Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • Semiconductor process chamber with improved reflector

Semiconductor process chamber with improved reflector

Номер патента: US20230399742A1
Опубликовано: 14-12-2023
Автор(ы): Chia-Hung Liu, Sou-Chuan CHIANG, Yen Chuang
Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Plate assemblies, process kits, and processing chambers for semiconductor manufacturing

Номер патента: US20240254624A1. Автор: Ala Moradian,Manjunath Subbanna. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Plate assemblies, process kits, and processing chambers for semiconductor manufacturing

Номер патента: WO2024158601A1. Автор: Ala Moradian,Manjunath Subbanna. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-02.

Substrate processing chamber and process gas flow deflector for use in the processing chamber

Номер патента: US12018369B2. Автор: Thomas Huber,Olaf Fiedler,Matthias Kuenle,Christian Illemann,Mathias Male. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2024-06-25.

Device and procedure for control over temperature of surface of substrate in process chamber

Номер патента: RU2435873C2. Автор: Йоханнес КЕППЕЛЕР,Вальтер ФРАНКЕН. Владелец: Айкстрон Аг. Дата публикации: 2011-12-10.

Heating module and program control method for pumping line of semiconductor processing tool

Номер патента: US20240360551A1. Автор: CHUN Chang,Chih-Yuan Wang,Yi-Ming Lin,Sheng-chun YANG,Weigang Wu,Xuan-Yang Zheng,Ren-Jyue Wang,Che Kang Liu,Kaijun Jan,Tzu-Chuan Chao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Process chamber

Номер патента: US20240352579A1. Автор: Zhepeng Cong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-24.

Method of particle abatement in a semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20230127177A1. Автор: Cornelis Thaddeus Herbschleb,Kelly Houben. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-04-27.

System and method of cleaning process chamber components

Номер патента: US12014902B2. Автор: Jong Yun Kim,Pei-Chia CHEN,Won Ho SUNG,Kim Seong SIM,Roman M. MOSTOVOY. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-18.

Semiconductor processing chambers and methods for cleaning the same

Номер патента: US20240247371A1. Автор: Tuan A. Nguyen,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Amit Bansal,Nitin Pathak,Yuxing Zhang,Kalyanjit GHOSH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

System and method of cleaning process chamber components

Номер патента: US20240055230A1. Автор: Jong Yun Kim,Pei-Chia CHEN,Won Ho SUNG,Kim Seong SIM,Roman M. MOSTOVOY. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-15.

System and method for cleaning process chamber components

Номер патента: WO2024039503A1. Автор: Jong Yun Kim,Pei-Chia CHEN,Won Ho SUNG,Kim Seong SIM,Roman M. MOSTOVOY. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-02-22.

Shaft members, process kits and semiconductor processing systems having shaft members, and methods of making semiconductor processing systems

Номер патента: US20240222187A1. Автор: Han Ye,Felix Rabinovich,Wentao Wang,Aniket Chitale,Bradley Wayne Evans,Gary Urban Keppers,Amin Azimi,Gregory Rosendahl. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-07-04.

Semiconductor processing chambers and methods for cleaning the same

Номер патента: US11952660B2. Автор: Tuan A. Nguyen,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Amit Bansal,Nitin Pathak,Yuxing Zhang,Kalyanjit GHOSH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-09.

Process chamber volume adjustment

Номер патента: US20240218514A1. Автор: Kyle Fondurulia,Dinkar Nandwana,Christopher Falcone,Vishnu Shakti. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-07-04.

Semiconductor processing chamber components with cladding

Номер патента: WO2023219727A1. Автор: LIN Xu,Satish Srinivasan,Robin Koshy. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2023-11-16.

Heat processing apparatus for semiconductor process

Номер патента: US8002895B2. Автор: Atsushi Endo,Hisashi Inoue. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-08-23.

Process chamber having shutter cover for substrate uniformity and prevention of unintended deposition

Номер патента: US20240240322A1. Автор: Abhishek Chowdhury,Edwin C. Suarez,Harisha Sathyanarayana,Nataraj Bhaskar Rao,Xiaozhou CHE,Arun Chakravarthy Chakravarthy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Continuous liner for use in a processing chamber

Номер патента: US11814724B2. Автор: Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,James D. Carducci. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-14.

Continuous liner for use in a processing chamber

Номер патента: US20230175123A1. Автор: Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,James D. Carducci. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-06-08.

Process chamber guide, process chamber, and method for guiding a substrate carrier in a process position

Номер патента: US20210363632A1. Автор: Stefan Reber,Kai Schillinger,Benjamin Reichhart. Владелец: NexWafe GmbH. Дата публикации: 2021-11-25.

Continuous liner for use in a processing chamber

Номер патента: US20240011153A1. Автор: Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,James D. Carducci. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-11.

Adjustable cross-flow process chamber lid

Номер патента: US20240247373A1. Автор: Sanjeev Baluja,Muhannad MUSTAFA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Methods of correlating zones of processing chambers, and related systems and methods

Номер патента: US20240141498A1. Автор: Shu-Kwan LAU,Ala Moradian,Errol Antonio C. Sanchez,Zuoming Zhu,Abhishek Dube,Martin Jeffrey Salinas,Manjunath Subbanna,Chandra MOHAPATRA,Erika R. Warrick. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Adjustable cross-flow process chamber lid

Номер патента: WO2024158731A1. Автор: Sanjeev Baluja,Muhannad MUSTAFA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-02.

Nozzle for remote plasma cleaning of process chambers

Номер патента: US20240141482A1. Автор: Jeremy Jerome POOL. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Cvd reactor comprising a process chamber floor rising in a feeder zone

Номер патента: US20240102164A1. Автор: Levin David Richard Johannes Bee. Владелец: AIXTRON SE. Дата публикации: 2024-03-28.

