-Won. Владелец: . Дата публикации: 2019-03-14.

SUBSTRATE POSITION CALIBRATION FOR SUBSTRATE SUPPORTS IN SUBSTRATE PROCESSING SYSTEMS

Номер патента: US20220099426A1. Автор: Tsai Cheng-Hsiung,Ravi Jallepally,MATSUSHITA Tomoharu,KAMATH Aravind,TAKAHAMA Hiroyuki. Владелец: . Дата публикации: 2022-03-31.

SUBSTRATE SUPPORT UNIT AND SUBSTRATE TREATMENT APPARATUS COMPRISING THE SAME

Номер патента: US20170084477A1. Автор: KIM Tae-Hwan,KANG Dong-Joo. Владелец: WORLDEX INDUSTRY & TRADING CO., LTD.. Дата публикации: 2017-03-23.

SUBSTRATE SUPPORT WITH MULTIPLE EMBEDDED ELECTRODES

Номер патента: US20190088520A1. Автор: Cho Jaeyong,Chua Thai Cheng,KRAUS Philip Allan. Владелец: . Дата публикации: 2019-03-21.

Substrate support and baffle apparatus

Номер патента: US20170098542A1. Автор: Han-Wen Chen,Steven Verhaverbeke,Roman Gouk,Jean Delmas. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-04-06.

MULTI-ZONE SEMICONDUCTOR SUBSTRATE SUPPORTS

Номер патента: US20220148894A1. Автор: LUBOMIRSKY DMITRY,Yang Dongqing,Samir Mehmet Tugrul,Park Soonam,Hillman Peter,Zhu Lala,Choy Martin Yue. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-05-12.

SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY

Номер патента: US20180103508A1. Автор: Katz Dan,Willwerth Michael D.,Panagopoulos Theodoros,Holland John,Matyushkin Alexander. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-04-12.

Substrate support pedestal and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210104385A1. Автор: Masaru Sasaki,Tomoyuki Takahashi,Ryou Son,Sinya Sasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-04-08.

Long-life high-power terminals for substrate support with embedded heating elements

Номер патента: US20200098551A1. Автор: Siyuan Tian. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2020-03-26.

SUBSTRATE SUPPORT CARRIER WITH IMPROVED BOND LAYER PROTECTION

Номер патента: US20220172975A1. Автор: Banda Sumanth,Schmid Andreas,SIMMONS Jonathan,PROUTY Stephen Donald. Владелец: . Дата публикации: 2022-06-02.

PIXILATED COOLING, TEMPERATURE CONTROLLED SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY

Номер патента: US20150129165A1. Автор: Thach Senh,Boyd,JR. Wendell,PARKHE Vijay D.,Makhratchev Konstantin,BUSCHE Matthew James,Ono Masanori. Владелец: . Дата публикации: 2015-05-14.

SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY HAVING RAPID TEMPERATURE CONTROL

Номер патента: US20160135252A1. Автор: Katz Dan,Willwerth Michael D.,Panagopoulos Theodoros,Holland John,Matyushkin Alexander. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2016-05-12.

SUBSTRATE SUPPORT WITH CONTROLLED SEALING GAP

Номер патента: US20140217665A1. Автор: TZU GWO-CHUAN,CUVALCI OLKAN,HUSTON Joel M.. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-08-07.

METHOD FOR COOLING SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS AND SUBSTRATE SUPPORT APPARATUS

Номер патента: US20180144956A1. Автор: TAKAOKA Kunifumi. Владелец: . Дата публикации: 2018-05-24.

SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY HAVING A PLASMA RESISTANT PROTECTIVE LAYER

Номер патента: US20180151401A1. Автор: Sun Jennifer Y.,Thach Senh,Kanungo Biraja P.,Firouzdor Vahid. Владелец: . Дата публикации: 2018-05-31.

RING ASSEMBLY, SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20210183629A1. Автор: OSHIMA Kazuki,OGUMA Shingo. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2021-06-17.

TUNABLE TEMPERATURE CONTROLLED SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY

Номер патента: US20200152500A1. Автор: Guo Zhiqiang,BABAYAN Steven E.,PARKHE Vijay D.,MAROHL DAN A.,Sommer Phillip R.,Makhratchev Konstantin. Владелец: . Дата публикации: 2020-05-14.

SUBSTRATE SUPPORT FEATURES AND METHOD OF APPLICATION

Номер патента: US20210193496A1. Автор: LIN I-Kuan,SOMMERSTEIN Arthur,VO Khanh,BARBERA Kevin. Владелец: . Дата публикации: 2021-06-24.

SUBSTRATE SUPPORT WITH MULTI-PIECE SEALING SURFACE

Номер патента: US20140251207A1. Автор: YUAN XIAOXIONG,TZU GWO-CHUAN,CUVALCI OLKAN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-09-11.

HEATED SUBSTRATE SUPPORT WITH FLATNESS CONTROL

Номер патента: US20140251214A1. Автор: YUAN XIAOXIONG,TZU GWO-CHUAN,CUVALCI OLKAN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-09-11.

MULTI-PLANE HEATER FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20170167790A1. Автор: Gaff Keith William,PAPE Eric A.,WU Benny. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2017-06-15.

Substrate support with integrated vacuum and edge purge conduits

Номер патента: US20140252710A1. Автор: Gwo-Chuan Tzu,Olkan Cuvalci. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-09-11.

SUBSTRATE SUPPORT FOR PLASMA ETCH OPERATIONS

Номер патента: US20140262043A1. Автор: FORSTER John C.,TSAI CHENG-HSIUNG MATTHEW,Jackson Michael S.,FRAZIER LARRY,YEUNG MEI PO. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-09-18.

SUBSTRATE SUPPORT WITH ADVANCED EDGE CONTROL PROVISIONS

Номер патента: US20140265089A1. Автор: BANNA SAMER,TANTIWONG KYLE. Владелец: . Дата публикации: 2014-09-18.

REDUCING TEMPERATURE TRANSITION IN A SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20180174879A1. Автор: Zhang Tao,WALDMANN Ole,PAPE Eric A.. Владелец: . Дата публикации: 2018-06-21.

SUBSTRATE SUPPORT CHUCK COOLING FOR DEPOSITION CHAMBER

Номер патента: US20140268479A1. Автор: West Brian,Hirahara Robert,Parkhe Vijay,DEYO DAN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-09-18.

Substrate support device, substrate conveyance robot, and aligner device

Номер патента: US20200176299A1. Автор: Katsuhiko Shimada,Joseph Chang,Nobuyuki Furukawa,Yong-Gu Kang. Владелец: Yaskawa Electric Corp. Дата публикации: 2020-06-04.

Substrate support assembly for high temperature processes

Номер патента: US20190189492A1. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-06-20.

SUBSTRATE SUPPORTING DEVICE

Номер патента: US20180204754A1. Автор: Tsuchida Atsushi,Hino Makoto,Umeki Toshiya,ISHINO Tomohiro,TOKUSHO Noriaki,SASAKI Shunichi,AOYAMA Hisanori,FUKAZAWA Kenichi. Владелец: NGK SPARK PLUG CO., LTD.. Дата публикации: 2018-07-19.

PIXILATED TEMPERATURE CONTROLLED SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY

Номер патента: US20150228513A1. Автор: Guo Zhiqiang,PARKHE Vijay D.,Makhratchev Konstantin,Ono Masanori. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2015-08-13.

Substrate support with improved rf return

Номер патента: US20160240426A1. Автор: YU Chang,Jallepally Ravi,Cheng-Hsiung Tsai,Tomoharu Matsushita,Aravind Miyar Kamath. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-08-18.

SUBSTRATE POSITION CALIBRATION FOR SUBSTRATE SUPPORTS IN SUBSTRATE PROCESSING SYSTEMS

Номер патента: US20180233396A1. Автор: Tsai Cheng-Hsiung,Ravi Jallepally,MATSUSHITA Tomoharu,KAMATH Aravind,TAKAHAMA Hiroyuki. Владелец: . Дата публикации: 2018-08-16.

PROCESS KIT FOR A SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20190229007A1. Автор: Lei Yu,GELATOS AVGERINOS V.,Rasheed Muhammad M.,MUSTAFA Muhannad,Banthia Vikash,Lee Yung-Hsin,CALDERON VICTOR H.,TOH SHI WEI,SEN ANINDITA. Владелец: . Дата публикации: 2019-07-25.

SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY FOR HIGH TEMPERATURE PROCESSES

Номер патента: US20170256431A1. Автор: PARKHE Vijay D.. Владелец: . Дата публикации: 2017-09-07.

SUBSTRATE SUPPORTING APPARATUS

Номер патента: US20150325466A1. Автор: Wang Hui,Wang Wenjun,Chen Fuping,Zhang Huaidong. Владелец: ACM Research (Shanghai) Inc.. Дата публикации: 2015-11-12.

TUNABLE TEMPERATURE CONTROLLED SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY

Номер патента: US20160329231A1. Автор: Guo Zhiqiang,BABAYAN Steven E.,PARKHE Vijay D.,MAROHL DAN A.,Sommer Phillip R.,Makhratchev Konstantin. Владелец: . Дата публикации: 2016-11-10.

SUBSTRATE SUPPORTING APPARATUS

Номер патента: US20190311938A1. Автор: Wang Hui,Wu Jun,Wang Wenjun,Chen Fuping,Chen Fufa,Fang Zhiyou. Владелец: ACM Research (Shanghai) Inc.. Дата публикации: 2019-10-10.

SUBSTRATE HOLDER, SUBSTRATE SUPPORT AND METHOD OF CLAMPING A SUBSTRATE TO A CLAMPING SYSTEM

Номер патента: US20200326635A1. Автор: POIESZ Thomas,SOETHOUDT Abraham Alexander. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2020-10-15.

SUBSTRATE SUPPORT UNIT

Номер патента: US20190333800A1. Автор: Lee Donghee,HEO Yonghoe. Владелец: SEMIgear, Inc.. Дата публикации: 2019-10-31.

Method and Apparatus for Preventing the Deformation of a Substrate Supported at its Edge Area

Номер патента: US20160358807A1. Автор: BOGNER Bernhard. Владелец: . Дата публикации: 2016-12-08.

LOW TEMPERATURE BIASABLE SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20200350195A1. Автор: WEST Brian T.,JEMBULINGAM Soundarrajan,HUDERI SOMANNA Dinkesh. Владелец: . Дата публикации: 2020-11-05.

Substrate Support and Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20180374740A1. Автор: Sato Takayuki,MATSUURA Naoya. Владелец: . Дата публикации: 2018-12-27.

SUBSTRATE SUPPORT CARRIER WITH IMPROVED BOND LAYER PROTECTION

Номер патента: US20200373184A1. Автор: Banda Sumanth,Schmid Andreas,SIMMONS Jonathan,PROUTY Stephen Donald. Владелец: . Дата публикации: 2020-11-26.

Substrate supporting unit and single type substrate polishing apparatus using the same

Номер патента: US8113918B2. Автор: Gyo-Woog Koo,Chang-Ro Yoon,Jung-Gun Cho,Ki-Hoon Choi,Jung-Bong Choi,Duk-Hyun Son,Se-Hun Goo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2012-02-14.

POWER SOURCE ISOLATION CIRCUITS FOR HEATER ELEMENTS OF SUBSTRATE SUPPORTS OF SUBSTRATE PROCESSING SYSTEMS

Номер патента: US20220367229A1. Автор: Leeser Karl Frederick,Burkhart Vincent. Владелец: . Дата публикации: 2022-11-17.

Fast substrate support temperature control

Номер патента: KR101492414B1. Автор: 리챠드 포벨,폴 브릴하트,상인 이,애니슐 에이치. 칸,지브코 디네브,샤네 네빌. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2015-02-12.

Substrate supporting device, substrate processing system comprising same and substrate processing method

Номер патента: CN108022868B. Автор: 金载烈,徐钟锡,金性洙. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2021-12-14.

Substrate support unit, and apparatus and method for treating substrate with the same

Номер патента: KR100885180B1. Автор: 김봉주,이택엽. Владелец: 세메스 주식회사. Дата публикации: 2009-02-23.

Substrate supporting unit, apparatus with the same and method for treating substrate

Номер патента: KR101543692B1. Автор: 이명진. Владелец: 세메스 주식회사. Дата публикации: 2015-08-11.

Substrate supporting unit and single type substrate polishing apparatus using the same

Номер патента: US20090325469A1. Автор: Gyo-Woog Koo,Chang-Ro Yoon,Jung-Gun Cho,Ki-Hoon Choi,Jung-Bong Choi,Duk-Hyun Son,Se-Hun Goo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2009-12-31.

Substrate supporting unit and single type substrate polishing apparatus using the same

Номер патента: KR101036605B1. Автор: 조중근,최중봉,최기훈,구교욱,윤창로,손덕현,구세훈. Владелец: 세메스 주식회사. Дата публикации: 2011-05-24.

Substrate supporting unit and single type substrate polishing apparatus using the same

Номер патента: CN101618520B. Автор: 具教旭,赵重根,尹沧老,崔基勋,崔重奉,孙德铉,具世薰. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2012-06-27.

Substrate supporting unit, single type substrate polishing apparatus using the unit, and substrate polishing method using the apparatus

Номер патента: TWI404166B. Автор: Gyo-Woog Koo,Chang-Ro Yoon,Jung-Gun Cho,Ki-Hoon Choi,Jung-Bong Choi,Duk-Hyun Son,Se-Hun Goo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2013-08-01.

Substrate supporting unit, and apparatus and method for polishing substrate using the same

Номер патента: US8382555B2. Автор: Taek Youb Lee. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2013-02-26.

Substrate supporting unit, single type substrate polishing apparatus using the unit, and substrate polishing method using the apparatus

Номер патента: TW201001609A. Автор: Gyo-Woog Koo,Chang-Ro Yoon,Jung-Gun Cho,Ki-Hoon Choi,Jung-Bong Choi,Duk-Hyun Son,Se-Hun Goo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2010-01-01.

Substrate supporting unit and single type substrate polishing apparatus using the same

Номер патента: CN101618520A. Автор: 具教旭,赵重根,尹沧老,崔基勋,崔重奉,孙德铉,具世薰. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2010-01-06.

Substrate support unit and substrate polishing apparatus and method using the same

Номер патента: JP5174791B2. Автор: ユーブ イ，テク. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2013-04-03.

Substrate supporting unit

Номер патента: KR101226951B1. Автор: 이택엽. Владелец: 세메스 주식회사. Дата публикации: 2013-01-28.

Low contact area substrate support for etch chamber

Номер патента: CN114175231A. Автор: C·李,M·D·威尔沃斯,J·路德维格. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-03-11.

Substrate supporting apparatus, plasma processing apparatus having the seme and plasma processing method

Номер патента: KR101318704B1. Автор: 김형원,한영기,서영수. Владелец: 참엔지니어링(주). Дата публикации: 2013-10-18.

Substrate supporting device for vacuum processing apparatus, vacuum processing apparatus having same, and method for examining breakage of substrate

Номер патента: KR101418989B1. Автор: 최일권,김완승. Владелец: 주식회사 원익아이피에스. Дата публикации: 2014-07-11.

Substrate support chuck with contaminant containment layer and its manufacturing method

Номер патента: KR970077471A. Автор: 이. 하베이 스테파니. Владелец: 조셉 제이. 스위니. Дата публикации: 1997-12-12.

Multi-zone substrate support heated locally

Номер патента: JP6441927B2. Автор: マイケル エス コックス,マイケル エス コックス. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-12-19.

