Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • Substrate processing chamber and process gas flow deflector for use in the processing chamber

Substrate processing chamber and process gas flow deflector for use in the processing chamber

Номер патента: US12018369B2
Опубликовано: 25-06-2024
Автор(ы): Christian Illemann, Mathias Male, Matthias Kuenle, Olaf Fiedler, Thomas Huber
Принадлежит: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Gas inlet assembly of process chamber, gas inlet apparatus, and semiconductor processing equipment

Номер патента: EP4283023A1. Автор: Shikai Li. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-29.

Indexed gas jet injector for substrate processing system

Номер патента: US20150376793A1. Автор: David K. Carlson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2015-12-31.

Continuous liner for use in a processing chamber

Номер патента: US11814724B2. Автор: Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,James D. Carducci. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-14.

Continuous liner for use in a processing chamber

Номер патента: US20230175123A1. Автор: Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,James D. Carducci. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-06-08.

Adjustable cross-flow process chamber lid

Номер патента: US20240247373A1. Автор: Sanjeev Baluja,Muhannad MUSTAFA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Adjustable cross-flow process chamber lid

Номер патента: WO2024158731A1. Автор: Sanjeev Baluja,Muhannad MUSTAFA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-02.

Deposition apparatus and processing method

Номер патента: US20240209508A1. Автор: Manabu Honma. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Hardware and process for film uniformity improvement

Номер патента: US20160177443A1. Автор: Hu Kang,Shankar Swaminathan,Frank L. Pasquale,Adrien Lavoie,Jun Qian,Karl F. Leeser,Purushottam Kumar,Chloe Baldasseroni,David Charles Smith,Wei-Chih Lai,Yi Chung Chiu. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-06-23.

Hardware and process for film uniformity improvement

Номер патента: US20190040528A1. Автор: Hu Kang,Shankar Swaminathan,Frank L. Pasquale,Adrien Lavoie,Jun Qian,Karl F. Leeser,Purushottam Kumar,Chloe Baldasseroni,David Charles Smith,Wei-Chih Lai,Yi Chung Chiu. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2019-02-07.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and semiconductor device

Номер патента: US09496134B2. Автор: Shinya Sasaki,Yuji Takebayashi,Shintaro Kogura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-11-15.

Substrate processing apparatus, method for manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US09816182B2. Автор: HIROSHI Ashihara,Yuichi Wada,Iwao Nakamura,Manabu Izumi,Hideto TATENO,Keishin Yamazaki,Takurou USHIDA. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-14.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US09613798B2. Автор: Yoshiro Hirose,Satoshi Shimamoto,Ryuji Yamamoto. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-04-04.

Substrate processing method, method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230091850A1. Автор: Yuji Takebayashi,Shota Tanaka,Yusaku OKAJIMA,Hiroki HATTA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-23.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09487863B2. Автор: Kazuyuki Toyoda,Kazuhiro Morimitsu,Shun Matsui. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-11-08.

Baffle for providing uniform process gas flow on substrate and around pedestal

Номер патента: WO2024155500A1. Автор: Emile Charles DRAPER. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate Processing Apparatus and Substrate Processing Method

Номер патента: US20180037995A1. Автор: Takayuki Karakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-08.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240309506A1. Автор: Sung Hwan Lee,Kun Woo Park,Woo Young Park,Jae Jin Han. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US09587314B2. Автор: Taketoshi Sato,Hiroaki Hiramatsu,Yukitomo Hirochi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-03-07.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20160230280A1. Автор: Kazuyuki Toyoda,Kazuhiro Morimitsu,Shun Matsui. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-08-11.

Gas inlet tube assembly for an improved gas mixture in a substrate processing apparatus

Номер патента: US20240124981A1. Автор: DongRak Jung,Jongsu Kim,Arun THOTTAPPAYIL. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-04-18.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09732421B2. Автор: Tsukasa Kamakura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-08-15.

Substrate processing apparatus and method for processing substrate

Номер патента: US20230245858A1. Автор: Hitoshi Kato,Hiroyuki Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230349036A1. Автор: Naoki Takahashi,Masato Shinada,Junichi Takei. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Improved heater for use in substrate processing apparatus to deposit tungsten

Номер патента: EP1080485A1. Автор: Jun Zhao,Talex Sajoto,Leonid Selyutin. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-03-07.

Pedestals for modulating film properties in atomic layer deposition (ALD) substrate processing chambers

Номер патента: US12110586B2. Автор: Adrien Lavoie,Richard Phillips,Ramesh Chandrasekharan,Chloe Baldasseroni,Michael Philip Roberts. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-08.

Substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20080199610A1. Автор: Katsuhiko Yamamoto,Atsushi Moriya,Yasuhiro Inokuchi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2008-08-21.

Blocker plate for use in a substrate process chamber

Номер патента: US20180347043A1. Автор: Yu Lei,Yi Xu,Kazuya DAITO,Dien-Yeh Wu,Xiaoxiong Yuan,Vikash Banthia,Pingyan Lei,Umesh M. Kelkar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-12-06.

Improving chemistry utilization by increasing pressure during substrate processing

Номер патента: WO2024076576A1. Автор: Gopinath Bhimarasetti,Nathaniel Elba RICHEY. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-04-11.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US12148614B2. Автор: Norikazu Mizuno,Arito Ogawa,Koei KURIBAYASHI,Takuya Joda,Shogo Hayasaka. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-11-19.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09988717B2. Автор: Manabu Honma. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240301555A1. Автор: Tatsuya Yamaguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing system

Номер патента: US20070026150A1. Автор: Takao Horiuchi,Hiroshi Hattori,Hiroaki Ogamino,Yasuhiro Niimura,Azumi Horiuchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-02-01.

Lamp and window configurations for substrate processing chambers

Номер патента: WO2024076493A1. Автор: Venkateswaran Subbaraman,Raja Murali Dhamodharan. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-04-11.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US20170004961A1. Автор: KIMIHIKO Nakatani,HIROSHI Ashihara,Tsukasa Kamakura,Takuro Ushida. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-01-05.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US09916976B2. Автор: KIMIHIKO Nakatani,HIROSHI Ashihara,Tsukasa Kamakura,Takuro Ushida. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-03-13.

Method for processing substrate and substrate processing apparatus

Номер патента: US09768012B2. Автор: Masanori Sakai,Tsutomu Kato,Yuji Takebayashi,Hirohisa Yamazaki. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-09-19.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US09728400B2. Автор: HIROSHI Ashihara,Takeo Hanashima. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-08-08.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US09536734B2. Автор: HIROSHI Ashihara,Takeo Hanashima. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-01-03.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US20160244875A1. Автор: Masayoshi Minami,Ryota Sasajima,Shintaro Kogura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-08-25.

Semiconductor process chamber with improved reflector

Номер патента: US20230399742A1. Автор: Yen Chuang,Chia-Hung Liu,Sou-Chuan CHIANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240318306A1. Автор: Takanori Hayashi,Keigo Nishida,Mitsunori Ishisaka. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Methods and apparatus for in-situ cleaning of a process chamber

Номер патента: US09627185B2. Автор: Chien-Teh Kao,Joel M. Huston,Nicholas R. Denny. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-04-18.

Cleaning method, method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US09587308B2. Автор: Kenji Kameda,Ryuji Yamamoto,Yuji Urano. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-03-07.

Substrate processing apparatus and exhaust method thereof

Номер патента: US20240026540A1. Автор: Junhyun LEE,Jungkuk LEE,Kitaek SONG,Jongkuk WON,Sangmi YOON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-01-25.

Precoat method for substrate processing apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240191349A1. Автор: Atsushi Tanaka,Taichi Monden. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Method of processing substrate, method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US20240287672A1. Автор: Noriyuki Isobe,Yoshimasa Nagatomi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-08-29.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09822450B2. Автор: Eiji Ozaki,Keisuke Ueda,Toshikazu Nakazawa,Norihito Tsukamoto. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Reaction chamber for processing semiconductor substrates with gas flow control capability

Номер патента: US20230411176A1. Автор: Arun THOTTAPPAYIL,Dongrak Jeong. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-12-21.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US9524867B2. Автор: Yoshiro Hirose,Satoshi Shimamoto,Ryuji Yamamoto. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-12-20.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US09865458B2. Автор: Yoshiro Hirose,Satoshi Shimamoto,Ryuji Yamamoto. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-01-09.

Purging toxic and corrosive material from substrate processing chambers

Номер патента: WO2024081135A1. Автор: Eunsuk Ko,Michael Rumer,Jonathan PYLE,Shawn TOKAIRIN,Ravi Parmar,Soonton NUISUD,Raymond JONATHANS,Raees Amer DEEN,Sai RACHAKONDA,Nishant CHOUHAN,Jun-Hwa PARK,Ashwin Agathya Boochakravarthy. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-04-18.

Method of processing substrate, recording medium, substrate processing apparatus, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12084760B2. Автор: Arito Ogawa,Atsuro Seino,Takuya Joda. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09869022B2. Автор: Motoshi Sawada. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-01-16.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09761437B2. Автор: Yoshiro Hirose,Yosuke Ota. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-09-12.

Gas injection apparatus and substrate processing apparatus using same

Номер патента: US09732424B2. Автор: Jung-Hwan Lee,Woo-young Park,Tae-Ho Hahm. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-15.

Method of manufacturing semiconductor device, method of processing substrate, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US11823886B2. Автор: Kazuhiro Harada,Shogo Otani,Masayoshi Minami,Yoshitomo Hashimoto,Shintaro Kogura. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-11-21.

Method of manufacturing semiconductor device, method of processing substrate, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US20240014032A1. Автор: Kazuhiro Harada,Shogo Otani,Masayoshi Minami,Yoshitomo Hashimoto,Shintaro Kogura. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-01-11.

Substrate processing device and method for measuring process gas temperature and concentration

Номер патента: US20240241042A1. Автор: Yuji Obata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US8875656B2. Автор: Tetsuo Yamamoto,Nobuhito Shima,Nobuo Ishimaru,Tadashi Kontani. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2014-11-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20090241835A1. Автор: Tetsuo Yamamoto,Nobuhito Shima,Nobuo Ishimaru,Tadashi Kontani. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2009-10-01.

Gas supply device and substrate processing apparatus

Номер патента: US09887108B2. Автор: Yohei Uchida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230268164A1. Автор: Shinya Yamanaka,Hideki Sugiyama,Shojiro Yahata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-24.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20220189801A1. Автор: Hidehiro Yanai,Shigenori TEZUKA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-06-16.

Processing apparatus and process status checking method

Номер патента: US09708711B2. Автор: Toshimasa Tanaka,Toshio Miyazawa,Katsuhito Hirose,Toshiharu Hirata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-07-18.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US09704703B2. Автор: Atsushi Sano,Yoshiro Hirose,Yoshitomo Hashimoto. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-07-11.

High power showerhead with recursive gas flow distribution

Номер патента: US20210032752A1. Автор: Xiaoping Zhou,Hamid Noorbakhsh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-02-04.

Processing apparatus and processing method

Номер патента: US20220148890A1. Автор: Atsushi Sawachi,Kosuke Ogasawara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-05-12.

Method of processing substrate, method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US20240242961A1. Автор: Yoshitomo Hashimoto,Tatsuru Matsuoka. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US09583338B2. Автор: Yoshiro Hirose,Yoshitomo Hashimoto,Tatsuru Matsuoka. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-02-28.

Stable silicon oxynitride layers and processes of making them

Номер патента: WO2023163894A1. Автор: Fei Wu,Tae Kyung Won,Yu-Min Wang,Young dong Lee. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-08-31.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US12040179B2. Автор: Takaaki Noda,Takeo Hanashima,Shingo Nohara,Kotaro Konno. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-16.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230257877A1. Автор: Yasushi Takeuchi,Manabu Honma,Junnosuke Taguchi,Ibuki HAYASHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09816183B2. Автор: HIROSHI Ashihara,Motoshi Sawada. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-14.

Modulation of oxidation profile for substrate processing

Номер патента: US12087573B2. Автор: Bart J. van Schravendijk,Gerald Joseph Brady,Kevin M. McLaughlin,Shriram Vasant BAPAT,Pratik Sankhe. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240222109A1. Автор: Naofumi Ohashi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Process chamber and exhaust liner system therefor

Номер патента: US12110585B2. Автор: Prashant Agarwal,Naman APURVA,Mahesh RAMAKRISHNA,Sriharish SRINIVASAN,Lara A. HAWRYLCHAK. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-08.

Batch-type vertical substrate processing apparatus and substrate holder

Номер патента: US09613838B2. Автор: Mitsuhiro Okada,Kazuhide Hasebe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-04.

Substrate processing apparatus and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US09530677B2. Автор: Akinori Tanaka,Daisuke Hara,Takatomo Yamaguchi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-12-27.

Continuous substrate processing system

Номер патента: US09748125B2. Автор: Nag B. Patibandla,Li-Qun Xia,Banqiu Wu,Toshiaki Fujita,Pravin K. Narwankar,Ralf Hofmann,Jeonghoon Oh,Srinivas Satya. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-08-29.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20090178762A1. Автор: Hironobu Shimizu,Nobuo Ishimaru. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2009-07-16.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US11923188B2. Автор: Takeo Hanashima. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-03-05.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12054828B2. Автор: Kohei Fukushima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Clockable substrate processing pedestal for use in semiconductor fabrication tools

Номер патента: US20240371679A1. Автор: Sky Mullenaux,Nick Ray Linebarger, JR.,Chirag Raghunath SHIVDAS. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-11-07.

Substrate processing device

Номер патента: US11767589B2. Автор: Jaemin Roh. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-09-26.

Substrate processing device

Номер патента: US11767589B2. Автор: Jaemin Roh. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-09-26.

Method of cooling substrate, method of manufacturing semiconductor device, substrate cooling system, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US20240309509A1. Автор: Hideto Yamaguchi,Masashi Sugishita. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-19.

Method of cooling substrate, method of manufacturing semiconductor device, substrate cooling system, substrate processing apparatus, and program

Номер патента: EP4447095A2. Автор: Hideto Yamaguchi,Masashi Sugishita. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-10-16.

Method of cooling substrate, method of manufacturing semiconductor device, substrate cooling system, substrate processing apparatus, and program

Номер патента: EP4447095A3. Автор: Hideto Yamaguchi,Masashi Sugishita. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-11-06.

Substrate processing apparatus and spray module of substrate processing apparatus

Номер патента: US20220392790A1. Автор: Jongchul Kim,InWoo BACK,YeongSeop BYEON,InCheol YEO. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-08.

Substrate processing apparatus, method for manufacturing semiconductor device and computer-readable recording medium

Номер патента: US09523150B2. Автор: Hideharu Itatani. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-12-20.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus and recording medium

Номер патента: US20160225617A1. Автор: Takaaki Noda,Kotaro Konno. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-08-04.

Minimal contact packaging for process chamber components

Номер патента: US12100613B2. Автор: Christopher Laurent Beaudry,Joseph Frederick BEHNKE,Scott Osterman,Trevor WILANTEWICZ,Timothy Douglas TOTH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-24.

Substrate processing apparatus, substrate holder, and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US7455734B2. Автор: Kazuhiro Morimitsu,Takatomo Yamaguchi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2008-11-25.

Substrate processing apparatus and notification method

Номер патента: US20190139804A1. Автор: Rintaro TAKAO,Hiromichi Fujii,Yoshihide Kagihara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-05-09.

Device for Processing Plasma with a Circulation of Process Gas in Multiple Plasmas

Номер патента: US20170069468A1. Автор: Daniel Decker,Hermann Schlemm,Mirko Kehr,Erik Ansorge. Владелец: Meyer Burger Germany GmbH. Дата публикации: 2017-03-09.

Substrate processing apparatus and semiconductor devices manufacturing method

Номер патента: US20110192347A1. Автор: Yoshihiko Yanagisawa,Mitsuro Tanabe,Tadashi Takasaki,Harunobu Sakuma. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2011-08-11.

Substrate processing apparatus and semiconductor devices manufacturing method

Номер патента: US20110053382A1. Автор: Yoshihiko Yanagisawa,Mitsuro Tanabe,Tadashi Takasaki,Harunobu Sakuma. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2011-03-03.

Substrate processing apparatus and semiconductor devices manufacturing method

Номер патента: US7943528B2. Автор: Yoshihiko Yanagisawa,Mitsuro Tanabe,Tadashi Takasaki,Harunobu Sakuma. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2011-05-17.

Process kits and related methods for processing chambers to facilitate deposition process adjustability

Номер патента: US20230386803A1. Автор: TAO Sheng,Ala Moradian,Ashur J. Atanos,Zhepeng Cong,NIMROD SMITH,Vinh N. TRAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-30.

Substrate processing apparatus, method of processing substrate, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240093372A1. Автор: Naofumi Ohashi,Kaoru Yamamoto,Atsushi Moriya,Tadashi Takasaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09970112B2. Автор: Kenichi Suzaki,Yasunobu Koshi,Akihito Yoshino. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-05-15.

Cleaning method for thin-film processing applications and apparatus for use therein

Номер патента: US09534294B2. Автор: NEIL Morrison,Florian Ries,Stefan Lorenz,Tobias Stolley,Stefan Hein. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-01-03.

Method for manufacturing semiconductor device and substrate processing apparatus

Номер патента: US09856560B2. Автор: Jie Wang,Kenji Kameda,Yuji Urano. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-01-02.

Method of Manufacturing Semiconductor Device, Cleaning Method, Substrate Processing Apparatus and Non-Transitory Computer-Readable Recording Medium

Номер патента: US20130102161A1. Автор: Masayuki Asai. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2013-04-25.

Cleaning method, method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US09865451B2. Автор: Yoshiro Hirose,Takaaki Noda,Shingo Nohara. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-01-09.

Systems and methods for removing particles from a substrate processing chamber using RF plasma cycling and purging

Номер патента: US09899195B2. Автор: Hu Kang,Adrien Lavoie. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Systems and methods for removing particles from a substrate processing chamber using RF plasma cycling and purging

Номер патента: US09478408B2. Автор: Hu Kang,Adrien Lavoie. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Systems and methods for removing particles from a substrate processing chamber using rf plasma cycling and purging

Номер патента: US20170011893A1. Автор: Hu Kang,Adrien Lavoie. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-01-12.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US11499224B2. Автор: Tetsuaki Inada,Hideto TATENO. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-11-15.

Method of manufacturing a semiconductor device, method of processing a substrate, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US09337015B2. Автор: Tsuyoshi Takeda,Taketoshi Sato,Minoru KOHASHI. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-05-10.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus and non-transitory computer readable recording medium

Номер патента: US09644265B2. Автор: Tetsuo Yamamoto,Takafumi Sasaki. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-05-09.

Cleaning method, manufacturing method of semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US09340872B2. Автор: Ryota Sasajima,Shintaro Kogura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-05-17.

Method and device for producing process gas-vapor mixtures

Номер патента: WO2001020057A1. Автор: Vladimir N. Linev,Anatoly I. Semenikov. Владелец: Semenikov Anatoly I. Дата публикации: 2001-03-22.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20160010210A1. Автор: Hidehiro Yanai. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-01-14.

Substrate processing device

Номер патента: US20240318307A1. Автор: Heeyeon Kim,Seongho Park,Hyunho Choi,Byunghwan Kong,Seongwan KIM,Heesun Song. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09929008B2. Автор: Yu Sasaki,Kosuke Takahashi,Masahiko Kaminishi,Yu WAMURA,Fumiaki Hayase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Substrate processing apparatus and recording medium

Номер патента: US20200035533A1. Автор: Ichiro Nunomura,Jin Shibata,Satoru Takahata,Tsukasa Iida,Hitoshi Sekihara,Kazunori Tsutsuguchi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2020-01-30.

Method of processing substrate, method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and program

Номер патента: EP4435144A2. Автор: Noriyuki Isobe,Yoshimasa Nagatomi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-25.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11952664B2. Автор: Hidenari YOSHIDA,Takeo Hanashima,Hiroaki Hiramatsu. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-04-09.

Cleaning method, method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US20240003005A1. Автор: Kazuhiro Harada,Yuji Urano,Yasunobu Koshi,Shingo Nohara. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-01-04.

Reduction of a process volume of a processing chamber using a nested dynamic inert volume

Номер патента: WO2012121941A2. Автор: James F. Lee. Владелец: Novellus Systems Inc.. Дата публикации: 2012-09-13.

Cleaning method for thin-film processing applications and apparatus for use therein

Номер патента: WO2015007858A1. Автор: NEIL Morrison,Florian Ries,Stefan Lorenz,Tobias Stolley,Stefan Hein. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2015-01-22.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US11041240B2. Автор: Atsushi Hirano,Kosuke Takagi,Risa YAMAKOSHI,Hideki Horita. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2021-06-22.

Method of controlling gas supply apparatus and substrate processing system

Номер патента: US09758867B2. Автор: Shigeru Nakajima,Hiromi Shima,Yusuke TACHINO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-12.

Method of processing substrate, method of manufacturing semiconductor device, program, and substrate processing apparatus

Номер патента: EP4411020A1. Автор: Hiroyuki Koide,Nagisa SUYAMA,Tomoya NAGAHASHI. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-08-07.

Method of processing substrate, method of manufacturing semiconductor device, recording medium, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240266164A1. Автор: Hiroyuki Koide,Nagisa SUYAMA,Tomoya NAGAHASHI. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-08-08.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20200347498A1. Автор: Tetsuaki Inada,Hideto TATENO. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2020-11-05.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230041284A1. Автор: Tetsuaki Inada,Hideto TATENO. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-02-09.

Semiconductor substrate processing chamber having interchangeable lids actuating plural gas interlock levels

Номер патента: US20020134505A1. Автор: WEN Chen,YU Chang,Gwo-Chuan Tzu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-09-26.

Method for recycling substrate process components

Номер патента: WO2018182886A1. Автор: Brian T. West. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-10-04.

Substrate processing system

Номер патента: US20240191351A1. Автор: Dieter Pierreux. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-06-13.

Gas recycling systems, substrate processing systems, and related apparatus and methods for semiconductor manufacturing

Номер патента: US20240175126A1. Автор: Shu-Kwan LAU,Mukhles SOWWAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-30.

Gas recycling systems, substrate processing systems, and related apparatus and methods for semiconductor manufacturing

Номер патента: WO2024118117A1. Автор: Shu-Kwan LAU,Mukhles SOWWAN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-06-06.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US09997354B2. Автор: Kazuhiro Yuasa,Atsushi Moriya,Yugo Orihashi,Naoharu Nakaiso. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-06-12.

Substrate processing apparatus including auxiliary gas supply port

Номер патента: US09593415B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang,Sung-Tae Je. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Substrate processing apparatus, apparatus for manufacturing semiconductor device, and gas supply system

Номер патента: US09540728B2. Автор: Kotaro Murakami,Atsushi Moriya,Yugo Orihashi,Naoharu Nakaiso. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-01-10.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US09691609B2. Автор: Kotaro Murakami,Atsushi Moriya,Yugo Orihashi,Naoharu Nakaiso. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-06-27.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US09748077B2. Автор: Sang Don Lee,Jeung Hoon Han,Seung Hoon Seo,Chul Joo Hwang. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-29.

Process chamber, method of preparing a process chamber, and method of operating a process chamber

Номер патента: US09613819B2. Автор: MING-CHING Chang,yu chao Lin,Chao-Cheng Chen,Jui-Ming Chen,Yuan-Sheng Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-04-04.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US20180040475A1. Автор: Atsushi Moriya,Naoharu Nakaiso,Takahiro Miyakura,Kensuke HAGA. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-02-08.

Heat source arrangements, processing chambers, and related methods to facilitate deposition process adjustability

Номер патента: US20240234175A9. Автор: Ala Moradian,Saurabh Chopra. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Process gas preheating systems and methods for double-sided multi-substrate batch processing

Номер патента: US09982364B2. Автор: Brian H. Burrows,Sumedh Acharya,David Masayuki Ishikawa,Paul J. Steffas. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-05-29.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: US20240203709A1. Автор: Dong Hwan Choi,Kwang su PARK,Kyung Ran PARK,Won Uk CHAE,Cheol Young Choi. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate processing system

Номер патента: US20200411341A1. Автор: George Xinsheng Guo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-12-31.

Substrate processing method

Номер патента: SG177250A1. Автор: Shinya Nakamura,Yoshinori Fujii,Hideto Nagashima. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2012-02-28.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US09831083B2. Автор: HIROSHI Ashihara,Tsuyoshi Takeda,Taketoshi Sato,Tsukasa Kamakura,Daigo Yamaguchi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-28.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US09425075B2. Автор: Atsushi Sano,Yoshiro Hirose,Naonori Akae. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-08-23.

Substrate processing apparatus and heating unit

Номер патента: US09957616B2. Автор: Hitoshi Murata,Yuichi Wada,Shuhei SAIDO,Hidenari YOSHIDA,Takashi Yahata. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-05-01.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09779921B2. Автор: Nobuo Yamaguchi,Susumu Akiyama,Kazuaki Matsuo,Satoshi Uchino,Yoshimitsu Shimane. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2017-10-03.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US11869764B2. Автор: Akinori Tanaka,Sadayoshi Horii,Hideto TATENO. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-01-09.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230077197A1. Автор: Akinori Tanaka,Sadayoshi Horii,Hideto TATENO. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-09.

Method of cleaning, method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US09653326B2. Автор: Masatoshi Takada,Takaaki Noda. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-05-16.

Substrate processing apparatus, processing method, and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20240096615A1. Автор: Akinori Tanaka,Sadayoshi Horii,Hideto TATENO. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, substrate processing method and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20240234178A1. Автор: Daiki Kimoto. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Method of manufacturing semiconductor device and substrate processing apparatus

Номер патента: US09472398B2. Автор: Tatsuyuki Saito,Masanori Sakai,Yukinao Kaga,Takashi Yokogawa. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-10-18.

Defect control and stability of dc bias in rf plasma-based substrate processing systems using molecular reactive purge gas

Номер патента: US20180347046A1. Автор: Arul Dhas,Christopher Ramsayer,Kareem Boumatar. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-12-06.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240093362A1. Автор: Masamichi Hara,Yuichi Furuya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180277405A1. Автор: HIROSHI Ashihara,Naofumi Ohashi,Kazuyuki Toyoda,Satoshi Shimamoto. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-09-27.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20150252474A1. Автор: Kazuyuki Toyoda,Tetsuaki Inada,Motonari Takebayashi,Hideharu Itatani. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2015-09-10.