Cleaning assemblies for substrate processing chambers

Номер патента: WO2022203869A1. Автор: Saket Rathi,Tuan Anh Nguyen,Amit Kumar BANSAL,Nitin Pathak,Yuxing Zhang,Badri N. RAMAMURTHI,Thomas Rubio,Dharma Ratnam SRICHURNAM,Udit S. KOTAGI. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-09-29.

Cleaning assemblies for substrate processing chambers

Номер патента: US12012653B2. Автор: Saket Rathi,Tuan Anh Nguyen,Amit Kumar BANSAL,Nitin Pathak,Yuxing Zhang,Badri N. RAMAMURTHI,Thomas Rubio,Dharma Ratnam SRICHURNAM,Udit S. KOTAGI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-18.

Multipurpose processing chamber for chemical vapor deposition processes

Номер патента: WO1998039495A1. Автор: Kenneth Doering,Carl J. Galewski. Владелец: Genus, Inc.. Дата публикации: 1998-09-11.

Method for heating a semiconductor wafer in a process chamber, and process chamber

Номер патента: EP1305820A1. Автор: Peggy John,Iraj Shahvandi,Olivier Vatel. Владелец: Motorola Inc. Дата публикации: 2003-05-02.

Showerhead electrode design for semiconductor processing reactor

Номер патента: WO2003015133A2. Автор: Rajinder Dhindsa,Eric Lenz. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2003-02-20.

Pad raising mechanism in wafer positioning pedestal for semiconductor processing

Номер патента: US20220352004A1. Автор: Easwar Srinivasan,Karl F. Leeser,Paul Konkola. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2022-11-03.

Pad raising mechanism in wafer positioning pedestal for semiconductor processing

Номер патента: US11955366B2. Автор: Easwar Srinivasan,Karl F. Leeser,Paul Konkola. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-04-09.

Pad raising mechanism in wafer positioning pedestal for semiconductor processing

Номер патента: US20200176301A1. Автор: Easwar Srinivasan,Karl F. Leeser,Paul Konkola. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2020-06-04.

Process chamber, inline coating installation and method for treating a substrate

Номер патента: US20080184933A1. Автор: Michael Schaefer,Edgar Haberkorn,Juergen Henrich. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2008-08-07.

Pedestals for modulating film properties in atomic layer deposition (ALD) substrate processing chambers

Номер патента: US12110586B2. Автор: Adrien Lavoie,Richard Phillips,Ramesh Chandrasekharan,Chloe Baldasseroni,Michael Philip Roberts. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-08.

Thermal chamber with improved thermal uniformity

Номер патента: US11978646B2. Автор: Abhilash J. Mayur,Norman L. Tam,Matthew Spuller,Kartik Shah,Kong Lung Samuel Chan,Preetham Rao,Jau-Jiun Chen,Gia PHAM,Dongming IU,Elizabeth NEVILLE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-07.

Semiconductor process apparatus

Номер патента: EP4253596A1. Автор: HAO WANG,Bo Zheng,Yunfeng LAN,Wenqiang Zhang,Xiaoyan Ren,Xiaoping Shi,Haifeng Qin,Yongfei WANG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-04.

Semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20230411188A1. Автор: HAO WANG,Yunfeng LAN,Wenqiang Zhang,Xiaoyan Ren,Xiaoping Shi,Haifeng Qin,Yongfei WANG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Semiconductor processing chamber component with a metal body and laser glazed ceramic coating

Номер патента: WO2024177759A1. Автор: LIN Xu,Eric A. Pape,David Joseph WETZEL,Jesu Titus IRUDAYARAJ. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-08-29.

Movable central reflectors of semiconductor processing equipment, and related systems and methods

Номер патента: US20240360587A1. Автор: Ala Moradian,Lori D. Washington,Saurabh Chopra,Vishwas Kumar Pandey. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-31.

Gap maintenance for opening to process chamber

Номер патента: WO2010080252A1. Автор: Eric Shero,Carl L. White,Joe Reed. Владелец: ASM AMERICA, INC.. Дата публикации: 2010-07-15.

Semiconductor processing apparatus and semiconductor processing method using the same

Номер патента: US20230002903A1. Автор: Minju Lee,Sangyub IE,Sookyeom Yong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-01-05.

Multi-layer amorphous silicon structure with improved poly-silicon quality after excimer laser anneal

Номер патента: US20140335680A1. Автор: Soo Young Choi,Qunhua Wang,Lai ZHAO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-11-13.

Reaction chamber and semiconductor processing apparatus

Номер патента: EP4375395A1. Автор: Xue Dong,Xiaojun Li,Xiaoqin Sun,Jingjing Liu,Boyu Dong,Keke Xu,Leilei Wang,Shikai Li,Donghua ZHAO,Fushun YUAN,Guangzheng LIU,Zhaohui Gong,Wanyong JIA,Lifei XU,Tieran WANG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-29.

Thermal processing chamber state based on thermal sensor readings

Номер патента: US20240327988A1. Автор: Ala Moradian,Zhepeng Cong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-03.

Thermal processing chamber state based on thermal sensor readings

Номер патента: WO2024205696A1. Автор: Ala Moradian,Zhepeng Cong. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-10-03.

Minimal contact packaging for process chamber components

Номер патента: US12100613B2. Автор: Christopher Laurent Beaudry,Joseph Frederick BEHNKE,Scott Osterman,Trevor WILANTEWICZ,Timothy Douglas TOTH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-24.

Lift pin actuators for semiconductor processing systems and related methods

Номер патента: US20240112946A1. Автор: Xing Lin,Alexandros Demos,Junwei Su,Shujin Huang,Loc Tran,Bradley Wayne Evans. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-04-04.

Lamp and window configurations for substrate processing chambers

Номер патента: WO2024076493A1. Автор: Venkateswaran Subbaraman,Raja Murali Dhamodharan. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-04-11.

Atmospheric lid with rigid plate for carousel processing chambers

Номер патента: WO2014152311A1. Автор: Joseph Yudovsky,Kevin Griffin. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-09-25.