Pixelated cooling, temperature controlled substrate support assembly

Номер патента: TW201518538A. Автор: Masanori Ono,Senh Thach,Vijay D Parkhe,Wendell Boyde,Matthew James Busche,Konstantin Makhratchev. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2015-05-16.

Substrate supporting apparatus and substrate processing apparatus having the same

Номер патента: KR101421644B1. Автор: 김형원,한영기,서영수. Владелец: 참엔지니어링(주). Дата публикации: 2014-07-24.

Substrate supporting mechanism

Номер патента: KR101207594B1. Автор: 카즈히로 무샤,히로후미 미나미,타카후미 카와구치,히로히코 무라카미,하루히사 나카노,유이치 에가미. Владелец: 가부시키가이샤 아루박. Дата публикации: 2012-12-03.

Cooling module and Substrate supporting unit having the same

Номер патента: KR20200005771A. Автор: 김진영,안명헌,정민혁. Владелец: 주식회사 테스. Дата публикации: 2020-01-17.

Substrate supporting unit and Substrate processing apparatus having the same

Номер патента: KR102098556B1. Автор: 김진영,안명헌,김찬유. Владелец: 주식회사 테스. Дата публикации: 2020-04-17.

Substrate supporting device

Номер патента: KR102052811B1. Автор: 노리아키 도쿠쇼,슌이치 사사키,?이치 사사키,도모히로 이시노,히사노리 아오야마,마코토 히노,겐이치 후카자와,아츠시 츠치다,도시야 우메키. Владелец: 니혼도꾸슈도교 가부시키가이샤. Дата публикации: 2019-12-05.

Substrate supporting apparatus

Номер патента: KR102241646B1. Автор: 김지환. Владелец: 엘지디스플레이 주식회사. Дата публикации: 2021-04-16.

Substrate support in millisecond annealing system

Номер патента: JP6873218B2. Автор: シーバー ジョゼフ. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-19.

METHOD FOR MAKING A SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: FR2971885A1. Автор: Frank Fournel,Marc Zussy,Laurent Bally. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA. Дата публикации: 2012-08-24.

THIN SUBSTRATES SUPPORT

Номер патента: FR2875054B1. Автор: Michel Puech,Xavier Guichenal. Владелец: Alcatel SA. Дата публикации: 2006-12-01.

Substrate supporting apparatus and substrate detaching method

Номер патента: KR101099209B1. Автор: 마쓰자와미노루,요시다다쓰로. Владелец: 리아라이즈·아도반스토테쿠노로지 가부시키가이샤. Дата публикации: 2011-12-27.

Substrate supporting member and probe station having the same

Номер патента: KR20180056961A. Автор: 정상훈,황인욱. Владелец: 세메스 주식회사. Дата публикации: 2018-05-30.

Substrate Position Correction for Substrate Supports in Substrate Processing Systems

Номер патента: KR102462261B1. Автор: 잘레팔리 라비,토모하루 마츠시타,아라빈드 카마트,청-흥 차,히로유키 타카하마. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2022-11-01.

Substrate support unit and substrate processing apparatus that prevent particle accumulation

Номер патента: KR20230033856A. Автор: 임병규. Владелец: 세메스 주식회사. Дата публикации: 2023-03-09.

Substrate support chuck having a contaminant containment layer and method of fabricating same

Номер патента: TW303505B. Автор: E Harvey Stefanie. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1997-04-21.

Substrate support unit and apparatus for treating substrate using the same

Номер патента: KR101015229B1. Автор: 송길훈,노환익. Владелец: 세메스 주식회사. Дата публикации: 2011-02-18.

Substrate supporting table, substrate processing apparatus, and manufacture method for semiconductor device

Номер патента: CN102655105B. Автор: 坂田雅和. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2014-11-12.

Substrate support and inspection apparatus

Номер патента: KR20220000822A. Автор: 히로유키 나카야마,마사히토 고바야시,다이 고바야시. Владелец: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤. Дата публикации: 2022-01-04.

Substrate supporting module, substrate processing apparatus, and substrate processing system

Номер патента: KR20210055360A. Автор: 유성진. Владелец: 주식회사 원익아이피에스. Дата публикации: 2021-05-17.

Substrate supporting unit and temperature control method thereof

Номер патента: US20230376055A1. Автор: Kyung-Tae LIM. Владелец: Tes Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Piezoelectric actuator, actuator system, substrate support, and lithographic apparatus including the actuator

Номер патента: US20210318624A1. Автор: Hans Butler,Bas JANSEN,Alexander Pascal DIJKSHOORN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2021-10-14.

Substrate support

Номер патента: US20240282649A1. Автор: Yoshihiro Yamada,Ryuma Mizusawa,Yubun Kikuchi. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Adjustable substrate support and adjustment method

Номер патента: US20210066114A1. Автор: Ching-Hua Chen,Kai-Fa Ho. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Substrate type sensor for measuring horizontality of substrate support member provided in atmosphere accompanied by temperature change, method for measuring horizontality of substrate support member by using the same, and non-transitory computer readable medium

Номер патента: US12061097B2. Автор: Sang Min Lee,Young Seop CHOI,Hwan Bin Kim,Jong Hyeon WOO,Sang Hyun Son,Yong-jun Seo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Substrate support assembly

Номер патента: US20240332058A1. Автор: Sathiyamurthi GOVINDASAMY,Suresh PALANISAMY,Harish Penmethsa. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate support assembly

Номер патента: WO2024205755A1. Автор: Sathiyamurthi GOVINDASAMY,Suresh PALANISAMY,Harish V. PENMETHSA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate support device, display panel manufacturing apparatus and substrate support method

Номер патента: EP3489992A1. Автор: Gu Yao,Yu Wang,Qinghua Zou,Ruhui Zhu,Shupeng GUO,Tingyuan DUAN. Владелец: Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-29.

Substrate support, load-lock chamber for transferring substrates and methods for aligning a substrate on a substrate support

Номер патента: TWI279876B. Автор: Shinichi Kurita,Suhail Anwar,Wendell T Blonigan,Toshio Kiyotake,Hung T Nguyen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2007-04-21.

Multi-zone semiconductor substrate supports

Номер патента: US12112971B2. Автор: Ian BENSCO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-08.

Substrate type sensor for measuring horizontality of substrate support member provided in atmosphere accompanied by temperature change, method for measuring horizontality of substrate support member by using the same, and non-transitory computer readable medium

Номер патента: US20220205782A1. Автор: Sang Min Lee,Young Seop CHOI,Hwan Bin Kim,Jong Hyeon WOO,Sang Hyun Son,Yong-jun Seo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-30.

Boat for supporting substrate, supporting unit including the boat and apparatus for processing substrate using the supporting unit

Номер патента: KR101243309B1. Автор: 박주영,조병호,강호영. Владелец: 주식회사 테라세미콘. Дата публикации: 2013-03-13.

SUBSTRATE INVERTING DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, AND SUBSTRATE SUPPORTING DEVICE, AND SUBSTRATE INVERTING METHOD, SUBSTRATE PROCESSING METHOD, AND SUBSTRATE SUPPORTING METHOD

Номер патента: US20190067077A1. Автор: MURAMOTO Ryo. Владелец: . Дата публикации: 2019-02-28.

SUBSTRATE SUPPORT DEVICE, THERMAL PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE SUPPORT METHOD, AND THERMAL PROCESSING METHOD

Номер патента: US20210159111A1. Автор: PRENGLE Scott. Владелец: . Дата публикации: 2021-05-27.

Substrate supporting and transferring apparatus, method of supporting and transferring substrate, and manufacturing method of display apparatus using the same

Номер патента: US20190139809A1. Автор: Sang-hyun Park,Sang-Joon HONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-05-09.

Substrate supporting apparatus and method of controlling substrate supporting apparatus

Номер патента: US20200321237A1. Автор: Mitsuru Miyazaki,Takuya Inoue. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2020-10-08.

SUBSTRATE SUPPORT DEVICE, SUBSTRATE SUPPORT METHOD AND VACUUM DRYING EQUIPMENT

Номер патента: US20160372343A1. Автор: Wang Man,ZHAI Yuman. Владелец: . Дата публикации: 2016-12-22.

Substrate support device and substrate support method

Номер патента: KR101534357B1. Автор: 나루아키 이이다,스구루 에노키다,세이지 나카노,미치아키 마츠시타,가츠히로 모리카와. Владелец: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤. Дата публикации: 2015-07-06.

Substrate support, test device, and method of adjusting temperature of substrate support

Номер патента: KR102524161B1. Автор: 히로유키 나카야마. Владелец: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤. Дата публикации: 2023-04-20.

Substrate supporting unit and Substrate supporting apparatus having the same

Номер патента: KR101477142B1. Автор: 김현정,고성근,경재진. Владелец: (주)티티에스. Дата публикации: 2014-12-29.

Magnetic fixture, substrate support assembly and method for securing an edge support frame to a table frame

Номер патента: KR20230096036A. Автор: 랄프 린덴베르크,볼프강 클라인. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2023-06-29.

Substrate supporting apparatus, substrate supporting member, substrate transfer apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method

Номер патента: TW201135372A. Автор: Kiyoshi Kogure,Muneyasu Yokota,Tadashi Seki,Kunihiro Kawae. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2011-10-16.

Substrate inverting device, substrate processing apparatus, and substrate supporting device, and substrate inverting method, substrate processing method, and substrate supporting method

Номер патента: TW201921577A. Автор: 村元僚. Владелец: 日商斯庫林集團股份有限公司. Дата публикации: 2019-06-01.

Substrate support, test device, and method of adjusting temperature of substrate support

Номер патента: EP3882644B1. Автор: Hiroyuki Nakayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-17.

Multi-zone semiconductor substrate supports

Номер патента: WO2022192041A1. Автор: Ian BENSCO. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-09-15.

Lcd substrate support apparatus

Номер патента: TW200536392A. Автор: Ching-Lung Wang,Wen-Cheng Hsu,Yu-Ying Chan,Shao-Ming Hsu,He-Li Hsieh,Chen Kun Teng. Владелец: Innolux Display Corp. Дата публикации: 2005-11-01.

Substrate support

Номер патента: TW200305245A. Автор: Shinichi Kurita,Suhail Anwar,Wendell T Blonigan,Toshio Kiyotake,Hung T Nguyen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-10-16.

Substrate support with heater and rapid temperature change

Номер патента: US20120196242A1. Автор: Leon Volfovski,Mayur G. Kulkarni,Alex Minkovich. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2012-08-02.

Substrate Processing Apparatus, Method of Manufacturing Semiconductor Device and Method of Processing Substrate Support

Номер патента: US20220005712A1. Автор: ICHIMURA Keita,Aburatani Yukinori. Владелец: . Дата публикации: 2022-01-06.

Substrate supporting member, substrate treating apparatus including the same and substrate treating method thereof

Номер патента: US20220044959A1. Автор: Kang Suk Lee,Hyeon Jun Lee,Yong Hoon HONG,So Young Jang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2022-02-10.

SUBSTRATE SUPPORT WITH IN SITU WAFER ROTATION

Номер патента: US20180033673A1. Автор: Nemani Srinivas D.,BABAYAN Viachslav,Roy Shambhu N.,Malik Sultan. Владелец: . Дата публикации: 2018-02-01.

LIFT PIN UNIT AND SUBSTRATE SUPPORTING UNIT HAVING THE SAME

Номер патента: US20190035671A1. Автор: Kim Hyung Joon,HA Kang Rae. Владелец: . Дата публикации: 2019-01-31.

METHODS AND APPARATUS FOR ADJUSTING SURFACE TOPOGRAPHY OF A SUBSTRATE SUPPORT APPARATUS

Номер патента: US20210035850A1. Автор: Shirley Paul D.. Владелец: . Дата публикации: 2021-02-04.

LOW CONTACT AREA SUBSTRATE SUPPORT FOR ETCHING CHAMBER

Номер патента: US20210035851A1. Автор: Willwerth Michael D.,Lee Changhun,LUDWIG Jeffrey. Владелец: . Дата публикации: 2021-02-04.

SUBSTRATE SUPPORT STRUCTURE, VACUUM DRYING DEVICE AND VACUUM DRYING METHOD

Номер патента: US20170051977A1. Автор: Zhao Dejiang. Владелец: BOE Technology Group Co., Ltd.. Дата публикации: 2017-02-23.

Substrate support system

Номер патента: US20150064809A1. Автор: Dmitry Lubomirsky. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2015-03-05.

ADJUSTABLE SUBSTRATE SUPPORT AND ADJUSTMENT METHOD

Номер патента: US20210066114A1. Автор: CHEN Ching-Hua,Ho Kai-Fa. Владелец: . Дата публикации: 2021-03-04.

SUBSTRATE SUPPORT APPARATUS, SUBSTRATE TREATING SYSTEM INCLUDING THE SAME, AND SUBSTRATE TREATING METHOD

Номер патента: US20180122660A1. Автор: KIM Jae-Youl,Kim Seongsu,SEO Jong Seok. Владелец: . Дата публикации: 2018-05-03.

HEATED SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20220279626A1. Автор: RAJ Govinda. Владелец: . Дата публикации: 2022-09-01.

Substrate support member, substrate treatment apparatus, and substrate transfer apparatus

Номер патента: US20210173306A1. Автор: Hitoshi Hashima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-06-10.

MULTI-ZONE SEMICONDUCTOR SUBSTRATE SUPPORTS

Номер патента: US20220293453A1. Автор: Bensco Ian. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-09-15.

SUBSTRATE SUPPORT UNIT, HEAT TREATMENT UNIT, AND SUBSTRATE TREATING APPARATUS INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20180151409A1. Автор: Park Sanguk,Kang Man Kyu,JO Min Woo,CHOI Cheolmin. Владелец: . Дата публикации: 2018-05-31.

SUBSTRATE-SUPPORTING DEVICE AND METHOD OF POLISHING SUBSTRATE USING THE SAME

Номер патента: US20200144098A1. Автор: PARK Jeong Min,CHO Woo Jin,Choo Byoung Kwon,BAE Joon-Hwa,YANG Heesung,KANG Bonggu,KANG Seungbae. Владелец: . Дата публикации: 2020-05-07.

A system, a lithographic apparatus, and a method for reducing oxidation or removing oxide on a substrate support

Номер патента: US20200150549A1. Автор: Nina Vladimirovna DZIOMKINA,Lucas Henricus Johannes Stevens,Johannes Adrianus Cornelis Maria Pijnenburg,Laura Maria FERNANDEZ DIAZ. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-05-14.

SUBSTRATE SUPPORT APPARATUS HAVING REDUCED SUBSTRATE PARTICLE GENERATION

Номер патента: US20150170954A1. Автор: SUH SONG-MOON,Agarwal Pulkit,SANSONI STEVEN V.,MORI GLEN. Владелец: . Дата публикации: 2015-06-18.

SUBSTRATE SUPPORT BUSHING

Номер патента: US20140265090A1. Автор: HOU TAO. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-09-18.

SUBSTRATE SUPPORTING EDGE RING WITH COATING FOR IMPROVED SOAK PERFORMANCE

Номер патента: US20150187631A1. Автор: Ranish Joseph M.,Hunter Aaron Muir. Владелец: . Дата публикации: 2015-07-02.

Method and apparatus for aligning substrates on a substrate support unit

Номер патента: US20190258173A1. Автор: Bart Schipper. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2019-08-22.

SUBSTRATE SUPPORT UNIT AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS HAVING THE SAME

Номер патента: US20190311923A1. Автор: KIM Hyun-su. Владелец: . Дата публикации: 2019-10-10.