Substrate processing apparatus and method of processing a substrate

Номер патента: US09711370B2. Автор: Hitoshi Kato,Jun Sato,Hiroyuki Kikuchi,Shigehiro Miura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-07-18.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US20140220788A1. Автор: Atsushi Sano,Yoshiro Hirose,Naonori Akae. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2014-08-07.

Conditioning method, computer readable storage medium and substrate processing apparatus

Номер патента: US8980366B2. Автор: Takashi Chino,Yojiro AOKI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-03-17.

Gas flow control during semiconductor fabrication

Номер патента: US20220375770A1. Автор: Chih-Kang Chao,Yu-Liang YEH,Bing Kai Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-11-24.

Process gas ramp during semiconductor processing

Номер патента: US20240376598A1. Автор: Gang Liu,Xing Zhang,Anand Chandrashekar,Kaihan Abidi Ashtiani,Jasmine Lin. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-11-14.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, METHOD OF COATING PARTICLE IN PROCESS GAS NOZZLE AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20180304286A1. Автор: ISHII Katsutoshi. Владелец: . Дата публикации: 2018-10-25.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20140346040A1. Автор: Akihiro Yokota,Shinji Himori,Etsuji Ito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-11-27.

Thermal process chamber lid with backside pumping

Номер патента: US20230335434A1. Автор: BO Wang,Dien-Yeh Wu,Yixiong Yang,Wei V. Tang,Anqing Cui. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-19.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing device, recording media capable of suppressing non-uniformity of the film thickness of the film formed and stacked in the up and down direction

Номер патента: TW201921496A. Автор: 高木康祐,中村吉延,南政克,奧田和幸,竹林雄二,加我友紀直. Владелец: 日商國際電氣股份有限公司. Дата публикации: 2019-06-01.

Apparatus and methods for using high frequency chokes in a substrate deposition apparatus

Номер патента: US20110259362A1. Автор: Carl A. Sorensen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2011-10-27.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and plasma generator

Номер патента: US12068136B2. Автор: Tsuyoshi Takeda. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-08-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12094694B2. Автор: Sumi Tanaka,Tamihiro Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing apparatus, method of processing substrate, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09548229B2. Автор: Masamichi Yachi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-01-17.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US09773661B2. Автор: Yoshiro Hirose,Satoshi Shimamoto,Takafumi Nitta. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-09-26.

Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20200090911A1. Автор: Yong Hyun Lee,Cheol Woo CHONG,Kwang Su YOO,Teugki PARK. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-19.

Insulating film forming method and substrate processing system

Номер патента: US20240321571A1. Автор: Nobuo Matsuki,Yoshinori Morisada,Daisuke Oba,Masafumi Ishida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Silicon-containing layers with reduced hydrogen content and processes of making them

Номер патента: WO2023167810A1. Автор: Lai ZHAO,Cheng-Hang Hsu,Hsiao-Ling YANG,Sophia S. CHANG. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-09-07.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09865454B2. Автор: Hitoshi Kato,Jun Sato,Masato Yonezawa,Hiroyuki Kikuchi,Shigehiro Miura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Electrostatic chuck for use in semiconductor processing

Номер патента: US11817341B2. Автор: Troy Alan Gomm. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-11-14.

Electrostatic chuck for use in semiconductor processing

Номер патента: EP4258332A2. Автор: Troy Alan Gomm. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-10-11.

Electrostatic chuck for use in semiconductor processing

Номер патента: EP3631846A1. Автор: Troy Alan Gomm. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2020-04-08.

Electrostatic chuck for use in semiconductor processing

Номер патента: US20240038568A1. Автор: Troy Alan Gomm. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-02-01.

Electrostatic chuck for use in semiconductor processing

Номер патента: EP4258332A3. Автор: Troy Alan Gomm. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-01-03.

Pre-coated shield for use in vhf-rf pvd chambers

Номер патента: SG11201804420UA. Автор: Zhendong Liu,Jianxin Lei,Donny Young,Wenting Hou,William M Lu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-06-28.

Gas supply system, substrate processing apparatus and gas supply method

Номер патента: US20130126093A1. Автор: Kenetsu Mizusawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-05-23.

Gas supply system, substrate processing apparatus and gas supply method

Номер патента: US20120247668A1. Автор: Kenetsu Mizusawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-10-04.

Substrate processing apparatus and film forming system

Номер патента: US20120137973A1. Автор: Nobuyoshi Sato. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2012-06-07.

Pre-coated shield for use in vhf-rf pvd chambers

Номер патента: EP3380643A1. Автор: Zhendong Liu,Jianxin Lei,Donny Young,Wenting Hou,William M. Lu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-10-03.

Substrate processing apparatus and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US09963785B2. Автор: Koichi Honda,Mamoru Umemoto,Masayuki Asai,Kazuyuki Okuda. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-05-08.

Substrate processing apparatus and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US09593422B2. Автор: Koichi Honda,Mamoru Umemoto,Masayuki Asai,Kazuyuki Okuda. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-03-14.

Substrate processing method, program, control apparatus, film forming apparatus, and substrate processing system

Номер патента: US20140335693A1. Автор: Yuichi Takenaga,Syuji Nozawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-11-13.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240035168A1. Автор: Hironobu Hyakutake. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

A process for the treatment of gas phase alkaline chlorides in a combustion plant, combustion plant for carrying out the process, and the use of a phosphorous substance for the treatment of gas phase alkaline chlorides in a combustion plant

Номер патента: CA2662027C. Автор: Magnus Berg,Matts Ahlmark. Владелец: VATTENFALL AB. Дата публикации: 2016-08-02.

Silicon steel and processing therefore

Номер патента: CA1139643A. Автор: Clarence L. Miller, Jr.. Владелец: Allegheny Ludlum Corp. Дата публикации: 1983-01-18.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US12087598B2. Автор: Takashi Tsukamoto,Akinori Tanaka,Sadayoshi Horii,Daisuke Hara,Masahisa OKUNO,Toru Kakuda,Hideto TATENO,Takuya Joda. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Substrate processing tool with integrated metrology and method of using

Номер патента: US20190295870A1. Автор: Robert Clark,Kandabara Tapily. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-09-26.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and program

Номер патента: US9153430B2. Автор: Jie Wang,Takaaki Noda. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2015-10-06.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US12091751B2. Автор: Satoshi Takano,Naofumi Ohashi,Tomihiro Amano. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Semiconductor device manufacturing method and substrate processing method including a cleaning method

Номер патента: US09546422B2. Автор: Tetsuaki Inada,Yoshihiko Yanagisawa. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-01-17.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US12040161B2. Автор: Masanori Nakayama,Tatsushi Ueda,Katsunori Funaki,Hiroto Igawa,Yuki Yamakado,Yuichiro Takeshima,Keita Ichimura,Yasutoshi Tsubota,Eiko Takami. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-16.

Integrated process kit for a substrate processing chamber

Номер патента: US09953812B2. Автор: XIN Wang,Prashant Prabhu,Kirankumar Savandaiah,William Johanson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-04-24.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09659767B2. Автор: HIROSHI Ashihara,Atsushi Sano,Hidehiro Yanai,Tadashi Takasaki. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-05-23.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US09640387B2. Автор: Yoshiro Hirose,Satoshi Shimamoto,Ryuji Yamamoto,Tsukasa Kamakura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-05-02.

Systems and methods for eliminating flourine residue in a substrate processing chamber using a plasma-based process

Номер патента: US09601319B1. Автор: Joydeep Guha,Andrew Stratton Bravo,Amit Pharkya. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Method of manufacturing semiconductor device, method of cleaning interior of process chamber, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US09895727B2. Автор: Yoshinobu Nakamura,Masayuki Asai,Kazuyuki Okuda,Masayoshi Minami,Yuji Urano. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-02-20.

Method for manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US09530641B2. Автор: Jie Wang,Takaaki Noda,Takeo Hanashima. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-12-27.

Substrate Processing Apparatus and Method of Manufacturing Semiconductor Device

Номер патента: US20240096597A1. Автор: Takeshi Yasui,Koichiro Harada,Katsunori Funaki,Yasutoshi Tsubota. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing module and laser beam providing method

Номер патента: US20240006167A1. Автор: Yunsang Kim,Kwang Ryul Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230057538A1. Автор: Chul-Joo Hwang,Duck Ho Kim,Il Hyong CHO. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-23.

Method of manufacturing semiconductor device and method of processing substrate and substrate processing apparatus

Номер патента: US09349587B2. Автор: Atsushi Sano,Yoshiro Hirose,Kiyohiko Maeda,Kazuyuki Okuda. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-05-24.

Substrate processing system having improved substrate transport system

Номер патента: US20090060689A1. Автор: G. X. Guo,K. A. Wang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-03-05.

Method of manufacturing semiconductor device, non-transitory computer-readable recording medium, substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240279807A1. Автор: Yoshimasa Nagatomi,Yukinao Kaga,Takuya Joda. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-08-22.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing method, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US12080550B2. Автор: KIMIHIKO Nakatani. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-03.

Method of performing maintenance on substrate processing apparatus, and the substrate processing apparatus

Номер патента: US20240339307A1. Автор: Takahiro Murakami,Takayuki Suzuki,Yuya MINOURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Collimator for use in substrate processing chambers

Номер патента: US09543126B2. Автор: Martin Lee Riker. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Substrate processing apparatus, substrate mounting table cover, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer readable recording medium

Номер патента: US20220415700A1. Автор: Takayuki Sato,Yuichiro Takeshima,Masaki Murobayashi,Tomokazu WAKUI. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-12-29.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230282505A1. Автор: Satoshi Takano,Naofumi Ohashi,Atsushi Moriya,Yukinori Aburatani. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-09-07.

Substrate processing apparatus and method of cleaning the same

Номер патента: US20190055647A1. Автор: Kook Tae Kim,Bongjin Kuh,In-Sun Yi,Soojin HONG,Sukjin CHUNG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-02-21.

Substrate processing device, manufacturing method for semiconductor device, and reaction tube

Номер патента: US12062546B2. Автор: Tomoshi Taniyama,Takayuki Nakada,Hidenari YOSHIDA,Shigeru Odake. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-08-13.

Metal doping of amorphous carbon and silicon films used as hardmasks in substrate processing systems

Номер патента: US09520295B2. Автор: Fayaz Shaikh,Sirish Reddy,Alice Hollister. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-12-13.

Method for manufacturing semiconductor device, method for processing substrate, substrate processing device and recording medium

Номер патента: US09502233B2. Автор: Atsushi Sano,Masayuki Asai,Masahiro Yonebayashi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-11-22.

Baffle for providing uniform process gas flow on substrate and around pedestal

Номер патента: WO2024081183A1. Автор: Ravi Kumar,Cody Barnett,Karthik Adappa SATHISH,Mitali Mrigendra BASARGI. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-04-18.

Substrate processing apparatus, method of processing substrate, method of manufacturing semiconductor device, cleaning method, and recording medium

Номер патента: US20240043993A1. Автор: Naonori Akae. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-02-08.

Substrate processing apparatus and a method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US09472424B2. Автор: Masayuki Tomita,Teruo Yoshino,Katsuyoshi Hamano,Yasutoshi Tsubota. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-10-18.

Substrate processing apparatus, cleaning method, substrate processing method, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20240321597A1. Автор: Kaoru Yamamoto. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate processing apparatus, semiconductor device manufacturing method, substrate processing method, and recording medium

Номер патента: US09543220B2. Автор: Takeo Sato. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-01-10.

Substrate processing system and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230175124A1. Автор: Jiwon KWAK,Songyi Baek,Taemin Kim,Sejin KYUNG,Daewee KONG,Youngtack SIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-08.

Substrate processing tool with integrated metrology and method of using

Номер патента: US11769677B2. Автор: Robert Clark,Kandabara Tapily. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US11898247B2. Автор: Takafumi Sasaki,Hidenari YOSHIDA,Yusaku OKAJIMA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-02-13.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20220090259A1. Автор: Satoshi Takano,Naofumi Ohashi,Tomihiro Amano. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-03-24.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180305816A1. Автор: Akira Takahashi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-10-25.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and non-transitory computer-readable recording medium therefor

Номер патента: US11926893B2. Автор: Naofumi Ohashi,Tetsuaki Inada. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-03-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240003011A1. Автор: Kwang Ryul Kim,Yun Sang Kim,Jin Hee Hong. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Substrate processing apparatus and guide portion

Номер патента: US20160298235A1. Автор: Hideki Horita,Naonori Akae,Masato Terasaki. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-10-13.

Cleaning method, method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US09401272B2. Автор: Hideki Horita,Naonori Akae,Masato Terasaki. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-07-26.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and plasma generating apparatus

Номер патента: US20230197408A1. Автор: Tsuyoshi Takeda,Daisuke Hara. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-06-22.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: US20180265974A1. Автор: Shigeyuki Okura,Yuki KEIMOTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-09-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20140363587A1. Автор: Jeung Hoon Han,Song Whe Huh. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2014-12-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20180033618A1. Автор: Kazuo Yabe,Jun Ogawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-01.

Method of manufacturing semiconductor device, non-transitory computer-readable recording medium and substrate processing apparatus

Номер патента: US12080555B2. Автор: Arito Ogawa. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-03.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09960073B2. Автор: Jeung Hoon Han,Song Whe Huh. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-01.

Semiconductor device manufacturing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09416446B2. Автор: Tatsuyuki Saito,Masanori Sakai,Yukinao Kaga,Takashi Yokogawa. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-08-16.

Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20170345617A1. Автор: Tsuyoshi Takeda. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-30.

Protective layers for processing chamber components

Номер патента: US20200020511A1. Автор: Mats Larsson,Kartik Shah,Kevin A. Papke,Umesh M. Kelkar,Karthikeyan BALARAMAN,Balamurugan RAMASAMY,Rajasekhar PATIBANDLA,Sathyanarayana BINDIGANAVALE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-01-16.

Substrate processing apparatus, control system, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20190301020A1. Автор: Hiroki OKAMIYA,Kazuo NAKAYA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2019-10-03.

Deposition apparatus, substrate processing system and method for processing a substrate

Номер патента: WO2023160809A1. Автор: Ralph Lindenberg,Wolfgang Klein,Klaus SCHÜHLER. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-08-31.

Rotating shaft sealing device and processing apparatus for semiconductor substrate using the same

Номер патента: US11764102B2. Автор: Hee Jang Rhee. Владелец: Sealink Corp. Дата публикации: 2023-09-19.

Reflective deposition rings and substrate processing chambers incorporating same

Номер патента: US09905443B2. Автор: Ashish Goel,Joung Joo Lee,Joseph M. Ranish,Xiaoxiong Yuan,Anantha K. Subramani. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-02-27.

Two step process for cleaning a substrate processing chamber

Номер патента: US6068729A. Автор: Ashish V. Shrotriya. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-05-30.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240084448A1. Автор: Takafumi Sasaki,Hidetoshi Mimura,Hidenari YOSHIDA,Yusaku OKAJIMA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-03-14.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11859280B2. Автор: Takafumi Sasaki,Hidetoshi Mimura,Hidenari YOSHIDA,Yusaku OKAJIMA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-01-02.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US09899211B2. Автор: Satoshi Shimamoto,Yugo Orihashi,Kaori KIRIKIHIRA. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-02-20.

Plasma processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230402256A1. Автор: Takeshi Kobayashi,Jun Sato,Takashi Chiba. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20240282578A1. Автор: Takayuki Katsunuma,Masanobu Honda,Yoshihide Kihara,Toru Hisamatsu,Shinya Ishikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Multi-stage substrate processing system

Номер патента: US12125722B2. Автор: Yukihiro Mori. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-10-22.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US12136545B2. Автор: Toshiyuki Kikuchi,Takashi Yahata. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-11-05.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11869748B2. Автор: Takeshi Yasui,Koichiro Harada,Katsunori Funaki,Yasutoshi Tsubota. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-01-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240076777A1. Автор: Hitoshi Kato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-07.

Thread profiles for semiconductor process chamber components

Номер патента: US12068137B2. Автор: Timothy Joseph Franklin,Carlaton WONG,Reyn Tetsuro Wakabayashi. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-20.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12123091B2. Автор: Takashi Nogami,Tomoshi Taniyama,Takayuki Nakada,Daigi KAMIMURA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-10-22.

Substrate processing method and recording medium

Номер патента: US20170250086A1. Автор: Takashi Kobayashi,Satoshi Wakabayashi,Osamu Yokoyama,Takashi Sakuma,Tomonari URANO,Kyohei Noguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-08-31.

Substrate processing method and recording medium

Номер патента: US10242878B2. Автор: Takashi Kobayashi,Satoshi Wakabayashi,Osamu Yokoyama,Takashi Sakuma,Tomonari URANO,Kyohei Noguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-03-26.

Substrate Processing System with a Damage Preventing Function

Номер патента: US20150129420A1. Автор: Sang Hyun Park,Dong Hyun Lee,Sung Jin Park,Kwang Jin Jeon,Jin Haon Kwon,Hyun Pil Oh. Владелец: SNU PRECISION CO LTD. Дата публикации: 2015-05-14.

Substrate processing apparatus, recording medium and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09595460B2. Автор: Tsukasa Iida. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-03-14.

Method of manufacturing semiconductor device and method of processing substrate and substrate processing apparatus

Номер патента: US8575042B2. Автор: Atsushi Sano,Osamu Kasahara,Yoshiro Hirose,Yosuke Ota,Kiyohiko Maeda,Kazuyuki Okuda. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2013-11-05.

Raw material supply system, substrate processing apparatus, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20230279551A1. Автор: Kaoru Yamamoto,Kentaro GOSHIMA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-09-07.

Processing device and processing method

Номер патента: US20050145333A1. Автор: Hiroshi Kannan,Takaaki Matsuoka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2005-07-07.

Substrate processing device, manufacturing method for semiconductor device, and reaction tube

Номер патента: US20210159083A1. Автор: Tomoshi Taniyama,Takayuki Nakada,Hidenari YOSHIDA,Shigeru Odake. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2021-05-27.

Multi-chamber substrate processing platform

Номер патента: US11860528B2. Автор: Sanjay Bhat,Ribhu GAUTAM,Vibhu Jindal,Vinodh RAMACHANDRAN,Praveen Kumar Choragudi,Arun Rengaraj. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-02.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US20200185237A1. Автор: Atsushi Moriya,Naoharu Nakaiso,Takahiro Miyakura,Kensuke HAGA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2020-06-11.

Method for removing impurities in thin film and substrate processing apparatus

Номер патента: US11972946B2. Автор: Kyu Jin Choi,Gyu Ho Choi,Sang Hyuk HWANG. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-30.

Multi-chamber substrate processing platform

Номер патента: WO2022140147A1. Автор: Sanjay Bhat,Ribhu GAUTAM,Vibhu Jindal,Vinodh RAMACHANDRAN,Praveen Kumar Choragudi,Arun Rengaraj. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-06-30.

Substrate processing apparatus and charge neutralization method for mounting table

Номер патента: US11862439B2. Автор: Masamichi Hara,Kouichi Nakajima,Takahiro Kawawa,Hideomi Hosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Process gas management system and photoionization detector

Номер патента: US20160362787A1. Автор: Shawn M. Briglin,Michael F. Vollero. Владелец: Inficon Inc. Дата публикации: 2016-12-15.

Coil for improved process chamber deposition and etch uniformity

Номер патента: WO2022192296A1. Автор: Rui Li,Goichi Yoshidome,Andrew Tomko,Xiangjin Xie. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-09-15.

Gas flow monitoring method and gas flow monitoring apparatus

Номер патента: US20170167026A1. Автор: Minoru Ito,Shigeyuki Hayashi,Yasunori Nishimura,Masami Nishikawa,Atsushi Ieki,Akiko Nakada. Владелец: CKD Corp. Дата публикации: 2017-06-15.

Isolated volume seals and method of forming an isolated volume within a processing chamber

Номер патента: US20240332046A1. Автор: Thomas Brezoczky,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Bhaskar PRASAD,Srinivasa Rao Yedla,Nitin Bharadwaj SATYAVOLU. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20210395887A1. Автор: Naofumi Ohashi,Yukinori Aburatani,Shun Matsui,Takashi Yahata. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2021-12-23.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US11891697B2. Автор: Naofumi Ohashi,Yukinori Aburatani,Shun Matsui,Takashi Yahata. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-02-06.

Method for manufacturing semiconductor device, non-transitory computer-readable recording medium, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20180286662A1. Автор: Yoshimasa Nagatomi,Hirohisa Yamazaki. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-10-04.

Substrate processing apparatus, method of processing substrate, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240158917A1. Автор: Masanori Nakayama,Takeshi Yasui,Teruo Yoshino,Koichiro Harada,Tadashi Terasaki,Masaki Murobayashi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-05-16.

Substrate processing apparatus, heating apparatus, method of processing substrate and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240003012A1. Автор: Yuji Takebayashi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-01-04.

Substrate processing chamber having improved process volume sealing

Номер патента: WO2019060259A1. Автор: Keith A. Miller,Ilya Lavitsky,John Mazzocco. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2019-03-28.

Method of manufacturing semiconductor device, non-transitory computer-readable recording medium, substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12000045B2. Автор: Yoshimasa Nagatomi,Yukinao Kaga,Takuya Joda. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-06-04.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220251709A1. Автор: Takafumi Niwa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-11.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12116666B2. Автор: Takeshi Ito,Tomoshi Taniyama,Daigi KAMIMURA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-10-15.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12054824B2. Автор: Nobuhiro Takahashi,Kiyotaka Horikawa,Junichiro Matsunaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Substrate processing apparatus including heat-shield plate

Номер патента: US09953850B2. Автор: Byoung-Gyu Song,Kyong-Hun Kim,Yong-Ki Kim,Yang-Sik Shin,Il-Kwang Yang,Sung-Tae Je. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Substrate processing method, substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US09502239B2. Автор: Masahisa OKUNO,Hideto TATENO,Takuya Joda,Masamichi Kurokawa,Tooru KAKUDA. Владелец: AZ Electronic Materials Luxembourg SARL. Дата публикации: 2016-11-22.

Selectively groundable cover ring for substrate process chambers

Номер патента: US09472443B2. Автор: Zhenbin Ge,Muhammad M. Rasheed,Goichi Yoshidome,Kirankumar Savandaiah,William Johanson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-10-18.

Substrate Processing Method and Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20200299840A1. Автор: Tatsuya Yamaguchi,Syuji Nozawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-09-24.

Gate valve, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20240068090A1. Автор: Yukio Ohizumi,Yoshifumi HOSHINO,Kaito SUZUKI. Владелец: Kitz SCT Corp. Дата публикации: 2024-02-29.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US20170345645A1. Автор: Katsuyoshi Harada,Satoshi Shimamoto,Yushin Takasawa,Hiroki HATTA. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-30.

Method for recycling substrate process components

Номер патента: US20180281027A1. Автор: Brian T. West. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-10-04.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US12131902B2. Автор: Naofumi Ohashi,Tetsuo Yamamoto,Yukinori Aburatani. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-10-29.

Method of manufacturing semiconductor device, method of processing substrate, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US09685317B2. Автор: Kazuhiro Yuasa,Naonori Akae. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-06-20.

Substrate processing apparatus, non-transitory computer-readable recording medium and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09502236B2. Автор: Tetsuo Yamamoto,Kazuyuki Toyoda,Taketoshi Sato,Kazuhiro Morimitsu,Yukitomo Hirochi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-11-22.

Protective gas flow during wafer dechucking in pvd chamber

Номер патента: US20240102153A1. Автор: Fuhong Zhang,Yu-Ru Li. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-03-28.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US11915938B2. Автор: Arito Ogawa,Atsuro Seino. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-02-27.

Feeding block and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240052488A1. Автор: Choong Hyun LEE,Chong Hwan Jong,Dong Bum Kang. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Substrate processing system and maintenance method

Номер патента: US20240105478A1. Автор: Takashi Dokan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Gas spraying apparatus for substrate processing apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20190157038A1. Автор: Sung Bae KIM,Cheong SON. Владелец: Jusung Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-23.

Polishing head, substrate processing apparatus including the same and processing method of substrate using the same

Номер патента: US20210114163A1. Автор: Joon-Hwa Bae,Byoung Kwon Choo,Keun Woo Lee,Woo Jin Cho,Sung Hyeon PARK,Seung Bae Kang,Jung Gun Nam,Kyung Bo LEE. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-22.

Polishing head, substrate processing apparatus including the same and processing method of substrate using the same

Номер патента: US11919122B2. Автор: Joon-Hwa Bae,Byoung Kwon Choo,Keun Woo Lee,Woo Jin Cho,Sung Hyeon PARK,Seung Bae Kang,Jung Gun Nam,Kyung Bo LEE. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

System and process with assisted gas flow inside a reaction chamber

Номер патента: WO2020264464A8. Автор: Lu Yang,Yan Wang,Liang Yuh Chen. Владелец: eJoule, Inc.. Дата публикации: 2022-02-03.

System and process with assisted gas flow inside a reaction chamber

Номер патента: US20240075451A1. Автор: Lu Yang,Yan Wang,Liang-Yuh Chen. Владелец: eJoule Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Apparatus for using Exhaust Steam in the Manufacture of Water-gas.

Номер патента: GB191423052A. Автор: Herbert Edmund Smith. Владелец: Individual. Дата публикации: 1915-11-04.

Modified chitin for biocompatible dialysis membranes iv and process for preparation of modified cellulose and modified chitin for use therewith

Номер патента: US5093489A. Автор: Michael Diamantoglou. Владелец: Akzo NV. Дата публикации: 1992-03-03.

Process for making bicyclic lactone derivatives for use as intermediates in the synthesis of prostaglandins

Номер патента: US4204999A. Автор: Csaba Szantay,Gabor Kovacs,Istvan Szekely,Istvan Stadler,Vilmos Simonidesz,Istvan Tomoskozi,Marianna Lovasz nee Gaspar,Julia Remport nee Radoczi,Zsuzsa Visky nee Gombos,Borbala Keresztesnee Ordog. Владелец: Chinoin Gyogyszer es Vegyeszeti Termekek Gyara Zrt. Дата публикации: 1980-05-27.