Injectors, liners, process kits, processing chambers, and related methods for gas flow in batch processing of semiconductor manufacturing

Номер патента: US20240254627A1. Автор: Shu-Kwan LAU,Martin Jeffrey Salinas,Aniketnitin Patil,Raja Murali Dhamodharan,Kalaivanan MOHANADASS. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Injectors, liners, process kits, processing chambers, and related methods for gas flow in batch processing of semiconductor manufacturing

Номер патента: WO2024158602A1. Автор: Shu-Kwan LAU,Martin Jeffrey Salinas,Aniketnitin Patil,Raja Murali Dhamodharan,Kalaivanan MOHANADASS. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-02.

Apparatus for enhancing flow uniformity in a process chamber

Номер патента: US20200090957A1. Автор: Kirankumar Neelasandra Savandaiah,William Johanson,Fuhong Zhang,Jothilingam RAMALINGAM. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-03-19.

Apparatus for enhancing flow uniformity in a process chamber

Номер патента: WO2020056412A1. Автор: Kirankumar Neelasandra Savandaiah,William Johanson,Fuhong Zhang,Jothilingam RAMALINGAM. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-03-19.

Showerhead-cooler system of a semiconductor-processing chamber for semiconductor wafers of large area

Номер патента: US09484190B2. Автор: Yuri Glukhoy. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-11-01.

Apparatus for semiconductor process including photo-excitation process

Номер патента: CA1330601C. Автор: Toshikazu Suda. Владелец: Regal Joint Co Ltd. Дата публикации: 1994-07-05.

Process chamber cleaning apparatus and method

Номер патента: US20240279802A1. Автор: Jung-Min Lee,Jae Sung Yu,Dae Ki Kim,Gi Duck KWEON,Hang Kyu SONG,Hyun Tae YANG,Byoung Kwon YEO,Byeong Ho WOO,Jung Bae CHOI. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Method of decontamination of process chamber after in-situ chamber clean

Номер патента: US09932670B2. Автор: Jie Su,Olga Kryliouk,Sang Won Kang,Sandeep Nijhawan,Hua Chung,Jacob Grayson,Lori D. Washington,Dong Hyung Lee. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-04-03.

Methods and apparatus for in-situ cleaning of a process chamber

Номер патента: US09627185B2. Автор: Chien-Teh Kao,Joel M. Huston,Nicholas R. Denny. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-04-18.

Apparatus for improved flow control in process chambers

Номер патента: WO2020243289A1. Автор: Muhannad MUSTAFA,Muhammad M. Rasheed. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-12-03.

Purging toxic and corrosive material from substrate processing chambers

Номер патента: WO2024081135A1. Автор: Eunsuk Ko,Michael Rumer,Jonathan PYLE,Shawn TOKAIRIN,Ravi Parmar,Soonton NUISUD,Raymond JONATHANS,Raees Amer DEEN,Sai RACHAKONDA,Nishant CHOUHAN,Jun-Hwa PARK,Ashwin Agathya Boochakravarthy. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-04-18.

Methods for forming a protective coating on processing chamber surfaces or components

Номер патента: US11976357B2. Автор: Ankur Kadam,Geetika Bajaj,Prerna Sonthalia Goradia,Yogita Pareek. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-07.

Metal part for process chamber and method of forming thin film layer of metal part for process chamber

Номер патента: US20240052516A1. Автор: Bum Mo Ahn. Владелец: Point Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Pump liner for process chamber

Номер патента: WO2023249877A1. Автор: Sanjeev Baluja,Muhannad MUSTAFA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-12-28.

Pump liner for process chamber

Номер патента: US20230407473A1. Автор: Sanjeev Baluja,Muhannad MUSTAFA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-21.

Heated lid for a process chamber

Номер патента: WO2023039086A1. Автор: Hanish Kumar PANAVALAPPIL KUMARANKUTTY,Sriharsha DHARMAPURA SATHYANARAYANAMURTHY,Kirubanandan Naina Shanmugam,Sriharish SRINIVASAN,Madhukar Krishna,Shivaprakash Padadayya Hiremath. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-03-16.

ALD cycle time reduction using process chamber lid with tunable pumping

Номер патента: US11767590B2. Автор: Muhannad MUSTAFA,Muhammad M. Rasheed,Anqing Cui,Mario D. SANCHEZ. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-26.

ALD cycle time reduction using process chamber lid with tunable pumping

Номер патента: US12054826B2. Автор: Muhannad MUSTAFA,Muhammad M. Rasheed,Anqing Cui,Mario D. SANCHEZ. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-06.

Apparatus for providing plasma to a process chamber

Номер патента: WO2014093034A1. Автор: Chien-Teh Kao,Hyman W. H. Lam. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-06-19.

Methods of seasoning process chambers

Номер патента: US11996273B2. Автор: Anup Kumar Singh,Bhaskar Kumar,Vinayak Vishwanath Hassan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-28.

Gasbox for semiconductor processing chamber

Номер патента: US12057325B2. Автор: Abhijit A. Kangude,Yunzhe YANG,Rahul Rajeev,Kedar Joshi. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-06.

Semiconductor processing apparatus and control method thereof

Номер патента: US20200208264A1. Автор: Hao Peng,YUAN Li,Zhao Li,FENG Zhou,Kai Hu,Jun Wei,Yao Hu,Hongbin Zhu,Xianjin Wan,Xiangying CAI. Владелец: Yangtze Memory Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-02.

Gas injection system for semiconductor processing

Номер патента: US5851294A. Автор: Ron van Os,Lydia J. Young,Richard H. Matthiesen,Simon Selitser. Владелец: Watkins Johnson Co. Дата публикации: 1998-12-22.

Gasbox for semiconductor processing chamber

Номер патента: US20230343608A1. Автор: Abhijit A. Kangude,Yunzhe YANG,Rahul Rajeev,Kedar Joshi. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-26.