MULTI-ZONE SEMICONDUCTOR SUBSTRATE SUPPORTS

Номер патента: US20180337074A1. Автор: LUBOMIRSKY DMITRY,Yang Dongqing,Samir Mehmet Tugrul,Park Soonam,Hillman Peter,Zhu Lala,Choy Martin Yue. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-11-22.

SUBSTRATE SUPPORT AND BAFFLE APPARATUS

Номер патента: US20180350593A1. Автор: Gouk Roman,Verhaverbeke Steven,Chen Han-Wen,DELMAS Jean. Владелец: . Дата публикации: 2018-12-06.

Slip ring for use in rotatable substrate support

Номер патента: US20180358768A1. Автор: YU Chang,Muhannad MUSTAFA,Muhammad M. Rasheed,William Kuang,Xiping Huo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-12-13.

SUBSTRATE HOLDER AND SUBSTRATE SUPPORT DEVICE INCLUDING THE SUBSTRATE HOLDER

Номер патента: US20200391259A1. Автор: SHIN In Chul,KIM Hyun O. Владелец: KCTECH CO., LTD.. Дата публикации: 2020-12-17.

SUBSTRATE SUPPORT UNIT AND SUBSTRATE TREATING APPARATUS HAVING THE SAME

Номер патента: US20200402836A1. Автор: Oh Seung Hoon,PARK Inhwang,PARK Gui Su,LEE Young Hun,CHOI Youngseop,WOO Jonghyeon,JAE Jin Mo. Владелец: SEMES CO., LTD.. Дата публикации: 2020-12-24.

Substrate support

Номер патента: US20030072639A1. Автор: John White,Akihiro Hosokawa. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-04-17.

SEMITRANSPARENT SUBSTRATE SUPPORT FOR MICROWAVE DEGAS CHAMBER

Номер патента: US20220406643A1. Автор: Jupudi Ananthkrishna,AGARWAL PRASHANT,KOH TUCK FOONG. Владелец: . Дата публикации: 2022-12-22.

Substrate supporting apparatus

Номер патента: KR100864794B1. Автор: 최준영,이영종,김필종,정동환. Владелец: 주식회사 에이디피엔지니어링. Дата публикации: 2008-10-23.

Substrate support mechanism in semiconductor processing system

Номер патента: KR100598196B1. Автор: 히로키츠토무,사에키히로아키. Владелец: 동경 엘렉트론 주식회사. Дата публикации: 2006-07-07.

Substrate support and method of fabricating the same

Номер патента: KR100589281B1. Автор: 히데아키 곤도,나오미 마츠무라,마사히코 고와카,윌리암 에이. 바글리,아키라 테라시. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2006-06-14.

Substrate support frame, and substrate processing apparatus comprising the same, and method of loading and unloading substrate using the same

Номер патента: KR101397124B1. Автор: 이용현. Владелец: 주성엔지니어링(주). Дата публикации: 2014-05-19.

heating unit and substrate supporter apparatus

Номер патента: KR101522673B1. Автор: 김현정,고성근. Владелец: (주)티티에스. Дата публикации: 2015-06-25.

Substrate supporting member, substrate polishing apparatus having the same and method of polishing substrate using the same

Номер патента: KR101041452B1. Автор: 최중봉,오세훈. Владелец: 세메스 주식회사. Дата публикации: 2011-06-16.

Substrate processing apparatus comprising substrate supporting means

Номер патента: KR101248929B1. Автор: 전대식. Владелец: 주성엔지니어링(주). Дата публикации: 2013-03-29.

Substrate support unit and apparatus for treating substrate including the same

Номер патента: KR20150066285A. Автор: 이상진,이판석. Владелец: 세메스 주식회사. Дата публикации: 2015-06-16.

Substrate support

Номер патента: CN1572014A. Автор: 约翰·M·怀特,细川明广. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2005-01-26.

Substrate processing apparatus, substrate support, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: JP5689483B2. Автор: 英博 野内,坂田　雅和,雅和 坂田,野内　英博. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2015-03-25.

Substrate processing apparatus, substrate support, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: JPWO2012099064A1. Автор: 英博 野内,坂田　雅和,雅和 坂田,野内　英博. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2014-06-30.

Semiconductor substrate support

Номер патента: CN114566458A. Автор: D·卢博米尔斯基,D·本杰明森. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-05-31.

Substrate transport apparutus having four substrate support

Номер патента: KR101338857B1. Автор: 김재영,김원경,오영일,이성직. Владелец: 주식회사 나온테크. Дата публикации: 2013-12-16.

A kind of substrate support structure and exposure machine

Номер патента: CN105824200B. Автор: 刘浏,石鹏程,彭金宝. Владелец: Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-29.

Semiconductor substrate manufacture on insulator comprises inserting an insulting layer between semiconductor material and substrate support layer, forming an insulating layer and recovering a cluster gap

Номер патента: FR2881573A1. Автор: Christophe Maleville,Eric Neyret. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2006-08-04.

Substrate supporting device comprising member of going up and down

Номер патента: KR101215893B1. Автор: 한승수,한진희. Владелец: 주성엔지니어링(주). Дата публикации: 2012-12-27.

Substrate support structure, clamp preparation unit, and lithography system.

Номер патента: NL1038213A. Автор: Hendrik Jan Jong. Владелец: Mapper Lithography Ip Bv. Дата публикации: 2011-09-06.

Apparatus and method for etching a thin film layer on a substrate, and apparatus and method for positioning and clamping a substrate on an accommodating portion of the substrate support member

Номер патента: KR100373878B1. Автор: 노르만 엘. 터너,제리 웡,마사토 엠. 토시마,캄 에스. 라우,단 마이단. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2003-05-09.

Silicon carbide sleeve for substrate support assembly

Номер патента: KR100838873B1. Автор: 데이비드 케이. 칼슨,로리에이. 칼라간,로저엔. 앤더슨. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2008-06-16.

Wafer processing apparatus with heated, rotating substrate support

Номер патента: TW201310566A. Автор: Ridder Chris G M De,Klaas P Boonstra,Theodorus G M Oosterlaken,Barend J T Ravenhorst. Владелец: Asm Int. Дата публикации: 2013-03-01.

Heating and cooling of substrate support

Номер патента: US20120006493A1. Автор: John M. White,Robin L. Tiner. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-01-12.

Heating and cooling of substrate support

Номер патента: KR200465330Y1. Автор: 존 엠. 화이트,로빈 엘. 티너. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2013-02-13.

A heater system for multi-zone temperature control and a substrate support assembly comprising the same

Номер патента: KR102440417B1. Автор: 김용기,최윤석. Владелец: 주식회사 유진테크. Дата публикации: 2022-09-13.

Surface topologies of electrostatic substrate support for particle reduction

Номер патента: US20240203705A1. Автор: Arvinder Manmohan Singh CHADHA,Christopher BEAUDRY. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate support device

Номер патента: US20230256551A1. Автор: Hyun-Sang Hwang,Sang-Jean Jeon. Владелец: Tes Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Surface topologies of electrostatic substrate support for particle reduction

Номер патента: WO2024129175A1. Автор: Arvinder Manmohan Singh CHADHA,Christopher BEAUDRY. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate processing apparatus and substrate support

Номер патента: US20240258083A1. Автор: Makoto Kato,Ryoma Muto,Kaisei SUGA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Power and data transmission to substrate support in plasma chambers via optical fiber

Номер патента: US20220247492A1. Автор: Changyou Jing,Fred Egley. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2022-08-04.

Substrate support and plasma processing apparatus

Номер патента: US11705302B2. Автор: Dai Kitagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-07-18.

Substrate supporting unit, apparatus for treating substrate including the same, and ring transfer method

Номер патента: US20240153747A1. Автор: Jae-Won Shin. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Substrate support and substrate processing apparatus

Номер патента: US20210159057A1. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-27.

Rf voltage sensor incorporating multiple voltage dividers for detecting rf voltages at a pickup device of a substrate support

Номер патента: US20190051497A1. Автор: John Drewery,Alex Paterson,Maolin Long. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2019-02-14.

Reactive cleaning of substrate support

Номер патента: US11772137B2. Автор: Xi Chen,Cheng-Hsiung Tsai,Thomas Blasius Brezoczky,Sheng Guo,Shreesha Yogish Rao,Chi H. Ching. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-03.

Power and data transmission to substrate support in plasma chambers via optical fiber

Номер патента: US11901944B2. Автор: Changyou Jing,Fred Egley. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-02-13.

Process kit for a substrate support

Номер патента: WO2024015187A1. Автор: Yu Lei,Avgerinos V. Gelatos,Vikash Banthia,Muhannad MUSTAFA,Muhammad M. Rasheed,Victor H. Calderon,Shi Wei Toh,Yung-Hsin Lee,Anindita Sen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-01-18.

Substrate support bushing

Номер патента: TW200527577A. Автор: Shinichi Kurita,Suhail Anwar,Toshio Kiyotake. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2005-08-16.

SEMICONDUCTOR SUBSTRATE SUPPORT WITH MULTIPLE ELECTRODES AND METHOD FOR MAKING SAME

Номер патента: US20220143726A1. Автор: Parker Michael. Владелец: WATLOW ELECTRIC MANUFACTURING COMPANY. Дата публикации: 2022-05-12.

Semiconductor Substrate Support With Multiple Electrodes And Method For Making Same

Номер патента: US20200206835A1. Автор: Parker Michael. Владелец: . Дата публикации: 2020-07-02.

SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY WITH DEPOSITED SURFACE FEATURES

Номер патента: US20200243368A1. Автор: Boyd,PARKHE Vijay D.,JR. Wendell Glenn,Kuo Teng-Fang,Ding Zhenwen. Владелец: . Дата публикации: 2020-07-30.

OPTICALLY HEATED SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY WITH REMOVABLE OPTICAL FIBERS

Номер патента: US20170303338A1. Автор: PARKHE Vijay D.. Владелец: . Дата публикации: 2017-10-19.

Alumina Substrate Supported Solid Oxide Fuel Cells

Номер патента: US20190123362A1. Автор: Ren Chunlei,Xingjian Xue. Владелец: UNIVERSITY OF SOUTH CAROLINA. Дата публикации: 2019-04-25.

Substrate support structure and method of forming the same

Номер патента: US20210360769A1. Автор: Shinji Kawai,Hidehiko Shimizu,Keitaroh NOZAWA. Владелец: Yazaki Corp. Дата публикации: 2021-11-18.

Apparatus and techniques for anisotropic substrate etching

Номер патента: US20190006587A1. Автор: Shurong Liang,Glen F. R. Gilchrist,Tyler Rockwell,Kenneth Starks,Raees Pervaiz. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2019-01-03.

Apparatus and techniques for anisotropic substrate etching

Номер патента: WO2019005304A1. Автор: Shurong Liang,Tyler Rockwell,Kenneth Starks,Raees Pervaiz,Glen F. R GILCHRIST. Владелец: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.. Дата публикации: 2019-01-03.

APPARATUS AND TECHNIQUES FOR ANISOTROPIC SUBSTRATE ETCHING

Номер патента: US20190006587A1. Автор: Rockwell Tyler,Liang Shurong,Gilchrist Glen F. R.,Pervaiz Raees,Starks Kenneth. Владелец: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.. Дата публикации: 2019-01-03.

SUBSTRATE SUPPORT WITH SYMMETRICAL FEED STRUCTURE

Номер патента: US20150371877A1. Автор: NGUYEN ANDREW,ZHOU XIAOPING,BUCHBERGER,JR. DOUGLAS A.,Lin Xing,SHEYNER ANCHEL. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2015-12-24.

Universal vacuum chamber with equipment modules such as plasma generators, vacuum pumping devices and / or cantilever substrate supports

Номер патента: KR100429581B1. Автор: 닐 벤자민,존 힐버트,스테파노 망가노. Владелец: 램 리서치 코포레이션. Дата публикации: 2004-08-12.

Substrate support, substrate processing unit and substrate supporting method

Номер патента: TW200805558A. Автор: Osamu Tsuda,Fumihiro Kamimura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-01-16.

Substrate support element for a support rack

Номер патента: EP3472859A1. Автор: Thomas Piela,Larissa Von Riewel. Владелец: HERAEUS NOBLELIGHT GMBH. Дата публикации: 2019-04-24.

Substrate support boat and support unit using the same

Номер патента: JP6006734B2. Автор: カン、ホヨン,パク、キョンワン,チョ、ビュンホ,パク、ジュヨン. Владелец: Tera Semicon Corp. Дата публикации: 2016-10-12.

Device for thermal treatment of a substrate, and support rack and substrate support element for the device

Номер патента: TW201803003A. Автор: 托瑪士 培拉,雷偉爾 拉力撒 凡恩. Владелец: 賀利氏諾伯燈具公司. Дата публикации: 2018-01-16.

Substrate support element for a support rack

Номер патента: WO2017220272A1. Автор: Thomas Piela,Larissa Von Riewel. Владелец: HERAEUS NOBLELIGHT GMBH. Дата публикации: 2017-12-28.

HEATED SUBSTRATE SUPPORT RING

Номер патента: US20140103027A1. Автор: Miller Keith A.. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-04-17.

HEATED SUBSTRATE SUPPORT WITH THERMAL BAFFLES

Номер патента: US20210050234A1. Автор: RUHLAND Fred Eric,PATANKAR Sumit S.. Владелец: . Дата публикации: 2021-02-18.

HEATED SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20190159292A1. Автор: RAJ Govinda. Владелец: . Дата публикации: 2019-05-23.

Substrate Support in a Millisecond Anneal System

Номер патента: US20170194178A1. Автор: Cibere Joseph. Владелец: . Дата публикации: 2017-07-06.

Substrate Supporting Structure And Exposure Machine

Номер патента: US20180210343A1. Автор: Liu Liu,Peng Jinbao,SHI Pengcheng. Владелец: . Дата публикации: 2018-07-26.

SUBSTRATE SUPPORT DEVICE AND SUBSTRATE CLEANING DEVICE INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20190221451A1. Автор: Kim Byung Gook,Oh Jong Keun,LIM Kyeong bin. Владелец: . Дата публикации: 2019-07-18.

Apparatus for thermal treatment of a substrate, carrier and substrate support element

Номер патента: US20180247842A1. Автор: Thomas Piela,Larisa von Riewel. Владелец: HERAEUS NOBLELIGHT GMBH. Дата публикации: 2018-08-30.

HEATED SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20170263422A1. Автор: TINER Robin L.,STERLING William Norman,OCHSNER Timothy Stuart,WILLEY Jonathan R.. Владелец: . Дата публикации: 2017-09-14.

METHOD OF DETERMINING THERMAL STABILITY OF A SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY

Номер патента: US20170322546A1. Автор: Gaff Keith William,WALDMANN Ole,PAPE Eric A.,Leal-Verdugo Carlos. Владелец: . Дата публикации: 2017-11-09.

Substrate Support in a Millisecond Anneal System

Номер патента: US20200357671A1. Автор: Cibere Joseph. Владелец: . Дата публикации: 2020-11-12.

Wafer processing apparatus having a heated rotating substrate support

Номер патента: JP6095291B2. Автор: リッデル，クリス へー．エム． デ,リッデル，クリス ヘー．エム． デ,ペー． ボーンストラ，クラース,へー．エム． オーステルラケン，テオドルス,イェー．テー． ラフェンホルスト，バレント. Владелец: ASM International NV. Дата публикации: 2017-03-15.