Steroid-Derived Cyclopamine Analogs and Methods for Using the Same in the Prevention or Treatment of Cancer

Номер патента: US20110306662A1. Автор: Nadia Dahmane,Jeffrey D. Winkler. Владелец: Wistar Institute of Anatomy and Biology. Дата публикации: 2011-12-15.

Pre-heat ring and substrate processing device

Номер патента: US20240102199A1. Автор: LIU Ziqiang. Владелец: Jiangsu Alpha Semiconductor Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Process for producing zno single crystal, self-supporting zno single-crystal wafer obtained by the same, self-supporting wafer of mg-containing zno mixed single crystal, and process for producing mg-containing zno mixed single crystal for use in the same

Номер патента: KR20110003346A. Автор: 이사오 사카구치,히데유키 세키와,준 고바야시,미유키 미야모토,나오키 오하시,요시키 와다. Владелец: 도쿠리츠교세이호징 붓시쯔 자이료 겐큐키코. Дата публикации: 2011-01-11.

Process for producing zno single crystal, self-supporting zno single-crystal wafer obtained by the same, self-supporting wafer of mg-containing zno mixed single crystal, and process for producing mg-containing zno mixed single crystal for use in the same

Номер патента: EP2267193A4. Автор: Jun Kobayashi,Isao Sakaguchi,Yoshiki Wada,Naoki Ohashi,Hideyuki Sekiwa,Miyuki Miyamoto. Владелец: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc. Дата публикации: 2014-06-25.

Pre-heat rings and processing chambers including black quartz, and related methods

Номер патента: WO2024158417A1. Автор: Ashur J. Atanos,Zhepeng Cong,NIMROD SMITH. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-02.

Pre-heat rings and processing chambers including black quartz, and related methods

Номер патента: US20240247404A1. Автор: Ashur J. Atanos,Zhepeng Cong,NIMROD SMITH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180164702A1. Автор: Naofumi Ohashi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-06-14.

Continuous plasma and rf bias to regulate damage in a substrate processing system

Номер патента: WO2013151971A1. Автор: Huatan Qiu,Liqi Wu,Yung Yi Lee. Владелец: NOVELLUS SYSTEMS, INC.. Дата публикации: 2013-10-10.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220384151A1. Автор: Shinya Ishikawa,Sho Kumakura,Yuta NAKANE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Valve module and substrate processing device comprising the same

Номер патента: US12092235B2. Автор: Jae Min Lee,Sang Min Kim. Владелец: Presys Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US09431220B1. Автор: Naofumi Ohashi,Atsuhiko Suda,Kazuyuki Toyoda,Masanori Nakayama,Shun Matsui. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-08-30.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US09786493B2. Автор: Junichi Tanabe,Naofumi Ohashi,Katsuhiko Yamamoto,Tatsushi Ueda,Yuki Taira,Hideharu Itatani. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-10-10.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US20240344194A1. Автор: Arito Ogawa,Atsuhiko Ashitani,Kota KOWA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-10-17.

Process chamber component and method of forming a surface texture

Номер патента: EP3648913A1. Автор: Olivier MARCHAND. Владелец: Cleanpart Group GmbH. Дата публикации: 2020-05-13.

Process chamber component and method of forming a surface texture

Номер патента: US20200176225A1. Автор: Olivier MARCHAND. Владелец: Cleanpart Group GmbH. Дата публикации: 2020-06-04.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240290609A1. Автор: Tadahiro Ishizaka,Takashi Sakuma,Yoshiyuki Hanada,Kunihiro Tada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Method of conditioning vacuum chamber of semiconductor substrate processing apparatus

Номер патента: US09548188B2. Автор: Dennis Michael Hausmann. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-01-17.

Discharging method and substrate processing apparatus

Номер патента: US11462431B2. Автор: Masanori Sato,Yoshinori Osaki,Tetsu TSUNAMOTO,Toshiyuki ARAKANE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-10-04.

Substrate processing method and control apparatus

Номер патента: US09798317B2. Автор: Katsuhiko Komori,Yuichi Takenaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Compartmentalized sump and gas flow system for silicon ribbon production

Номер патента: US20240229294A1. Автор: Nathan Stoddard,Alexander Martinez,Peter Kellerman,Parthiv Daggolu. Владелец: Leading Edge Crystal Technologies Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Method for using the waste heat from a plant for producing cement and plant for producing cement

Номер патента: US09725362B2. Автор: Heiko Schuermann. Владелец: KHD Humboldt Wedag AG. Дата публикации: 2017-08-08.

Compositions of matter and uses thereof in the treatment of waste materials

Номер патента: US09452458B2. Автор: Isam Sabbah,Nedal Massalha,Ahlam Saliba. Владелец: AgROBICS Ltd. Дата публикации: 2016-09-27.

Process for conversion of acyclic c5 compounds to cyclic c5 compounds and catalyst composition for use therein

Номер патента: EP3371139A2. Автор: Larry L. Iaccino,Machteld M. W. Mertens,Karl G. Strohmaier,Jane C. Cheng,Jeremy W. Bedard,Robert T. Carr. Владелец: ExxonMobil Chemical Patents Inc. Дата публикации: 2018-09-12.

Apparatus and process for processing of glass containers and process for manufacturing glass containers including such a processing

Номер патента: US11779969B2. Автор: Anil Narayan Narvekar,Pratul Prakash Potdar. Владелец: Schott Poonawalla Pvt Ltd. Дата публикации: 2023-10-10.

Process for conversion of acyclic C5 compounds to cyclic C5 compounds and catalyst composition for use therein

Номер патента: US09849440B2. Автор: Larry L. Iaccino,Jocelyn A. Kowalski,Tilman W. Beutel,Jeremy W. Bedard. Владелец: ExxonMobil Chemical Patents Inc. Дата публикации: 2017-12-26.

Cell line for use in producing recombinant adenoviruses

Номер патента: US20230313228A1. Автор: Ryan Cawood. Владелец: Oxford Genetics Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Spirofuranone compounds, derivatives thereof and processes for their preparation

Номер патента: EP3250559A1. Автор: Dmitry TSVELIKHOVSKY,Avi PRIEL. Владелец: Yissum Research Development Co of Hebrew University of Jerusalem. Дата публикации: 2017-12-06.

Combined current carrier circulation chamber and frame for use in unipolar electrochemical devices

Номер патента: CA3178288A1. Автор: Andrew T. B. Stuart,Raynald G. LaChance,Jaideep S. Spal,Samantha E. L. Stuart,Edward D. B. Stuart. Владелец: Key DH IP Inc. Дата публикации: 2022-01-20.

Combined current carrier circulation chamber and frame for use in unipolar electrochemical devices

Номер патента: AU2021309138A1. Автор: Andrew T. B. Stuart,Raynald G. LaChance,Jaideep S. Spal,Samantha E. L. Stuart,Edward D. B. Stuart. Владелец: Key DH IP Inc. Дата публикации: 2023-02-16.

Combined current carrier circulation chamber and frame for use in unipolar electrochemical devices

Номер патента: EP4182494A1. Автор: Andrew T. B. Stuart,Raynald G. LaChance,Jaideep S. Spal,Samantha E. L. Stuart,Edward D. B. Stuart. Владелец: Key DH IP Inc. Дата публикации: 2023-05-24.

Wastewater treatment; process and apparatus comprising a pre-treatment chamber, a biofilm-aeration chamber and a settling chamber

Номер патента: NZ249643A. Автор: Nianfa Tang,David S Maclaren. Владелец: Jet Inc. Дата публикации: 1996-08-27.

Improvements in the distillation of glycerin

Номер патента: GB486415A. Автор: . Владелец: Colgate Palmolive Co. Дата публикации: 1938-06-01.

Modification of feline calicivirus (FCV) capsid gene in the consensus sequence preventing further alterations by splicing machinery within eukaryotic cells

Номер патента: NZ501579A. Автор: Didier Colau,Joel Roos. Владелец: Dimminaco Ag S. Дата публикации: 2001-11-30.

Process for preparing peroxide-based bleach media and concentrated bleach compositions for use in carrying out that process

Номер патента: CA1135907A. Автор: Herbert L. Benson, Jr.. Владелец: Shell Canada Ltd. Дата публикации: 1982-11-23.

A process for compounding a thermoplastic composition comprising performance additives for use in additive manufacturing

Номер патента: WO2020104570A1. Автор: Magnus KOKKO,Emelie RYDÉN,Dzina KLESHCHANOK. Владелец: Ingevity Uk Ltd.. Дата публикации: 2020-05-28.

A process for compounding a thermoplastic composition comprising performance additives for use in additive manufacturing

Номер патента: SE542961C2. Автор: Magnus KOKKO,Emelie RYDÉN,Dzina KLESHCHANOK. Владелец: Ingevity UK Ltd. Дата публикации: 2020-09-22.

A process for compounding a thermoplastic composition comprising performance additives for use in additive manufacturing

Номер патента: SE1830344A1. Автор: Magnus KOKKO,Emelie RYDÉN,Dzina KLESHCHANOK. Владелец: Ingevity UK Ltd. Дата публикации: 2020-05-22.

A process for compounding a thermoplastic composition comprising performance additives for use in additive manufacturing

Номер патента: EP3883988A1. Автор: Magnus KOKKO,Emelie RYDÉN,Dzina KLESHCHANOK. Владелец: Ingevity UK Ltd. Дата публикации: 2021-09-29.

β-Lactam antibacterial agents, their use in pharmaceutical compositions, the process for their preparation and intermediates for use in that process

Номер патента: US4252808A. Автор: Michael J. Pearson. Владелец: Beecham Group PLC. Дата публикации: 1981-02-24.

Process for conversion of acyclic C5 compounds to cyclic C5 compounds and catalyst composition for use therein

Номер патента: US9856187B2. Автор: Larry L. Iaccino,Wenyih F. Lai,Jane C. Cheng,Christopher M. Evans,Jeremy W. Bedard. Владелец: ExxonMobil Chemical Patents Inc. Дата публикации: 2018-01-02.

Process for conversion of acyclic c5 compounds to cyclic c5 compounds and catalyst composition for use therein

Номер патента: CA3004316C. Автор: Larry L. Iaccino,Wenyih F. Lai,Jane C. Cheng,Christopher M. Evans,Jeremy W. Bedard. Владелец: ExxonMobil Chemical Patents Inc. Дата публикации: 2019-12-31.

Process for conversion of acyclic c5 compounds to cyclic c5 compounds and catalyst composition for use therein

Номер патента: CA3004316A1. Автор: Larry L. Iaccino,Wenyih F. Lai,Jane C. Cheng,Christopher M. Evans,Jeremy W. Bedard. Владелец: ExxonMobil Chemical Patents Inc. Дата публикации: 2017-05-11.

Methods and compositions for using activated lymphocytes in the treatment of disease

Номер патента: CA3227891A1. Автор: Ivan Petrov,Aladar A. Szalay,Ignazio Caruana,Elena Ekrami. Владелец: Immunolux International Corp. Дата публикации: 2023-02-02.

Methods and compositions for using activated lymphocytes in the treatment of disease

Номер патента: EP4376863A1. Автор: Ivan Petrov,Aladar A. Szalay,Ignazio Caruana,Elena Ekrami. Владелец: Immunolux International Corp. Дата публикации: 2024-06-05.

CHEMICAL ASSOCIATION CONTAINING SULPHONIC ACID GROUPS FOR USE AS AND IN THE PREPARATION OF SURFACTIVE SUBSTANCES AND FOR USE IN THE PREPARATION OF POLYMERS

Номер патента: SE406909B. Автор: G Swift,W D Emmons. Владелец: Rohm & Haas. Дата публикации: 1979-03-05.

System and process for the treatment of raw material

Номер патента: WO2009064204A2. Автор: Christopher Francis Bathurst. Владелец: Solray Energy Limited. Дата публикации: 2009-05-22.

Integrally Combined Current Carrier Circulation Chamber and Frame for Use in Unipolar Electrochemical Devices

Номер патента: US20240035176A1. Автор: Andrew T. B. Stuart,Raynald G. LaChance,Jaideep S. Spal,Samantha E. L. Stuart,Edward D. B. Stuart. Владелец: Key DH IP Inc. Дата публикации: 2024-02-01.

Spirofuranone compounds, derivatives thereof and processes for their preparation

Номер патента: WO2016120879A1. Автор: Dmitry TSVELIKHOVSKY,Avi PRIEL. Владелец: YISSUM RESEARCH DEVELOPMENT COMPANY OF THE HEBREW UNIVERSITY OF JERUSALEM LTD. Дата публикации: 2016-08-04.

Spirofuranone compounds, derivatives thereof and processes for their preparation

Номер патента: US10392338B2. Автор: Dmitry TSVELIKHOVSKY,Avi PRIEL. Владелец: Yissum Research Development Co of Hebrew University of Jerusalem. Дата публикации: 2019-08-27.

Systems and methods for ex-vivo organ care and for using lactate as an indication of donor organ status

Номер патента: CA2685302A1. Автор: Waleed Hassanein,Tamer Khayal,Paul Lezberg,Ahmed Elbetanony,Giovanni Cecere,Dennis Sousa,Elizabeth Hansen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-12-11.

Certain steroids and methods for using the same in the treatment of cancer

Номер патента: US09676813B2. Автор: Xiangping Qian. Владелец: Neupharma Inc. Дата публикации: 2017-06-13.

COMPOSITION AND PROCESS OF MAKING AN AMINO SILICONE BASED DELAYED ANTIFOAM FOR USE IN LAUNDRY DETERGENT

Номер патента: US20170198239A1. Автор: Paul Amit Kumar. Владелец: WACKER METROARK CHEMICALS PVT. LTD.. Дата публикации: 2017-07-13.

System and process with assisted gas flow inside a reaction chamber

Номер патента: US20210402365A1. Автор: Lu Yang,Yan Wang,Liang-Yuh Chen. Владелец: Ejoule International Ltd. Дата публикации: 2021-12-30.

Process for obtaining high efficiency human albumin for use in detoxification therapy

Номер патента: AU2008243225B2. Автор: Pere Ristol Debart,Juan Ignacio Jorquera Nieto,Montserrat Costa Rierola. Владелец: Grifols SA. Дата публикации: 2011-09-08.

Systems and methods for ex-vivo organ care and for using lactate as an indication of donor organ status

Номер патента: CA2937022C. Автор: Waleed Hassanein,Tamer Khayal,Paul Lezberg,Ahmed Elbetanony,Giovanni Cecere,Dennis Sousa,Elizabeth Hansen. Владелец: TransMedics Inc. Дата публикации: 2018-11-20.

Alotaketal compounds and derivatives thereof for use as antiviral agents

Номер патента: WO2023173232A1. Автор: David Williams,Raymond Andersen,Francois Jean,Polina BLAGOJEVIC,Jimena PEREZ VARGAS. Владелец: The University of British Columbia. Дата публикации: 2023-09-21.

Composition and process for selectively etching a hard mask and/or an etch-stop layer in the presence of layers of low-k materials, copper, cobalt and/or tungsten

Номер патента: EP4245834A3. Автор: Andreas Klipp,Jhih Jheng KE,Joannes Theodorus Valentinus Hoogboom,Che Wei Wang,Chia Ching Ting. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2023-12-20.

Phenanthrene derivatives for use as medicaments

Номер патента: WO2014091020A1. Автор: Jose Ruben Tormo Beltran,Rubén ARTERO ALLEPUZ,Manuel Pérez Alonso,Irma García Alcover,Arturo López Catel,María del Carmen Álvarez Abril,Diego Miguel Cortés Martínez. Владелец: Valentia Biopharma. Дата публикации: 2014-06-19.

Composition and process for selectively etching a hard mask and/or an etch-stop layer in the presence of layers of low-k materials, copper, cobalt and/or tungsten

Номер патента: EP4245834A2. Автор: Andreas Klipp,Jhih Jheng KE,Joannes Theodorus Valentinus Hoogboom,Che Wei Wang,Chia Ching Ting. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2023-09-20.

Phenanthrene derivatives for use as medicaments

Номер патента: EP2931374A1. Автор: Jose Ruben Tormo Beltran,Rubén ARTERO ALLEPUZ,Manuel Pérez Alonso,Irma García Alcover,Arturo López Catel,María del Carmen Álvarez Abril,Diego Miguel Cortés Martínez. Владелец: Valentia Biopharma. Дата публикации: 2015-10-21.

Compositions and processes for the extraction of metals using non-aqueous solvents

Номер патента: CA3232691A1. Автор: Robert Harris,Gawen JENKIN. Владелец: Argo Natural Resources Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Compositions and processes for the extraction of metals using non-aqueous solvents

Номер патента: EP4409046A1. Автор: Robert Harris,Gawen JENKIN. Владелец: Argo Natural Resources Ltd. Дата публикации: 2024-08-07.

Conformationally restricted biphenyl derivatives for use as hepatitis c virus inhibitors

Номер патента: CA2715550C. Автор: Carol Bachand,Makonen Belema,Daniel H. Deon,Andrew C. Good,Jason Goodrich,Clint A. James,Rico Lavoie,Omar D. Lopez,Alain Martel,Nicholas A. Meanwell,Van N. Nguyen,Jeffrey Lee Romine,Edward H. Ruediger,Lawrence B. Snyder,Denis R. St. Laurent,Fukang Yang,David R. Langley,Gan Wang,Lawrence G. Hamann. Владелец: Bristol Myers Squibb Co. Дата публикации: 2016-09-20.

PROCEDURE FOR THE PPOLYMERIZATION OR COPOLYMERIZATION OF ETHENE, ARTICLES CONTAINING WHOLLY OR PARTLY OF A POLYMER OR COPOLYMER SO OBTAINED, AND PROCESS FOR PREPARING A CATALYST MIXTURE OR COPOLYMER MIXED FOR USE FOR USE.

Номер патента: NL152269B. Автор: . Владелец: Mitsui Petrochemical Ind. Дата публикации: 1977-02-15.

BITUMEN CONCRETE MIXTURE OR OPEN BITUMEN-CONTAINING MIXTURE, IN PARTICULAR FOR USE IN HYDRAULIC ENGINEERING, THE PROCESS FOR ITS MANUFACTURING AND ITS USE

Номер патента: DE2511593A1. Автор: Victorien Lelu. Владелец: Shell Internationale Research Maatschappij BV. Дата публикации: 1975-09-25.

Monocarboxylate transporter 4 (MCT4) antisense oligonucleotide (ASO) inhibitors for use as therapeutics in the treatment of cancer

Номер патента: AU2016363683B2. Автор: Yuzhuo Wang,Stephen Yiu Chuen CHOI. Владелец: University of British Columbia. Дата публикации: 2023-04-27.

Monocarboxylate transporter 4 (mct4) antisense oligonucleotide (aso) inhibitors for use as therapeutics in the treatment of cancer

Номер патента: WO2017091885A8. Автор: Hui Xue,Colin C. Collins,Martin E. Gleave,Peter Wilhelm Gout,Yuzhuo Wang,Stephen Yiu Chuen CHOI. Владелец: The University of British Columbia. Дата публикации: 2018-06-07.

Self-assembled monolayers and methods for using the same in biosensing applications

Номер патента: US9829487B2. Автор: Thomas Fisher,Rebecca Y. Lai,Patrick H. Dussault,Anita J. Zaitouna. Владелец: NuTech Ventures Inc. Дата публикации: 2017-11-28.

Self-assembled monolayers and methods for using the same in biosensing applications

Номер патента: US20120315625A1. Автор: Thomas Fisher,Rebecca Y. Lai,Patrick H. Dussault,Anita J. Zaitouna. Владелец: University of Nebraska. Дата публикации: 2012-12-13.

Use of il-17 in the treatment of fertility-related disorders

Номер патента: EP1765083A2. Автор: David Kagan,Stephen S. Palmer,Ann M. Clark. Владелец: Applied Research Systems ARS Holding NV. Дата публикации: 2007-03-28.

Self-assembled monolayers and methods for using the same in biosensing applications

Номер патента: US20160047803A1. Автор: Thomas Fisher,Rebecca Y. Lai,Patrick H. Dussault,Anita J. Zaitouna. Владелец: NuTech Ventures Inc. Дата публикации: 2016-02-18.

Self-assembled monolayers and methods for using the same in biosensing applications

Номер патента: US9079835B2. Автор: Thomas Fisher,Rebecca Y. Lai,Patrick H. Dussault,Anita J. Zaitouna. Владелец: NuTech Ventures Inc. Дата публикации: 2015-07-14.

Method for using antimicrobial polymers for the protection of building and monuments

Номер патента: US20040024082A1. Автор: Peter Ottersbach,Beate Kossmann. Владелец: Creavis Gesellschaft fuer Technologie und Innovation mbH. Дата публикации: 2004-02-05.

Monocarboxylate transporter 4 (mct4) antisense oligonucleotide (aso) inhibitors for use as therapeutics in the treatment of cancer

Номер патента: EP3384028A1. Автор: Yuzhuo Wang,Stephen Yiu Chuen CHOI. Владелец: University of British Columbia. Дата публикации: 2018-10-10.

Process for the selective blocking of the amino AMINOCYCLITOLAMINOGLYCOSIDER GROUPS AND SELECTIVE amine blocked AMINOCYCLITOLAMINOGLYCOSIDER, which may be prepared by the process, for use as intermediates in the preparation of 1-N-substituted derivatives of 4,6-di-O-) aminoglycosyl) -1,3-DIAMINOCYCLITOLER

Номер патента: DK165451B. Автор: Alan Cooper,Tattanahalli Laksh Nagabhushan,William Nelson Turner. Владелец: Scherico Ltd. Дата публикации: 1992-11-30.

Process for producing ethylene-vinyl ester copolymers, ethylene-vinyl alcohol copolymers, and process for producing shaped articles therefrom

Номер патента: US5352750A. Автор: Katsumi Shimizu,Takanori Kitamura,Fumio Nakahara,Akimasa Aoyama,Takeshi Moritani,Hisamichi Yanai. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 1994-10-04.

Ammonia recovery in the preparation of silazanes and polysilazanes

Номер патента: CA2502518C. Автор: Gary J. Knasiak. Владелец: CLARIANT INTERNATIONAL LTD. Дата публикации: 2008-08-12.

Methods and compositions for using activated lymphocytes in the treatment of disease

Номер патента: AU2022317540A1. Автор: Ivan Petrov,Aladar A. Szalay,Ignazio Caruana,Elena Ekrami. Владелец: Immunolux International Corp. Дата публикации: 2024-02-15.

Methods and compositions for using activated lymphocytes in the treatment of disease

Номер патента: AU2022317540A8. Автор: Ivan Petrov,Aladar A. Szalay,Ignazio Caruana,Elena Ekrami. Владелец: Immunolux International Corp. Дата публикации: 2024-03-14.

Method for the production of ultrapure phosphorus by zone melting in a non-flammable environment, and the apparatus used in such method

Номер патента: US20110212405A1. Автор: Zhen Zhang,Xiaoping Wang,Xiaojin He,Yongli Mi. Владелец: DONGYING JIEDA CHEMICAL TECHNOLOGY CO LTD. Дата публикации: 2011-09-01.

A novel Hansenula polymorpha gene coding for ?1,6- mannosyltransferase and process for the production of recombinant glycoproteins with Hansenula polymorpha mutant strain deficient in the same gene

Номер патента: KR100604994B1. Автор: 이상기,강현아,김무웅,허주형. Владелец: 한국생명공학연구원. Дата публикации: 2006-07-26.

A novel Hansenula polymorpha gene coding for dolichyl-phosphate-mannose dependent ?-1,3-mannosyltransferase and process for the production of recombinant glycoproteins with Hansenula polymorpha mutant strain deficient in the same gene

Номер патента: KR101105718B1. Автор: 이상기,강현아,김무웅,허주형,김은중,박정석,문혜연,오두병. Владелец: 한국생명공학연구원. Дата публикации: 2012-01-17.

A novel hansenula polymorpha gene coding for dolichyl-phosphate-mannose dependent alpha-1,3-mannosyltransferase and process for the production of recombinant glycoproteins with hansenula polymorpha mutant strain deficient in the same gene

Номер патента: WO2007049925A1. Автор: Eun Jung Kim,Hyun Ah Kang,Jeong Seok Park,Moo Woong Kim,Hye Yun Moon,Doo Byoung Oh,Joo Hyung Heo,Sang Ki Rhee. Владелец: Korea Research Institute of Bioscience and Biotechnology. Дата публикации: 2007-05-03.

Production of binder liquor from tannin-containing bark, for use e.g. in the production of fiberboard, involves pulping bark in hot aqueous medium with ground, used fiberboard containing amino-resin binder

Номер патента: DE10017524A1. Автор: Edmone Roffael,Esther Roffael. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-10-18.

3-HALOGEN-6-HYDROXY-2H-PYRANE-3 (6H) -ON COMPOUNDS FOR USING SOME INTERMEDIATES IN THE PRODUCTION OF GAMMA PYRONS AND PROCEDURES FOR THE PRODUCTION OF INTERMEDIATE PRODUCTS

Номер патента: DK326086D0. Автор: Thomas Mott Brennan,Daniel Patrick Brannegan,Paul Douglas Weeks,Donald Ernest Kuhla. Владелец: Pfizer. Дата публикации: 1986-07-09.

4-halogen-6-hydroxy-2H-pyran-3(6H)-one compounds for use as intermediates in the preparation of gamma-pyrones and method for preparation of the intermediate compounds

Номер патента: DK153401B. Автор: Thomas Mott Brennan,Daniel Patrick Brannegan,Paul Douglas Weeks,Donald Ernest Kuhla. Владелец: Pfizer. Дата публикации: 1988-07-11.

A novel hansenula polymorpha gene coding for dolichyl-phosphate-mannose dependent alpha-1,3-mannosyltransferase and process for the production of recombinant glycoproteins with hansenula polymorpha mutant strain deficient in the same gene

Номер патента: EP1941042A4. Автор: Eun Jung Kim,Hyun Ah Kang,Jeong Seok Park,Moo Woong Kim,Hye Yun Moon,Doo Byoung Oh,Joo Hyung Heo,Sang Ki Rhee. Владелец: Korea Research Institute of Bioscience and Biotechnology KRIBB. Дата публикации: 2009-08-05.