Method and apparatus for sealing an opening of a processing chamber

Номер патента: US09458538B2. Автор: Takayuki Matsumoto,John M. White,Shinichi Kurita,Suhail Anwar,Robin L. Tiner. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-10-04.

Process chamber and wafer processing method

Номер патента: US20180308665A1. Автор: Fei-Fan Chen,Joung-Wei Liou,Shih-Wen Huang,Chien Kuo Huang,Chia-I Shen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-10-25.

Temperature controlling method and apparatus for a plasma processing chamber

Номер патента: AU3079597A. Автор: Neil Benjamin,William S. Kennedy,Joel M. Cook,Thomas E. Wicker,Robert A. Maraschin. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 1998-01-05.

Automated control of process chamber components

Номер патента: WO2024072670A1. Автор: Paul Franzen,Kapil Sawlani,Patging John Elsworth MARTIN. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-04-04.

Semiconductor wafer processing tool with improved leak check

Номер патента: US20240084445A1. Автор: Chih-Hao Yang,Hung-Chih Wang,Sheng-Yuan Lin,Chih-Wei Chou,Yuan-Hsin CHI,Yu-Chi Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Dynamic pressure control for processing chambers implementing real-time learning

Номер патента: US11869754B2. Автор: Michael Nichols,Tina Dhekial-Phukan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-09.

Batch processing chambers for plasma-enhanced deposition

Номер патента: WO2024112433A1. Автор: HAITAO Wang,Srinivas Gandikota,Mandyam Sriram,Steven V. Sansoni,Jianming Fu,Sanjeev Baluja,Tza-Jing Gung. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-05-30.

Batch processing chambers for plasma-enhanced deposition

Номер патента: US20240170254A1. Автор: HAITAO Wang,Srinivas Gandikota,Mandyam Sriram,Steven V. Sansoni,Jianming Fu,Sanjeev Baluja,Tza-Jing Gung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-23.

Dynamic pressure control for processing chambers implementing real-time learning

Номер патента: US20240153750A1. Автор: Michael Nichols,Tina Dhekial-Phukan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-09.

Semiconductor process chamber, semiconductor process apparatus, and semiconductor process method

Номер патента: EP4397783A1. Автор: Yunfeng LAN,qing She,Yongfei WANG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-10.

Semiconductor Processing System, and Control Assembly and Method Thereof

Номер патента: US20230399746A1. Автор: Julian Juuchuan Hsieh. Владелец: Enchip Enterprise LLC. Дата публикации: 2023-12-14.

Apparatuses for uniform fluid delivery in a multi-station semiconductor processing chamber

Номер патента: US20240222151A1. Автор: Michael Philip Roberts,Joseph R. Abel,Douglas Walter Agnew,Eli Jeon,Daniel BOATRIGHT,Arun Anandhan Duraisamy,William Laurence McDaniel. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Semiconductor processing equipment having tiled ceramic liner

Номер патента: EP1138055A1. Автор: William S. Kennedy,Robert A. Maraschin,Jerome S. Hubacek. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2001-10-04.

Coating components for semiconductor processing with fluorine-containing materials

Номер патента: WO2024220286A1. Автор: Jennifer Y. Sun,Zhijun Jiang,Katherine Woo,Nitin Deepak,Ryan Sheil. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-10-24.

Apparatus for trapping multiple reaction by-products for semiconductor process

Номер патента: US12104247B2. Автор: Jin Woong Kim,Che Hoo CHO,Yeon Ju Lee,Ji Eun Han. Владелец: Milaebo Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Gas inlet assembly of process chamber, gas inlet apparatus, and semiconductor processing equipment

Номер патента: EP4283023A1. Автор: Shikai Li. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-29.

Semiconductor processing apparatus and mixing inlet device

Номер патента: US20240183032A1. Автор: Hong Ji,LEI Zhu,Keke Zhao,Jingfeng WEI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Metal oxide preclean chamber with improved selectivity and flow conductance

Номер патента: US12100576B2. Автор: Yu Lei,Andrew Nguyen,Xianmin Tang,Yogananda SARODE VISHWANATH,Tza-Jing Gung,John C. Forster,Xue Yang CHANG,Abilash SAINATH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-24.

Semiconductor processing chamber with metal or metalloid fluoride process exposed coating

Номер патента: WO2024123579A1. Автор: LIN Xu,Eric A. Pape,David Joseph WETZEL,Robin Koshy. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-06-13.

Method and apparatus for controlling chamber surfaces in a semiconductor processing reactor

Номер патента: WO2001023636A9. Автор: Tuqiang Ni,Mark A Kennard. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2002-08-15.

Chamber liner for semiconductor processing

Номер патента: US20240006203A1. Автор: Chien-Liang Chen,Wei-Da Chen,Yu-Ning Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

System for in-situ generation of fluorine radicals and/or fluorine-containing interhalogen (xfn) compounds for use in cleaning semiconductor processing chambers

Номер патента: WO2004030037A2. Автор: W. Karl Olander,Jose I. Arno. Владелец: ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC.. Дата публикации: 2004-04-08.

Semiconductor processing system

Номер патента: EP4331010A1. Автор: Michael John Norrington,Christopher Mark Bailey,Stephen PHILLIP. Владелец: Edwards Ltd. Дата публикации: 2024-03-06.

Semiconductor processing system

Номер патента: US20240213039A1. Автор: Helen Shaw,Michael John Norrington,Christopher Mark Bailey,Stephen PHILLIP. Владелец: Edwards Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Component with a dual layer hermetic atomic layer deposition coatings for a semiconductor processing chamber

Номер патента: WO2024097505A1. Автор: LIN Xu,Eric A. Pape,David Joseph WETZEL. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-05-10.