Method and apparatus for substrate support with multi-zone heating

Номер патента: TWI654712B. Автор: 楊燿宏,吳正勳,扈胥達蘭法蘭克Ｆ,邱湯姆Ｋ,侯濤. Владелец: 美商應用材料股份有限公司. Дата публикации: 2019-03-21.

Heating and cooling of substrate support

Номер патента: CN1907897B. Автор: 稻川真,细川明广. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2012-11-07.

Substrate processing apparatus substrate support apparatus substrate processing method and substrate fabrication method

Номер патента: SG65092A1. Автор: Takao Yonehara,Kenji Yamagata,Toru Takisawa. Владелец: Canon Kk. Дата публикации: 1999-05-25.

Substrate processing apparatus, substrate support apparatus, substrate processing method, and substrate fabrication method

Номер патента: US6451670B1. Автор: Takao Yonehara,Kenji Yamagata,Toru Takisawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2002-09-17.

Method of manufacturing substrate-supported ceramic interconnect and substrate-supported ceramic interconnect thereof

Номер патента: KR101983534B1. Автор: 이정민,이영희,유영성,전상윤. Владелец: 한국전력공사. Дата публикации: 2019-05-29.

Substrate support cover for high-temperature corrosive environment

Номер патента: US11866821B2. Автор: LIN Zhang,Ying Ma,Stanley Wu,Shuran Sheng,Yikai Chen,Joseph C. Werner,Yixing Lin,Jiyong Huang,Mahesh Adinath KANAWADE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-09.

Ceramic substrate supporting member and method of manufacturing ceramic member

Номер патента: US20120228795A1. Автор: Kazuhiro Ito,Toshiki Ito,Seiji Minoura. Владелец: Ibiden Co Ltd. Дата публикации: 2012-09-13.

Substrate support device

Номер патента: US20240318314A1. Автор: Junhyung Kim,Minsung Kim,Sangchul Han,Youngbok Lee,Sangyeon OH,Yunjae Lee,Inhwan Park,Yonjoo Kang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate supporting device and sputtering apparatus including the same

Номер патента: US20090127109A1. Автор: Kaoru Ito,Hirotoshi Matsui. Владелец: Kojima Press Industry Co Ltd. Дата публикации: 2009-05-21.

Heated substrate support and method of fabricating same

Номер патента: US20060075970A1. Автор: Rolf Guenther,Curtis Hammill. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-04-13.

Substrate supporting device for vacuum sputtering equipment

Номер патента: US20200087779A1. Автор: Qiuping Huang. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-19.

Substrate support structure, clamp preparation unit, and lithography system

Номер патента: US20120043438A1. Автор: Hendrik Jan DE JONG, JR.. Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2012-02-23.

SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, AND EDGE RING

Номер патента: US20210020408A1. Автор: SUGIYAMA Hideki,OGASAWARA Akihiro,Kaneko Shunsuke. Владелец: . Дата публикации: 2021-01-21.

SUBSTRATE TREATING APPARATUS AND SUBSTRATE SUPPORT UNIT

Номер патента: US20220044917A1. Автор: LEE Won Seok,KIM Dong Suk,CHO Jae Hyun,KIM Sung Je,Kim Hyeon Gyu,AN Jong-Hwan,SON HYOUNGKYU,BAE MIN KEUN,GALSTYAN OGSEN. Владелец: . Дата публикации: 2022-02-10.

SUBSTRATE SUPPORT PLATE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20210166910A1. Автор: KIM Jaehyun,Lee SeungHwan,Kim DaeYoun. Владелец: . Дата публикации: 2021-06-03.

Semiconductor package substrate support structures for ball-grid array cavities, and methods of assembling same

Номер патента: US20190148310A1. Автор: Eng Huat Goh,Paik Wen ONG,Kean Huat Leong,Chun Kit See,Sheng Jian Darren Tan. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2019-05-16.

SUPPORTING SUBSTRATE, SUPPORTING SUBSTRATE-ATTACHED LAMINATE AND METHOD FOR MANUFACTURING A PACKAGE SUBSTRATE FOR MOUNTING A SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20190181000A1. Автор: Kato Yoshihiro,Ogashiwa Takaaki,HIRANO Syunsuke,KAWASHITA Kazuaki,NAKAJIMA Youichi. Владелец: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.. Дата публикации: 2019-06-13.

SUPPORTING SUBSTRATE, SUPPORTING SUBSTRATE-ATTACHED LAMINATE AND METHOD FOR MANUFACTURING A PACKAGE SUBSTRATE FOR MOUNTING A SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20210257207A1. Автор: Kato Yoshihiro,Ogashiwa Takaaki,HIRANO Syunsuke,KAWASHITA Kazuaki,NAKAJIMA Youichi. Владелец: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.. Дата публикации: 2021-08-19.

Procede de transfert d'une couche piezoelectrique sur un substrat support

Номер патента: EP3776641B1. Автор: Thierry Barge,Djamel Belhachemi. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2024-05-15.

Procede de transfert d'une couche piezoelectrique sur un substrat support

Номер патента: EP3776641C0. Автор: Thierry Barge,Djamel Belhachemi. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2024-05-15.

THIN HEATED SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20130334199A1. Автор: YOUSIF IMAD,SALINAS MARTIN JEFFREY,Lee Jared Ahmad,Reuter Paul B.,Pal Aniruddha. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2013-12-19.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE SUPPORTER AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20140004710A1. Автор: Sakata Masakazu,Yanai Hidehiro. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC.. Дата публикации: 2014-01-02.

SYSTEM, DEVICE AND METHOD FOR RECONDITIONING A SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20210053177A1. Автор: Van De Winkel Jimmy Matheus Wilhelmus,ANTONOV Pavlo,BALTIS Coen Hubertus Matheus,POIESZ Thomas,SCHOLTEN Bert Dirk,VAN DE VIJVER Yuri Johannes Gabriël,MASON Christopher John,ACHANTA Satish,AKCHURIN Aydar,BOUWKNEGT Jeroen,FARLE Ann-Sophie m.,PALERMO Ralph Nicholas. Владелец: . Дата публикации: 2021-02-25.

SUBSTRATE SUPPORT UNIT AND PLASMA ETCHING APPARATUS HAVING THE SAME

Номер патента: US20140224426A1. Автор: KIM Tae Gon,HAN Kyung Hyun,JEON Yun Kwang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2014-08-14.

SEMICONDUCTOR PACKAGE SUBSTRATE SUPPORT STRUCTURES FOR BALL-GRID ARRAY CAVITIES, AND METHODS OF ASSEMBLING SAME

Номер патента: US20190148310A1. Автор: Goh Eng Huat,ONG Paik Wen,Leong Kean Huat,See Chun Kit,Tan Sheng Jian Darren. Владелец: . Дата публикации: 2019-05-16.

Substrate support unit and substrate polishing apparatus comprsing the same

Номер патента: KR102050975B1. Автор: 이해성. Владелец: 주식회사 케이씨텍. Дата публикации: 2020-01-08.

Substrate supporting tool, substrate processing apparatus, and method for producing semiconductor device

Номер патента: WO2023026412A1. Автор: 大騎 谷口. Владелец: 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ. Дата публикации: 2023-03-02.

Method and apparatus for placing substrate support components

Номер патента: WO2009102513A2. Автор: Steven R. Foster,Joseph A. Perault. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC.. Дата публикации: 2009-08-20.

Method and apparatus for placing substrate support components

Номер патента: EP2248407A2. Автор: Steven R. Foster,Joseph A. Perault. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC. Дата публикации: 2010-11-10.

Substrate support body, substrate support structure, light-emitting device, and lamp

Номер патента: EP4145044A1. Автор: Kazuhiro Okamoto,Yoshihide Okawa,Sentarou Yamamoto,Yuhei MATSUMOTO. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2023-03-08.

Substrate support body, substrate support structure, light emitting device, and lighting fixture

Номер патента: US20230160560A1. Автор: Kazuhiro Okamoto,Yoshihide Okawa,Sentarou Yamamoto,Yuhei MATSUMOTO. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2023-05-25.

Substrate supporting device and screen printer

Номер патента: EP2213454A3. Автор: Yoshio Tomizawa,Noboru Nishi,Kazuhiro Hineno,Ryuichi Komatsu. Владелец: Hitachi High Tech Instruments Co Ltd. Дата публикации: 2012-01-18.

Substrate support structure

Номер патента: US20110234032A1. Автор: Hideyuki Takahashi,Kaoru Tanaka,Kazuaki Mori,Yuki Hayakawa,Tomohiro Kaeabata. Владелец: Calsonic Kansei Corp. Дата публикации: 2011-09-29.

Substrate support with surface feature for reduced reflection and manufacturing techniques for producing same

Номер патента: US09814099B2. Автор: Joseph M. Ranish,Paul Brillhart,Mehmet Tugrul Samir,Shu-Kwan LAU. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-11-07.

Method and apparatus for adjusting a substrate support

Номер патента: US20080250951A1. Автор: Ronald J. Forget,John G. Klauser. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC. Дата публикации: 2008-10-16.

Method and apparatus for adjusting a substrate support

Номер патента: EP2144755A1. Автор: Ronald J. Forget,John G. Klauser. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC. Дата публикации: 2010-01-20.

Method and apparatus for adjusting a substrate support

Номер патента: WO2008127825A1. Автор: Ronald J. Forget,John G. Klauser. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC.. Дата публикации: 2008-10-23.

Sheathed heater and substrate support device including the same

Номер патента: US20240032156A1. Автор: Daisuke Fujino,Jun Futakuchiya,Yuki Tani,Naoya Kida. Владелец: NHK Spring Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Procédé de fabrication d’un substrat donneur pour le transfert d’une couche piézoélectrique et procédé de transfert d’une couche piézoélectrique sur un substrat support

Номер патента: FR3131980B1. Автор: Marcel Broekaart,Thierry Barge,Morgane Logiou,Luciana Capello,Cedric Charles-Alfred. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2024-01-12.

Circuit substrate supporting structure

Номер патента: US5168428A. Автор: Yuji Suzuki. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1992-12-01.

Sheath heater and substrate support device including same

Номер патента: EP4319483A1. Автор: Daisuke Fujino,Jun Futakuchiya,Yuki Tani,Naoya Kida. Владелец: NHK Spring Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-07.

Substrate support pin and substrate support device adopting substrate support pin

Номер патента: EP2840601B1. Автор: Liang Sun,Shoukun WANG. Владелец: Beijing BOE Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-11-11.

Substrate support pin and substrate support device adopting substrate support pin

Номер патента: EP2840601A4. Автор: Liang Sun,Shoukun WANG. Владелец: Beijing BOE Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-01-06.

Method for forming an electronic device on a flexible substrate supported by a detachable carrier

Номер патента: US09627420B2. Автор: Roger Stanley Kerr,Timothy John Tredwell. Владелец: Carestream Health Inc. Дата публикации: 2017-04-18.

NON-CONTACT TEMPERATURE CALIBRATION TOOL FOR A SUBSTRATE SUPPORT AND METHOD OF USING THE SAME

Номер патента: US20180269089A1. Автор: Nguyen Binh,HAWRYLCHAK LARA,BEHDJAT Mehran,RAMAKRISHNA Mahesh,MERCHANT Niraj,GAGE Dietrich,DAO Christopher,KAMP Michael P.. Владелец: . Дата публикации: 2018-09-20.

AUTO-CORRECTION OF MALFUNCTIONING THERMAL CONTROL ELEMENT IN A TEMPERATURE CONTROL PLATE OF A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY

Номер патента: US20150364388A1. Автор: Gaff Keith William,Singh Harmeet,WALDMANN Ole,PAPE Eric A.. Владелец: . Дата публикации: 2015-12-17.

Substrate support pin

Номер патента: CN202796877U. Автор: 孙亮,王守坤. Владелец: Beijing BOE Display Technology Co Ltd. Дата публикации: 2013-03-13.

Substrate support for electronic components

Номер патента: ES2320096T5. Автор: Thomas Zenker,Christian Thiemann. Владелец: SCHOTT AG. Дата публикации: 2012-04-24.

SUBSTRATE SUPPORT FOR ELECTRONIC COMPONENTS.

Номер патента: ES2282758T3. Автор: Thomas Zenker,Christian Thiemann. Владелец: SCHOTT AG. Дата публикации: 2007-10-16.

SUBSTRATE SUPPORT FOR ELECTRONIC COMPONENTS.

Номер патента: ES2320096T3. Автор: Thomas Zenker,Christian Thiemann. Владелец: SCHOTT AG. Дата публикации: 2009-05-19.

Substrate supporting rod and antistatic liquid coating method

Номер патента: CN106444110A. Автор: 金宇,刘小波,张玉虎,苏琦,黄文同. Владелец: Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-22.

Non-contact temperature correction tool for substrate support and method of using the same

Номер патента: CN110573847A. Автор: 尼拉日·曼吉特,拉拉·霍里切克,梅兰·贝哈特,迪特里希·盖奇,克里斯托弗·道,平·阮,迈克尔·P·坎普,玛赫什·罗摩克里希纳. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-12-13.

Substrate support apparatus utilizing magnetic support of substrate carrier

Номер патента: JPH11317438A. Автор: Carl T Petersen,H Pond Norman,ノーマン・エイチ・ポンド,カール・ティー・ピーターセン. Владелец: Intevac Inc. Дата публикации: 1999-11-16.

Showerhead cold plates and substrate supports with spiral-shaped channels and circular manifolds

Номер патента: WO2024186720A1. Автор: Adam Christopher MACE,Brian Mwenze BRADLEY,Spoorthi SUBRAMANYA,Indraneel Chandrashekhar NAIK. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-09-12.

Method of handling a substrate support structure in a lithography system

Номер патента: US20130234040A1. Автор: DE JONG Hendrik Jan. Владелец: . Дата публикации: 2013-09-12.

RF VOLTAGE SENSOR INCORPORATING MULTIPLE VOLTAGE DIVIDERS FOR DETECTING RF VOLTAGES AT A PICKUP DEVICE OF A SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20190051497A1. Автор: LONG Maolin,Paterson Alex,Drewery John. Владелец: . Дата публикации: 2019-02-14.

SUBSTRATE SUPPORT WITH REAL TIME FORCE AND FILM STRESS CONTROL

Номер патента: US20170076915A1. Автор: Boyd,RAJ Govinda,JR. Wendell Glen,BUSCHE Matthew James. Владелец: . Дата публикации: 2017-03-16.

SUBSTRATE SUPPORT AND PLASMA PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20210098224A1. Автор: KITAGAWA Dai. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2021-04-01.

SUBSTRATE SUPPORT AND PLASMA PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20210098238A1. Автор: Hayashi Daisuke. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2021-04-01.

SUBSTRATE SUPPORT AND PLASMA PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20210098239A1. Автор: Tamura Hajime. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2021-04-01.

INTEGRATED ELECTRODE AND GROUND PLANE FOR A SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20210104384A1. Автор: PARKHE Vijay D.. Владелец: . Дата публикации: 2021-04-08.

TEMPERATURE CONTROLLED SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY

Номер патента: US20170110298A1. Автор: Ricci Anthony,Povolny Henry. Владелец: . Дата публикации: 2017-04-20.

SUBSTRATE SUPPORTING MEMBER AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING SAME

Номер патента: US20190115194A1. Автор: LEE Sang Kee. Владелец: SEMES CO., LTD.. Дата публикации: 2019-04-18.

SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY, PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND PLASMA PROCESSING METHOD

Номер патента: US20200118787A1. Автор: Sasaki Yasuharu,IKEGAMI Masashi. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2020-04-16.