Novel Hansenula Polymorpha Gene Coding for Alpha 1,6-Mannosyltransferase and Process for the Production of Recombinant Glycoproteins with Hansenula Polymorpha Mutant Strain Deficient in the Same Gene

Номер патента: US20080305525A1. Автор: Sang-Ki Rhee,Hyun-Ah Kang,Joo Hyung Heo,Moo-Woong Kim. Владелец: Korea Research Institute of Bioscience and Biotechnology KRIBB. Дата публикации: 2008-12-11.

Process for producing a glucuronide and genetically modified microorganisms useful in this process

Номер патента: US12018307B2. Автор: Jixun Zhan. Владелец: Utah State University USU. Дата публикации: 2024-06-25.

Methods for Using Synthetic Triterpenoids in the Treatment of Bone or Cartilage Diseases or Conditions

Номер патента: US20130089526A1. Автор: Gribble Gordon W.,SPORN Michael B.,Suh Nanjoo,Medici Damian,Robey Pamela Gehron,Lyby Karen T.. Владелец: . Дата публикации: 2013-04-11.

MONOCARBOXYLATE TRANSPORTER 4 (MCT4) ANTISENSE OLIGONUCLEOTIDE (ASO) INHIBITORS FOR USE AS THERAPEUTICS IN THE TREATMENT OF CANCER

Номер патента: US20190010492A1. Автор: Wang Yuzhuo,Choi Stephen Yiu Chuen. Владелец: . Дата публикации: 2019-01-10.

METHODS FOR USING SYNTHETIC TRITERPENOIDS IN THE TREATMENT OF BONE OR CARTILAGE DISEASES OR CONDITIONS

Номер патента: US20140377235A1. Автор: Gribble Gordon W.,SPORN Michael B.,LIBY Karen T.,Suh Nanjoo,Medici Damian,Robey Pamela Gehron. Владелец: . Дата публикации: 2014-12-25.

METHODS AND COMPOSITIONS FOR USING HAPLOID PLANTS IN THE GENETIC MAPPING OF CHARACTERISTICS, AS A RESISTANCE TO DISEASES

Номер патента: AR071243A1. Автор: Donald Bockelman,T Carlson,M Kerns,J Peters Jeffrey,K Grote,Samuel Eathington,G Holland,K Cook,R Weyhrich,S Walker,G Pozar,D Butruille,Travis J Frey,Laron Peters,T Frey D Bockelman,H Jia. Владелец: MONSANTO TECHNOLOGY LLC. Дата публикации: 2010-06-09.

Vascular endothelial cell growth factor antagonists for use as medicaments in the treatment of age-related macular degeneration

Номер патента: IL117645A. Автор: . Владелец: Genentech Inc. Дата публикации: 2005-08-31.

Process for dispersing oil stains on water and a dispersant for use in carrying out the process.

Номер патента: DK139811B. Автор: Gerard P Canevari. Владелец: Exxon Research Engineering Co. Дата публикации: 1979-04-23.

NITROGEN COMPOUNDS FOR USE AS CATALYSTS IN THE SYNTHESIS OF POLYURETHANNES

Номер патента: FR2332975A1. Автор: . Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 1977-06-24.

NITROGEN URETHAN COMPOUNDS FOR USE AS CATALYSTS IN THE SYNTHESIS OF POLYURETHANNES

Номер патента: FR2332978A1. Автор: . Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 1977-06-24.

Methods for using synthetic triterpenoids in the treatment of bone or cartilage diseases or conditions

Номер патента: US8921340B2. Автор: Michael B. Sporn,Karen T. Liby,Gordon W. Gribble,Nanjoo Suh,Damian Medici,Pamela Gehron Robey. Владелец: US Department of Health and Human Services. Дата публикации: 2014-12-30.

Process for the manufacture of thermoplastics having an adjustable lifetime, mixing of additives for use in carrying out the process and thermoplastics so produced.

Номер патента: NO324545B1. Автор: Ferdinand MÄNNLE,Kåre Roger Rødseth,Roger P Hauge,Emil Arne Kleppe. Владелец: Nor X Industry As. Дата публикации: 2007-11-19.

Process for using protective layers in the fabrication of electronic devices

Номер патента: AU2003287660A8. Автор: Young H Kim. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2004-06-15.

Heteroaryl compounds for use as betamimetics in the treatment of respiratory diseases

Номер патента: AU2005286521B2. Автор: Philipp Lustenberger,Andreas Schnapp,Ingo Konetzki,Thierry Bouyssou,Christoph Hoenke,Enzo Cereda. Владелец: BOEHRINGER INGELHEIM INTERNATIONAL GMBH. Дата публикации: 2011-11-17.

ethylene cleaning material suitable for use in packaging and the process for its manufacture

Номер патента: BR112019000105A2. Автор: Heiskanen Isto,Backfolk Kaj,Saukkonen Esa,Siitonen Simo,Lampainen Seppo,Andersson Marianne. Владелец: STORA ENSO OYJ. Дата публикации: 2019-04-09.

QUINOLINE DERIVATIVES FOR USE AS INTERMEDIATES IN THE PREPARATION OF 6,7-DIALCOXY-4-OXY-QUINOLIN-3-CARBOXYL ACID ESTERS

Номер патента: NO145788B. Автор: Eva Somfai,Zoltan Meszaros,Andras Kelemen,Judit Frank,Ivan Dozsa. Владелец: Chinoin Gyogyszer Es Vegyeszet. Дата публикации: 1982-02-22.

Composition and process for making a plastic resin

Номер патента: CA1237243A. Автор: Robert A. Smith,Dennis B. Patterson. Владелец: Goodyear Tire and Rubber Co. Дата публикации: 1988-05-24.

Process for homogenizing a stream of molten glass and a furnace for use in carrying out the process.

Номер патента: DK107892C. Автор: . Владелец: Glaverbel. Дата публикации: 1967-07-17.

2- (2-OXOAZETIDIN-1-YL) -CROTONIC ACID COMPOUNDS FOR USE AS INTERMEDIATES IN THE PREPARATION OF 7BETA-AMINO-3-CEPHEM COMPOUNDS

Номер патента: DK167278B1. Автор: Robert Burns Woodward,Hans Bickel. Владелец: Ciba Geigy AG. Дата публикации: 1993-10-04.

Recombinant-defective viral genomic vectors and methods for using these vectors in the formulation of vaccines

Номер патента: KR100360327B1. Автор: 산체즈 루이스 엔후아네스,듀란 후안 플라나,빌라뉴에바 사라 알론소,하레뇨 마 루이사 발레스테로스,카스트릴론 호아퀸 카스틸라,마르티네즈 호세 마뉴엘 곤잘레즈,파르메산 안데르 이제타,준주네구이 안나 멘데즈,사엔즈 마리아 문티온,졸탄 펜제스,모르가도 호세 마뉴엘 산체즈,산체즈 카를로스 미구엘 산체즈,피카조 크리스티안 스메르도우,구르페구이 이사벨 솔라. Владелец: 사이아나미드 이베리카, 에스.에이.. Дата публикации: 2003-03-28.

METHOD AND DEVICE FOR USING ALTERNATIVE FUELS IN THE PRODUCTION OF CLINKER AND CEMENT

Номер патента: RU2008109004A. Автор: Урс ГАССЕР,Эдилберто Л. ТАДУЛАН,Урс ГАССЕР (CH),Эдилберто Л. ТАДУЛАН (PH). Владелец: Хольцим Текнолоджи Лтд. (Ch). Дата публикации: 2009-09-20.

Ketals of 3,5,17-trioxo-13beta-alkyl-4,5-secogonanes for use as intermediates in the preparation of 19-nor-steroids.

Номер патента: DK136115B. Автор: Julien Warnant,Robert Joly,Jean Jolly. Владелец: Roussel Uclaf. Дата публикации: 1977-08-15.

Ethers for use as intermediates in the preparation of 16-phenoxy and 16-substituted phenoxy-prostatrienoic acid derivatives

Номер патента: NZ213749A. Автор: G F Cooper. Владелец: Syntex Inc. Дата публикации: 1989-01-06.

Process for the preparation of hydrocarbon oils with improved aging stability, as well as mixing for use in carrying out the process.

Номер патента: DK115859B. Автор: Int Res Maatschappij Nv Shell. Владелец: Shell Int Research. Дата публикации: 1969-11-17.

TIOFENDER DERIVATIVES FOR USE AS INTERMEDIATE IN THE PREPARATION OF THERAPEUTIC ACTIVE AMINOAL COOLESTERS OF ALFA-SUBSTITUTED (3-TIENYL) ACETIC ACID

Номер патента: NO142399C. Автор: Claude Grain,Charles Pigerol,Paul De Cointet De Fillain,Jacques Le Blay. Владелец: Labaz. Дата публикации: 1980-08-13.

Process for using protective layers in the fabrication of electronic devices

Номер патента: WO2004047166A2. Автор: Young H. Kim. Владелец: E.I. Du Pont De Nemours and Company. Дата публикации: 2004-06-03.

Composition and process for selectively etching a hard mask and/or an etch-stop layer in the presence of layers of low-k materials, copper, cobalt and/or tungsten

Номер патента: WO2020234395A1. Автор: Andreas Klipp,Jhih Jheng KE,Joannes Theodorus Valentinus Hoogboom,Che Wei Wang,Chia Ching Ting. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2020-11-26.

Compositions and processes for the extraction of metals using non-aqueous solvents

Номер патента: AU2022351262A1. Автор: Robert Harris,Gawen JENKIN. Владелец: Argo Natural Resources Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Method for manufacturing a 5ni steel plate with a low remanence and an excellent surface quality to be used in a ship

Номер патента: US20240344160A1. Автор: Yu Meng,JUN Gao,Jun Liu,Yun Bai,Xiaohong XU,Guozhong LI,Buqiang HAN,Liang Gao,Pifeng Miao,Zhaoxia Liu,Shuquan Liao,Sha Lu,Yonghao ZHOU,Jinming Wu,Menglong DI. Владелец: Jiangyin Xingcheng Special Steel Works Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Masterbatch and process for the preparation of cationic dyeable polyester / copolyester filaments or fibers and use of the process

Номер патента: DE102006043888A1. Автор: Ahmet Celalettin Turan,Werner Stibal,Rudolf Guggemos,Ingolf Kulesa. Владелец: Uhde Inventa Fischer GmbH. Дата публикации: 2008-03-27.

PROCESS FOR OBTAINING LIQUID GEOPOLYMER RESINS READY FOR USE AND PRODUCTS MADE BY THE PROCESS

Номер патента: FR2838733B1. Автор: Joseph Davidovits. Владелец: Cordi-Geopolymere SA. Дата публикации: 2004-06-25.

Substrate processing baffle, substrate processing apparatus including the same, and processing apparatus fabrication method

Номер патента: US20240175629A1. Автор: Kuntack Lee,Ji Hwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-30.

Passive gas flow management and filtration device for use in an excimer or transverse discharge laser

Номер патента: EP1649567A4. Автор: Brian Bliven,David Turnquist. Владелец: Visx Inc. Дата публикации: 2007-10-10.

Passive gas flow management and filtration device for use in an excimer or transverse discharge laser

Номер патента: WO2005018059A2. Автор: Brian Bliven,David Turnquist. Владелец: Visx, Incorporated. Дата публикации: 2005-02-24.

Passive gas flow management and filtration device for use in an excimer or transverse discharge laser

Номер патента: EP1649567A2. Автор: Brian Bliven,David Turnquist. Владелец: Visx Inc. Дата публикации: 2006-04-26.

Passive gas flow management and filtration device for use in an excimer or transverse discharge laser

Номер патента: EP1649567B1. Автор: Brian Bliven,David Turnquist. Владелец: AMO Manufacturing USA LLC. Дата публикации: 2009-06-03.

System and process for a fusion classification for insurance underwriting suitable for use byan automated system

Номер патента: WO2004099946A3. Автор: Piero Patrone Bonissone,Anindya Chakraborty,Naresh Sundaram Iyer,Rajesh Venkat Subbu,Weizhong Yan,Kareem Sherif Aggour. Владелец: Kareem Sherif Aggour. Дата публикации: 2009-04-02.

System and process for a fusion classification for insurance underwriting suitable for use byan automated system

Номер патента: WO2004099946A2. Автор: Piero Patrone Bonissone,Anindya Chakraborty,Naresh Sundaram Iyer,Rajesh Venkat Subbu,Weizhong Yan,Kareem Sherif Aggour. Владелец: Ge Financial Assurance Holdings, Inc.. Дата публикации: 2004-11-18.

Micropatterning technique for creating morphologically specific free-floating structures for use as standards in the pharmaceutical industry

Номер патента: EP3426220A1. Автор: Robert James SCHULTHEIS,Frederick Talley GERTZ. Владелец: Zebrasci Inc. Дата публикации: 2019-01-16.

Chlorine dioxide generation from chlorate and sulphamic acid for use as disinfectant in the presence of copper surfaces

Номер патента: GB2332148A. Автор: Maqsood Fazel,Noel Stuart James Christopher,John David Squire,Jim Scott Robinson. Владелец: Houseman Ltd. Дата публикации: 1999-06-16.

Methods for using kukharev regions in the atmosphere, in space, and at the level of the earth's surface to obtain antimatter

Номер патента: US20220139589A1. Автор: Vadim Kukharev. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-05-05.

Illumination device and method for using the same in the projection lithography machine

Номер патента: US09804502B2. Автор: YING Wang,Yunbo Zhang,Huijie Huang,Aijun ZENG,Mingxing Chen. Владелец: Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics of CAS. Дата публикации: 2017-10-31.

Steroid-Derived Cyclopamine Analogs and Methods for Using the Same in the Prevention or Treatment of Cancer

Номер патента: US20100298281A1. Автор: Nadia Dahmane,Jeffrey D. Winkler. Владелец: Wistar Institute of Anatomy and Biology. Дата публикации: 2010-11-25.

A food supplement for use as coadjuvant in the prevention and treatment of cognitive decline associated with alzheimer disease

Номер патента: CA3217534A1. Автор: Francesco Bonomo,Maria Cristina DEL BONO. Владелец: Cristalfarma SRL. Дата публикации: 2022-11-17.

A food supplement for use as coadjuvant in the prevention and treatment of cognitive decline associated with alzheimer disease

Номер патента: EP4337029A1. Автор: Francesco Bonomo,Maria Cristina DEL BONO. Владелец: Cristalfarma SRL. Дата публикации: 2024-03-20.

A food supplement for use as coadjuvant in the prevention and treatment of cognitive decline associated with alzheimer disease

Номер патента: WO2022238793A1. Автор: Francesco Bonomo,Maria Cristina DEL BONO. Владелец: CRISTALFARMA S.R.L.. Дата публикации: 2022-11-17.

A food supplement for use as coadjuvant in the prevention and treatment of cognitive decline associated with alzheimer disease

Номер патента: US20240285713A1. Автор: Francesco Bonomo,Maria Cristina DEL BONO. Владелец: Cristalfarma SRL. Дата публикации: 2024-08-29.

Slide rule for use inter alia in the interpretation of gas- chromatograms

Номер патента: GB1402412A. Автор: . Владелец: Magyar Asvanyolaj es Foldgaz Kiserleti Intezet. Дата публикации: 1975-08-06.

Gas supply unit, substrate processing apparatus and supply gas setting method

Номер патента: US09441791B2. Автор: Kenetsu Mizusawa,Keiki Ito,Masahide Itoh. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-13.

Substrate processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220068658A1. Автор: Yasutaka HAMA,Shu Kino,Motoki NORO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20200144052A1. Автор: Gentaro Goshi,Keisuke Egashira. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-07.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US09607867B2. Автор: Yuji Kajihara. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Fuel and process for powering a compression ignition engine

Номер патента: US09447724B2. Автор: Greg Morris,Michael John Brear,Ronald Andrew Slocombe. Владелец: Gane Energy and Resources Pty Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Removing metal contamination from surfaces of a processing chamber

Номер патента: US11842888B2. Автор: Seongjun Heo,Samantha SiamHwa Tan,Jengyi Yu,Ge YUAN,Siva Krishnan Kanakasabapathy. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-12-12.

Removing metal contamination from surfaces of a processing chamber

Номер патента: US20240112896A1. Автор: Seongjun Heo,Samantha SiamHwa Tan,Jengyi Yu,Ge YUAN,Siva Krishnan Kanakasabapathy. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-04-04.

Substrate processing apparatus, processing gas concentrating apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20220372623A1. Автор: Muneo Harada,Tsuneyuki Okabe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-11-24.

Discharge method, discharge system and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20230052781A1. Автор: Daesoo Kim,Jimin CHOI. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-16.

Microwave apparatus for in-situ vacuum line cleaning for substrate processing equipment

Номер патента: US6045618A. Автор: Tsutomu Tanaka,David Cheung,Hari Ponnekanti,Kevin Fairbairn,Sebastien Raoux,Mukul Kelkar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-04-04.

Method for management of cell processing process, and processing tool kit therefor

Номер патента: SG146546A1. Автор: Minoru Takahashi,Osamu Honmou,Tetsuya Tsubokura,Daisuke Iwayama,Tetsu Kayahana. Владелец: Hitachi Plant Technologies Ltd. Дата публикации: 2008-10-30.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220285166A1. Автор: Takumi Honda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

System and process for preheating raw material in the production of ferrochrome products

Номер патента: WO2023170622A1. Автор: Benjamin Thomas DU PLESSIS,Donald Bruce GRANT. Владелец: Samancor Chrome Limited. Дата публикации: 2023-09-14.

Heating plate with heating zones for substrate processing and method of use thereof

Номер патента: US09646861B2. Автор: Harmeet Singh,Neil Benjamin,Keith Comendant,Keith Gaff. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-05-09.

Group 8 transition metal catalysts and method for making same and process for use of same in metathesis reaction

Номер патента: RU2674471C2. Автор: К. ВЕРПУРТ Франсис В.. Владелец: Гуан Мин Инновейшн Компани (Ухань). Дата публикации: 2018-12-11.

Method of substrate processing

Номер патента: RU2436882C2. Автор: Гэри П. ФАДЖИТТ,Террелл Дж. ГРИН,Скотт Э. ДЖИНТЕР,Джон У. СТОЛАРЗ,Роберт У. КАРЛСОН,Стенли Х. мл. МАКГРЮ,Стивен П. МЕЦЛЕР. Владелец: Мидвествако Корпорейшн. Дата публикации: 2011-12-20.

Method for increasing concentration of sulfuric acid and equipment for use in this method

Номер патента: RU2762755C2. Автор: Мартин МЁЛЛЕРХОЙ. Владелец: ХАЛЬДОР ТОПСЕЭ А/С. Дата публикации: 2021-12-22.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09818600B2. Автор: Takayuki Sato. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-14.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240014011A1. Автор: Hyun Kim,Kang Hee KIM,Yong Taek Eom. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Substrate processing apparatus, substrate processing module, and semiconductor device fabrication method

Номер патента: US20210148760A1. Автор: Jongwoo SUN,Hyung Joo Lee,Kyeonghun KIM,Jeongil MUN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-05-20.

Substrate processing apparatus and maintenance method thereof

Номер патента: US09613837B2. Автор: Ken Horiuchi,Koji Ando,Shigeru Senzaki,Michishige Saito,Shingo Koiwa,Daiki Satoh. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-04.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240234183A1. Автор: Naofumi Ohashi,Teruo Yoshino,Tadashi Takasaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240234093A1. Автор: Sejin Oh,Dougyong Sung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-11.

Cooling flow in substrate processing according to predicted cooling parameters

Номер патента: WO2024147966A1. Автор: Umesh Kelkar,Ala Moradian,Karthik Ramanathan,Orlando Trejo,Elizabeth Kathryn Neville. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-07-11.

Cooling flow in substrate processing according to predicted cooling parameters

Номер патента: US20240230189A1. Автор: Umesh Kelkar,Ala Moradian,Karthik Ramanathan,Orlando Trejo,Elizabeth Kathryn Neville. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240249956A1. Автор: Yohei Midorikawa,Ryo Kuwajima,Yohei NAKAGOMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate transport method and substrate processing system

Номер патента: US20230230862A1. Автор: Kiyoshi Suzuki,Koichi Miyashita,Hiroshi Hirose,Ryota Goto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-07-20.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US11967513B2. Автор: Naofumi Ohashi,Teruo Yoshino,Tadashi Takasaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-04-23.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230253221A1. Автор: Kaoru Sato,Hiromi Nitadori,Kiyohiko Gokon,Masato Kadobe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230253230A1. Автор: Kaoru Sato,Hiromi Nitadori,Kiyohiko Gokon,Masato Kadobe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Substrate processing apparatus, signal source device, method of processing material layer, and method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20190393017A1. Автор: Jae-Jin Shin,Gon-Jun KIM,Jae-Jik Baek,Sung-gil KANG,Min-seop PARK,In-hye JEONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-12-26.

Substrate processing apparatus, signal source device, method of processing material layer, and method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20230147992A1. Автор: Jae-Jin Shin,Gon-Jun KIM,Jae-Jik Baek,Sung-gil KANG,Min-seop PARK,In-hye JEONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-05-11.

Method of spectrometric determination of gas flow temperature

Номер патента: RU2686385C1. Автор: Станислав Михайлович Аксарин,Михаил Викторович Мехреньгин,Антон Валерьевич Сухинец,Игорь Касьянови Мешковский,Даниил Сергеевич Смирнов. Владелец: федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики" (Университет ИТМО). Дата публикации: 2019-04-25.

Substrate processing apparatus, plasma generation apparatus, method of processing substrate, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240096604A1. Автор: Kaoru Yamamoto,Yukinori Aburatani. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Workpiece processing system and processing method

Номер патента: US20160266575A1. Автор: Seiichi Asahara. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2016-09-15.

Reactor System for Producing and/or Treating Particles in an Oscillating Process Gas Flow

Номер патента: US20230294067A1. Автор: Michael Jacob,Frank Ohlendorf,Louis Friedrich,Arne TEIWES. Владелец: GLATT INGENIEURTECHNIK GMBH. Дата публикации: 2023-09-21.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220310361A1. Автор: Tsukasa Hirayama,Taku GOHIRA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-29.

Support information display method, maintenance support method of substrate processing apparatus, support information display control apparatus, substrate processing system and recording medium

Номер патента: US09810905B2. Автор: Hiroshi Nakamura,Toru Yamauchi,Toshiaki Kodama,Sensho Kobayashi,Kazuya Uoyama,Gaku Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-07.

Methods for low temperature conditioning of process chambers

Номер патента: US20110306186A1. Автор: David K. Carlson,Zhiyuan Ye,Errol Antonio C. Sanchez,Yi-Chiau Huang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2011-12-15.

Substrate processing device, and manufacturing method and process of semiconductor device capable of restraining an affection of heat to peripheral structures even though the temperature of a processing chamber is kept high for processing substrates

Номер патента: TW201727795A. Автор: Akira Takahashi,Kazuyuki Toyoda. Владелец: Hitachi Int Electric Inc. Дата публикации: 2017-08-01.

Process chamber for an additive manufacturing apparatus and method for operating the process chamber

Номер патента: US20240157648A1. Автор: Birk Hoppe,Karsten Neumann,Tobias SCHMITHÜSEN. Владелец: Nikon SLM Solutions AG. Дата публикации: 2024-05-16.

Compostions for use in the prophylactic treatment of hypocalcemia in a ruminant animal

Номер патента: WO2024125758A1. Автор: Per THEILGAARD. Владелец: Vilofoss A/S. Дата публикации: 2024-06-20.

Control method of temperature in heat regenerator used in energy accumulation plant by adiabatic air compression

Номер патента: RU2529967C2. Автор: Патрик КАНАЛЬ,Лионель НАДО. Владелец: Гдф Суэз. Дата публикации: 2014-10-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11915947B2. Автор: Koji Yamashita,Takumi Honda,Hironobu Hyakutake,Shinji Tahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Magnetic annealing tool heat exchange system and processes

Номер патента: US20080121634A2. Автор: John Billingham,Richard Jibb,Edward Duffy,Noel O'shaughnessy,Kevin Mcmahon,Peter Ferris. Владелец: Praxair Technology Inc. Дата публикации: 2008-05-29.

Magnetic annealing tool heat exchange system and processes

Номер патента: EP1964160A1. Автор: Richard John Jibb,John Fredric Billingham,Edward Duffy,Noel O'shaughnessy,Kevin Mcmahon,Peter Ferris. Владелец: Praxair Technology Inc. Дата публикации: 2008-09-03.

Magnetic annealing tool heat exchange system and processes

Номер патента: US20070125767A1. Автор: John Billingham,Richard Jibb. Владелец: Praxair Technology Inc. Дата публикации: 2007-06-07.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240173738A1. Автор: Junhee Choi,Yong Jun Kim,Tae-keun KIM,Kyeong Min Lee,Kang Sul KIM. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Workpiece processing system for carrying out sequential execution of process of workpiece in each process chamber by setting start time of process in each process chamber based on necessary processing duration specific to each chamber and necessary conveyance duration between the chambers

Номер патента: US09989959B2. Автор: Seiichi Asahara. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2018-06-05.

Adjustment apparatus for adjusting processing units provided in a substrate processing apparatus, and a substrate processing apparatus having such an adjustment apparatus

Номер патента: US09915938B2. Автор: Koichi Takeda,Takamasa Nakamura. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Method for recognizing and processing spam call

Номер патента: RU2765483C2. Автор: Мария Давидовна Горькова,Владимир Иосифович Горенштейн,Сергей Алексеевич Мацнев. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью «ИНТЕРКОННЕКТ». Дата публикации: 2022-01-31.

Nozzle, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20230185199A1. Автор: Yusuke Hashimoto,Hiroki Sakurai,Daisuke Goto,Nobuhiro Ogata,Kenji Yada,Yenrui Hsu,Shoki MIZUGUCHI,Kanta Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-15.

Nozzle, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US12007692B2. Автор: Yusuke Hashimoto,Hiroki Sakurai,Daisuke Goto,Nobuhiro Ogata,Kenji Yada,Yenrui Hsu,Shoki MIZUGUCHI,Kanta Mori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-11.