Interlock system for processing chamber exhaust assembly

Номер патента: US20240043994A1. Автор: Robert Casanova,Daemian Raj BENJAMIN RAJ,Uwe P. Haller,Syed A. Alam,Peter Standish,Collen Leng,Liliya I. Krivulina,Bharath Kumar Hanchanoor Rathnakara Gowda,Ryan Thomas DOWNEY. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-08.

Interlock system for processing chamber exhaust assembly

Номер патента: WO2024035590A1. Автор: Robert Casanova,Daemian Raj BENJAMIN RAJ,Uwe P. Haller,Syed A. Alam,Peter Standish,Collen Leng,Liliya I. Krivulina,Bharath Kumar Hanchanoor Rathnakara Gowda,Ryan Thomas DOWNEY. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-02-15.

Semiconductor processing

Номер патента: WO2009045250A1. Автор: Shyam Surthi. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2009-04-09.

Protective inserts to line holes in parts for semiconductor process equipment

Номер патента: US20090023302A1. Автор: Vladimir Kuznetsov,Ernst H.A. Granneman. Владелец: ASM International NV. Дата публикации: 2009-01-22.

Removable showerhead faceplate for semiconductor processing tools

Номер патента: US20230279547A1. Автор: Eric H. Lenz,Bin Luo,Manjesh SHANKARNARAYANA. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-09-07.

Method for removing particles from a semiconductor processing tool

Номер патента: US20040079385A1. Автор: Scott Kellogg,Michael Montgomery,Iraj Shahvandi,Larry Frisa,Grant McEwan. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-04-29.

Semiconductor processing apparatus and methods for monitoring and controlling a semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20230243033A1. Автор: Mohith Verghese,Todd Dunn,John Kevin Shugrue. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-08-03.

Method for h2 recycling in semiconductor processing system

Номер патента: WO2002081788A9. Автор: Woo Sik Yoo. Владелец: WaferMasters Inc. Дата публикации: 2003-02-20.

Systems and methods for controlling moisture in semiconductor processing systems

Номер патента: US20230197472A1. Автор: Mario Gonzalez,Mandar Deshpande,Joseph KRAUS. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-06-22.

Multi-phase pressure control valve for process chamber

Номер патента: SG139525A1. Автор: Sunny Wu,Chih-Tien Chang,Chin-Hsin Peng,Chien-Ling Huang,Hsueh-Chang Wu,Mei-Seng Zhou. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2008-02-29.

Method of manufacturing semiconductor device by alternatively increasing and decreasing pressure of process chamber

Номер патента: US09508531B2. Автор: Koei KURIBAYASHI,Shinya EBATA. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-11-29.

Systems and methods for removing particles from a substrate processing chamber using rf plasma cycling and purging

Номер патента: US20170011893A1. Автор: Hu Kang,Adrien Lavoie. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-01-12.

Systems and methods for removing particles from a substrate processing chamber using RF plasma cycling and purging

Номер патента: US09899195B2. Автор: Hu Kang,Adrien Lavoie. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Systems and methods for removing particles from a substrate processing chamber using RF plasma cycling and purging

Номер патента: US09478408B2. Автор: Hu Kang,Adrien Lavoie. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Process chamber gas flow apparatus, systems, and methods

Номер патента: US09429248B2. Автор: Jeffrey C. Hudgens,Nir Merry,Chandrakant M. Sapkale,Penchala N. Kankanala,Karuppasamy Muthukamtchi. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-08-30.

Method to protect internal components of semiconductor processing equipment

Номер патента: EP1637626B1. Автор: Eugene Joseph Karwacki, Jr.,Bing Ji,Stephen Andrew Motika,David Allen Roberts,Dingjun Wu. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 2008-12-17.

Process chamber lid

Номер патента: WO2002027061A2. Автор: Wendell T. Blonigan,Shinichi Kurita. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2002-04-04.

CVD reactor having heated process chamber within isolation chamber

Номер патента: US5891251A. Автор: Joseph H. MacLeish,Robert D. Mailho. Владелец: Mailho; Robert D.. Дата публикации: 1999-04-06.

Assembly of gas injector and ceiling for semiconductor processes and film deposition

Номер патента: US20180282868A1. Автор: Tsung-Hsien Chuang. Владелец: Hermes Epitek Corp. Дата публикации: 2018-10-04.

Semiconductor processing apparatus

Номер патента: SG160413A1. Автор: Sheng Lin. Владелец: Beijing NMC Co Ltd. Дата публикации: 2010-04-29.

Method of reducing metal contamination during semiconductor processing in a reactor having metal components

Номер патента: WO1998040534A1. Автор: Robert J. Bailey,Patrick J. Brady. Владелец: Silicon Valley Group Thermal Systems, Llc. Дата публикации: 1998-09-17.

Process chamber lid

Номер патента: WO2002027061A3. Автор: Shinichi Kurita,Wendell T Blonigan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-06-13.

Method for reducing phosphorous contamination in a vacuum processing chamber

Номер патента: US4512812A. Автор: Reuel B. Liebert,Carl J. Russo. Владелец: Varian Associates Inc. Дата публикации: 1985-04-23.

Method for ascertaining the end of a cleaning process for a process chamber of a mocvd reactor

Номер патента: US20230160062A1. Автор: Dirk Fahle,Martin Eickelkamp,Utz Herwig Hahn. Владелец: AIXTRON SE. Дата публикации: 2023-05-25.

Heat shield assemblies for minimizing heat radiation to pump of process chamber

Номер патента: US20230290614A1. Автор: Ala Moradian,Colin John Dickinson,Manjunath Subbanna,Dinkesh HUDERI SOMANNA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-14.

Edge Profiling For Process Chamber Shields

Номер патента: US20090283037A1. Автор: Kedar Hardikar,Yajie Liu,Viraj Pandit. Владелец: Novellus Systems Inc. Дата публикации: 2009-11-19.

Multi-phase pressure control valve for process chamber

Номер патента: SG156522A1. Автор: Sunny Wu,Chih-Tien Chang,Chin-Hsin Peng,Chien-Ling Huang,Hsueh-Chang Wu,Mei-Seng Zhou. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2009-11-26.