SUBSTRATE TREATING APPARATUS, SUBSTRATE SUPPORT UNIT, AND SUBSTRATE TREATING METHOD

Номер патента: US20200118800A1. Автор: Lee Sang-Kee,HA Kang Rae. Владелец: . Дата публикации: 2020-04-16.

SUBSTRATE SUPPORT AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20210159057A1. Автор: KOSHIMIZU Chishio. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2021-05-27.

SUBSTRATE SUPPORT AND PLASMA PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20220301833A1. Автор: Hayashi Daisuke. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2022-09-22.

SUBSTRATE SUPPORT, PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND FOCUS RING

Номер патента: US20200152428A1. Автор: Sasaki Yasuharu,Uchida Yohei. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2020-05-14.

SUBSTRATE SUPPORT AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20220310367A1. Автор: Saito Michishige. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2022-09-29.

ROTATABLE SUBSTRATE SUPPORT HAVING RADIO FREQUENCY APPLICATOR

Номер патента: US20170236693A1. Автор: Kobayashi Satoru,LUBOMIRSKY DMITRY,HANAWA Hiroji,Park Soonam,FLOYD Kirby Hane. Владелец: . Дата публикации: 2017-08-17.

TEMPERATURE-TUNED SUBSTRATE SUPPORT FOR SUBSTRATE PROCESSING SYSTEMS

Номер патента: US20210265144A1. Автор: MERTKE Norman A.,CHOKSHI Himanshu. Владелец: . Дата публикации: 2021-08-26.

SUBSTRATE HOLDER, SUBSTRATE SUPPORTING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20140332498A1. Автор: Lee Sang Hoon,Seo Young Soo,HAN Young Ki,KIM Hyoung Won,YOON Chi Kug. Владелец: . Дата публикации: 2014-11-13.

SUBSTRATE SUPPORT STAGE, PLASMA PROCESSING SYSTEM, AND METHOD OF MOUNTING EDGE RING

Номер патента: US20210319988A1. Автор: NAGASEKI Kazuya,Moyama Kazuki. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2021-10-14.

SUBSTRATE SUPPORT APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESS APPARATUS HAVING THE SAME

Номер патента: US20140373782A1. Автор: PARK Yong Gyun,SEO Tae Wook,LEE Nae Il. Владелец: . Дата публикации: 2014-12-25.

TEMPERATURE-TUNED SUBSTRATE SUPPORT FOR SUBSTRATE PROCESSING SYSTEMS

Номер патента: US20180330928A1. Автор: CHOKSHI Himanshu,Mertke Norman. Владелец: . Дата публикации: 2018-11-15.

MULTIPLE ELECTRODE SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY AND PHASE CONTROL SYSTEM

Номер патента: US20180366306A1. Автор: Collins Kenneth S.,NGUYEN ANDREW,Ramaswamy Kartik,Lane Steven,Yang Yang,Rauf Shahid,Wong Lawrence,LINDLEY Roger Alan. Владелец: . Дата публикации: 2018-12-20.

SUBSTRATE SUPPORT AND PLASMA PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20200365380A1. Автор: Hirose Jun,UEDA Takehiro. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2020-11-19.

SUBSTRATE SUPPORT, PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND PLASMA PROCESSING METHOD

Номер патента: US20220375731A1. Автор: KOSHIMIZU Chishio,Matsuyama Shoichiro. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2022-11-24.

PLASMA PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20220415627A1. Автор: Ishikawa Akira,NISHI Ryota,HIRATA Genki. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2022-12-29.

Substrate-supported array having steerable nanowires elements use in electron emitting devices

Номер патента: US7233101B2. Автор: Sungho Jin. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-06-19.

Process kit for a substrate support

Номер патента: US20220344134A1. Автор: Yu Lei,Avgerinos V. Gelatos,Vikash Banthia,Muhannad MUSTAFA,Muhammad M. Rasheed,Victor H. Calderon,Shi Wei Toh,Yung-Hsin Lee,Anindita Sen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-10-27.

Substrate support pillar alignment technique

Номер патента: FR2775540A1. Автор: Yoshio Makita,Tatsuo Yamaura,Nobuhiko Takashima,Katunosuke Ozawa,Satoshi Yoshikata,Masayuki Itakura. Владелец: Futaba Corp. Дата публикации: 1999-09-03.

Fabrication of integrated computational elements using cylindrical substrate support shaped to match a cross-section of a spatial profile of a deposition plume

Номер патента: US20160298230A1. Автор: Christopher Michael Jones,David L. Perkins,Robert Paul Freese,Richard Neal GARDNER. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2016-10-13.

Monolithic substrate support carrier having porous features and methods of forming the same

Номер патента: WO2024102223A1. Автор: Arvinder Manmohan Singh CHADHA,Christopher BEAUDRY. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-05-16.

Monolithic substrate support having porous features and methods of forming the same

Номер патента: US20240158308A1. Автор: Arvinder Manmohan Singh CHADHA,Christopher BEAUDRY. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-16.

Light source device including first substrate supporting first and second laser diodes and second substrate supporting third laser diode

Номер патента: US12000567B2. Автор: Tadaaki Miyata. Владелец: Nichia Corp. Дата публикации: 2024-06-04.

paste which may be used in electrochemical components, a self-supporting or substrate-supporting layer, composed of layers with electrochemical properties, a rechargeable electrochemical cell and processes for the production of a flexible sheet, a self-supporting layer or which rests on a substrate. substrate and a composite of layers.

Номер патента: BR0015072B1. Автор: Peter Birke,Fatima Birke-Salam. Владелец: . Дата публикации: 2010-11-30.

Semiconductor laser based on anisotropic substrate

Номер патента: CN105790062A. Автор: 宋涛,刘兴胜,陶春华,蔡万绍,邢卓. Владелец: Focuslight Technologies Inc. Дата публикации: 2016-07-20.

A kind of semiconductor laser based on Anisotropic substrate

Номер патента: CN105790062B. Автор: 宋涛,刘兴胜,陶春华,蔡万绍,邢卓. Владелец: Focuslight Technologies Inc. Дата публикации: 2019-02-26.

Alumina Substrate Supported Solid Oxide Fuel Cells

Номер патента: US20190123362A1. Автор: Xue Xingjian,Chunlei Ren. Владелец: . Дата публикации: 2019-04-25.

Electrical cable for resistance device in e.g. contacting device for keeping e.g. airplane wing at moderate temperature in interior component of e.g. vehicle, has substrate support arranged in limiting substrate

Номер патента: DE102011105675A1. Автор: Michael Weiss,Hans-Georg Rauh,Martin Krobok. Владелец: WET Automotive Systems AG. Дата публикации: 2012-01-19.

Antenna circuit for intruder surveillance radar - comprises substrate supporting dipole with transistor circuit on reverse side

Номер патента: FR2453507A1. Автор: . Владелец: Besse Jean. Дата публикации: 1980-10-31.

Portable device with antenna and printing substrate support

Номер патента: CA2571069A1. Автор: Claude Larinier. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-02-02.

Laminated structure of flexible substrate-support, panel for electronic device with support, and method for manufacturing panel for electronic device

Номер патента: JPWO2011024690A1. Автор: 聡 近藤,近藤　聡. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2013-01-31.

Substrate supporting Member, Deposition Apparatus Having the Member and Method of Transferring Substrate Using the Same

Номер патента: KR101196197B1. Автор: 이상도,황철주. Владелец: 주성엔지니어링(주). Дата публикации: 2012-11-02.

DISTANCE MEASUREMENT BETWEEN GAS DISTRIBUTION DEVICE AND SUBSTRATE SUPPORT AT HIGH TEMPERATURES

Номер патента: US20200217657A1. Автор: Linebarger,JR. Nick Ray,EMERSON Mark E.. Владелец: . Дата публикации: 2020-07-09.

DISTANCE MEASUREMENT BETWEEN GAS DISTRIBUTION DEVICE AND SUBSTRATE SUPPORT AT HIGH TEMPERATURES

Номер патента: US20220364858A1. Автор: Linebarger,JR. Nick Ray,EMERSON Mark E.. Владелец: . Дата публикации: 2022-11-17.

SUBSTRATE SUPPORT WITH MORE UNIFORM EDGE PURGE

Номер патента: US20160002778A1. Автор: YUAN XIAOXIONG,Ravi Jallepally,TSAI CHENG-HSIUNG MATTHEW,MATSUSHITA Tomoharu,KOPPA Manjunatha,KAMATH ARAVIND MIYAR. Владелец: . Дата публикации: 2016-01-07.

SUBSTRATE SUPPORT, APPARATUS FOR PROCESSING SUBSTRATE, AND METHOD OF ADJUSTING TEMPERATURE OF SUBSTRATE

Номер патента: US20220010428A1. Автор: KOBAYASHI Toshiki,TSUDA Einosuke. Владелец: . Дата публикации: 2022-01-13.

CONNECTOR FOR SUBSTRATE SUPPORT WITH EMBEDDED TEMPERATURE SENSORS

Номер патента: US20210047732A1. Автор: Tian Siyuan,MILLER Donald J.. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2021-02-18.

SUBSTRATE SUPPORT UNIT, THIN FILM DEPOSITION APPARATUS INCLUDING THE SAME, AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20200109472A1. Автор: Um KiChul,Han JeungHoon,Kim DooHan,Han YongGyu. Владелец: . Дата публикации: 2020-04-09.

CONNECTOR FOR SUBSTRATE SUPPORT WITH EMBEDDED TEMPERATURE SENSORS

Номер патента: US20190301017A1. Автор: Tian Siyuan,MILLER Donald J.. Владелец: . Дата публикации: 2019-10-03.

IN-SITU CORROSION RESISTANT SUBSTRATE SUPPORT COATING

Номер патента: US20150345017A1. Автор: Chang Mei,HUANG Juno Yu-Ting,KAO Chien-Teh. Владелец: . Дата публикации: 2015-12-03.

SUBSTRATE SUPPORT COVER FOR HIGH-TEMPERATURE CORROSIVE ENVIRONMENT

Номер патента: US20200370174A1. Автор: Zhang Lin,Ma Ying,Huang Jiyong,Chen Yikai,Sheng Shuran,WU Stanley,WERNER Joseph C.,Lin Yixing,KANAWADE Mahesh Adinath. Владелец: . Дата публикации: 2020-11-26.

Substrate support structure, vacuum drying apparatus and method for vacuum drying a substrate

Номер патента: US09719723B2. Автор: Hongwei XING,Min YUAN,Huihui Mu,Hequn Zhang,Longgen Yang. Владелец: Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Substrate support device

Номер патента: US10551651B2. Автор: Yu Yang,Min Xu,Kai Wu,Jiajia Shan,Chuang Gao. Владелец: Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-02-04.

Substrate support, lithographic apparatus, substrate inspection apparatus, device manufacturing method

Номер патента: US20210263431A1. Автор: Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen,Antonius Franciscus Johannes De Groot,Johannes Adrianus Cornelis Maria Pijnenburg,Luc Leonardus Adrianus Martinus MEULENDIJKS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2021-08-26.

Inkjet printing device with removable flat substrate support device

Номер патента: EP3365178A1. Автор: Tom Cloots. Владелец: AGFA NV. Дата публикации: 2018-08-29.

Lithographic apparatus and method of controlling substrate support

Номер патента: WO2024165250A1. Автор: Zhuangxiong HUANG,Frederik Eduard De Jong,Niek Jacobus Johannes Roset,Marco Adrianus Peter Van Den Heuvel,Dennis Johannes Franciscus HECK,Beril OK DI LUCENTE. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-08-15.

Inkjet printing device with removable flat substrate support device

Номер патента: WO2017068047A1. Автор: Tom Cloots. Владелец: AGFA GRAPHICS NV. Дата публикации: 2017-04-27.

Method for evaluating the flatness of a substrate support

Номер патента: WO2024217800A1. Автор: Steffen Bezold,Torsten Meissner,Till Warming,Alex Schmidt,Konstantin AFANASIEV,Christoph Matthias BISCHOFF,Jan METJE. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-10-24.

Substrate support, method of compensating unflatness of an upper surface of a substrate, lithogrpahic apparatus and device manufacturing method.

Номер патента: NL2016691A. Автор: POIESZ Thomas. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2016-12-29.

Method of applying sorbent coating on substrate, support, and/or substrate coated with support

Номер патента: RU2611519C2. Автор: Марк БЬЮЛОУ,Майкл ДЬЮРИЛЛА,Джон КАУФФМАН,Паскалине Харрисон ТРАН. Владелец: Басф Корпорейшн. Дата публикации: 2017-02-27.

Substrate support device

Номер патента: US20180203284A1. Автор: Yu Yang,Min Xu,Kai Wu,Jiajia Shan,Chuang Gao. Владелец: Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-19.

Substrate support system for a conveyor printer

Номер патента: US11981512B2. Автор: Andrew James Brown,Anderson McKeague. Владелец: Inca Digital Printers Ltd. Дата публикации: 2024-05-14.

A System for Cleaning a Substrate Support, a Method of Removing Matter from a Substrate Support, and a Lithographic Device

Номер патента: NL2020970A. Автор: SCHREUDER André,GUAN Tiannan,LINDEIJER Tjarco,Dirk Scholten Bert. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-12-13.

Inkjet printer with temperature controlled substrate support

Номер патента: US11660891B2. Автор: Alexander Sou-Kang Ko,Christopher Buchner,Digby Pun,Cormac McKinley WICKLOW. Владелец: Kateeva Inc. Дата публикации: 2023-05-30.

Inkjet printer with temperature controlled substrate support

Номер патента: US11932030B2. Автор: Alexander Sou-Kang Ko,Christopher Buchner,Digby Pun,Cormac McKinley WICKLOW. Владелец: Kateeva Inc. Дата публикации: 2024-03-19.

Inkjet printer with temperature controlled substrate support

Номер патента: US20200198383A1. Автор: Alexander Sou-Kang Ko,Christopher Buchner,Digby Pun,Cormac McKinley WICKLOW. Владелец: Kateeva Inc. Дата публикации: 2020-06-25.

Inkjet printer with temperature controlled substrate support

Номер патента: US20220088949A1. Автор: Alexander Sou-Kang Ko,Christopher Buchner,Digby Pun,Cormac McKinley WICKLOW. Владелец: Kateeva Inc. Дата публикации: 2022-03-24.

Inkjet printer with temperature controlled substrate support

Номер патента: WO2020131677A1. Автор: Alexander Sou-Kang Ko,Christopher Buchner,Digby Pun,Cormac McKinley WICKLOW. Владелец: KATEEVA, INC.. Дата публикации: 2020-06-25.

Liquid containing vessel, liquid containing body, substrate support member, and unit

Номер патента: US20150085027A1. Автор: Ryota Takahashi,Masahiro Karasawa,Seiko HAMAMOTO. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2015-03-26.

Substrate supporting carrier pad

Номер патента: US20020025769A1. Автор: MICHAEL Oliver. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-02-28.

Substrate supporting carrier pad

Номер патента: WO2002016080A8. Автор: Michael R Oliver. Владелец: Rodel Inc. Дата публикации: 2002-08-22.

Substrate support

Номер патента: US09624040B2. Автор: Sharon Nagler,Alexander Feygelman. Владелец: Hewlett Packard Development Co LP. Дата публикации: 2017-04-18.

Substrate support qualification

Номер патента: WO2024078802A1. Автор: Christianus Wilhelmus Johannes BERENDSEN,Johannes Andreas Maria Ammerlaan,Cornelius Maria Rops,Giovanni Luca GATTOBIGIO,Maarten Marinus VAN OENE. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-04-18.