Predicting internal corrosion in gas flow lines using machine learning

Номер патента: US12038423B2. Автор: Mohammad S. Al-Qahtani,Fathi BuGubaia,Muhammad Sohaib Khan,Balakoteswara R. Koppuravuri,Sarafudheen M. Tharayil. Владелец: Saudi Arabian Oil Co. Дата публикации: 2024-07-16.

Fluid flow deflector assemblies for connection to sweep tail hoses of automatic swimming pool cleaners

Номер патента: EP2694759A1. Автор: Gerhardus J. Stoltz,Tommy Bloink. Владелец: ZODIAC POOL SYSTEMS LLC. Дата публикации: 2014-02-12.

Fluid flow deflector assemblies for connection to sweep tail hoses of automatic swimming pool cleaners

Номер патента: WO2012138412A1. Автор: Gerhardus J. Stoltz,Tommy Bloink. Владелец: Zodiac Pool Systems, Inc.. Дата публикации: 2012-10-11.

Gas flow and heat transfer apparatus

Номер патента: WO2021148792A1. Автор: Giacomo GORINI. Владелец: OXFORD UNIVERSITY INNOVATION LIMITED. Дата публикации: 2021-07-29.

Gas flow and heat transfer apparatus

Номер патента: EP4093547A1. Автор: Giacomo GORINI. Владелец: Oxford University Innovation Ltd. Дата публикации: 2022-11-30.

System and method for delivery of pressurised breathing gas flow in airway of subject using stochastic fluctuations

Номер патента: RU2584806C2. Автор: Самир АХМАД,Смита ГАРДЕ,Мабини АРКИЛЛА,Майкл Эдвард МЭДИСОН. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС ЭЛЕКТРОНИКС Н.В.. Дата публикации: 2016-05-20.

A thermal processing chamber and conveyor belt for use therein and method of processing product

Номер патента: CA2533223C. Автор: David K.Y. Auyoung. Владелец: AEROFREEZE SYSTEMS Inc. Дата публикации: 2009-07-07.

Baffle plate used in a disposable for a spray drying system

Номер патента: WO2024059765A1. Автор: Clair Strohl,Herman E. Snyder,William J. Merritt,Evan P. Ordway,Russell Barron,Robert R ANDREWS. Владелец: VELICO MEDICAL, INC.. Дата публикации: 2024-03-21.

Baffle plate used in a disposable for a spray drying system

Номер патента: US11913723B1. Автор: Clair Strohl,Herman E. Snyder,Robert R. Andrews,William J. Merritt,Evan P. Ordway,Russell Barron. Владелец: ZymeQuest Inc. Дата публикации: 2024-02-27.

Baffle Plate Used In A Disposable For A Spray Drying System

Номер патента: US20240110748A1. Автор: Clair Strohl,Herman E. Snyder,Robert R. Andrews,William J. Merritt,Evan P. Ordway,Russell Barron. Владелец: ZymeQuest Inc. Дата публикации: 2024-04-04.

Baffle Plate Used In A Disposable For A Spray Drying System

Номер патента: US20240159462A1. Автор: Clair Strohl,Herman E. Snyder,Robert R. Andrews,William J. Merritt,Evan P. Ordway. Владелец: ZymeQuest Inc. Дата публикации: 2024-05-16.

Solution processible materials and their use in electronic devices

Номер патента: WO2007136619A2. Автор: Frank P. Uckert,Charles D. MacPherson. Владелец: Uckert Frank P. Дата публикации: 2007-11-29.

Thermal gas-flow measuring instrument

Номер патента: US20070220968A1. Автор: Noboru Tokuyasu,Jun Kubo,Katsuaki Fukatsu,Kaori Kashio,Hiroshi Onuki,Daisuke Terada,Toshiki Otsuki. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2007-09-27.

Device for measuring a gas flow, and method for using the device

Номер патента: CA2104577C. Автор: Lennart Gustavsson,Anders Johansson. Владелец: ABB Flaekt AB. Дата публикации: 2001-10-23.

Throttle valve for substrate processing systems

Номер патента: WO2023229936A1. Автор: Andrew BORTH. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2023-11-30.

System for measuring content of dropping liquid in associated petroleum gas flow

Номер патента: RU2750790C1. Автор: Андрей Александрович Ефимов,Тимофей Викторович Нужнов. Владелец: Акционерное общество "ГМС Нефтемаш". Дата публикации: 2021-07-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240128101A1. Автор: Shinichi Umeno,Atsushi Anamoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-18.

Object graph traversal and processing

Номер патента: US20200050438A1. Автор: Grigoriy KESLER. Владелец: Intuit Inc. Дата публикации: 2020-02-13.

Object graph traversal and processing background

Номер патента: WO2018140591A1. Автор: Grigoriy KESLER. Владелец: INTUIT INC.. Дата публикации: 2018-08-02.

Methods for Semiconductor Process Chamber

Номер патента: US20240266149A1. Автор: Qi Wang,Akiteru Ko,Sergey Voronin,Hamed Hajibabaeinajafabadi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Methods for semiconductor process chamber

Номер патента: WO2024163137A1. Автор: Qi Wang,Akiteru Ko,Sergey Voronin,Hamed Hajibabaeinajafabadi. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2024-08-08.

Method for laser processing of metal material with control of transversal distribution of laser beam power in the working plane, including installation and computer software for method implementation

Номер патента: RU2746317C2. Автор: Мауризио СБЕТТИ. Владелец: Адиге С.П.А.. Дата публикации: 2021-04-12.

Measuring instrument of content of disperse phase in the gas flow

Номер патента: RU2644449C1. Автор: Марат Наильевич Ахлямов,Руслан Робертович Нигматов,Камиль Хакимович Ахмадеев. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "ПЛКГРУП". Дата публикации: 2018-02-12.

Pulse device to burn fuel (versions) and process of acoustic baking of microparticles (versions)

Номер патента: RU2135267C1. Автор: Н.Мансур Момтаз,Чандран Рави. Владелец: Мануфакчуринг Энд Текнолоджи Конвершн Интернэшнл, ИНК.. Дата публикации: 1999-08-27.

A calculating device for use in photographic printing operations

Номер патента: GB538696A. Автор: . Владелец: Sangamo Weston Ltd. Дата публикации: 1941-08-13.

Substrate processing apparatus and method for determining deterioration degree of conductive pipe

Номер патента: US11938500B2. Автор: Tadashi Iino. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-26.

Method and device for expansion of gas flow

Номер патента: RU2669062C2. Автор: КАМПФОРТ Крис ВАН,Кристоф Паскаль ЮБЕН. Владелец: АТЛАС КОПКО ЭРПАУЭР, НАМЛОЗЕ ВЕННОТСХАП. Дата публикации: 2018-10-08.

Gas flow control assembly for a gas-saving oxy/fuel cutting torch

Номер патента: US5383650A. Автор: Claude Bissonnette. Владелец: Individual. Дата публикации: 1995-01-24.

Seam sealing apparatus and process therefor

Номер патента: WO2003008181A3. Автор: Jay Thomas Fenton. Владелец: Gore Enterprise Holdings Inc. Дата публикации: 2003-09-18.

Seam sealing apparatus and process therefor

Номер патента: WO2003008181A2. Автор: Jay Thomas Fenton. Владелец: GORE ENTERPRISE HOLDINGS, INC.. Дата публикации: 2003-01-30.

Weak field stimulated skyrmion nucleation and manipulation for spintronic memory and processing devices

Номер патента: US20220366955A1. Автор: Binbin Wang,David McComb. Владелец: Ohio State Innovation Foundation. Дата публикации: 2022-11-17.

Weak field stimulated skyrmion nucleation and manipulation for spintronic memory and processing devices

Номер патента: US11990170B2. Автор: Binbin Wang,David McComb. Владелец: Ohio State Innovation Foundation. Дата публикации: 2024-05-21.

Systems and methods for ex-vivo organ care and for using lactate as an indication of donor organ status

Номер патента: US09894894B2. Автор: Waleed Hassanein,Tamer Khayal,Paul Lezberg,Ahmed Elbetanony,Giovanni Cecere,Dennis Sousa,Elizabeth Hansen. Владелец: TransMedics Inc. Дата публикации: 2018-02-20.

Device for multimodal analysis and processing of drilling fluid

Номер патента: RU2601279C2. Автор: РАПОПОРТ Ури. Владелец: Эспект Интернешнл (2015) Прайвит Лимитед. Дата публикации: 2016-10-27.

Signal generating process for use in engine control

Номер патента: US3818877A. Автор: C Barrera,F Zeisler. Владелец: Ford Motor Co. Дата публикации: 1974-06-25.

Method and system for removal of carbon dioxide from a process gas

Номер патента: CA2773931C. Автор: Sanjay Kumar Dube,David James Muraskin,Frederic Zenon Kozak,Sean Edward Black. Владелец: Alstom Technology AG. Дата публикации: 2014-08-05.

Ore flotation and mineral flotation agents for use therein

Номер патента: CA1310145C. Автор: Gary D. Macdonell,Kenneth B. Kimble,Harold Wayne Mark. Владелец: Phillips Petroleum Co. Дата публикации: 1992-11-10.

Method for blocking gas flow in a coal seam

Номер патента: US4065927A. Автор: II J. Gilbert Davis. Владелец: Continental Oil Co. Дата публикации: 1978-01-03.

Seam sealing apparatus and process therefor

Номер патента: WO2003008181A8. Автор: Jay Thomas Fenton. Владелец: Gore Enterprise Holdings Inc. Дата публикации: 2003-04-10.

Method and mechanism for contact-free process chamber characterization

Номер патента: EP4367714A1. Автор: Chunlei Zhang,Vivek B. Shah. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-15.

Method and apparatus for centrifugal separation of particles from a gas flow

Номер патента: CA3183978A1. Автор: Claes Inge,Peter Franzen,Carl Petrus Häggmark. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-02-24.

Method and apparatus for centrifugal separation of particles from a gas flow

Номер патента: EP4200051A1. Автор: Claes Inge,Peter Franzen,Carl Petrus Häggmark. Владелец: Grimaldi Development Ab. Дата публикации: 2023-06-28.

Method and apparatus for centrifugal separation of particles from a gas flow

Номер патента: WO2022039644A1. Автор: Claes Inge,Peter Franzen,Carl Petrus Häggmark. Владелец: 3nine AB. Дата публикации: 2022-02-24.

Process gas compressor/gas turbine section

Номер патента: US09915161B2. Автор: Henk Blekkenhorst. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2018-03-13.

Accessory device for a dental articulator and method for use in fabricating dental prosthetics

Номер патента: US5795152A. Автор: Marc J. Glatt. Владелец: Individual. Дата публикации: 1998-08-18.

Dose regimens for use of LY3154207 in the treatment of dopaminergic CNS disorders

Номер патента: AU2019402087B2. Автор: Kjell Anders Ivan Svensson,Kevin Michael BIGLAN,Christina Marie KILEY. Владелец: Eli Lilly and Co. Дата публикации: 2023-04-06.

Dose regimens for use of ly3154207 in the treatment of dopaminergic cns disorders

Номер патента: EP4417258A2. Автор: Kjell Anders Ivan Svensson,Kevin Michael BIGLAN,Christina Marie KILEY. Владелец: Eli Lilly and Co. Дата публикации: 2024-08-21.

Dose regimens for use of ly3154207 in the treatment of dopaminergic cns disorders

Номер патента: EP4417258A3. Автор: Kjell Anders Ivan Svensson,Kevin Michael BIGLAN,Christina Marie KILEY. Владелец: Eli Lilly and Co. Дата публикации: 2024-10-30.

Imaging device and process cartridge

Номер патента: RU2754646C1. Автор: Акира ЙОСИМУРА,Томио НОГУТИ,Юкио КУБО,Масааки САТО,Сатоси НИСИЯ,Есуки КАСИИДЕ. Владелец: Кэнон Кабусики Кайся. Дата публикации: 2021-09-06.

Processing chamber apparatus, system and method for controlling gas flow patterns

Номер патента: JP6513089B2. Автор: イズヤ クレマーマン，,ジェフリー シー． ハジェンズ，,ニール メリー，,チャンドラカント エム． サプカル，,チャンドラカント エム． サプカル，,ジェフリー シー． ハジェンズ，. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-05-15.

Apparatus for separating particles of cohesive material according to size and process

Номер патента: US6036126A. Автор: Michael L. Cappola. Владелец: Boehringer Ingelheim Pharmaceuticals Inc. Дата публикации: 2000-03-14.

Ready for use, injectable, aqueous solutions of alkali metal salts of canrenoic acid and furosemide and process for their preparation

Номер патента: CA1154676A. Автор: Richard Leeb,Rainer J. Helbig. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1983-10-04.

Apparatus and method to improve uniformity and reduce local effect of process chamber

Номер патента: US8223470B2. Автор: Yu-Cheng Chang,Ying-Lin Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2012-07-17.

Tunnelling machine, device for alignment of segments of lining of tunnel relative to each other, used in tunnelling machine, and method of control thereof

Номер патента: RU2716630C2. Автор: Юнлян ЧЭН,Фэйсян ЛЮ,Чжэнян ПЭН,Дацяо Чжэн,Ципин Хэ,Цзяньли Ло,Цзинь ЖУН. Владелец: Чайна Рейлвей Констракшн Хэви Индастри Ко., Лтд.. Дата публикации: 2020-03-13.

Apparatus for delivering process gas for making semiconductors and method of using same

Номер патента: US5762086A. Автор: Louis A. Ollivier. Владелец: Veriflo Corp. Дата публикации: 1998-06-09.

Soil pitting and damming implement and process

Номер патента: CA1227683A. Автор: Thayne B. Wiser. Владелец: Individual. Дата публикации: 1987-10-06.

Developer container, developing apparatus and process cartridge

Номер патента: US20110076062A1. Автор: Tatsuya Suzuki,Hideki Kakuta. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-03-31.

Method and apparatus for humidification and temperature control of incoming fuel cell process gas

Номер патента: CA2315135C. Автор: Joe Cargnelli,Ravi Gopal. Владелец: Hydrogenics Corp. Дата публикации: 2008-11-04.

Audio cables with musically relevant mechanical resonances and process for making same

Номер патента: US20040003937A1. Автор: Claude Vans Evers. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-01-08.

Apparatus and process for cooling gas flow in a pressurized pipeline

Номер патента: US6141973A. Автор: Ward A. Whitmore. Владелец: Yukon Pacific Corp. Дата публикации: 2000-11-07.

Etching apparatus having a confinement and guide object for gas flow of plasma and method for using same

Номер патента: WO2002009198A9. Автор: Dave Johnson,Kenneth Mackenzie,Mike Devre,Jewon Lee,Jay Sasserath. Владелец: Jay Sasserath. Дата публикации: 2003-02-06.

Satellite (GPS) assisted clock apparatus, circuits, systems and processes for cellular terminals on asynchronous networks

Номер патента: US8805376B2. Автор: Ilyas Berk Guvelioglu,Joergen Boejer,Alain Vallauri. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2014-08-12.

Systems and methods for ex-vivo organ care and for using lactate as an indication of donor organ status

Номер патента: US12010987B2. Автор: Waleed H. Hassanein,Paul Lezberg,Tamer I. Khayal,Ahmed Elbetanony,Giovanni Cecere,Dennis Sousa,Elizabeth Hansen Bulger. Владелец: TransMedics Inc. Дата публикации: 2024-06-18.

Methods and Systems for Coherent Imaging and Feedback Control for Modification of Materials Using Dynamic Optical Path Switch in the Reference Arms

Номер патента: US20240189938A1. Автор: Victor X.D. Yang,James M. Fraser,Paul J.L. Webster. Владелец: IPG Photonics Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Nanostructured titanium alloys for use as biomaterials in the manufacture of medical devices

Номер патента: EP1967218A3. Автор: Marina Ziche,Alessandro Facchini. Владелец: Lima LTO SpA. Дата публикации: 2008-12-03.

System and process for creating a three-dimensional model of a real estate development site

Номер патента: US12051153B2. Автор: Michael Fusco,Donald S. MONTI,Kevin D. DEVITO. Владелец: Renaissance V&a Technologies LLC. Дата публикации: 2024-07-30.

System and process for creating a three-dimensional model of a real estate development site

Номер патента: US20240346761A1. Автор: Michael Fusco,Donald S. MONTI,Kevin D. DEVITO. Владелец: Renaissance V&a Technologies LLC. Дата публикации: 2024-10-17.

Dose regimens for use of ly3154207 in the treatment of dopaminergic cns disorders

Номер патента: EP3897578B1. Автор: Kjell Anders Ivan Svensson,Kevin Michael BIGLAN,Christina Marie KILEY. Владелец: Eli Lilly and Co. Дата публикации: 2024-11-06.

Process for creating an image on film used in screen printing

Номер патента: US5464729A. Автор: Christian M. Hoebener,William H. Hoebener. Владелец: Individual. Дата публикации: 1995-11-07.

Supporting apparatus for use in smokehouses and the like

Номер патента: US3594858A. Автор: Knud Simonsen. Владелец: Individual. Дата публикации: 1971-07-27.

Dose regimens for use of LY3154207 in the treatment of dopaminergic CNS disorders

Номер патента: AU2019402087A1. Автор: Kjell Anders Ivan Svensson,Kevin Michael BIGLAN,Christina Marie KILEY. Владелец: Eli Lilly and Co. Дата публикации: 2021-07-15.

Dose regimens for use of ly3154207 in the treatment of dopaminergic cns disorders

Номер патента: EP3897578A1. Автор: Kjell Anders Ivan Svensson,Kevin Michael BIGLAN,Christina Marie KILEY. Владелец: Eli Lilly and Co. Дата публикации: 2021-10-27.

Electrical contact pin carrying a charge of solder and process for producing it

Номер патента: US20060014443A1. Автор: Christophe Roshardt. Владелец: SM Contact. Дата публикации: 2006-01-19.

Necessary pressure and fuel consumption in the aircraft gas turbine engine fuel system development method

Номер патента: RU2674806C1. Автор: Игорь Георгиевич Лисовин,Юрий Семенович Савенков,Михаил Викторович Россик,Вячеслав Евгеньевич Рукавишников. Владелец: Акционерное общество "Объединенная двигателестроительная корпорация" (АО "ОДК"). Дата публикации: 2018-12-13.

Method for arrangement of working process in straight-flow air-jet engine with continuous-detonation combustion chamber and device for implementation thereof

Номер патента: RU2714582C1. Автор: Валерий Иванович Звегинцев,Константин Алексеевич Авдеев,Сергей Михайлович Фролов,Владислав Сергеевич Иванов,Сергей Александрович Набатников,Алан Эльбрусович Зангиев,Надежда Сергеевна Шулакова. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Новые физические принципы". Дата публикации: 2020-02-18.

In-the-ear hearing aid with directional microphone system

Номер патента: US5757933A. Автор: Mark A. Bren,Timothy S. Peterson,David A. Preves. Владелец: Micro Ear Technology Inc. Дата публикации: 1998-05-26.

NEW DEVICE FOR USING THE WHEEL IN THE TRANSPORT OF PEOPLE AND GOODS BY DELETING THE HUBS, AXLES AND AXLES, DIRECT SUPPORT ON THE RIM AND APPLICATIONS THEREFROM

Номер патента: FR2803263B1. Автор: Marcel Felix Codur. Владелец: Marcel Felix Codur. Дата публикации: 2004-02-27.

Universal arrangement for the exchange of data between the memories and the processing devices of a computer

Номер патента: US4330824A. Автор: Paul M. Girard. Владелец: Bull SA. Дата публикации: 1982-05-18.

In-the-ear hearing aid with directional microphone system

Номер патента: CA2223676C. Автор: Mark A. Bren,Timothy S. Peterson,David A. Preves. Владелец: Micro Ear Technology. Дата публикации: 2004-11-23.

Apparatus and process for measuring the thickness of electrically non conductive and non ferromagnetic materials in the form of films, webs and the like

Номер патента: EP1947416A2. Автор: Alessandro Masotti. Владелец: Electronic Systems SpA. Дата публикации: 2008-07-23.

NON-INTRUSIVE WIRELESS SENSOR SYSTEM FOR HARVESTING AND PROCESSING PHYSICAL AND TECHNICAL DATA OF THE PLAYER, THE TEAM AND THE MATCH IN THE PRACTICE OF AMATEUR FOOTBALL IN THE ROOM.

Номер патента: FR3047834A1. Автор: Gabriel Cohen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-08-18.

Service provider class application scalability and high availability and processing prioritization using a weighted load distributor and throttle middleware

Номер патента: US20140201750A1. Автор: Richard W. Shoulberg. Владелец: VERIZON PATENT AND LICENSING INC. Дата публикации: 2014-07-17.

Process for catalytically recombination of a gas flow accompanying hydrogen with oxygen and recombination system to carry out the process

Номер патента: TW200949858A. Автор: Bernd Eckardt,Robert Feuerbach. Владелец: AREVA NP GMBH. Дата публикации: 2009-12-01.

LEARNING AGENT THAT FACILITATES THE EXECUTION OF A SUBSCRIPTION VEHICLE SERVICE BY DYNAMICALLY GENERATING MESSAGES AND PROCESSING RESPONSES TO GENERATE AND AUGMENT DATA THAT CAN THEN BE USED IN SUGGESTIONS TO CUSTOMERS

Номер патента: US20170004561A1. Автор: JR. John R.,Kraar Eric R.,Phelps,CARLEY ADAM J.,ZAPPA VINCENT G.,NEEL STEVEN S.,HELLER JAMES F.,TREHAN ASHISH,CLEMENTS KYLE L.,RACKLEY TRIPP,VENKATRAMAN SANG,MORGAN BENJAMIN E.,Howie Christopher M.,Hallum David W.. Владелец: . Дата публикации: 2017-01-05.

METHODS FOR USING KUKHAREV REGIONS IN THE ATMOSPHERE, IN SPACE, AND AT THE LEVEL OF THE EARTH'S SURFACE TO OBTAIN ANTIMATTER

Номер патента: US20220139589A1. Автор: KUKHAREV Vadim. Владелец: . Дата публикации: 2022-05-05.

ILLUMINATION DEVICE AND METHOD FOR USING THE SAME IN THE PROJECTION LITHOGRAPHY MACHINE

Номер патента: US20160109806A1. Автор: Wang Ying,Chen Mingxing,ZENG Aijun,HUANG Huijie,ZHANG Yunbo. Владелец: . Дата публикации: 2016-04-21.

Hydraulic device for using the difference in the levels of a liquid

Номер патента: FR68546E. Автор: . Владелец: Societe des Forges et Ateliers du Creusot. Дата публикации: 1958-05-02.

Reagent and method for using the same in the automatic flow cytometric determination of at least one leukocyte subpopulation from whole blood.

Номер патента: DE69016377T2. Автор: Didier Lefevre Didier Lefevre,Henri Champseix Henr Champseix,Nadine Voltas Nadine Voltas. Владелец: ABX SA. Дата публикации: 1995-05-24.

METHOD FOR USING THE ENERGY IN THE SURFACE WAVES IN A LIQUID BODY, SUCH AS WAVES ON THE SURFACE OF AN OCEAN, AND APPARATUS FOR APPLYING THIS PROCESS

Номер патента: NL8320232A. Автор: . Владелец: Hertz Kristian Dahl. Дата публикации: 1984-07-02.

Caffeine salt complexes and methods for using the same in the prevention or treatment of cancer

Номер патента: US20050207998A1. Автор: Yaoping Lu,Allan Conney,YouRong Lou. Владелец: Rutgers State University of New Jersey. Дата публикации: 2005-09-22.

System and process for storing securely secret information, apparatus and server to be used in such a system and method for distribution of a digital content

Номер патента: CN1422399A. Автор: 埃里克·迪尔,皮埃尔·菲舍尔. Владелец: Thomson Licensing SAS. Дата публикации: 2003-06-04.

Hydraulic device for using the difference in the levels of a liquid

Номер патента: FR1125529A. Автор: . Владелец: Societe des Forges et Ateliers du Creusot. Дата публикации: 1956-10-31.

Apparatus and process for the production of fiber preforms, which are in particular a precursor in the production of fiber-reinforced plastic components

Номер патента: DE102011007022A1. Автор: Michael Kaiser,Marco Göttinger. Владелец: VOITH PATENT GMBH. Дата публикации: 2012-10-11.

Hydraulic device for using the difference in the levels of a liquid

Номер патента: FR68848E. Автор: . Владелец: Societe des Forges et Ateliers du Creusot. Дата публикации: 1958-06-10.

System and process for applying an adhesive to a moving web

Номер патента: US11878322B2. Автор: Joseph J. SINA,Kyle M. BARRIGER,Daniel J. Grassl,Walter HAGY,James NIEDT. Владелец: Kimberly Clark Worldwide Inc. Дата публикации: 2024-01-23.

System and method for using an analogy in the management of personal finances

Номер патента: US20120246045A1. Автор: David Hirsch. Владелец: Fantasy Finance Ventures LLC. Дата публикации: 2012-09-27.

DOSE REGIMENS FOR USE OF LY3154207 IN THE TREATMENT OF DOPAMINERGIC CNS DISORDERS

Номер патента: US20220062265A1. Автор: BIGLAN Kevin Michael,KILEY Christina Marie,SVENSSON Kjell Anders Ivan. Владелец: ELI LILLY AND COMPANY. Дата публикации: 2022-03-03.

Micropatterning technique for creating morphologically specific free-floating structures for use as Standards in the pharmaceutical industry

Номер патента: US20170254759A1. Автор: Gertz Frederick Talley,Schultheis Robert James. Владелец: . Дата публикации: 2017-09-07.

Material comprising ultrafine metals and metal oxide particles and their preparation for use as catalysts in the hydrogenation of olefins or in coupling reactions

Номер патента: FR2784605A1. Автор: Olivier Tillement,Jean Marie Dubois,Yves Fort. Владелец: CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE CNRS. Дата публикации: 2000-04-21.

REINFORCEMENT FOR USEFUL PROFILES, ESPECIALLY IN THE AUTOMOTIVE INDUSTRY.