Method for cleaning a process chamber

Номер патента: US20170069472A1. Автор: Shigeru Tahara,Dunja RADISIC. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-09.

Selective Deposition of Thin Films with Improved Stability

Номер патента: US20240110284A1. Автор: Prayudi LIANTO,Guan Huei See,Deenesh Padhi,Sean M. Seutter,Peng Suo,Chris Liu,Kevin Hsiao,Zongbin Wang,Balamurugan RAMASAMY,Chieh-Wen Lo,Lulu XIONG,Shengwei ZENG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-04.

Selective deposition of thin films with improved stability

Номер патента: WO2024072923A1. Автор: Prayudi LIANTO,Guan Huei See,Deenesh Padhi,Sean M. Seutter,Peng Suo,Chris Liu,Kevin Hsiao,Zongbin Wang,Balamurugan RAMASAMY,Chieh-Wen Lo,Lulu XIONG,Shengwei ZENG. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-04-04.

Dog bone exhaust slit tunnel for processing chambers

Номер патента: WO2024072485A1. Автор: Ala Moradian,Vishwas Kumar Pandey,Zhepeng Cong. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-04-04.

Dog bone exhaust slit tunnel for processing chambers

Номер патента: US20240110278A1. Автор: Ala Moradian,Vishwas Kumar Pandey,Zhepeng Cong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-04.

Method for conditioning process chambers

Номер патента: US6420274B1. Автор: Ying Zhang,Alejandro Gabriel Schrott,John M. Baker,Marc Waine Cantell,Paul Wiliam Pastel. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2002-07-16.

Material layer deposition methods, material layer stacks, semiconductor processing systems, and related computer program products

Номер патента: US20240203733A1. Автор: Alexandros Demos,Caleb Miskin,Yanfu Lu,Omar Elleuch. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-06-20.

Semiconductor process chamber with heat pipe

Номер патента: US20210134565A1. Автор: Che-Fu Chen,Kai-Chin WEI. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-05-06.

Switchable delivery for semiconductor processing system

Номер патента: WO2022020185A1. Автор: Ganesh Balasubramanian,Yue Chen,Qiang Ma,Zhijun Jiang,Daemian Raj BENJAMIN RAJ,Shailendra Srivastava,Sai Susmita ADDEPALLI,Abhigyan KESHRI. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-01-27.

Switchable delivery for semiconductor processing system

Номер патента: US12094689B2. Автор: Ganesh Balasubramanian,Yue Chen,Qiang Ma,Zhijun Jiang,Daemian Raj BENJAMIN RAJ,Shailendra Srivastava,Sai Susmita ADDEPALLI,Abhigyan KESHRI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-17.

Semiconductor processing apparatus with improved uniformity

Номер патента: WO2021041002A1. Автор: JIAN Li,Paul Brillhart,Juan Carlos Rocha,Vinay K. PRABHAKAR,Viren KALSEKAR. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-03-04.

Processing chamber, assembly and a method

Номер патента: US20230170187A1. Автор: Antti Niskanen. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-06-01.

Methods and apparatus for conductance liners in semiconductor process chambers

Номер патента: WO2021183211A1. Автор: Rajinder Dhindsa,Timothy Joseph Franklin,Carlaton WONG,Daniel Sang BYUN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-09-16.

Magnetically coupled rf filter for substrate processing chambers

Номер патента: WO2022240944A1. Автор: Edward P. Hammond,Alexander V. Garachtchenko,Dmitry A. Dzilno. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-11-17.

Processing chamber deposition confinement

Номер патента: WO2022086874A1. Автор: Kwangduk Douglas Lee,Sungwon Ha,Venkata Sharat Chandra PARIMI,Sara Michelle BOBEK. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-04-28.

Semiconductor processing system with gas line for transporting excited species and related methods

Номер патента: US20230290613A1. Автор: Varun Sharma,Tom Blomberg. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-09-14.

Simulating a chemical reaction phenomenon in a semiconductor process

Номер патента: US8548787B2. Автор: Takashi Ichikawa,Akio Ui,Toshiro Takase,Naoki Tamaoki. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2013-10-01.

Processing Chamber With Multiple Plasma Units

Номер патента: US20240249918A1. Автор: Yu Lei,Yi Xu,Jallepally Ravi,Kazuya DAITO,Dien-Yeh Wu,Pingyan Lei,Takashi KURATOMI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Process chamber, method of preparing a process chamber, and method of operating a process chamber

Номер патента: US09613819B2. Автор: MING-CHING Chang,yu chao Lin,Chao-Cheng Chen,Jui-Ming Chen,Yuan-Sheng Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-04-04.

Semiconductor processing apparatus for processing a plurality of substrates with cross flow

Номер патента: EP4303337A1. Автор: Ivo Raaijmakers,Theodorus G.M. Oosterlaken. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-01-10.

Processing chamber with multiple plasma units

Номер патента: US11955319B2. Автор: Yu Lei,Yi Xu,Jallepally Ravi,Kazuya DAITO,Dien-Yeh Wu,Pingyan Lei,Takashi KURATOMI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-09.

Semiconductor processing apparatus for processing a plurality of substrates with cross flow

Номер патента: US20240003009A1. Автор: Ivo Raaijmakers,Theodorus G.M. Oosterlaken. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-01-04.

Gas distribution apparatus for processing chambers

Номер патента: WO2018156290A1. Автор: Karthik Janakiraman,Dale R. Du Bois,Kien N. Chuc. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-08-30.

Gas Distribution Apparatus for Processing Chambers

Номер патента: US20180237915A1. Автор: Karthik Janakiraman,Dale R. Du Bois,Kien N. Chuc. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-08-23.