Substrate support and lithographic apparatus

Номер патента: WO2024099640A1. Автор: Zhuangxiong HUANG,Niek Jacobus Johannes Roset,Thilo Nils Martin SEEGER. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-05-16.

Catalyst substrate support

Номер патента: EP1691048B1. Автор: John P. Muter. Владелец: DCL International Inc. Дата публикации: 2008-03-05.

Planetary substrate support apparatus for vapour vacuum depositing coating

Номер патента: GB2133764A. Автор: Henry E Brandolf. Владелец: MULTI ARC VACUUM SYST. Дата публикации: 1984-08-01.

Device including a component in alignment with a substrate-supported waveguide

Номер патента: US4966433A. Автор: Greg E. Blonder. Владелец: AT&T Bell Laboratories Inc. Дата публикации: 1990-10-30.

Printer with a substrate support, in particular matrix pin printer

Номер патента: US5106218A. Автор: Günter Gomoll,Wolfgang Hauslaib,Ulrich Buschmann. Владелец: Mannesmann AG. Дата публикации: 1992-04-21.

Substrate support and lithographic apparatus

Номер патента: WO2023241893A1. Автор: Niek Jacobus Johannes Roset,Daniel PONTONI,Thilo Nils Martin SEEGER,Joy HUIBERTS,Simon Karel RAVENSBERGEN,Zhuangxiong Sjoerd HUANG. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-12-21.

SUBSTRATE SUPPORT WITH CERAMIC INSULATION

Номер патента: US20130228124A1. Автор: CHOI Soo Young,WHITE John M.,ANWAR Suhail,KURITA Shinichi,FURUTA Gaku,TINER Robin L.. Владелец: . Дата публикации: 2013-09-05.

SUBSTRATE SUPPORT WITH RADIO FREQUENCY (RF) RETURN PATH

Номер патента: US20130319854A1. Автор: PARKHE Vijay D.,HANSON RYAN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2013-12-05.

SUBSTRATE SUPPORTING DEVICE FOR VACUUM SPUTTERING EQUIPMENT

Номер патента: US20200087779A1. Автор: Huang Qiuping. Владелец: . Дата публикации: 2020-03-19.

SUBSTRATE SUPPORT PLATE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20210180188A1. Автор: KIM Jaehyun,Lee SeungHwan,Kim DaeYoun. Владелец: . Дата публикации: 2021-06-17.

FABRICATION OF INTEGRATED COMPUTATIONAL ELEMENTS USING CYLINDRICAL SUBSTRATE SUPPORT SHAPED TO MATCH A CROSS-SECTION OF A SPATIAL PROFILE OF A DEPOSITION PLUME

Номер патента: US20160298230A1. Автор: Jones Christopher Michael,Perkins David L.,Freese Robert Paul,Gardner Richard Neal. Владелец: . Дата публикации: 2016-10-13.

FABRICATION OF INTEGRATED COMPUTATIONAL ELEMENTS USING SUBSTRATE SUPPORT SHAPED TO MATCH SPATIAL PROFILE OF DEPOSITION PLUME

Номер патента: US20150337435A1. Автор: Jones Christopher Michael,Perkins David L.,Freese Robert Paul,Gardner Richard Neal. Владелец: Halliburton Energy Services, Inc.. Дата публикации: 2015-11-26.

SUBSTRATE SUPPORT DEVICE

Номер патента: US20150376783A1. Автор: HASHIMOTO Daisuke,Hanamachi Toshihiko,Ishioka Yasuaki. Владелец: . Дата публикации: 2015-12-31.

Substrate support device and substrate transfer device

Номер патента: JP5892783B2. Автор: 聡 山田,浩一 吉塚,山田　聡. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2016-03-23.

COATED SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY FOR SUBSTRATE PROCESSING

Номер патента: US20230009692A1. Автор: Wang Hao,HUANG YI-CHIAU,Lee Songjae,Jorgensen David. Владелец: . Дата публикации: 2023-01-12.

SUBSTRATE SUPPORT FOR EVAPORATION INSTALLATION

Номер патента: FR2746115B1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 1998-05-22.

Substrate, in particular glass substrate, supporting a photocatalytic layer coated with a protective thin layer

Номер патента: WO2005040056A2. Автор: Nicolas Nadaud,Laurent Labrousse. Владелец: SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE. Дата публикации: 2005-05-06.

SUBSTRATE SUPPORT FOR EVAPORATION INSTALLATION

Номер патента: FR2746115A1. Автор: Dominique Genard,Georges Pinsault. Владелец: SGS Thomson Microelectronics SA. Дата публикации: 1997-09-19.

Substrate support body, substrate support structure, light-emitting device, and lamp

Номер патента: EP4145044A4. Автор: Kazuhiro Okamoto,Yoshihide Okawa,Sentarou Yamamoto,Yuhei MATSUMOTO. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2024-06-26.

substrate supporting frame, substrate supporting frame assembly including the frame, method for framing a substrate using the frame, fabrication method for donor substrate using the substrate supporting frame and fabrication method for OLED using the donor substrate

Номер патента: KR100721564B1. Автор: 강태민. Владелец: 삼성에스디아이 주식회사. Дата публикации: 2007-05-23.

Substrate support unit in backup device, method for manufacturing the same, device including the unit, and method for replacing the substrate support unit in the device

Номер патента: JPWO2005051066A1. Автор: 信介 須原,明伸 伊藤,須原　信介. Владелец: Fuji Machine Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2007-06-14.

Substrate supporting unit in backup system, process for producing the same, apparatus comprising that unit, and method for replacing substrate supporting unit in that apparatus

Номер патента: WO2005051066A1. Автор: Shinsuke Suhara,Akinobu Ito. Владелец: Fuji Machine Mfg. Co., Ltd.. Дата публикации: 2005-06-02.

Jig for setting substrate support pin and method for setting substrate support pin

Номер патента: CN114451079A. Автор: 神田知久,野口刚裕. Владелец: Fuji Corp. Дата публикации: 2022-05-06.

Support pin gripping device and substrate supporting device

Номер патента: JPWO2005081611A1. Автор: 毅 近藤,信介 須原,明伸 伊藤,須原　信介. Владелец: Fuji Machine Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2008-01-17.

Substrate support plate transfer apparatus for fabricating organic light emitting display

Номер патента: TWI324494B. Автор: Ji Yong Lee,Kwan Seop Song,Hee Cheol Kang. Владелец: Samsung Mobile Display Co Ltd. Дата публикации: 2010-05-01.

SUBSTRATE SUPPORT WITH FEEDTHROUGH STRUCTURE

Номер патента: US20130256966A1. Автор: VOLFOVSKI LEON,KULKARNI MAYUR G.. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2013-10-03.

METHOD AND APPARATUS FOR SUBSTRATE SUPPORT WITH MULTI-ZONE HEATING

Номер патента: US20130284721A1. Автор: OH JEONGHOON,HOU TAO,CHO Tom K.,HOOSHDARAN Frank F.,YANG Yao-Hung. Владелец: . Дата публикации: 2013-10-31.

Flexible Substrate, Support Platform, Flexible Display And Manufacturing Method Thereof

Номер патента: US20140065388A1. Автор: Zhou Weifeng. Владелец: BOE Technology Group Co., Ltd.. Дата публикации: 2014-03-06.

SUBSTRATE SUPPORT WITH SURFACE FEATURE FOR REDUCED REFLECTION AND MANUFACTURING TECHNIQUES FOR PRODUCING SAME

Номер патента: US20150037017A1. Автор: Ranish Joseph M.,Samir Mehmet Tugrul,Brillhart Paul,LAU Shu-Kwan. Владелец: . Дата публикации: 2015-02-05.

SUBSTRATE SUPPORT WITH WIRE MESH PLASMA CONTAINMENT

Номер патента: US20140144901A1. Автор: TZU GWO-CHUAN,CUVALCI OLKAN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-05-29.

SUBSTRATE SUPPORT WITH ELECTRICALLY FLOATING POWER SUPPLY

Номер патента: US20190090338A1. Автор: WANG Haitao,PARKHE Vijay D.,KOH Travis Lee,KRAUS Philip Allan,Distaso Daniel,Markovsky Mark,Rowland Christopher A.,CASANOVA Robert. Владелец: . Дата публикации: 2019-03-21.

SUBSTRATE SUPPORT WITH SWITCHABLE MULTIZONE HEATER

Номер патента: US20140197151A1. Автор: VOLFOVSKI LEON,KULKARNI MAYUR G.,RICE MICHAEL R.,MINKOVICH ALEX. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-07-17.

SYSTEM AND METHOD TO DETECT SUBSTRATE AND/OR SUBSTRATE SUPPORT MISALIGNMENT USING IMAGING

Номер патента: US20160125589A1. Автор: Cong Zhepeng,Assaf Shay,CHU Schubert S.,TERTITSKI Leonid M.,VELLORE Kim R.. Владелец: . Дата публикации: 2016-05-05.

SUBSTRATE SUPPORT WITH MULTIPLE HEATING ZONES

Номер патента: US20160192444A1. Автор: YUAN XIAOXIONG,Tsai Cheng-Hsiung,Ravi Jallepally,MATSUSHITA Tomoharu,KAMATH Aravind,KOPPA Manjunatha. Владелец: . Дата публикации: 2016-06-30.

Substrate support member

Номер патента: US20190258100A1. Автор: Fumitaka Oka. Владелец: Sakai Display Products Corp. Дата публикации: 2019-08-22.

COMBINATION OF A CERAMIC SUBSTRATE SUPPORTING ELECTRONIC COMPONENTS AND A HEAT SINK THEREFOR

Номер патента: FR2603740A1. Автор: Martin Joseph Pitasi. Владелец: Teradyne Inc. Дата публикации: 1988-03-11.

COMBINATION OF A CERAMIC SUBSTRATE SUPPORTING ELECTRONIC COMPONENTS AND A THERMAL DISSIPATOR THEREFOR

Номер патента: FR2603740B1. Автор: Martin Joseph Pitasi. Владелец: Teradyne Inc. Дата публикации: 1991-06-14.

Substrate support of integral construction

Номер патента: GB8600427D0. Автор: . Владелец: Kitagawa Industries Co Ltd. Дата публикации: 1986-02-12.

Fabrication of integrated computational elements using substrate support shaped to match spatial profile of deposition plume

Номер патента: EP2929319A1. Автор: Christopher Michael Jones,David L. Perkins,Robert Paul Freese,Richard Neal GARDNER. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2015-10-14.

Fabrication of integrated computational elements using substrate support shaped to match spatial profile of deposition plume

Номер патента: US20150337435A1. Автор: Christopher Michael Jones,David L. Perkins,Robert Paul Freese,Richard Neal GARDNER. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2015-11-26.

Application of waste fish scales in preparation of anisotropic substrate

Номер патента: CN112899214A. Автор: 姚清锋,夏立秋,丁学知,黄伟涛,张福瑞,路娇扬,全敏霞. Владелец: Hunan Normal University. Дата публикации: 2021-06-04.

MODIFICATION OF EXISTING WASTEWATER SYSTEMS WITH SUBSTRATE SUPPORTED BIOFILMS

Номер патента: US20130193068A1. Автор: Wilson Kenneth,Jones R. Gavin,Grisham Phillip,Holland Sabin,Rainone Michael D.. Владелец: . Дата публикации: 2013-08-01.

SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM HAVING SUSCEPTORLESS SUBSTRATE SUPPORT WITH ENHANCED SUBSTRATE HEATING CONTROL

Номер патента: US20160243580A1. Автор: Ranish Joseph M.,PATALAY KAILASH. Владелец: . Дата публикации: 2016-08-25.

Substantially nonporous substrate supported noble metal- and lanthanide-containing catalysts for hydrogenation reactions

Номер патента: US20140357911A1. Автор: Paula L. Bogdan,Simon R. Bare,Valeria J. Nemeth. Владелец: UOP LLC. Дата публикации: 2014-12-04.

Substrate support with fluid retention band

Номер патента: US20030209443A1. Автор: Dmitry Lubomirsky. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-11-13.

Substrate support with fluid retention band

Номер патента: US7189313B2. Автор: Dmitry Lubomirsky. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2007-03-13.

Substantially non-porous substrate supported noble metal-and lanthanide-containing catalysts

Номер патента: US8822370B2. Автор: Paula L. Bogdan,Valeria Nemeth,Simon Russell Bare. Владелец: UOP LLC. Дата публикации: 2014-09-02.

Substantially non-porous substrate supported noble metal- and lanthanide-containing catalysts

Номер патента: CN103501905A. Автор: P·L·波格丹,V·内梅特,S·R·贝尔. Владелец: Universal Oil Products Co. Дата публикации: 2014-01-08.

Substrate supporting device for molecular beam epitaxial growth device

Номер патента: JPS60112691A. Автор: Tetsuo Ishida,Sumio Sakai,哲夫 石田,Shunichi Murakami,俊一 村上,酒井　純朗. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 1985-06-19.

Multiple layer substrate support and exhaust gas treatment device

Номер патента: CN102686843A. Автор: A·库马,S·D·小埃尔南德斯. Владелец: Unifrax Corp. Дата публикации: 2012-09-19.

PROCEDURE FOR PREPARING SUBSTRATES SUPPORTED WITH POLYURETHANE AND SUBSTRATES SO PRODUCED.

Номер патента: ES2055330T3. Автор: Robert B Turner,Kenneth W Skaggs,Terry L Lamb. Владелец: Dow Chemical Co. Дата публикации: 1994-08-16.

Developer storage container, developing device, image forming apparatus and substrate support structure

Номер патента: US20180004122A1. Автор: Shigenori Koido. Владелец: Oki Data Corp. Дата публикации: 2018-01-04.

Developer storage container, developing device, image forming apparatus and substrate support structure

Номер патента: US09927738B2. Автор: Shigenori Koido. Владелец: Oki Data Corp. Дата публикации: 2018-03-27.

Substrate holder, substrate support, lithographic apparatus and method

Номер патента: WO2024184007A1. Автор: Paulus Albertus VAN HAL,Utkarsh Jain,Dennis Dominic VAN DER VOORT. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-09-12.

Precision height adjustable flooring substrate support sytem

Номер патента: US09499992B2. Автор: Philip Busby. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-11-22.

Magnetic doll set with thin substrate supported by a frame and by walls thereon

Номер патента: US3946520A. Автор: Erwin Benkoe,Adolph E. Goldfarb. Владелец: Individual. Дата публикации: 1976-03-30.

A SYSTEM FOR CLEANING A SUBSTRATE SUPPORT, A METHOD OF REMOVING MATTER FROM A SUBSTRATE SUPPORT, AND A LITHOGRAPHIC APPARATUS

Номер патента: US20200103770A1. Автор: SCHOLTEN Bert Dirk,SCHREUDER André,GUAN Tiannan,LINDEIJER Tjarco. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2020-04-02.

METHOD OF MOUNTING SUBSTRATE SUPPORT IN CHAMBER, METHOD OF DISMOUNTING SUBSTRATE SUPPORT AND AUXILIARY TRANSPORT TOOL

Номер патента: US20160121462A1. Автор: HITOMI Taku,MAJIMA Miho. Владелец: ASM IP HOLDING B.V.. Дата публикации: 2016-05-05.

GLASS SUBSTRATE SUPPORT APPARATUSES AND METHODS OF PROVIDING FLEXIBLE GLASS SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20180200858A1. Автор: Qaroush Yousef Kayed,Shafrir Shai Negev. Владелец: . Дата публикации: 2018-07-19.

