Substrate support assembly with non-uniform gas flow clearance
Номер патента: KR200496457Y1
Опубликовано: 06-02-2023
Автор(ы): 로빈 엘. 티너, 시니치 쿠리타
Принадлежит: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 06-02-2023
Автор(ы): 로빈 엘. 티너, 시니치 쿠리타
Принадлежит: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Substrate support for processing a substrate, vacuum processing apparatus and substrate processing system
Номер патента: WO2019096425A1. Автор: Reiner Hinterschuster,Anke Hellmich,Simon Lau. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2019-05-23.