Carrier device and semiconductor processing equipment

Номер патента: US20240084453A1. Автор: Xu Zhu,Zhenguo MA,Mingke YAO,Haiyun ZHU,Yanbao WEI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Metal part and process chamber having the same

Номер патента: US20240186116A1. Автор: Bum Mo Ahn,Tae Hwan Song,Young Heum EOM. Владелец: Point Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Plasma process chambers employing distribution grids having focusing surfaces thereon enabling angled fluxes to reach a substrate, and related methods

Номер патента: US09534289B2. Автор: Jun Xue,Qiwei Liang,Ludovic Godet. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-01-03.

Protective multilayer coating for processing chamber components

Номер патента: WO2021029970A1. Автор: Darshan THAKARE,Kevin A. Papke,Ankur Kadam,Geetika Bajaj,Prerna Sonthalia Goradia,Yogita Pareek. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-02-18.

Grounding devices for substrate processing chambers

Номер патента: US20240093380A1. Автор: Aki HOSOKAWA,Teng Mao Wang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-21.

Equipment front-end modules for semiconductor processing systems and methods of making semiconductor processing systems

Номер патента: US20240178019A1. Автор: Mandar Deshpande,Joseph KRAUS,Gurupkar Singh Nerwal,Kyle Barrette. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-05-30.

Dynamic processing chamber baffle

Номер патента: WO2023064199A1. Автор: Mayur Govind KULKARNI,Udit S. KOTAGI. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-04-20.

Semiconductor process chamber, semiconductor process instrument, and semiconductor process method

Номер патента: US20240371672A1. Автор: Yunfeng LAN,qing She,Yongfei WANG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-07.

Process and related device for removing by-product on semiconductor processing chamber sidewalls

Номер патента: US20240331988A1. Автор: Chang-Ming Wu,Lee-Chuan Tseng,Jing-Cheng Liao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Semiconductor process chamber contamination prevention system

Номер патента: US12090503B2. Автор: Che-Fu Chen,Kai-Chin WEI. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Semiconductor processing chamber

Номер патента: WO2017180283A2. Автор: Lara Hawrylchak,Mehran Behdjat,Aaron Muir Hunter,Douglas R. McAllister,Kong Lung Samuel Chan,Dongming IU,Niraj MERCHANT. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2017-10-19.

Sputter source for semiconductor process chambers

Номер патента: US09620339B2. Автор: Prashanth Kothnur,Tza-Jing Gung,Anantha K. Subramani,Hanbing Wu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-04-11.

Process and related device for removing by-product on semiconductor processing chamber sidewalls

Номер патента: US12027350B2. Автор: Chang-Ming Wu,Lee-Chuan Tseng,Jing-Cheng Liao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

Semiconductor processing with dc assisted rf power for improved control

Номер патента: WO2014022192A1. Автор: Jang-Gyoo Yang,Soonam Park,Shankar Venkataraman,Xinglong Chen,Saurabh Garg,Jonghoon Baek. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-02-06.

Coating components for semiconductor processing with fluorine-containing materials

Номер патента: US20240347336A1. Автор: Jennifer Y. Sun,Zhijun Jiang,Katherine Woo,Nitin Deepak,Ryan Sheil. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-17.

Semiconductor processing device and method for monitoring wafer position status

Номер патента: EP4424887A1. Автор: Huan WANG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-04.

Apparatuses for cleaning a multi-station semiconductor processing chamber

Номер патента: EP4420156A1. Автор: Bo Gong,Ching-Yun Chang,Tongtong GUO,Francisco J. Juarez,Rachel E. Batzer,Harish Kumar Premakumar. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-28.

RF current measurement in semiconductor processing tool

Номер патента: US12051630B2. Автор: Thomas Frederick,Sunil Kapoor. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-07-30.

Method for conditioning semiconductor processing chamber components

Номер патента: US12129569B2. Автор: LIN Xu,Hong Shih,John Daugherty,Satish Srinivasan,David Joseph WETZEL,Yiwei Song,Christopher Kimball,Johnny Pham,Yuanping SONG. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-29.

Thread profiles for semiconductor process chamber components

Номер патента: US12068137B2. Автор: Timothy Joseph Franklin,Carlaton WONG,Reyn Tetsuro Wakabayashi. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-20.

Radiation Control in Semiconductor Processing

Номер патента: US20220415721A1. Автор: Chung-Yi Su,Ming-Feng Lee,Yu-Chun TAI,Ta-Ching Yang,Ping-Cheng LU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-12-29.

Dry cleaning of semiconductor processing chambers using non-metallic, carbon-comprising material

Номер патента: US5753137A. Автор: YAN Ye,Gerald Z. Yin,Charles Steven Rhoades. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1998-05-19.

Dry cleaning of semiconductor processing chambers

Номер патента: US5685916A. Автор: YAN Ye,Gerald Z. Yin,Charles Steven Rhoades. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1997-11-11.

Gas inlet assembly of process chamber, gas inlet device, and semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20240117522A1. Автор: Shikai Li. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Semiconductor process chamber contamination prevention system

Номер патента: US11779949B2. Автор: Che-Fu Chen,Kai-Chin WEI. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-10.

Semiconductor process chamber contamination prevention system

Номер патента: US20230372960A1. Автор: Che-Fu Chen,Kai-Chin WEI. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Process stop loss reduction system through rapid replacement of apparatus for trapping of reaction by-product for semiconductor process

Номер патента: US20240063031A1. Автор: In Hwan Kim,Sung Won Yoon,Che Hoo CHO,Yeon Ju Lee. Владелец: Milaebo Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-22.

Sputter source for use in a semiconductor process chamber

Номер патента: US09580795B2. Автор: Keith A. Miller,Martin Lee Riker. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-02-28.

Temperature change rate control device, method, and semiconductor process apparatus

Номер патента: US20230238261A1. Автор: Hongwei GENG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-27.

Semiconductor process equipment, and process chamber therefor

Номер патента: EP4234755A1. Автор: Yujie Yang,Shiru Wang. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-30.