Номер патента: FR2661972A1. Автор: Frappier Alain. Владелец: HUTCHINSON SA. Дата публикации: 1991-11-15.

TEMPORARY IMPLANT FOR USE AS ANCHOR IN THE MOUTH

Номер патента: FR2735013A1. Автор: Chaman Lal Sachdeva Rohit,Farzin Nia Farrokh. Владелец: Ormco Corp. Дата публикации: 1996-12-13.

Inflatable thermal blanket with surgical access for use with patients in the lithotomy position

Номер патента: US6176870B1. Автор: Scott D. Augustine. Владелец: Augustine Medical Inc. Дата публикации: 2001-01-23.

Bath drug and method for using said drug in the treatment and prophylaxis of discirculatory encephalopathy

Номер патента: WO2011112116A1. Автор: Владимир Израилевич Хейфец,Роман Анатольевич ТРУНИН,Михаил Львович Учитель,Дана КАССЕИНОВА,Евгений Ильич MАЕВСКИЙ. Владелец: Kasseinova Dana. Дата публикации: 2011-09-15.

Process for joining ralls with aluminothermic welds and a casting mould for use in carrying out the process

Номер патента: GB2022489B. Автор: . Владелец: Elektro Thermit GmbH. Дата публикации: 1982-03-17.

A method and apparatus for using an enzyme in the manufacture and bleaching of pulp

Номер патента: FI108800B. Автор: Brian Foody,Jeffrey Tolan. Владелец: Iogen Corp. Дата публикации: 2002-03-28.

Methods for making injection molded plastic products and plastic materials for use in carrying out the process

Номер патента: SE519104C2. Автор: Peter Aakesson. Владелец: Polykemi Ab. Дата публикации: 2003-01-14.

TEMPORARY IMPLANT FOR USE AS ANCHOR IN THE MOUTH

Номер патента: FR2735013B1. Автор: Chaman Lal Sachdeva Rohit,Farzin Nia Farrokh. Владелец: Ormco Corp. Дата публикации: 2000-04-21.

METHOD AND DEVICE FOR USING AUXILIARY DATA IN THE CONTEXT OF A SATELLITE POSITIONING DETERMINATION SYSTEM

Номер патента: DE60142334D1. Автор: Leonid Sheynblat. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2010-07-22.

Method And Apparatus For Using RFID's In The Investigation Of Motor Vehicle Accidents

Номер патента: US20060006982A1. Автор: Rodney Gunsauley. Владелец: Gunsauley Rodney M. Дата публикации: 2006-01-12.

Process for mapping hydrocarbon reservoirs and apparatus for use in carrying out the process

Номер патента: NO323889B1. Автор: Pavel Barsukov,Eduard B Fainberg,Bension Sh Singer. Владелец: Advanced Hydrocarbon Mapping A. Дата публикации: 2007-07-16.

Alpha-derivatives of cis-monounsaturated fatty acids for use as medicines in the treatment of diabetes

Номер патента: EP2842555B1. Автор: Pablo Vicente Escribá Ruiz,Xavier Busquets Xaubet. Владелец: Universitat De Les Illes Balears. Дата публикации: 2018-04-18.

Dermatological compositions comprising a combination of peroxidized lipids and zinc for use amongst others in the treatment of herpes

Номер патента: EP2343038A1. Автор: Stephane Desjonqueres. Владелец: Laboratoires Carilene. Дата публикации: 2011-07-13.

Device with expandable tubular component and method for using this device in the well

Номер патента: RU2225497C2. Автор: Л. МкД ЩЕТКИ,Крейг Д. ДЖОНСОН,Мэтью Р. ХАКУОРТ,Патрик В. БИКСЕНМАН,Л. МкД ЩЕТКИ (US),Крейг Д. ДЖОНСОН (US),Мэтью Р. ХАКУОРТ (US),Патрик В. БИКСЕНМАН (US). Владелец: Шлюмбергер Текнолоджи Б.В.. Дата публикации: 2004-03-10.

Methods of resistance welding for use, for example, in the manufacture of electronicassemblies

Номер патента: US3231710A. Автор: Barnet Peter Alan,Vickers Victor Eric. Владелец: General Electric Co PLC. Дата публикации: 1966-01-25.

Method for mapping hydrocarbon reservoirs and apparatus for use in carrying out the process

Номер патента: NO20055168D0. Автор: Pavel Barsukov,Eduard B Fainberg,Bension Sh Singer,Josten Kare Kjerstad. Владелец: Advanced Hydrocarbon Mapping A. Дата публикации: 2005-11-03.

Dermatological compositions comprising a combination of peroxidized lipids and zinc for use amongst others in the treatment of herpes.

Номер патента: PL2343038T3. Автор: Stephane Desjonqueres. Владелец: Laboratoires Carilene. Дата публикации: 2015-04-30.

Process for evaporating liquid from a solution or suspension and plants for use in carrying out the process.

Номер патента: DK126719B. Автор: O Hansen,Iversen J Damgaard,B Lund. Владелец: Niro Atomizer AS. Дата публикации: 1973-08-13.

Process for catalytically recombination of a gas flow accompanying hydrogen with oxygen and recombination system to carry out the process

Номер патента: TWI385674B. Автор: Bernd Eckardt,Robert Feuerbach. Владелец: AREVA NP GMBH. Дата публикации: 2013-02-11.

COMPOSITION INCLUDING AT LEAST ONE GLYCEROL ESTER OF FATTY ACIDS FOR USE FOR INJECTION IN THE VITREUS CAVITY

Номер патента: BR112012011825B1. Автор: Jean-Sebastien Garrigue,Frédéric Lallemand,Jeffrey Heier. Владелец: Arcadophta. Дата публикации: 2021-08-24.

Door thrust reverser comprising a deflector for redirecting an air flow in the upstream direction

Номер патента: US11913403B2. Автор: Laurent Georges Valleroy,Sebastien Laurent Marie Pascal,Paul Ferrey. Владелец: Safran Nacelles SAS. Дата публикации: 2024-02-27.

Machine and Process for Identifying Component Effect on Performance of a Vehicle

Номер патента: US20230351819A1. Автор: Jeffrey J. Robles,Thomas S. Lowery. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2023-11-02.

Method and processing machine for grooving, drilling or cutting metal workpieces, with determination of the intensity of the process radiation

Номер патента: EP2908981A2. Автор: Martin Spiess,Markus Blaschka. Владелец: Trumpf Werkzeugmaschinen SE and Co KG. Дата публикации: 2015-08-26.

Executing Diagnostic Software To Test The Functionality Of A Component For Use During A Video Conference

Номер патента: US20230401146A1. Автор: Reed Hunter Allen. Владелец: Zoom Video Communications Inc. Дата публикации: 2023-12-14.

Executing diagnostic software to test the functionality of a component for use during a video conference

Номер патента: US12007882B2. Автор: Reed Hunter Allen. Владелец: Zoom Video Communications Inc. Дата публикации: 2024-06-11.

Door thrust reverser comprising a deflector for redirecting an air flow in the upstream direction

Номер патента: US20230046876A1. Автор: Laurent Georges Valleroy,Sebastien Laurent Marie Pascal,Paul Ferrey. Владелец: Safran Nacelles SAS. Дата публикации: 2023-02-16.

High capacity colloidal storage battery, a collodial electrolyte used in it, and the processes for producing them

Номер патента: CA2053045A1. Автор: Lianxiang Wang,Anchen Zheng,Shuo Zheng,Hang Zheng. Владелец: Individual. Дата публикации: 1993-04-11.

High capacity colloidal storage battery, a colloidal electrolyte used in it, and the processes for producing them

Номер патента: AU658098B2. Автор: Lianxiang Wang,Anchen Zheng,Shuo Zheng,Hang Zheng. Владелец: Individual. Дата публикации: 1995-03-30.

High capacity colloidal storage battery, a colloidal electrolyte used in it, and the processes for producing them

Номер патента: AU8580791A. Автор: Lianxiang Wang,Anchen Zheng,Shuo Zheng,Hang Zheng. Владелец: Individual. Дата публикации: 1993-04-22.

High capacity colloidal storage battery, a colloidal electrolyte used in it, and the process for producing them

Номер патента: EP0537373A1. Автор: Lianxiang Wang,Anchen Zheng,Shuo Zheng,Hang Zheng. Владелец: Hang Zheng. Дата публикации: 1993-04-21.

High capacity colloidal storage battery, a colloidal electrolyte used in it and the processes for producing them

Номер патента: KR970009418B1. Автор: 리앤샹 왕,안첸 정,슈어 정,항 정. Владелец: 항 정. Дата публикации: 1997-06-13.

Processing chamber cleaning method, cleaning attachment and substrate processing system

Номер патента: US20240157410A1. Автор: Noritake SUMI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Substrate processing apparatus and process control method thereof

Номер патента: US20230163003A1. Автор: Young Hwan YANG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-25.

Gas flow equalizer plate suitable for use in a substrate process chamber

Номер патента: WO2009108568A2. Автор: Shahid Rauf,Michael D. Willwerth,Andrew Nguyen,Ajit Balakrishna,Valentin D. Todorow. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2009-09-03.

Substrate processing apparatus, simulation apparatus, storage medium and simulation method

Номер патента: US09558304B2. Автор: Satoko Yamamoto,Kimitoshi MIURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Substrate processing apparatus, method of processing substrate, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240105477A1. Автор: Naofumi Ohashi,Toshiyuki Kikuchi,Hideto Yamaguchi,Masamichi Yachi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-03-28.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20120160805A1. Автор: Mitsuo Suzuki,Kiyoshi Ehara. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2012-06-28.

Method of cleaning semiconductor substrate, and method of manufacturing semiconductor device and semiconductor substrate processing apparatus for use in the same

Номер патента: US20060046500A1. Автор: MAKOTO Miyamoto. Владелец: Renesas Technology Corp. Дата публикации: 2006-03-02.

Process chamber gas flow improvements

Номер патента: US09779917B2. Автор: Brian T. West,Ronald Vern Schauer,Stanley Detmar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20160121373A1. Автор: Daisuke Aoki,Junya Minamida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-05-05.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180019145A1. Автор: Eiichi Sugawara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-18.

Upper electrode unit and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240297023A1. Автор: Jong Chan Lee,Kwang Sung Yoo,Seong Min Nam. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-09-05.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09799542B2. Автор: Eiichi Sugawara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Processing gas diffusing and supplying unit and substrate processing apparatus

Номер патента: US09484213B2. Автор: Toshifumi Ishida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-01.

Etching method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20210005519A1. Автор: Gaku SHIMODA,Masayuki Sawataishi,Takanori Eto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-01-07.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20150303077A1. Автор: Masatoshi Kaneda,Ryo Shimada,Kazuki NAGAMOTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-10-22.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US10998210B2. Автор: Kazuhito Saito,Tsukasa Yashima. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2021-05-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09490151B2. Автор: Hiroyuki Takahashi,Satoshi TODA,Yuji Asakawa,Yohei Midorikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-08.

Consumable element and processing unit for dispenser

Номер патента: RU2684890C2. Автор: Хендрикус Лодевейк Йозеф Францискус ХОЛТЕН,Ярно БЕКМАН,Родин Энне БРЁЙНСМА,Петер РЕЙСКАМП,Ян КЛАССЕН,Пэн Чау КУА. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС Н.В.. Дата публикации: 2019-04-15.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20230307279A1. Автор: Yuji Takebayashi,Toshiro Koshimaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20130340796A1. Автор: Itaru Kanno,Norihiro Ito,Yosuke Hachiya,Kotaro Ooishi,Hisashi Kawano,Jun Nogami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-12-26.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, fluid supplying method and storage medium

Номер патента: US09662685B2. Автор: Gentaro Goshi,Kazuyuki Mitsuoka,Takayuki Toshima,Takehiko Orii,Hiroki Ohno,Gen You. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09589819B1. Автор: Satoshi Takano. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-03-07.

Gas flow control to improve thickness uniformity

Номер патента: WO2024155794A1. Автор: Robin L. Tiner,Gaku Furuta,Allen K. Lau,Ranjit Indrajit Shinde. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20200168434A1. Автор: Masanori Nakayama,Teruo Yoshino,Koichiro Harada,Hiroto Igawa,Masaki Murobayashi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2020-05-28.

Method for manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US09966238B2. Автор: Masanori Nakayama. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-05-08.

Cooled pin lifter paddle for semiconductor substrate processing apparatus

Номер патента: US09859145B2. Автор: Andreas Fischer,Dean Larson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230085140A1. Автор: Naofumi Ohashi,Hideharu Itatani,Shun Matsui,Toshiro Koshimaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate processing apparatus and substrate support

Номер патента: US20240258083A1. Автор: Makoto Kato,Ryoma Muto,Kaisei SUGA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20180197748A1. Автор: Kazuaki Nishimura,Koji Takeya,Jun Lin. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-07-12.

Methods of detecting non-conforming substrate processing events during chemical mechanical polishing

Номер патента: US12036635B2. Автор: Jamie Stuart Leighton,Jeonghoon Oh,Ashish BHUSHAN,John Anthony GARCIA,Stephen Thomas CORMIER,Nick Joseph JACKSON,Manoj BALAKUMAR,Nandkishore PATIDAR. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-16.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20240242983A1. Автор: Katsuhiko Yamamoto,Motonari Takebayashi,Atsuya Sakano,Kazuya NABETA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20110065288A1. Автор: Toru Harada,Masayoshi Minami. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2011-03-17.

Substrate processing method and substrate processing device

Номер патента: EP4231785A1. Автор: Kiyoshi Maeda,Yasuhiko Saito,Atsutoshi Inokuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-23.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20240249960A1. Автор: Yoshihiko Yanagisawa,Haruo Morikawa,Kazuya NABETA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240203702A1. Автор: Seungpil Chung,Sungik Park,Yongsu Jang,Jungyoon Yang,Inseong Lim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Internal pressure control apparatus and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240304427A1. Автор: Tae-hyun Kim,Sang Ki Nam,Sung Ho Jang,Seul Gi Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-12.

Methods for removing contamination from surfaces in substrate processing systems

Номер патента: US09805914B2. Автор: Chun Yan,Xinyu Bao,Adam Lane,Zhenwen Ding,Teng-Fang Kuo,Jim Zhongyi He. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-31.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US09646862B2. Автор: Atsushi UMEKAWA,Akinori Ishii,Masahisa OKUNO,Katsuyoshi Hamano,Takuya Joda. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-05-09.

Gas flow control in a substrate processing system

Номер патента: US6016611A. Автор: John M. White,Wendell T. Blonigan,Michael W. Richter. Владелец: Applied Komatsu Technology Inc. Дата публикации: 2000-01-25.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210366721A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Masaru Izawa,Nobuya MIYOSHI,Kazunori Shinoda,Yutaka Kouzuma. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-11-25.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240242985A1. Автор: Kuntack Lee,Jihwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus, cleaning method, substrate processing method, method of manufacturing semiconductor device and program

Номер патента: EP4435839A1. Автор: Kaoru Yamamoto. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-25.

Method of improving line roughness in substrate processing

Номер патента: US09508557B2. Автор: Hoyoung Kang. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-29.

Substrate processing system, gas supply unit, method of substrate processing, computer program, and storage medium

Номер патента: US09466506B2. Автор: Noriiki Masuda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-11.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09330950B2. Автор: Shinji Wakabayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-05-03.

Substrate processing method

Номер патента: US10748779B2. Автор: Hiroaki Mochizuki,Shinobu Kinoshita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-08-18.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US12033864B2. Автор: Hiromi Miyashita,Rei Shoji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230084826A1. Автор: Jung Hwan Lee,Young Jun Kim,Sung Ho ROH,Cheong Hwan Jeong,Tae Dong Kim. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Substrate processing apparatus, method of processing substrate, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240249962A1. Автор: Naofumi Ohashi,Hideharu Itatani. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12074048B2. Автор: Yuji Kawaguchi,Hiroki Harada,Tokutarou Hayashi,Tatsuhiko Tsujihashi,Tsuyoshi OTSUKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20200089196A1. Автор: Naofumi Ohashi,Toshiyuki Kikuchi,Shun Matsui,Tadashi Takasaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2020-03-19.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US12093021B2. Автор: Naofumi Ohashi,Toshiyuki Kikuchi,Shun Matsui,Tadashi Takasaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: EP4428898A2. Автор: Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-11.

Work-in-progress substrate processing methods and systems for use in the fabrication of integrated circuits

Номер патента: US09632499B2. Автор: William Fosnight,Detlef Pabst,Chinmay Oza,Gero Grau. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-04-25.

Substrate processing method

Номер патента: US11875998B2. Автор: Sang Jun Park,Byung Chul Cho,Jin Sung Chun,Kwang Seon JIN,Jun Hyuck KWON. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-16.

Substrate processing apparatus, simulation apparatus, storage medium and simulation method

Номер патента: US20140236556A1. Автор: Satoko Yamamoto,Kimitoshi MIURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-08-21.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US11978654B2. Автор: Yoon Jong JU,Min Sung HAN,Wan Jae Park,Jaehoo Lee. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-07.

Substrate processing method

Номер патента: US20210193472A1. Автор: Sang Jun Park,Byung Chul Cho,Jin Sung Chun,Kwang Seon JIN,Jun Hyuck KWON. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-24.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20240222086A1. Автор: Koji Shibata,Kazuyuki Toyoda,Makoto Kawabata,Atsushi UMEKAWA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Method for cleaning chamber or component, substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: EP4383314A1. Автор: Sho Kumakura,Yuta NAKANE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-12.

Organic solvent supplying apparatus, substrate processing method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240203726A1. Автор: Ki Bong Kim,Yong Hyun Choi,Myung Seok Cha,Ju Yeon SONG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US10867817B2. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-12-15.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20240243019A1. Автор: Masanori Nakayama,Hiroki Kishimoto,Hiroto Igawa,Yuki Yamakado,Yuichiro Takeshima,Yasutoshi Tsubota. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20180218929A1. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-08-02.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US20200168487A1. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-28.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium

Номер патента: US10615062B2. Автор: Yuichi Yoshida,Yuzo Ohishi,Takaya Kikai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-07.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20150243536A1. Автор: Yoshifumi Okada. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2015-08-27.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US10186418B2. Автор: Yoshifumi Okada. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2019-01-22.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20190103291A1. Автор: Tooru Nakamura,Kouji Kimoto,Hiroaki Inadomi,Yoshihisa Aoyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-04-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing system

Номер патента: US20240253093A1. Автор: Koji Ando,Noritake SUMI,Tomohiro Motono. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240274450A1. Автор: Masanobu Sato,Hiroshi Horiguchi,Saki Miyagawa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Method of cleaning substrate processing apparatus

Номер патента: US09925571B2. Автор: Akihiro Kikuchi,Mitsuhiro Tomura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Electromagnetic dipole for plasma density tuning in a substrate processing chamber

Номер патента: US09779953B2. Автор: Joseph F. Aubuchon,Tza-Jing Gung,Samer Banna. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Substrate processing apparatus and substrate conveying apparatus for use in the same

Номер патента: US09624046B2. Автор: Ichiro Mitsuyoshi,Ryo Muramoto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09566598B2. Автор: Yukihiko Inagaki. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-14.

Plasma shutter and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240096606A1. Автор: Hyungsik KO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20200083064A1. Автор: Nobuhiko MOURI,Kento Kurusu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-03-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US11482428B2. Автор: Nobuhiko MOURI,Kento Kurusu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-10-25.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20090192652A1. Автор: Tomoyuki Yamada. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2009-07-30.

Upper electrode unit and substrate processing apparatus comprising same

Номер патента: EP4428897A1. Автор: Jong Chan Lee,Kwang Sung Yoo,Seong Min Nam. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-09-11.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US09842754B2. Автор: Akira Takahashi,Hiroyuki Ogawa,Takeshi Yasui,Naoya Matsuura,Kazuya NABETA. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-12-12.

Substrate processing device and substrate processing method for carrying out chemical treatment for substrate

Номер патента: US09786527B2. Автор: Nobuyuki Shibayama. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-10.

Substrate processing method

Номер патента: US09558962B2. Автор: Kandabara N. Tapily,Fumitaka Amano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09455125B2. Автор: Makoto Kobayashi,Jun Tamura,Tetsuji Sato,Akihiro Yoshimura,Hiroshi Tsujimoto,Nobuhiro Wada,Masato Horiguchi,Mamoru NAOI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-27.

Gas flow swirler

Номер патента: RU2703643C1. Автор: Эдуард Аркадьевич Петровский,Олег Александрович Коленчуков. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Сибирский федеральный университет". Дата публикации: 2019-10-21.

Etching method and substrate processing apparatus

Номер патента: US11810792B2. Автор: Masatsugu Makabe,Takanori Eto,Sho SAITOH. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-07.

Substrate processing apparatus, pressure control method for substrate processing apparatus and recording medium having program recorded therein

Номер патента: US20060086259A1. Автор: Taketoshi Okajo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-04-27.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: EP4415033A1. Автор: Kazuki Nakamura,Yoshifumi Okada,Nobuaki Okita. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-14.

Substrate processing apparatus and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240282557A1. Автор: Jinuk Park,Euijin Park,Dongyup Choo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

L-motion slit door for substrate processing chamber

Номер патента: US12125688B2. Автор: Hamid Noorbakhsh,James Hugh Rogers. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-22.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09698037B2. Автор: Yuichi Matsuda,Tomoyuki Yamada,Takashi Nogami,Shinobu Sugiura,Seiyo Nakashima. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-07-04.

Method of processing substrate and substrate processing apparatus

Номер патента: US09530657B2. Автор: Masahiro Ogasawara,Rui Takahashi,Masafumi Urakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240194497A1. Автор: Takao Matsumoto,Hajime NISHIDE,Kwichang KANG. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Method of reclaiming and storing a valuable process gas

Номер патента: WO2009117693A3. Автор: Allen J. Bartlett,Doreen J. Ball- Difazio. Владелец: Brooks Automation, Inc.. Дата публикации: 2010-01-07.

Substrate processing device and processing method

Номер патента: US20040040655A1. Автор: Mitsuhiro Yuasa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2004-03-04.

Substrate processing chamber, substrate processing system including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20230043451A1. Автор: Yongmyung Jun,Seohyun Kim,Hyunjin Ko,Jae Seong RYU,Inkwang BAE,Seungbu BAEK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-02-09.

Substrate processing system printed-circuit control board assembly with one or more heater layers

Номер патента: US20190166700A1. Автор: Eric Pape,Fred Dennis Egley,Changyou Jing. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2019-05-30.

Substrate processing system printed-circuit control board assembly with one or more heater layers

Номер патента: WO2019108365A1. Автор: Eric Pape,Changyou Jing,Fred Egley. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2019-06-06.

Apparatus for uniform pumping within a substrate process chamber

Номер патента: US09464732B2. Автор: Jared Ahmad Lee,Martin Jeffrey Salinas,Imad Yousif,Paul Benjamin Reuter. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-10-11.

Acoustically-monitored semiconductor substrate processing systems and methods

Номер патента: US09429247B2. Автор: Michael Johnson,Joseph Yudovsky,Todd J. Egan,Kommisetti SUBRAHMANYAM. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-08-30.

Method of determining gas flow temperature in combustion chamber of gas turbine engine with hydrocarbon fuel

Номер патента: RU2738999C1. Автор: Игорь Касьянович Мешковский,Георгий Петрович Мирошниченко,Михаил Викторович Мехреньгин,Алексей Павлович Чистяков. Владелец: федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет ИТМО" (Университет ИТМО). Дата публикации: 2020-12-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240006166A1. Автор: Minyoung Kim,Hanglim Lee. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20220157567A1. Автор: Takashi Aramaki,Hiroshi Tsujimoto,Lifu Li,Junya Kuramoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-05-19.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230317418A1. Автор: Jungmin Ko,Dougyong Sung,Byeongsang KIM,Sangki NAM,Yunhwan Kim,Kuihyun YOON,Namkyun Kim,Suyoung YOO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-10-05.

Capacitively coupled plasma substrate processing apparatus

Номер патента: US20240258079A1. Автор: Seungho Lee,Taeho Shin,Buil Jeon,JungSu Park,Dooho LIM,Bumsoo ON. Владелец: Innovation For Creative Devices Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Method of reclaiming and storing a valuable process gas

Номер патента: WO2009117693A8. Автор: Allen J. Bartlett,Doreen J. Ball- Difazio. Владелец: Brooks Automation, Inc.. Дата публикации: 2009-11-19.

Chiller make-break connector for substrate processing systems

Номер патента: US12074039B2. Автор: Alexander Charles Marcacci. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Substrate processing using a member comprising an oxide of a group IIIB metal

Номер патента: US20020100554A1. Автор: Jie Yuan,Hong Shih,Diana Ma,Nianci Han,Danny Lu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-08-01.

Substrate processing method

Номер патента: US20070004057A1. Автор: Toshio Kaneko,Toru Nishiwaki. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-01-04.

Substrate processing apparatus, method of processing substrate, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240274455A1. Автор: HIROSHI Ashihara,Yuji Takebayashi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-08-15.

Process Chamber and Substrate Processing Apparatus Including the Same

Номер патента: US20210217636A1. Автор: Hyosan Lee,Kuntack Lee,Yong-jhin Cho,Jihoon Jeong,Young-Hoo Kim,Jung-min Oh,Yungjun Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-07-15.

Substrate processing method, substrate processing device, and method of manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US20240120177A1. Автор: Kyung-Sun Kim,Seung Bo SHIM,Tae-Hwa Kim,Ji Mo LEE,Jae Bin KIM,Dong Hyeon Na,Myeong Soo SHIN,Woong Jin CHEON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-11.

Flow metrology calibration for improved processing chamber matching in substrate processing systems

Номер патента: US20240255341A1. Автор: Evangelos T. Spyropoulos,Piyush Agarwal. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

Exhaust gas processing apparatus having plasma source and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240249925A1. Автор: Jaehyun Kim,Suji Gim,Young Heo,Sunwoo YOOK,Kookjin Ann,Taijong Sung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-25.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240329547A1. Автор: Shinichi Machidori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Substrate processing apparatus and processed substrate manufacturing method

Номер патента: US09673067B2. Автор: Mitsuru Miyazaki,Toshio Yokoyama,Junji Kunisawa,Teruaki HOMBO,Naoki TOYOMURA. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-06-06.