Substrate-supported catalyst and method for manufacturing substrate-supported catalyst

Номер патента: EP2829323A4. Автор: Toru Kamata,Masahiko Funabashi,Nagatoshi Nishiwaki. Владелец: Kochi University of Technology. Дата публикации: 2015-11-18.

Substrate-supported catalyst and method for manufacturing substrate-supported catalyst

Номер патента: CN104203405A. Автор: 镰田彻,舟桥正彦,西胁永敏. Владелец: Kochi University of Technology. Дата публикации: 2014-12-10.

Frame layer receiving a substrate supported sel stage

Номер патента: EP3440699A1. Автор: Michael W. Cumbie,Chien-Hua Chen,Devin A. Mourey. Владелец: Hewlett Packard Development Co LP. Дата публикации: 2019-02-13.

Substrate supporting carrier pad

Номер патента: TW515739B. Автор: Michael R Oliver. Владелец: Rodel Inc. Дата публикации: 2003-01-01.

A substrate supporting device, a substrate transfer mechanism, a polarizing film bonding device, and a liquid crystal display device manufacturing system having the same

Номер патента: TWI545681B. Автор: Rikiya Matsumoto. Владелец: Sumitomo Chemical Co. Дата публикации: 2016-08-11.

Developer storage container, developing device, image forming apparatus and substrate support structure

Номер патента: EP3264191B1. Автор: Shigenori Koido. Владелец: Oki Data Corp. Дата публикации: 2019-08-14.

Liquid containing vessel, liquid containing body, substrate support member, and unit

Номер патента: EP2851202B1. Автор: Ryota Takahashi,Masahiro Karasawa,Seiko HAMAMOTO. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2018-08-22.

A substrate supporting device, and an exposure device

Номер патента: TWI581362B. Автор: 堀正和,加藤正紀,木內徹,鬼頭義昭. Владелец: 尼康股份有限公司. Дата публикации: 2017-05-01.

Method of producing a magnetic recording medium comprising a substrate supporting a film of discrete magnetic particles in a plastics binder matrix

Номер патента: DE3165331D1. Автор: Don Edward Pickart,Philip Wayne Reed,Joseph Simon Vranka. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1984-09-13.

Substrate support with integrated prober drvie

Номер патента: TW200710397A. Автор: Fayez E Abboud,Benjamin M Johnston,Hung T Nguyen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2007-03-16.

Lithographic apparatus, substrate support system, device manufacturing method and control program

Номер патента: US09715182B2. Автор: Wilhelmus Henricus Theodorus Maria AANGENENT,Ramidin Izair Kamidi,Marinus Maria Johannes VAN DE WAL,Khalid Manssouri. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-07-25.

High performance rubber with tread band with an anisotropic substrate stable on temperature differentiation

Номер патента: TR200200007T2. Автор: Nahmiasnanni Marco,Serra Antonio,Brunacci Antonio. Владелец: Pirelli Pneumatici S. P. A.. Дата публикации: 2002-06-21.

Thermal conductivity measurement of anisotropic substrates

Номер патента: US10041894B1. Автор: Bradley David Urban,Mohammed Aftab Alam,Gaurav Soni,Ramez Nachman. Владелец: Amazon Technologies Inc. Дата публикации: 2018-08-07.

SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20130065742A1. Автор: Nagler Sharon,Feygelman Alexander. Владелец: . Дата публикации: 2013-03-14.

SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM HAVING SUSCEPTORLESS SUBSTRATE SUPPORT WITH ENHANCED SUBSTRATE HEATING CONTROL

Номер патента: US20130256962A1. Автор: Ranish Joseph M.,PATALAY KAILASH. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2013-10-03.

STAMPING AND/OR DRILLING DEVICE COMPRISING A SUBSTRATE SUPPORT HEAD WITH CONTINUOUSLY CONTROLLED ORIENTATION

Номер патента: US20130307173A1. Автор: Bredeau Stephane,Bancillon Jacky. Владелец: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENE ALT. Дата публикации: 2013-11-21.

OBSERVATION DEVICE, INSPECTION DEVICE, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND SUBSTRATE SUPPORT MEMBER

Номер патента: US20130330848A1. Автор: Inoue Takeshi,Minato Kazuharu. Владелец: . Дата публикации: 2013-12-12.

ROUGHENED SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20140027289A1. Автор: CHOI Soo Young,PARK Beom Soo,LEE Dongsuh,STERLING William N.. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-01-30.

DEVELOPER STORAGE CONTAINER, DEVELOPING DEVICE, IMAGE FORMING APPARATUS AND SUBSTRATE SUPPORT STRUCTURE

Номер патента: US20180004122A1. Автор: KOIDO Shigenori. Владелец: Oki Data Corporation. Дата публикации: 2018-01-04.

METHODS AND APPARATUS FOR SUBSTRATE SUPPORT ALIGNMENT

Номер патента: US20160033882A1. Автор: DEEPAK JADHAV. Владелец: . Дата публикации: 2016-02-04.

INKJET PRINTER WITH TEMPERATURE CONTROLLED SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20220088949A1. Автор: KO Alexander Sou-Kang,BUCHNER Christopher,Pun Digby,Wicklow Cormac McKinley. Владелец: KATEEVA, INC.. Дата публикации: 2022-03-24.

LIQUID CONTAINING VESSEL, LIQUID CONTAINING BODY, AND SUBSTRATE SUPPORT MEMBER

Номер патента: US20150085026A1. Автор: KARASAWA Masahiro,Takahashi Ryota,HAMAMOTO Seiko. Владелец: . Дата публикации: 2015-03-26.

LIQUID CONTAINING VESSEL, LIQUID CONTAINING BODY, SUBSTRATE SUPPORT MEMBER, AND UNIT

Номер патента: US20150085027A1. Автор: KARASAWA Masahiro,Takahashi Ryota,HAMAMOTO Seiko. Владелец: . Дата публикации: 2015-03-26.

LIQUID CONTAINING VESSEL, LIQUID CONTAINING BODY, SUBSTRATE SUPPORT MEMBER, AND UNIT

Номер патента: US20150085029A1. Автор: KARASAWA Masahiro,Takahashi Ryota,HAMAMOTO Seiko. Владелец: . Дата публикации: 2015-03-26.

PLATEN WITH DIAGONAL SUBSTRATE SUPPORT SURFACES

Номер патента: US20150085044A1. Автор: García Daniel Gutiérrez,Maza Jesùs Garcìa,Morera David Claramunt,Trigo Antonio Hinojosa. Владелец: Hewlett-Packard Development Company, L.P.. Дата публикации: 2015-03-26.

Flooring Substrate Support System

Номер патента: US20170107726A1. Автор: Busby Philip. Владелец: . Дата публикации: 2017-04-20.

METHOD AND APPARATUS FOR ALIGNING SUBSTRATES ON A SUBSTRATE SUPPORT UNIT

Номер патента: US20180113386A1. Автор: Schipper Bart. Владелец: . Дата публикации: 2018-04-26.

SUBSTRATE SUPPORT, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND LOADING METHOD

Номер патента: US20190113853A1. Автор: Symens Wim,DE GROOT Antonius Franciscus Johannes,VLES David Ferdinand,Onvlee Johannes. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2019-04-18.

Frame layer receiving a substrate supported sel stage

Номер патента: US20190145896A1. Автор: Michael W. Cumbie,Chien-Hua Chen,Devin A. Mourey. Владелец: Hewlett Packard Development Co LP. Дата публикации: 2019-05-16.

SUBSTRATE SUPPORTED SEL STAGE AND HOUSING

Номер патента: US20190145898A1. Автор: Chen Chien-Hua,Cumbie Michael W.,Mourey Devin A.. Владелец: Hewlett-Packard Development Company, L.P.. Дата публикации: 2019-05-16.

METHOD OF DETERMINING THERMAL STABILITY OF A SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY

Номер патента: US20150168962A1. Автор: Gaff Keith William,WALDMANN Ole,PAPE Eric A.,Leal-Verdugo Carlos. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2015-06-18.

SYSTEM AND METHOD FOR CALCULATING SUBSTRATE SUPPORT TEMPERTURE

Номер патента: US20180173255A1. Автор: WETZEL David Joseph,Bleakie Alexander,Theisen Jacob Frederick. Владелец: . Дата публикации: 2018-06-21.

SUBSTRATE SUPPORT PLATE WITH IMPROVED LIFT PIN SEALING

Номер патента: US20140265097A1. Автор: YUAN XIAOXIONG,TZU GWO-CHUAN,CUVALCI OLKAN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-09-18.

SUBSTRATE SUPPORT, METHOD OF COMPENSATING UNFLATNESS OF AN UPPER SURFACE OF A SUBSTRATE, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20180188660A1. Автор: POIESZ Thomas. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2018-07-05.

ROUGHENED SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20150202739A1. Автор: CHOI Soo Young,PARK Beom Soo,LEE Dongsuh,STERLING William N.. Владелец: . Дата публикации: 2015-07-23.

SUBSTRATE SUPPORT DEVICE

Номер патента: US20180203284A1. Автор: XU Min,Yang Yu,Wu Kai,Gao Chuang,SHAN Jiajia. Владелец: . Дата публикации: 2018-07-19.

INKJET PRINTER WITH TEMPERATURE CONTROLLED SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20200198383A1. Автор: KO Alexander Sou-Kang,BUCHNER Christopher,Pun Digby,Wicklow Cormac McKinley. Владелец: KATEEVA, INC.. Дата публикации: 2020-06-25.

INKJET PRINTING DEVICE WITH REMOVABLE FLAT SUBSTRATE SUPPORT DEVICE

Номер патента: US20180229516A1. Автор: CLOOTS Tom. Владелец: . Дата публикации: 2018-08-16.

INKJET PRINTING DEVICE WITH REMOVABLE FLAT SUBSTRATE SUPPORT DEVICE

Номер патента: US20180229517A1. Автор: CLOOTS Tom. Владелец: . Дата публикации: 2018-08-16.

LIQUID CONTAINING VESSEL, LIQUID CONTAINING BODY, SUBSTRATE SUPPORT MEMBER, AND UNIT

Номер патента: US20150246550A1. Автор: KARASAWA Masahiro,Takahashi Ryota,HAMAMOTO Seiko. Владелец: . Дата публикации: 2015-09-03.

SUBSTRATE SUPPORT, LITHOGRAPHIC APPARATUS, SUBSTRATE INSPECTION APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20210263431A1. Автор: DE GROOT Antonius Franciscus Johannes,Vermeulen Johannes Petrus Martinus Bernardus,PIJNENBURG Johannes Adrianus Cornelis Maria,MEULENDIJKS Luc Leonardus Adrianus Martinus. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2021-08-26.

METHOD OF MAKING SUBSTANTIALLY NONPOROUS SUBSTRATE SUPPORTED NOBLE METAL- AND LANTHANIDE-CONTAINING CATALYSTS

Номер патента: US20140357472A1. Автор: Bogdan Paula L.,Nemeth Valeria J.,Bare Simon R.. Владелец: . Дата публикации: 2014-12-04.

Precision Height Adjustable Flooring Substrate Support Sytem

Номер патента: US20140366461A1. Автор: Busby Philip. Владелец: . Дата публикации: 2014-12-18.

LITHOGRAPHIC APPARATUS, SUBSTRATE SUPPORT SYSTEM, DEVICE MANUFACTURING METHOD AND CONTROL PROGRAM

Номер патента: US20150316860A1. Автор: AANGENENT Wilhelmus Henricus Theodorus Maria,KAMIDI Ramidin Izair,VAN DE WAL Marinus Maria Johannes,MANSSOURI Khalid. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2015-11-05.

SUBSTRATE SUPPORT STRUCTURE, VACUUM DRYING APPARATUS AND METHOD FOR VACUUM DRYING A SUBSTRATE

Номер патента: US20160320124A1. Автор: YUAN Min,Zhang Hequn,Xing Hongwei,Mu Huihui,Yang Longgen. Владелец: . Дата публикации: 2016-11-03.

Substrate Support for a Lithographic Apparatus and Lithographic Apparatus

Номер патента: US20150331338A1. Автор: NIENHUYS Han-Kwang,LAFARRE Raymond Wilhelmus Louis,Ten Kate Nicolaas,LUIJTEN Carlo Cornelis Maria,ARLEMARK Erik Johan,KOEVOETS Andrianus Hendrik. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2015-11-19.

SUBSTRATE SUPPORT APPARATUS AND SUBSTRATE CLEANING APPARATUS

Номер патента: US20200316742A1. Автор: MIYAZAKI Mitsuru. Владелец: . Дата публикации: 2020-10-08.

SUBSTRATE SUPPORT MECHANISM, SUBSTRATE CLEANING DEVICE AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20220401997A1. Автор: Inoue Takuya,MIYAZAKI Mitsuru,NAKANO Hisajiro. Владелец: EBARA CORPORATION. Дата публикации: 2022-12-22.

Immersion lithography apparatus with hydrophilic region encircling hydrophobic region which encircles substrate support

Номер патента: US9007561B2. Автор: W. Thomas Novak. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2015-04-14.

STAMPING AND / OR DRILLING DEVICE COMPRISING A SUBSTRATE SUPPORT HEAD WHICH ORIENTATION IS CONTINUOUSLY CONTROLLED

Номер патента: FR2965495A1. Автор: Stephane Bredeau,Jacky Bancillon. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA. Дата публикации: 2012-04-06.

Process for the preparation of a product used as substrate (support) or ameliorator (fertilizer) for crops

Номер патента: FR2705191A1. Автор: Plat Jean-Yves,Grison Brigitte. Владелец: HORTIFRANCE. Дата публикации: 1994-11-25.

SUBSTRATE SUPPORT FOR TECHNICAL ROOMS, ESPECIALLY IT ROOMS.

Номер патента: FR2662728B1. Автор: Michel Bouche. Владелец: Michel Bouche. Дата публикации: 1996-11-15.

Substrate support for a lithographic apparatus and lithographic apparatus

Номер патента: WO2014095266A3. Автор: Han-Kwang Nienhuys,Nicolaas Ten Kate,Erik ARLEMARK,Adrianus Koevoets,Raymond Lafarre,Carlo LUIJTEN. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2014-09-18.

There is the pressing plate of diagonal angle substrate support surface

Номер патента: CN104245336B. Автор: J.G.马扎,D.C.莫雷拉,A.H.特里戈,D.G.加西亚. Владелец: Hewlett Packard Development Co LP. Дата публикации: 2016-04-13.

SUBSTRATE SUPPORT TABLE OF PLASMA PROCESSING DEVICE

Номер патента: US20120002345A1. Автор: . Владелец: MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE SUPPORT FOR USE WITH MULTI-ZONAL HEATING SOURCES

Номер патента: US20120003599A1. Автор: Sanchez Errol,PATALAY KAILASH. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

CONSUMABLE ISOLATION RING FOR MOVABLE SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY OF A PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20120000605A1. Автор: Dhindsa Rajinder,Kellogg Michael C.,Marakhtanov Alexei. Владелец: Lam Research Corporation.. Дата публикации: 2012-01-05.

A Treatment Tool for Cleaning a Substrate Support, a Lithographic Apparatus and a Method for Cleaning a Substrate Support

Номер патента: NL2023656A. Автор: VAN DER WILK Ronald,Hubertus Matheus Baltis Coen,Andreas Maria Ammerlaan Johannes,Elza Roeland Audenaerdt Daniel,Leduc Catherine. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2019-09-10.