Gas flow controller for use in gas fired apparatus

Номер патента: US09618205B2. Автор: Mark H. Stark,Donald L. Blessing. Владелец: EMERSON ELECTRIC CO. Дата публикации: 2017-04-11.

Abrasive article and process of its formation

Номер патента: RU2685839C1. Автор: Инган ТЯНЬ,Джон Дж. ПЕРЛМАН,Морин А. БРОСНАН,Аруп К. КХАУНД. Владелец: Сен-Гобен Абразиф. Дата публикации: 2019-04-23.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230207277A1. Автор: Takayuki Sato,Tetsuaki Inada. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-06-29.

Substrate processing apparatus, semiconductor manufacturing equipment, and substrate processing method

Номер патента: US20230244150A1. Автор: Kuntack Lee,Jihoon Jeong,Sangjine Park,Seohyun Kim,Sukhoon KIM,Younghoo KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-08-03.

Substrate processing apparatus, semiconductor manufacturing equipment, and substrate processing method

Номер патента: US20220075268A1. Автор: Kuntack Lee,Jihoon Jeong,Sangjine Park,Seohyun Kim,Sukhoon KIM,Younghoo KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-03-10.

Apparatus for transferring substrate, substrate processing system and method of processing substrate

Номер патента: US20240120225A1. Автор: Akinori Shimamura,Dongwei Li,Hiromitsu Sakaue,Takehiro Shindo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Methods and apparatus for gas delivery into plasma processing chambers

Номер патента: WO2012087919A2. Автор: Robert P. Chebi,Alan Cheshire,Stanley Detmar,Alfredo Granados,Gabriel Roupillard. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-06-28.

Autonomous substrate processing system

Номер патента: US20230305531A1. Автор: Lei Lian,Todd J. Egan,Priyadarshi PANDA,Pengyu Han,Prashant Aji,Eli Mor,Alex J. Tom,Leonard Michael Tedeschi. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate transferring unit, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Номер патента: US20230062447A1. Автор: Kuntack Lee,Jihwan Park,Sangjine Park,Seungmin SHIN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-02.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20230027653A1. Автор: Kazuyoshi Yamamoto,Kazuhide Asai,Hidemoto HAYASHIHARA,Kayoko Yashiki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-01-26.

Method of processing substrate and method of manufacturing substrate for use in liquid ejection head

Номер патента: US20110070667A1. Автор: Hiroyuki Morimoto,Masahiko Kubota. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-03-24.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240304452A1. Автор: Hiroshi Marumoto,Tsunemoto OGATA,Suguen Lee. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Method of processing substrate and method of manufacturing substrate for use in liquid ejection head

Номер патента: US8211719B2. Автор: Hiroyuki Morimoto,Masahiko Kubota. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2012-07-03.

Substrate processing apparatus, method for manufacturing semiconductor device, method for processing substrates

Номер патента: US09748132B2. Автор: Takayuki Sato,Koichiro Harada,Tatsushi Ueda,Noriaki MICHITA. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-08-29.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09449807B2. Автор: Toshimitsu Namba. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Substrate processing system with load-lock chamber

Номер патента: US6805748B1. Автор: Ryo Edo. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2004-10-19.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium

Номер патента: US9337070B2. Автор: Hideaki Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-05-10.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US12045037B2. Автор: Koji Hashimoto,Masahiro Yamamoto,Shinji Shimizu,Hiroshi Horiguchi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US12057326B2. Автор: Hiroaki Inadomi,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Substrate processing in a process chamber for semiconductor manufacturing and apparatus management controller with error analysis

Номер патента: US11086304B2. Автор: Kazuyoshi Yamamoto,Hiroyuki Iwakura,Kazuhide Asai,Hidemoto HAYASHIHARA,Takayuki KAWAGISHI,Kayoko Yashiki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2021-08-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230207339A1. Автор: Kohei Sato,Hiroki Takahashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-06-29.

Method and devices for qualifying substrate-processing production processes

Номер патента: AU2002351691A1. Автор: Bernd Muller,Ulrich Wittreich,Hartmut Meier. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2003-06-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240339339A1. Автор: Hiroaki Inadomi,Shota Umezaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method for performing cleaning treatment on substrate

Номер патента: US09508568B2. Автор: Ayumi Higuchi,Asuka YOSHIZUMI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-29.

Device for creating and processing a gas stream by passing it through an automatically adjustable volume of liquid

Номер патента: RU2751198C2. Автор: Жауа ЗЕММУРИ. Владелец: Старклаб. Дата публикации: 2021-07-12.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US6053980A. Автор: Makoto Ozawa,Atsuhiko Suda,Kazuyuki Toyoda,Issei Makiguchi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2000-04-25.

Substrate processing system and substrate transfer method

Номер патента: US20230282503A1. Автор: Takehiro Shindo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Apparatus for transferring member to be disposed in substrate processing chamber, substrate processing system, and method for transferring member

Номер патента: US20230290656A1. Автор: Wataru Matsumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20230116739A1. Автор: Sung-Yeol Kim,Sung Yong Lim,Woong Jin CHEON,Sung Hwi Cho,Mee Hyun LIM,Seong Ha JEONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-04-13.

Substrate processing method

Номер патента: US20110237083A1. Автор: Akira Nakagawa,Yoshinobu Hayakawa,Yusuke Okazaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-09-29.

Interior antenna for substrate processing chamber

Номер патента: US20120211358A1. Автор: Genhua Xu,Keith A. Miller,Shengde Zhong,Mahendra Bhagwat Lokhande. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2012-08-23.

Processing liquid supply device, substrate processing apparatus, and processing liquid supply method

Номер патента: US20230286013A1. Автор: Hiroaki Kobayashi,Hideki Mori,Masaaki Furuya. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2023-09-14.

Pulsed voltage boost for substrate processing

Номер патента: US11776788B2. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Yue Guo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-03.

Substrate weight measurement apparatus, a substrate processing apparatus including the same, and a method of processing a substrate using the substrate processing apparatus

Номер патента: US20230384681A1. Автор: Kuntack Lee,Ji Hwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-30.

Substrate processing apparatus and method of driving relay member

Номер патента: US20220037125A1. Автор: Shin Matsuura,Nobutaka Sasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-02-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240339334A1. Автор: Kuntack Lee,Jihoon Jeong,Sangjine Park,Seohyun Kim,Sukhoon KIM,Younghoo KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09964358B2. Автор: Takashi Miyamoto,Osamu Yamazaki,Konosuke Hayashi,Jun Matsushita. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

Device for ultrasonic coagulation of foreign particles in gas flows

Номер патента: RU2725584C1. Автор: Владимир Николаевич Хмелёв,Андрей Викторович Шалунов,Виктор Александрович Нестеров,Павел Павлович Тертишников. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Алтайский государственный технический университет им. И.И. Ползунова" (АлтГТУ). Дата публикации: 2020-07-02.

Method and device for partial removal of contaminants from process gas flow

Номер патента: RU2698835C2. Автор: Нареш Дж. САЧЕК. Владелец: Линде Акциенгезелльшафт. Дата публикации: 2019-08-30.

Steam supply system for superposed turbine and process chamber, such as coal gasification

Номер патента: CA1260780A. Автор: William M. Menger. Владелец: Houston Industries Inc. Дата публикации: 1989-09-26.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20240047233A1. Автор: Naofumi Ohashi,Tomihiro Amano,Tomoyuki Miyada. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-02-08.

Method of manufacturing semiconductor device by setting process chamber maintenance enable state

Номер патента: US11749550B2. Автор: Naofumi Ohashi,Shun Matsui,Yasuhiro Mizuguchi,Tadashi Takasaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-09-05.

Semiconductor substrate processing apparatus

Номер патента: US20230230865A1. Автор: Kyusang Lee,Hyunjoo Jeon,Jinhyuk CHOI,Beomsoo HWANG,Kongwoo Lee,Myungki Song,Duckjin KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-20.

Controlling gas flows in processing tool

Номер патента: WO2024129260A1. Автор: Hyeongeu Kim,Adam Fisher,Michael Philip Roberts,William SCHLOSSER,Tongtong GUO,Gopinath Bhimarasetti,John Michael WILTSE,Nathaniel Elba RICHEY,Steven Payonk Letourneau,Andrew Kenichi Duvall,Michael William HOBERNICHT. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-06-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240234171A1. Автор: Mi So PARK,Do Hyeon YOON,Eun Seok Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Semiconductor processing chamber architecture for higher throughput and faster transition time

Номер патента: US12062526B2. Автор: Viren KALSEKAR. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-13.

In-situ light detection methods and apparatus for ultraviolet semiconductor substrate processing

Номер патента: US20210223707A1. Автор: LIN Zhang,Shuran Sheng,Joseph C. Werner,Ralph Peter ANTONIO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-07-22.

Large area substrate processing system with between chamber platform

Номер патента: US20100158642A1. Автор: John A. Miller,Thomas L. Duer. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2010-06-24.

Substrate processing apparatus, substrate checking method, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20240321612A1. Автор: Takuya Saito,Shin Hiyama,Taiyo OKAZAKI,Shin TSUJIMURA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate processing method and substrate processing system

Номер патента: US20240355647A1. Автор: Takashi Uno,Naoyuki Okamura,Keisuke Sakaguchi,Katsufumi Matsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus and recording medium

Номер патента: US09974191B2. Автор: Yasutoshi Tsubota. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-05-15.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09524847B2. Автор: Makoto Kobayashi,Jun Tamura,Hiroshi Tsujimoto,Nobuhiro Wada,Jun Oyabu,Mamoru NAOI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-20.

Substrate processing apparatus, control method adopted in substrate processing apparatus and program

Номер патента: US20060176928A1. Автор: Hiroshi Nakamura,Toshiyuki Kobayashi,Shinichiro Hayasaka,Seiichi Kaise. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-08-10.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US20230317488A1. Автор: Hiromitsu Sakaue. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Plasma confinement ring assembly for plasma processing chambers

Номер патента: WO2012039744A3. Автор: Travis R. Taylor,Anthony de la Llera,David Carman,Harmeet Singh,Saurabh J. Ullal. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-08-23.

Plasma confinement ring assembly for plasma processing chambers

Номер патента: WO2012039744A2. Автор: Travis R. Taylor,Anthony de la Llera,David Carman,Harmeet Singh,Saurabh J. Ullal. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-03-29.

Substrate processing apparatus and shutter

Номер патента: US20240128058A1. Автор: Takashi Aramaki,Atsushi Ogata,Gyeong Min Park,Lifu Li,Kojiro MATSUZAKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-18.

Substrate processing method and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20060289431A1. Автор: Shinichi Ito,Tsuyoshi Shibata,Kei Hayasaki,Koutarou Sho. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-12-28.

Substrate processing apparatus and processing cup cleaning method

Номер патента: US20180025922A1. Автор: Hiroki Tsujikawa,Kazuhiro Fujita,Masahide Ikeda,Atsuyasu Miura,Yuya TSUCHIHASHI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-25.

Substrate process apparatus

Номер патента: WO2020252476A3. Автор: Alexander Krupyshev,Robert May,Daniel Babbs,Leigh SHARROCK. Владелец: Brooks Automation, Inc.. Дата публикации: 2021-02-04.

Systems and methods for monitoring of a controlled environment in a substrate processing system

Номер патента: US20240304477A1. Автор: Bert Jongbloed,Gido Van Der Star. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-09-12.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09818630B2. Автор: Akira Takahashi,Kazuyuki Toyoda. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2017-11-14.

Substrate processing system and substrate transfer control method

Номер патента: US09646864B2. Автор: Daisuke Morisawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method using same

Номер патента: US09564287B2. Автор: Jun Abe,Takeshi Ohse,Norikazu Yamada,Shinji Himori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-07.

Ambient laminar gas flow distribution in laser processing systems

Номер патента: US09557111B2. Автор: Stephen Moffatt,Aaron Muir Hunter. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-01-31.

Device for producing and processing gas flow by means of liquid volume

Номер патента: RU2741950C2. Автор: М. Жауа ЗЕММУРИ. Владелец: Старклаб. Дата публикации: 2021-02-01.

Plasma ignition optimization in semiconductor processing chambers

Номер патента: US11894217B2. Автор: Kenneth D. Schatz,Soonwook JUNG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-06.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US11869790B2. Автор: Yuji Takebayashi,Toshiro Koshimaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-01-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240021412A1. Автор: Jae Hoo Lee,Yoon Jong JU,Min Sung HAN,Seong Pyo Ahn,Hyun Min Lim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-18.

Substrate processing apparatus and method for forming coating film on surface of reaction tube used for the substrate processing apparatus

Номер патента: US20120258565A1. Автор: Kazuyuki Toyoda,Eisuke Nishitani,Kiyoshi Miyajima,Yasuo Kunii,Tatsuya Hamaguchi,Tomohiro NAKASUJI,Kosaku HIYAMA. Владелец: Tocalo Co Ltd. Дата публикации: 2012-10-11.

Multi-chambered substrate processing equipment having sealing structure between chambers thereof, and method of assembling such equipment

Номер патента: US20070114440A1. Автор: Kyoung-Seok Yang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-05-24.

Plasma ignition optimization in semiconductor processing chambers

Номер патента: WO2022109049A1. Автор: Kenneth D. Schatz,Soonwook JUNG. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-05-27.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20240145287A1. Автор: Yuji Takebayashi,Toshiro Koshimaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20210335598A1. Автор: Shota Yoshimura,Shinya Morikita,Takahiro Tokuo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-10-28.

Substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20200365367A1. Автор: Teruo Yoshino,Takashi Yahata. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2020-11-19.

Plasma confinement ring assembly for plasma processing chambers

Номер патента: SG188600A1. Автор: David Carman,Harmeet Singh,La Llera Anthony De,Travis R Taylor,Saurabh J Ullal. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2013-04-30.

Process, apparatus and system for creating extruded plastic sheets having decorative effects, products made with extruded plastic sheets created with same and decorative films for use in such processs, apparatus and system

Номер патента: CA2987836C. Автор: Philippe Leblanc,Marie Matet. Владелец: Pelican International Inc. Дата публикации: 2021-11-02.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200027688A1. Автор: Shinji Kubota,Naohiko Okunishi,Shota Kaneko,Yosuke Tamuro. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-01-23.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: EP4428908A1. Автор: Kwang Sung Yoo,Tae Hwan YOUN,Geon Jong KIM. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-09-11.

Substrate processing apparatus and methods

Номер патента: US09972511B2. Автор: Takashi KURATOMI,Brent Biggs. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-05-15.

Apparatus and methods for reducing particles in semiconductor process chambers

Номер патента: US09761416B2. Автор: ANAND Kumar,Shahid Rauf,Michael D. Willwerth,Kenneth S. Collins,Andrew Nguyen,Ajit Balakrishna,Tom K. Cho,Yogananda SARODE VISHWANATH,Bradley Howard. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-09-12.

Etching method and substrate processing apparatus

Номер патента: US09419211B2. Автор: Takashi Sone,Eiichi Nishimura,Fumiko Yamashita,Masato Kushibiki,Nao Koizumi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-16.

Manufacturing method of semiconductor device and substrate processing apparatus

Номер патента: US8071446B2. Автор: Tadashi Terasaki. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2011-12-06.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US11923220B2. Автор: Naoyuki Okamura,Hirotaka Maruyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

Substrate processing system and substrate transfer apparatus and method

Номер патента: US20230282492A1. Автор: Toshiaki Toyomaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20230018151A1. Автор: Toru Hisamatsu,Shinya Ishikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-01-19.

Plasma ignition optimization in semiconductor processing chambers

Номер патента: US20230197405A1. Автор: Kenneth D. Schatz,Soonwook JUNG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-06-22.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20210043482A1. Автор: Naoyuki Okamura,Hirotaka Maruyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-02-11.

Substrate processing apparatus and method for correcting positional displacement

Номер патента: US20230253223A1. Автор: Tamihiro Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-10.

Substrate processing apparatus, substrate processing method and method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20240120213A1. Автор: Sung Yong Park,Woo Rim LEE,Myoung Jae Seo,Sung Gil Kang,Hyun Ho Doh,In Hye Jeong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-11.

Substrate processing apparatus, plasma generating apparatus, substrate processing method, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20240222087A1. Автор: Tsuyoshi Takeda,Daisuke Hara. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Substrate processing unit, substrate transfer method, substrate cleansing process unit, and substrate plating apparatus

Номер патента: EP1920458A1. Автор: Kenichi Suzuki,Masahiko Sekimoto,Kenichi Kobayashi,Toshio Yokoyama,Ryo Kato,Teruyuki Watanabe. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2008-05-14.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US10186422B2. Автор: Keiji Osada,Daisuke Morisawa,Naohide Ito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-01-22.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20230369018A1. Автор: Jaewon Shin,Sangjeong LEE,Jongwon Park,Yoonseok Choi,Kyunghun JANG,Youngun Bong,Hanlim Kang,Hyunwoo Jo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Substrate processing system and substrate processing method

Номер патента: US20240242975A1. Автор: Kotaro Tsurusaki,Yoshihiro Kai,Keiji Onzuka,Kouzou Kanagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method

Номер патента: US12062563B2. Автор: Itsuki Kobata,Keita Yagi,Nobuyuki Takahashi,Yoichi Shiokawa,Toru Maruyama,Katsuhide Watanabe. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-08-13.

Substrate holding method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240258082A1. Автор: Shinsuke Oka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

System and method for use in geo-spatial registration

Номер патента: US20220108460A1. Автор: Zvika ASHANI. Владелец: Agent Video Intelligence Ltd. Дата публикации: 2022-04-07.

Replacement end time determination method, substrate processing method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240255404A1. Автор: Noritake SUMI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing apparatus and processing liquid supply method

Номер патента: US20180090306A1. Автор: Jiro Higashijima,Yusuke Hashimoto,Nobuhiro Ogata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-29.

Substrate processing method

Номер патента: US20240234189A1. Автор: Tomohiro Takahashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Lightpipe for high temperature substrate processing

Номер патента: US20240142310A1. Автор: Ji-Dih Hu. Владелец: Veeco Instruments Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240321650A1. Автор: Yuji Otsuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Lightpipe for high temperature substrate processing

Номер патента: WO2024091827A3. Автор: Ji-Dih Hu. Владелец: VEECO INSTRUMENTS INC.. Дата публикации: 2024-07-04.

Lightpipe for high temperature substrate processing

Номер патента: WO2024091827A2. Автор: Ji-Dih Hu. Владелец: VEECO INSTRUMENTS INC.. Дата публикации: 2024-05-02.

Substrate processing apparatus, semiconductor device manufacturing method, and substrate processing method

Номер патента: US20240363309A1. Автор: Naofumi Ohashi,Tsuyoshi Takeda,Teruo Yoshino. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-10-31.

Beverage capsule and process and system for making same

Номер патента: US09688465B2. Автор: Liberatore A. Trombetta,Yucheng Fu. Владелец: 2266170 Ontario Inc. Дата публикации: 2017-06-27.

Parallel single substrate processing system

Номер патента: US09449862B2. Автор: Arthur Keigler,Freeman Fisher,Daniel L. Goodman. Владелец: Tel Nexx Inc. Дата публикации: 2016-09-20.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09449857B2. Автор: Hiroaki Inadomi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Reliable signals ecg and synchronizing pulses collection and processing in magnetic resonance medium

Номер патента: RU2690891C2. Автор: Фрэнсис Патрик О'НИЛ,Эдуардо Марио РЭЙ. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС Н.В.. Дата публикации: 2019-06-06.

Process chambers for substrate vacuum processing tool

Номер патента: WO2007101207A3. Автор: John M Smith,James Carter Hall,Jeffrey G Ellison. Владелец: Anaconda Semi Lp. Дата публикации: 2008-01-10.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240036476A1. Автор: Kuntack Lee,Jihwan Park,Sangjine Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-01.

Metallic shield for stable tape-frame substrate processing

Номер патента: WO2024091528A1. Автор: YING Wang,Xundong Dai,Harish Varma Penmethsa,Alejandro Lizarraga Maldonado,Chin Seng Lau. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-05-02.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and recording medium

Номер патента: US20230359175A1. Автор: Naofumi Ohashi,Toshiyuki Kikuchi,Shun Matsui,Tadashi Takasaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-11-09.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240071728A1. Автор: Shota Yoshimura,Takanori BANSE,Hsinkai WANG. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-29.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium

Номер патента: US20230307267A1. Автор: Takashi Nakagawa,Katsuhiko Yamamoto,Shinya Sasaki,Shuhei SAIDO,Yoshihiko Yanagisawa,Noriaki MICHITA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and program

Номер патента: EP4258329A1. Автор: Takashi Nakagawa,Katsuhiko Yamamoto,Shinya Sasaki,Shuhei SAIDO,Yoshihiko Yanagisawa,Noriaki MICHITA. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-10-11.

Substrate mounting table and substrate processing apparatus

Номер патента: US20130342952A1. Автор: Tsutomu Nagai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-12-26.

Metallic Shield For Stable Tape-Frame Substrate Processing

Номер патента: US20240136159A1. Автор: YING Wang,Xundong Dai,Harish Varma Penmethsa,Alejandro Lizarraga Maldonado,Chin Seng Lau. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-25.

Substrate Processing Apparatus, Method of Processing Substrate, Method of Manufacturing Semiconductor Device and Non Transitory Computer Readable Recording Medium on which Program for Performing Method of Manufacturing Semiconductor Device is Recorded

Номер патента: US20130243550A1. Автор: Hiroyuki Ogawa,Takeshi Yasui,Mitsuru Fukuda,Naoya Matsuura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2013-09-19.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240184208A1. Автор: Hyun Min Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Substrate processing device and substrate processing method

Номер патента: US20240203696A1. Автор: Tae Sung Kim,Duk Hyun SON. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

A method of producing a processed kava product having an altered kavalactone distribution and processed kava products produced using the same

Номер патента: WO2003028662A3. Автор: Brian Pierce,William Birdsall,Robert T Gow,John A Pierce. Владелец: John A Pierce. Дата публикации: 2003-08-07.

Slide and pivot assemblies for process module bias assemblies of substrate processing systems

Номер патента: US20230154772A1. Автор: BIN Yuan,Michael C. Kellogg,David William Paquet,Dexter Yuk Hing CHONG. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-05-18.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230101475A1. Автор: Hiroki Tajiri,Masayuki ORISAKA,Takashi Izuta. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Substrate processing apparatus, model data generation apparatus, substrate processing method, and model data generation method

Номер патента: US20240194507A1. Автор: Kiyoshi Mori,Tsuyoshi Moriya,Takayuki Yamagishi,Haruhiko Furuya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Substrate processing apparatus and method of detecting indentation formed in substrate

Номер патента: SG10201806154TA. Автор: Takahashi Nobuyuki,Wen Zhongxin,Sakugawa Suguru. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-02-27.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20200243350A1. Автор: Hiroshi Abe,Manabu Okutani,Naohiko YOSHIHARA,Katsuei HIGASHI,Tsutomu Osuka. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-30.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20130084709A1. Автор: Masahiro Miyagi,Kazunori Fujikawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-04-04.

Inner wall and substrate processing apparatus

Номер патента: US12040198B2. Автор: Atsushi Tanaka,Hiroyuki Ogawa,Yuji Asakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Substrate processing apparatus and method

Номер патента: EP4407661A1. Автор: YANG Han,Xi Wang,HUI Wang,Jun Wang,Jian Wang,Hui Shen,Xiaoyan Zhang,Fuping CHEN,Shena JIA,Wenjun Wang,Yinxiao LU. Владелец: ACM Research Shanghai Inc. Дата публикации: 2024-07-31.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230178396A1. Автор: Seok Heo,Young Ho Hwang,Eun Seok SEO,Jun O PARK,Jae Hong Lim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-08.

Apparatus for use in recycling paper material

Номер патента: EP1709238A1. Автор: Adebayo Oluyinka Ogunjimi. Владелец: 3T SYSTEMS Ltd. Дата публикации: 2006-10-11.

Apparatus for use in recycling paper material

Номер патента: US20070113994A1. Автор: Adebayo Ogunjimi. Владелец: 3T SYSTEMS Ltd. Дата публикации: 2007-05-24.

Prediction method and apparatus for substrate processing apparatus

Номер патента: US20070215574A1. Автор: Hideki Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-09-20.

Photographic apparatus and process employing porous filter

Номер патента: US3659512A. Автор: Milton S Dietz,Walter G Lehamann. Владелец: Polaroid Corp. Дата публикации: 1972-05-02.

Substrate processing method

Номер патента: US20110200949A1. Автор: Hiroshi Nakamura,Tadatoshi Tomita,Takafumi Niwa,Yuhei Kuwahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-08-18.

Substrate processing apparatus control system and substrate processing apparatus control method

Номер патента: US20240149599A1. Автор: Beomjeong OH,Jong Nam NA. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240274451A1. Автор: Masanobu Sato,Hiroshi Horiguchi,Saki Miyagawa. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Substrate processing apparatus and substrate processing method using the same

Номер патента: US20240266144A1. Автор: Kyung-Sun Kim,Jaewon Jeong,Naohiko Okunishi,SeungBo SHIM,Kyeongtea BANG,Kihwan Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-08.

Substrate processing method

Номер патента: US20240250064A1. Автор: Yoshihisa Matsubara,Yoshihiro Tsutsumi,Yohei Yamashita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Etching method, plasma processing apparatus, and substrate processing system

Номер патента: US20240312771A1. Автор: Noboru Saito,Takahiro Yokoyama,Yusuke Takino. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Inner Wall and substrate Processing Apparatus

Номер патента: US20240321602A1. Автор: Atsushi Tanaka,Hiroyuki Ogawa,Yuji Asakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Substrate processing method

Номер патента: US8367308B2. Автор: Hiroshi Nakamura,Tadatoshi Tomita,Takafumi Niwa,Yuhei Kuwahara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-02-05.

Substrate processing apparatus

Номер патента: EP4451310A1. Автор: Jong Chan Lee,Kwang Sung Yoo,Hyen Woo Chu. Владелец: PSK Inc. Дата публикации: 2024-10-23.