Substrate support apparatus and substrate support method

Номер патента: JP4573692B2. Автор: 寿幸 楠木. Владелец: Yamaha Motor Co Ltd. Дата публикации: 2010-11-04.

Substrate support and substrate support method

Номер патента: JP3885261B2. Автор: 哲哉 後藤,正幸 小川,邦宏 畠中. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2007-02-21.

SUPPORTING SUBSTRATE, SUPPORTING SUBSTRATE HOLDING METHOD, AND FILM-FORMING METHOD

Номер патента: JP7279465B2. Автор: 裕太 窪内. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2023-05-23.

Substrate support apparatus and substrate support method

Номер патента: JP4884296B2. Автор: 勇一 下田. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2012-02-29.

Automatic substrate support pin switching device and substrate support method

Номер патента: JP2801335B2. Автор: 昭彦 和智,秀俊 佐々木,毅 栗林,末廣 田中. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1998-09-21.

Substrate support jig and substrate support method

Номер патента: JP2014132698A. Автор: Nobuhiro Tanaka,伸宏 田中,Shinji Nishimure,伸治 西牟礼. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2014-07-17.

Linear substrate support member of substrate storage rack for conveyance

Номер патента: TWI251573B. Автор: Toru Nakazawa,Motohisa Murayama,Hisayoshi Furukohri,Shigenori Toyama. Владелец: Dmc Corp. Дата публикации: 2006-03-21.

Substrate-supporting mechanism for exposure device

Номер патента: TW200941634A. Автор: Yasuhiko Okugi,Yasuhito Ikeda. Владелец: Orc Mfg Co Ltd. Дата публикации: 2009-10-01.

Substrate support fixture for vapor deposition coating apparatus

Номер патента: TW200600602A. Автор: Jung-Chou Lee. Владелец: Asia Optical Co Inc. Дата публикации: 2006-01-01.

Method of placing a substrate, method of transferring a substrate, support system and lithographic projection apparatus

Номер патента: TW200933786A. Автор: Nunen Gerardus Petrus Matthijs Van,Rene Theodorus Petrus Compen,Abraham Alexander SOETHOUDT,Jozef Augustinus Maria ALBERTI,Frans Erik Groensmit. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2009-08-01.

Method and apparatus for aligning substrates on a substrate support unit

Номер патента: GB201617755D0. Автор: . Владелец: Mapper Lithopraphy IP BV. Дата публикации: 2016-12-07.

A substrate supporting apparatus

Номер патента: TW200418121A. Автор: Cheng-Te Lin,Chien-Hsiung Hung,Ming-Tang Chiang,Yung-Chang Kao. Владелец: AU OPTRONICS CORP. Дата публикации: 2004-09-16.

A substrate supporting apparatus

Номер патента: TW589699B. Автор: Cheng-Te Lin,Chien-Hsiung Hung,Ming-Tang Chiang,Yung-Chang Kao. Владелец: AU OPTRONICS CORP. Дата публикации: 2004-06-01.

Substrate supporting stage and substrate inspecting apparatus having the same

Номер патента: TW200801493A. Автор: Min-Ho Park,Yoo-Chan Choi,Sun-Joo Hong. Владелец: SFA Engineering Corp. Дата публикации: 2008-01-01.

Substrate positioning apparatus and substrate support having positioning apparatus

Номер патента: TW200829499A. Автор: Wen-Bin Chen,Fu-Ming Chang,Hsing-Hsiang WANG. Владелец: AU OPTRONICS CORP. Дата публикации: 2008-07-16.

Substrate support of a spacer sprayer

Номер патента: TWI250328B. Автор: Der-Chun Wu,Hung-Hsiang Chiang. Владелец: Chunghwa Picture Tubes Ltd. Дата публикации: 2006-03-01.

Substrate supporting stage

Номер патента: TW201122464A. Автор: Min-Ho Park,Yoo-Chan Choi,Sun-Joo Hong. Владелец: SFA Engineering Corp. Дата публикации: 2011-07-01.

Substrate positioning apparatus and substrate support having positioning apparatus

Номер патента: TWI321549B. Автор: Wen Bin Chen,Hsing Hsiang Wang,Fu Ming Chang. Владелец: AU OPTRONICS CORP. Дата публикации: 2010-03-11.

Substrate supporting apparatus

Номер патента: TWI313906B. Автор: Ying Chi Chen,Tzu Chiang Cheng,Shiang Chiang Liu. Владелец: AU OPTRONICS CORP. Дата публикации: 2009-08-21.

Substrate supporting apparatus

Номер патента: TW200743175A. Автор: Ying-Chi Chen,Shiang-Chiang Liu,Tzu-Chiang Cheng. Владелец: AU OPTRONICS CORP. Дата публикации: 2007-11-16.

SUBSTRATE SUPPORT MATERIAL USEFUL FOR SCREEN PRINTING PROCESSES

Номер патента: US20120034382A1. Автор: Baccini Andrea,Galiazzo Marco. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-02-09.

Apparatus and Method for Processing Substrate Using Neutralized Beams Including Applying a Voltage to a Substrate Support

Номер патента: US20120068058A1. Автор: KIM Yong-Jin,Lee Do-Haing,Kim Ha-Na. Владелец: . Дата публикации: 2012-03-22.

Circuit-Substrate Supporting Device and a Battery Unit with the Same

Номер патента: US20120070699A1. Автор: . Владелец: FDK TWICELL CO., LTD.. Дата публикации: 2012-03-22.

SUBSTRATE SUPPORTS FOR SEMICONDUCTOR APPLICATIONS

Номер патента: US20120141661A1. Автор: Cho Jaeyong,Sirman John. Владелец: . Дата публикации: 2012-06-07.

SUBSTRATE SUPPORT UNIT, AND APPARATUS AND METHOD FOR DEPOSITING THIN LAYER USING THE SAME

Номер патента: US20120145080A1. Автор: PARK YOUNGKYOU,Suh Jeongsoo,Hwang Wangoo,Choi Hoonsang,Park Jongrok. Владелец: . Дата публикации: 2012-06-14.

Substrate Support with Gas Introduction Openings

Номер патента: US20120149194A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-06-14.

SUBSTRATE-SUPPORTING UNIT AND SUBSTRATE-PROCESSING APPARATUS COMPRISING SAME

Номер патента: US20120160419A1. Автор: Oh Wan Suk,Je Sung Tae,LEE Dong-Keun,Zaretskiy Sergey. Владелец: . Дата публикации: 2012-06-28.

SUBSTRATE SUPPORTING TABLE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, AND MANUFACTURE METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120222818A1. Автор: Sakata Masakazu. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC.. Дата публикации: 2012-09-06.

CERAMIC SUBSTRATE SUPPORTING MEMBER AND METHOD OF MANUFACTURING CERAMIC MEMBER

Номер патента: US20120228795A1. Автор: . Владелец: IBIDEN CO., LTD.. Дата публикации: 2012-09-13.

SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY FOR THIN FILM DEPOSITION SYSTEMS

Номер патента: US20120234229A1. Автор: Nguyen Tuan Anh,Olgado Donald J.K.,Quach David H.. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-09-20.

SUBSTRATE SUPPORT JIG

Номер патента: US20120235342A1. Автор: Kurata Noboru. Владелец: FUJI ELECTRIC CO., LTD.. Дата публикации: 2012-09-20.

METHOD AND APPARATUS FOR THERMOCOUPLE INSTALLATION OR REPLACEMENT IN A SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20120241089A1. Автор: Dielmann Joerg,Ruediger Reiner. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-09-27.

METHOD AND APPARATUS FOR SELECTIVE SUBSTRATE SUPPORT AND ALIGNMENT IN A THERMAL TREATMENT CHAMBER

Номер патента: US20120251964A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-10-04.

NON-LOCKING SUBSTRATE SUPPORT SYSTEM

Номер патента: US20120256070A1. Автор: Gordon Thomas A.,Farlow Douglas T.. Владелец: . Дата публикации: 2012-10-11.

SUBSTRATE SUPPORT INSTRUMENT, AND VERTICAL HEAT TREATMENT APPARATUS AND DRIVING METHOD THEREOF

Номер патента: US20120258414A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-10-11.

SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20120279443A1. Автор: Kornmeyer Torsten. Владелец: KGT GRAPHIT TECHNOLOGIE GMBH. Дата публикации: 2012-11-08.

ROTATING SUBSTRATE SUPPORT AND METHODS OF USE

Номер патента: US20120291709A1. Автор: JR. Robert,Ryding Geoffrey,Smick Theodore,Seutter Sean,Smith Jacob,TAM ALEXANDER,SURYANARAYANAN IYER R.,TRAN BINH,MERRY NIR,BRAILOVE ADAM,SHYDO,ANDREWS ROBERT,ROBERTS FRANK. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-11-22.

SUBSTANTIALLY NON-POROUS SUBSTRATE SUPPORTED NOBLE METAL-AND LANTHANIDE-CONTAINING CATALYSTS

Номер патента: US20120296129A1. Автор: . Владелец: UOP LLC. Дата публикации: 2012-11-22.

VAPOR-PHASE GROWTH SEMICONDUCTOR SUBSTRATE SUPPORT SUSCEPTOR, EPITAXIAL WAFER MANUFACTURING APPARATUS, AND EPITAXIAL WAFER MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20120309175A1. Автор: . Владелец: SHIN-ETSU HANDOTAI CO., LTD.. Дата публикации: 2012-12-06.

SUBSTRATE SUPPORTING UNITS AND SUBSTRATE TREATING APPARATUSES INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20130001213A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2013-01-03.

SUBSTRATE SUPPORT WITH SUBSTRATE HEATER AND SYMMETRIC RF RETURN

Номер патента: US20130001215A1. Автор: Chang Yu,TZU GWO-CHUAN,CUVALCI OLKAN,CUI ANQING,KUANG WILLIAM W.. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2013-01-03.

WAFER PROCESSING APPARATUS WITH HEATED, ROTATING SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20130017503A1. Автор: Boonstra Klaas P.,Oosterlaken Theodorus G.M.,De Ridder Chris G.M.,Ravenhorst Barend J. T.. Владелец: . Дата публикации: 2013-01-17.

SUBSTRATE SUPPORTING EDGE RING WITH COATING FOR IMPROVED SOAK PERFORMANCE

Номер патента: US20130026693A1. Автор: Ranish Joseph M.,Hunter Aaron Muir. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2013-01-31.

SUBSTRATE SUPPORT WITH HEATER

Номер патента: US20130037532A1. Автор: VOLFOVSKI LEON,KULKARNI MAYUR G.. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2013-02-14.

SUBSTRATE SUPPORT, SUBSTRATE PROCESSING DEVICE AND METHOD OF PLACING A SUBSTRATE

Номер патента: US20130055953A1. Автор: Haas Dieter,Berger Thomas,Lau Simon. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2013-03-07.

METHOD FOR TRANSPORTING A SUBSTRATE WITH A SUBSTRATE SUPPORT

Номер патента: US20130064637A1. Автор: Hosek Martin. Владелец: PERSIMMON TECHNOLOGIES CORPORATION. Дата публикации: 2013-03-14.

SUBSTRATE SUPPORT WITH TEMPERATURE CONTROL

Номер патента: US20130087309A1. Автор: VOLFOVSKI LEON,KULKARNI MAYUR G.. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2013-04-11.

SUBSTRATE SUPPORT BUSHING

Номер патента: US20130101241A1. Автор: OH JEONGHOON,HOU TAO,CHO Tom K.,MATLOSZ Andrzej,HOOSHDARAN Frank F.,YANG Yao-Hung. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2013-04-25.

SUBSTRATE SUPPORT DEVICE

Номер патента: US20130134147A1. Автор: HASHIMOTO Daisuke,Miyahara Junichi,Futakuchiya Jun. Владелец: NHK SPRING CO., LTD.. Дата публикации: 2013-05-30.

SUBSTRATE SUPPORT DEVICE

Номер патента: US20130134148A1. Автор: HASHIMOTO Daisuke,Hanamachi Toshihiko,Tachikawa Toshihiro,Miyahara Junichi,Futakuchiya Jun,TAKAHARA Go,Yonekura Kazuhiro. Владелец: NHK SPRING CO., LTD.. Дата публикации: 2013-05-30.

SUBSTRATE SUPPORTING APPARATUS AND SUBSTRATE TRANSPORTING APPARATUS

Номер патента: US20130164108A1. Автор: Yamada Satoshi,Yoshizuka Koichi. Владелец: CANON ANELVA CORPORATION. Дата публикации: 2013-06-27.

SUBSTRATE SUPPORT WITH RADIO FREQUENCY (RF) RETURN PATH

Номер патента: US20130256126A1. Автор: RITCHIE ALAN,Nguyen Thanh X.,WANG Wei W.,YOUNG DONNY,SAVANDAIAH Kirankumar,Jupudi Ananthkrishna. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2013-10-03.

INTERDIGITATED SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY FOR SYNTHESIS OF LARGE AREA THIN FILMS

Номер патента: US20130309402A1. Автор: Sung Chun-yung,Lin Yu-Ming,Li Xuesong. Владелец: . Дата публикации: 2013-11-21.

SUBSTRATE SUPPORT PROVIDING GAP HEIGHT AND PLANARIZATION ADJUSTMENT IN PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20130323860A1. Автор: Holland John,Wang Yen-Kun Victor,Antolik Jerrel Kent. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2013-12-05.

SUBSTRATE SUPPORT FOR SUBSTRATE BACKSIDE CONTAMINATION CONTROL

Номер патента: US20140008349A1. Автор: Chang Yu,YUAN XIAOXIONG,TZU GWO-CHUAN,CUVALCI OLKAN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-01-09.

Susceptor for semiconductor substrate supporting apparatus

Номер патента: USD948463S1. Автор: Seung Hwan Lee,Hak Yong Kwon,Jong Su Kim,Sung Bae KIM,Ju Hyuk Park. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2022-04-12.

Substrate-supporting device

Номер патента: JPH11111821A. Автор: 雄二 竹林,Yuji Takebayashi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 1999-04-23.

Substrate support

Номер патента: JP4865102B1. Автор: 一之 赤川,武治 三ツ木. Владелец: 福井工業株式会社. Дата публикации: 2012-02-01.

Substrate support case and case with substrate

Номер патента: JP6163405B2. Автор: 知彦 桑原,敏嗣 矢嶋. Владелец: Shin Etsu Polymer Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-12.

Light source substrate support member

Номер патента: JP6407915B2. Автор: 広巳 村松,野口　卓志,卓志 野口,昌寛 石田. Владелец: Mitsubishi Electric Lighting Corp. Дата публикации: 2018-10-17.

Substrate supporting device

Номер патента: CN105810628A. Автор: 黄轩,黄一轩. Владелец: Hannstar Display Nanjing Corp. Дата публикации: 2016-07-27.

Substrate supporting device

Номер патента: CN204332932U. Автор: 黄一轩. Владелец: Hannstar Display Nanjing Corp. Дата публикации: 2015-05-13.

Substrate support structure

Номер патента: JPH0745988Y2. Автор: 信昭 横尾. Владелец: Denso Ten Ltd. Дата публикации: 1995-10-18.

Substrate support of device for forming thin film

Номер патента: JPS6474716A. Автор: Shigehiko Kaji. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1989-03-20.

Substrate support device and substrate transfer mechanism

Номер патента: JP4307653B2. Автор: 善郎 長谷川,洋之 今井,芳樹 有賀. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2009-08-05.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.