Substrate processing apparatus having a middle electrode

Номер патента: US12106977B2. Автор: Jin HO KIM,Sang Hyun Sung,Sung Lae OH. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2024-10-01.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09997382B2. Автор: Kenji Kobayashi,Kazuhide Saito,Kenji Izumoto,Akihisa Iwasaki,Takemitsu Miura. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09859136B2. Автор: Yoshifumi Amano,Yoichi Tokunaga,Hiromitsu Namba,. Fitrianto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Etch system and method for single substrate processing

Номер патента: US09852920B2. Автор: Ian J. Brown,Wallace P. Printz. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-26.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09766617B2. Автор: Keiji Osada,Junichi Ogawa,Youichi Nakayama,Hiroaki DEWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Substrate processing apparatus, method of operating substrate processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US09696262B2. Автор: Katsuhiro Morikawa,Ikuo Sunaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-07-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09576808B2. Автор: Kenichiro Arai,Masahiro Miyagi,Toru Endo,Hirofumi MASUHARA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09465293B2. Автор: Koji Nishiyama,Masahito KASHIYAMA. Владелец: Screen Semiconductor Solutions Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-11.

Substrate processing apparatus and substrate processing method for performing cleaning process and the like on substrate

Номер патента: US09327918B2. Автор: Mitsukazu Takahashi,Jun Shibukawa,Motoyasu Hayashi. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-05-03.

Method of calibrating a gas flow meter

Номер патента: RU2686451C1. Автор: Александр Иванович Попов,Михаил Михайлович Беляев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт проблем управления им. В.А. Трапезникова Российской академии наук. Дата публикации: 2019-04-25.

Offset correction techniques for positioning substrates within a processing chamber

Номер патента: WO2009043018A3. Автор: Jack Chen,Andrew D. Bailey Iii,Ben Mooring,Stephen J. Cain. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2009-09-11.

Automatic gap compensation using light source and sensor for substrate processing systems

Номер патента: WO2023211729A1. Автор: Jae Hyun Kim,Goon Heng WONG. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2023-11-02.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20160372340A1. Автор: Koji Ando,Tadashi Maegawa,Rei Takeaki,Yosuke YASUTAKE. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2016-12-22.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20200286750A1. Автор: Koji Ando,Tadashi Maegawa,Rei Takeaki,Yosuke YASUTAKE. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2020-09-10.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US11887861B2. Автор: Jaewon WOO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-30.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220238348A1. Автор: Hiromi Miyashita,Rei Shoji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-07-28.

Radio frequency source for inductively coupled and capacitively coupled plasmas in substrate processing chambers

Номер патента: US20230317411A1. Автор: Juan Carlos Rocha-Alvarez,Abdul Aziz KHAJA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-05.

Method of manufacturing semiconductor device by setting process chamber to maintenance enable state

Номер патента: US20230360942A1. Автор: Naofumi Ohashi,Shun Matsui,Yasuhiro Mizuguchi,Tadashi Takasaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-11-09.

Method for monitoring substrate, method for fabricating semiconductor device using the same, and substrate process system using the same

Номер патента: US20230115922A1. Автор: Young Ho Kim,Yong In Lee,Jun Gyu Lee,Se-Hoon Jang,In Hwa BAEK,Dong Gap SHIN,Seung Dae Seok,Si Woong WOO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-04-13.

Substrate processing apparatus and method of manufacturing thereof

Номер патента: US11869749B2. Автор: Ja Myung GU,Shant ARAKELYAN,Jong Hwan AN. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-09.

Substrate processing apparatus including edge ring

Номер патента: US20200303233A1. Автор: Ja Woo Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-09-24.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20180218930A1. Автор: Chen Yuan,Yu Yang,Wei Zhou,Weigang PENG,Chengnan HSIEH,Giseub LIM. Владелец: Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-08-02.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20170316947A1. Автор: Shuji Moriya,Masahiko Tomita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-02.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240178031A1. Автор: Jaesung Lee,Sumi Kim. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Improved Terminal Holders or Connectors for Wires or Rods, for use, for example, in the Brake-operating Mechanism of Cycles and like Vehicles.

Номер патента: GB190722929A. Автор: John Thomas. Владелец: Individual. Дата публикации: 1908-10-15.

SUBSTRATE STAGE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20120000612A1. Автор: Muraki Yusuke,ODAGIRI Masaya,FUJIHARA Jin. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120000629A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

MOVABLE GROUND RING FOR A PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20120003836A1. Автор: . Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120000886A1. Автор: NISHINO Masaru,HONDA Masanobu,Kubota Kazuhiro,Ooya Yoshinobu. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND APPARATUS FOR THERMAL BASED SUBSTRATE PROCESSING WITH VARIABLE TEMPERATURE CAPABILITY

Номер патента: US20120003388A1. Автор: Wu Kai,YUAN XIAOXIONG,TZU GWO-CHUAN,KHANDELWAL AMIT,WANG BENJAMIN CHENG,GELATOS AVGERINOS V.,KARAZIM MICHAEL P.,LIN JING,CUVALCI OLKAN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

CONSUMABLE ISOLATION RING FOR MOVABLE SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY OF A PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20120000605A1. Автор: Dhindsa Rajinder,Kellogg Michael C.,Marakhtanov Alexei. Владелец: Lam Research Corporation.. Дата публикации: 2012-01-05.

C-SHAPED CONFINEMENT RING FOR A PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20120000608A1. Автор: Dhindsa Rajinder,Kellogg Michael C.,Marakhtanov Alexei. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE TRANSFER METHOD ADOPTED IN SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120004753A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

POWER SUPPLYING MEANS HAVING SHIELDING MEANS FOR FEEDING LINE AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20120000609A1. Автор: DO Jae-Chul,JEON Bu-Il,SONG Myung-Gon,LEE Jung-Rak. Владелец: JUSUNG ENGINEERING CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS FOR ENHANCED PROCESSING CHAMBER CLEANING

Номер патента: US20120000490A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS OF FORMING A CONDUCTIVE TRANSPARENT OXIDE FILM LAYER FOR USE IN A CADMIUM TELLURIDE BASED THIN FILM PHOTOVOLTAIC DEVICE

Номер патента: US20120003784A1. Автор: . Владелец: PRIMESTAR SOLAR, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

ROTOR ASSEMBLY FOR USE IN GAS TURBINE ENGINES AND METHOD FOR ASSEMBLING THE SAME

Номер патента: US20120003091A1. Автор: Segovia Eugenio Yegro. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Formed article for anode element of electrolytic capacitor, formed article with substrate, process for producing the same, and process for producing anode element of electrolytic capacitor

Номер патента: TW200400526A. Автор: Minoru Moriyama,Akiko Miyamoto,Wataru Suenaga. Владелец: Pure Material Lab Ltd. Дата публикации: 2004-01-01.

Improvements in the Treatment of Sewage and other Polluted Liquids and in Apparatus for Use in connection therewith.

Номер патента: GB190100517A. Автор: Frank Candy. Владелец: Individual. Дата публикации: 1901-12-14.

Device for separating finely dispersed dropping liquid from vapor-gas flow

Номер патента: RU2278721C1. Автор: Дмитрий Юрьевич Чувилин,Александр Николаевич Удовенко,Александр Васильевич Загнитько,Геннадий Иванович Пушко. Владелец: Александр Васильевич Загнитько. Дата публикации: 2006-06-27.

METHOD FOR PROCESSING OF GLASS, PROCESS FOR PRODUCTION OF WIRING SUBSTRATE, PROCESS FOR PRODUCTION OF MICROCHIP, AND PROCESS FOR PRODUCTION OF MICROLENS ARRAY SUBSTRATE

Номер патента: US20120152758A1. Автор: . Владелец: SHARP KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-06-21.

Improvements in the Manufacture of the Haloid Compounds of Cyanogen.

Номер патента: GB190009710A. Автор: Hugh Fitzal Kirkpatrick-Picard. Владелец: Individual. Дата публикации: 1901-05-25.

Silicon-containing film forming composition for etching mask, silicon-containing film for etching mask, substrate processing intermediate using the same, and processing method of substrate to be processed

Номер патента: JP4780323B2. Автор: 元亮 岩淵,勤 荻原,健 浅野,貴史 上田. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2011-09-28.

Method to manufacture acoustic panels and process line for their manufacturing

Номер патента: RU2539462C1. Автор: Григорий Андреевич КРЮЧКОВ. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "ТЕРРАБИЛДИНГ". Дата публикации: 2015-01-20.

Formed article for anode element of electrolytic capacitor, formed article with substrate, process for producing the same, and process for producing anode element of electrolytic capacitor

Номер патента: TWI273616B. Автор: Minoru Moriyama,Akiko Miyamoto,Wataru Suenaga. Владелец: Dainippon Ink & Chemicals. Дата публикации: 2007-02-11.

Improvements in the Manufacture of Cellulose from Vegetable Fibres.

Номер патента: GB190508960A. Автор: William Mather. Владелец: Individual. Дата публикации: 1906-07-28.

Improvements in Materials for use as Stuffing in the Manufacture of Bedding, Cushions and the like, including Stuffed Coverlets or Quilts.

Номер патента: GB190225080A. Автор: Francis Thomas Bond. Владелец: Individual. Дата публикации: 1903-09-24.

Distributor of gas flow

Номер патента: RU2418995C1. Автор: Сергей Геннадьевич Емельянов,Вячеслав Михайлович Полунин,Николай Сергеевич Кобелев,Петр Алексеевич Ряполов,Владимир Васильевич Коварда,Владимир Митрофанович Пауков. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Курский государственный технический университет" (Курск ГТУ). Дата публикации: 2011-05-20.

Radiant heater suitable for use outdoors

Номер патента: AU201611089S. Автор: . Владелец: ALVER Pty Ltd. Дата публикации: 2016-05-04.

Radiant heater suitable for use outdoors

Номер патента: AU201611088S. Автор: . Владелец: ALVER Pty Ltd. Дата публикации: 2016-05-04.

Device with filler for bottle capping and processing liquid product located in it

Номер патента: RU2520880C2. Автор: Павел Дмитриевич Жердев. Владелец: Сенченко Татьяна Андреевна. Дата публикации: 2014-06-27.

Improvements in Materials for use as Stuffing in the Manufacture of Bedding, Cushions and the like, including Stuffed Coverlets or Quilts.

Номер патента: GB190203771A. Автор: Francis Thomas Bond. Владелец: Individual. Дата публикации: 1903-01-01.

Electric-ionization gas laser having external excitation and longitudinal direction of gas flow

Номер патента: RU2065242C1. Автор: Л.В. Бодакин,А.А. Макаревич,н Г.Ш. Манук,Г.Ш. Манукян,И.А. Туманов. Владелец: Научно-исследовательский институт электрофизической аппаратуры им.Д.В.Ефремова. Дата публикации: 1996-08-10.

Improvements in or relating to the modulation of a beam of light for use for example in the recording of sound or in the reproduciton of recorded sound

Номер патента: AU2822430B. Автор: Arthur Ashton William. Владелец: Nominee Of. Дата публикации: 1931-08-13.

Improvements in or relating to the modulation of a beam of light for use for example in the recording of sound or in the reproduciton of recorded sound

Номер патента: AU2822430A. Автор: Arthur Ashton William. Владелец: Nominee Of. Дата публикации: 1931-08-13.

WORKING PROCESS AND METHOD FOR USING WATER STEAM IN THE WORK OF THE VORONTSOV ENGINE

Номер патента: RU2011114465A. Автор: Олег Ильич Воронцов,Олег Ильич Воронцов (RU). Владелец: Воронцов Сергей Олегович (RU). Дата публикации: 2012-10-20.

Improvements in the Manufacture of Metal Rods and Bars, applicable for Use as or in the Formation of Twist Drills and other like Cutting Tools, Palisading, Railings, and other Articles.

Номер патента: GB189523301A. Автор: William Lockwood. Владелец: Individual. Дата публикации: 1896-12-05.

Improvements in and relating to Incubators for use in connection with the process of the Determination of Opsonic Indices

Номер патента: GB190621637A. Автор: John Kiell. Владелец: Individual. Дата публикации: 1907-01-10.

Improvements in the Production of Armor and like Compound Plates and in Apparatus therefor.

Номер патента: GB189905501A. Автор: Owen Franklin Leibert. Владелец: Individual. Дата публикации: 1899-06-17.

Engraved printing rolls and process of making

Номер патента: CA1301540C. Автор: Sidney Puleston. Владелец: Borden Inc. Дата публикации: 1992-05-26.

NOVEL HANSENULA POLYMORPHA GENE CODING FOR DOLICHYL-PHOSPHATE- MANNOSE DEPENDENT ALPHA-1,3 MANNOSYLTRANSFERASE AND PROCESS FOR THE PRODUCTION OF RECOMBINANT GLYCOPROTEINS WITH HANSENULA POLYMORPHA MUTANT STRAIN DEFICIENT IN THE SAME GENE

Номер патента: US20120202248A1. Автор: KIM Eun Jung,PARK Jeong Seok,KANG Hyun Ah,MOON Hye Yun,Kim Moo Woong,Oh Doo Byoung,Heo Joo Hyung,Rhee Sang Ki. Владелец: Korea Research Institute of Bioscience and Biotechnology. Дата публикации: 2012-08-09.

SYSTEM AND METHOD FOR USING AN ANALOGY IN THE MANAGEMENT OF ASSETS

Номер патента: US20120246046A1. Автор: . Владелец: FANTASY FINANCE VENTURES, LLC. Дата публикации: 2012-09-27.

Security Architecture For Using Host Memory in the Design of A Secure Element

Номер патента: US20120297204A1. Автор: . Владелец: BROADCOM CORPORATION. Дата публикации: 2012-11-22.

APPARATUS AND METHODS FOR USING RECYCLED MATERIAL IN THE FABRICATION OF PRECAST ARCHITECTURAL PRODUCTS

Номер патента: US20130276406A1. Автор: Coate Mark. Владелец: PRESTIGE ARCHITECTURAL PRODUCTS. Дата публикации: 2013-10-24.

4,6,6,6-TETRAHALOGENCARBOXYLIC ACID ESTERS FOR USE AS INTERMEDIATE IN THE PREPARATION OF ESTERS OF DIHALOGENVINYL-CYCLOPROPANCARBOXYL ACIDS

Номер патента: NO148414C. Автор: Kiyoshi Kondo,Kiyohide Matsui,Akira Negishi,Yuriko Takahatake. Владелец: Sagami Chem Res. Дата публикации: 1983-10-05.

PANELS FOR USE WITH FORMWORKS IN THE CONSTRUCTION OF TABIQUES AND Slabs

Номер патента: AR107400A1. Автор: . Владелец: Gutierrez Eduardo Ramon. Дата публикации: 2018-04-25.

TRAY SUITABLE FOR CONTAINING MEAT, FOR USE IN PLANTS FOR THE PROCESSING OF MEAT.

Номер патента: IT224602Z2. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 1996-05-29.

Process for the manufacture of blown, cellular polymeric materials, and a ternary mixture for use in carrying out the process

Номер патента: AU214810B2. Автор: Arthur Packer and John Francis Wood Eric. Владелец: Imperial Chemical Industries Ltd. Дата публикации: 1957-05-30.

Improved Preparations for Use as Precipitants in the Treatment of Sewage and other Polluted Water.

Номер патента: GB189614124A. Автор: Frank Candy,Arthur Angell. Владелец: Individual. Дата публикации: 1897-05-15.

Process for the manufacture of blown, cellular polymeric materials, and a ternary mixture for use in carrying out the process

Номер патента: AU2357056A. Автор: Arthur Packer and John Francis Wood Eric. Владелец: Imperial Chemical Industries Ltd. Дата публикации: 1957-05-30.

High capacity colloidal storage battery, electrolyte used in it, and the process them

Номер патента: MY110298A. Автор: Lianxiang Wang,Anchen Zheng,Shuo Zheng,Hang Zheng. Владелец: Hang Zheng. Дата публикации: 1998-04-30.

MASS FLOW CONTROLLER, MASS FLOW CONTROLLER SYSTEM, SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, AND GAS FLOW RATE ADJUSTING METHOD

Номер патента: US20120000542A1. Автор: . Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE SUPPORT FOR USE WITH MULTI-ZONAL HEATING SOURCES

Номер патента: US20120003599A1. Автор: Sanchez Errol,PATALAY KAILASH. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

LOADLOCK DESIGNS AND METHODS FOR USING SAME

Номер патента: US20120003063A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING INCLUDING A MASKING LAYER

Номер патента: US20120001320A1. Автор: Kumar Nitin,Duong Anh,Lang Chi-I,Chiang Tony P.,BOUSSIE Thomas R.,Malhotra Sandra G.,Fresco Zachary,Tong Jinhong. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR ON GLASS SUBSTRATE WITH STIFFENING LAYER AND PROCESS OF MAKING THE SAME

Номер патента: US20120001293A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Methods for Manufacturing a Vacuum Chamber and Components Thereof, and Improved Vacuum Chambers and Components Thereof

Номер патента: US20120000811A1. Автор: . Владелец: Kurt J. Lesker Company. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHODS OF FORMING A CONDUCTIVE TRANSPARENT OXIDE FILM LAYER FOR USE IN A CADMIUM TELLURIDE BASED THIN FILM PHOTOVOLTAIC DEVICE

Номер патента: US20120003772A1. Автор: . Владелец: PRIMESTAR SOLAR, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

VARIABLE ORIFICE GAS FLOW MODULATING VALVE

Номер патента: US20120001106A1. Автор: Gum Mike. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Tapentadol for use in the treatment of irritable bowel syndrome

Номер патента: US20120004317A1. Автор: . Владелец: GRUENENTHAL GmbH. Дата публикации: 2012-01-05.

Chamber cleaning for substrate processing systems

Номер патента: WO2024196580A1. Автор: Hu Kang,Ming Li,Dong Wang,Xin Meng,Defu LIANG,Rohit ODE,Huifeng Zheng,Joseph Lindsey Womack. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-09-26.

PHOTOELECTRIC CONVERSION DEVICE COMPRISING HYDROXAMIC ACID OR A SALT THEREOF AS ADDITIVE AND PROCESS FOR PRODUCING SAME

Номер патента: US20120000533A1. Автор: Erk Peter,Reichelt Helmut,Schoeneboom Jan,PSCHIRER Neil Gregory,Eickemeyer Felix,Sens Rüdiger,BERGMANN Hermann. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2012-01-05.

Information Distribution System for Use in an Elevator

Номер патента: US20120000734A1. Автор: . Владелец: GANNETT SATELLITE INFORMATION NETWORK, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

HYDRODEMETALLIZATION CATALYST AND PROCESS

Номер патента: US20120000828A1. Автор: Kuperman Alexander E.,Maesen Theodorus,Dillon Christopher J.. Владелец: Chevron U.S.A. INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

APPARATUS AND METHODS FOR USE IN FLASH DETECTION

Номер патента: US20120001071A1. Автор: SNIDER Robin Terry,MCGEE Jeffrey Dykes,PERRY Michael Dale. Владелец: General Atomics. Дата публикации: 2012-01-05.

SELF-DISPERSIBLE COATED METAL OXIDE POWDER, AND PROCESS FOR PRODUCTION AND USE

Номер патента: US20120003287A1. Автор: Schlossman David,Shao Yun,Orr Carl. Владелец: KOBO PRODUCTS, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

POROUS CERAMICS SHAPED BODY, AND PROCESS FOR PRODUCING SAME

Номер патента: US20120003464A1. Автор: Uoe Kousuke,Yoshino Hajime,Suzuki Keiichiro. Владелец: Sumitomo Chemical Company, Limited. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGING PARTICULATES, PAPER AND PROCESS, AND IMAGING OF PAPER USING DUAL WAVELENGTH LIGHT

Номер патента: US20120003592A1. Автор: . Владелец: INTERNATIONAL PAPER COMAPNY. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR IDENTIFYING ANALYTE-CONTAINING SAMPLES USING SINGLE-READ DETERMINATION OF ANALYTE AND PROCESS CONTROL SIGNALS

Номер патента: US20120003646A1. Автор: . Владелец: GEN-PROBE INCORPORATED. Дата публикации: 2012-01-05.

TAGGED OLIGONUCLEOTIDES AND THEIR USE IN NUCLEIC ACID AMPLIFICATION METHODS

Номер патента: US20120003651A1. Автор: BECKER Michael M.,LIVEZEY Kristin W.,LAM Wai-Chung. Владелец: GEN-PROBE INCORPORATED. Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEM AND METHOD FOR USING ACCELEROMETER OUTPUTS TO CONTROL AN OBJECT ROTATING ON A DISPLAY

Номер патента: US20120004035A1. Автор: RABIN Steven. Владелец: NINTENDO CO., LTD. Дата публикации: 2012-01-05.

POLYARYLENE POLYMERS AND PROCESSES FOR PREPARING

Номер патента: US20120004387A1. Автор: Teasley Mark F.. Владелец: E. I. Du Pont De Nemours and Company. Дата публикации: 2012-01-05.

UZM-7 ALUMINOSILICATE ZEOLITE, METHOD OF PREPARATION AND PROCESSES USING UZM-7

Номер патента: US20120004484A1. Автор: . Владелец: UOP LLC. Дата публикации: 2012-01-05.

UZM-45 ALUMINOSILICATE ZEOLITE, METHOD OF PREPARATION AND PROCESSES USING UZM-45

Номер патента: US20120004486A1. Автор: . Владелец: UOP LLC. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS, SYSTEMS, AND FORMATS FOR DATA, SUCH AS DATA USED IN LASER PROJECTION OF FASTENERS USED IN MANUFACTURING

Номер патента: US20120004752A1. Автор: Behan William M.,Bagwill Tracy L.. Владелец: The Boeing Company. Дата публикации: 2012-01-05.

DEVICE AND METHODS FOR USE OF A DYNAMIC CONE PENETROMETER FOR EVALUATING SOIL COMPACTION

Номер патента: US20120004848A1. Автор: Kinast John Arthur,Farrag Khalid A.,Todres H.A. (Alan). Владелец: Sandy Golgart Sales Inc. d/b/a SGS. Дата публикации: 2012-01-05.

DETECTOR ASSEMBLY FOR USE IN ENVIRONMENTS CONTAINING BACKGROUND MAGNETIC NOISE AND METHOD THEREOF

Номер патента: US20120004878A1. Автор: . Владелец: U.S. Government as represented by the Secretary of the Army. Дата публикации: 2012-01-05.

UZM-35 ZEOLITIC COMPOSITION, METHOD OF PREPARATION AND PROCESSES

Номер патента: US20120003147A1. Автор: . Владелец: UOP LLC.. Дата публикации: 2012-01-05.

REINFORCEMENT FOR ASPHALTIC PAVING, METHOD OF PAVING, AND PROCESS FOR MAKING A GRID WITH THE COATING FOR ASPHALTIC PAVING

Номер патента: US20120003889A1. Автор: Lee Sugjoon,NEWTON Mark J.,Fague Gary R.,Woolstencroft Jon,Goupil Richard,Hook Kerry. Владелец: SAINT-GOBAIN TECHNICAL FABRICS AMERICA, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

ROBOT APPARATUS AND GRIPPING METHOD FOR USE IN ROBOT APPARATUS

Номер патента: US20120004774A1. Автор: . Владелец: KABUSHIKI KAISHA YASKAWA DENKI. Дата публикации: 2012-01-05.

ISOTOPICALLY LABELED CHEMICALLY STABLE REAGENTS AND PROCESS FOR THE SYNTHESIS THEREOF

Номер патента: US20120004413A1. Автор: . Владелец: PerkinElmer Health Sciences, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

DEVICE FOR DISPENSING VIALS USEFUL IN SYSTEM AND METHOD FOR DISPENSING PRESCRIPTIONS

Номер патента: US20120000928A1. Автор: Guthrie Charles H.,Moran,DuMond Jody,JR. Joseph C.,Young Demetris P.,Abrams George Raymond. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Jet Injector Use In Oral Evaluation

Номер патента: US20120003601A1. Автор: CHEN Yi,HUNTER Ian W.,Hogan N. Catherine,Ruddy Bryan P.. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2012-01-05.

Apparatus and process for producing CO2 enriched medical foam

Номер патента: US20120004598A1. Автор: Levy Frank. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Lightweight Portable Moisture Traps For Use With Vacuum Pumps

Номер патента: US20120000283A1. Автор: Williams,Regimand Ali,Muse Peter D.,JR. Johnny Gordon,James Lawrence H.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

High-yield ICF containment chambers and power reactors

Номер патента: US20120002773A1. Автор: . Владелец: Innoven Energy Partners. Дата публикации: 2012-01-05.

TRIURANIUM DISILICIDE NUCLEAR FUEL COMPOSITION FOR USE IN LIGHT WATER REACTORS

Номер патента: US20120002777A1. Автор: . Владелец: WESTINGHOUSE ELECTRIC COMPANY LLC. Дата публикации: 2012-01-05.

TRIURANIUM DISILICIDE NUCLEAR FUEL COMPOSITION FOR USE IN LIGHT WATER REACTORS

Номер патента: US20120002778A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

DELIVERING A CONDUIT INTO A HEART WALL TO PLACE A CORONARY VESSEL IN COMMUNICATION WITH A HEART CHAMBER AND REMOVING TISSUE FROM THE VESSEL OR HEART WALL TO FACILITATE SUCH COMMUNICATION

Номер патента: US20120004589A1. Автор: . Владелец: Medtronic, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

CDNA Corresponding to the Antigenome of Nonsegmented Negative Stranded RNA Viruses and Process for the Production of Such Viruses

Номер патента: US20120003264A1. Автор: . Владелец: Crucell Switzerland AG. Дата публикации: 2012-01-05.

Improvements in Apparatus for Igniting Miners Safety Lamps, especially suitable for use in the Underground Workings of Mines and in the like places.

Номер патента: GB190727140A. Автор: Ernest Arthur Hailwood. Владелец: Individual. Дата публикации: 1908-12-09.

Dialling and calibration method of gas flow meter, and device for its implementation

Номер патента: RU2533745C1. Автор: Константин Владимирович Кружаев,Григорий Константинович Качанов,Наталья Николаевна Хвостенко. Владелец: Открытое акционерное общество "Конструкторское бюро химавтоматики". Дата публикации: 2014-11-20.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.