System and method for thermally calibrating semiconductor process chambers

Номер патента: US20200080894A1. Автор: Hyeongeu Kim,Yen Lin Leow,Caleb Koy Miskin. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2020-03-12.

Sputter source for semiconductor process chambers

Номер патента: US20170211175A1. Автор: Prashanth Kothnur,Tza-Jing Gung,Anantha K. Subramani,Hanbing Wu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-07-27.

System and method for thermally calibrating semiconductor process chambers

Номер патента: US11747209B2. Автор: Hyeongeu Kim,Yen Lin Leow,Caleb Koy Miskin. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-09-05.

Semiconductor processing using vapor mixtures

Номер патента: US6319841B1. Автор: Eric J. Bergman,Robert W. Berner,David Oberlitner. Владелец: Semitool Inc. Дата публикации: 2001-11-20.

Semiconductor processing tool and method for passivation layer formation and removal

Номер патента: US20230042277A1. Автор: Chih-Chien Chi,Chia-Pang Kuo,Yao-Min Liu,Shu-Cheng Chin,Cheng-Hui Weng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-02-09.

System and method for performing semiconductor processes with coated bell jar

Номер патента: US11939664B2. Автор: Tsung-Yu Tsai,Chin-Szu Lee,Szu-Hua Wu,Hsing-Yuan HUANG,Meng-Chun HSIEH,Chih-Chang WU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-03-26.

Wafer positioning pedestal for semiconductor processing

Номер патента: US09892956B1. Автор: Easwar Srinivasan,Karl F. Leeser,Paul Konkola. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-02-13.

Rotary electrical feedthrough integration for process chamber

Номер патента: WO2024015183A1. Автор: Yang Guo,John Forster,Sanjeev Baluja,Anthony Chan,Anantha Subramani,Andrew Tomko,Sathya Swaroop GANTA,Wade HARRELSON,Mike MURTAGH. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-01-18.

Rotary electrical feedthrough integration for process chamber

Номер патента: US20240018646A1. Автор: Yang Guo,John Forster,Sanjeev Baluja,Anthony Chan,Anantha Subramani,Andrew Tomko,Sathya Swaroop GANTA,Wade HARRELSON,Mike MURTAGH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-18.

Semiconductor process chamber including lower volume upper dome

Номер патента: US11821106B2. Автор: Sun Jung Kim,Gyeom KIM,Jeong Ho Yoo,Pan Kwi Park,Keum Seok Park,Yi Hwan Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-21.

Semiconductor process chamber

Номер патента: US20230392260A1. Автор: Dong Won Seo,Ju Yeon KWON,Yu Ri SHIN. Владелец: Hanwha Corp. Дата публикации: 2023-12-07.

Gas flow accelerator to prevent buildup of processing byproduct in a main pumping line of a semiconductor processing tool

Номер патента: US20240258123A1. Автор: Yi-Ming Lin,Chih-Lung Cheng,Sheng-chun YANG,Po-Chih Huang,Yu-Hsiang Juan,Xuan-Yang Zheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Semiconductor processing tool and methods of operation

Номер патента: US12131962B2. Автор: Chyi-Tsong Ni,Chih-Tsung Lee,Kuang-Wei Cheng,Yung-Tsun LIU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Method for repairing semiconductor processing components

Номер патента: US09956589B2. Автор: Joung Il Kim. Владелец: Tokai Carbon Korea Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-01.

Semiconductor process apparatus and process chamber

Номер патента: US20230411132A1. Автор: Yujie Yang,Shiru Wang. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Semiconductor processing apparatus and methods for calibrating a semiconductor processing apparatus

Номер патента: US12040200B2. Автор: John Tolle,Shiva Rajavelu,Rich McCartney. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-07-16.

Method of treating metal and metal salts to enable thin layer deposition in semiconductor processing

Номер патента: US7670645B1. Автор: Sheldon Aronowitz,James O. Kimball. Владелец: LSI Corp. Дата публикации: 2010-03-02.

Semiconductor processing apparatus and semiconductor processing system

Номер патента: US20200168494A1. Автор: Hyun Ho CHOI. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-05-28.

Plasma cleaning apparatus and semiconductor process equipment with the same

Номер патента: US20210198786A1. Автор: Jinyoung Lee,Min Hur,Woo Seok Kang,Dae-Woong Kim. Владелец: Korea Institute of Machinery and Materials KIMM. Дата публикации: 2021-07-01.

Semiconductor processing tool

Номер патента: US12084769B2. Автор: Chyi-Tsong Ni,Chih-Tsung Lee,Kuang-Wei Cheng,Sheng-chun YANG,Yung-Tsun LIU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Systems and methods for purging reactor lower chambers with etchants during film deposition

Номер патента: US20230116427A1. Автор: Xing Lin,Wentao Wang,Junwei Su,Shujin Huang,Jiwen Xiang,Loc Vinh Tran. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-04-13.

Semiconductor process system and method of cleaning the same

Номер патента: US20240141481A1. Автор: Chang-Ha Lee,Ireh Seo,Taeung YOON,Rak-Young Jeon. Владелец: University Industry Foundation UIF of Yonsei University. Дата публикации: 2024-05-02.

System with a process chamber having two process compartments with a vacuum pressure barrier in between and method for operating such a system

Номер патента: NL2029733A. Автор: PENG Shou,YIN Xinjian,FU Ganhua,Mischke Marcel,Ma Liyun,Pan Jingong. Владелец: China Triumph Int Eng Co Ltd. Дата публикации: 2022-08-05.

Process gas ramp during semiconductor processing

Номер патента: US20240376598A1. Автор: Gang Liu,Xing Zhang,Anand Chandrashekar,Kaihan Abidi Ashtiani,Jasmine Lin. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-11-14.

In-situ apparatus for semiconductor process module

Номер патента: US11887879B2. Автор: Stephen Prouty,Andreas Schmid,Yogananda SARODE VISHWANATH,Steven E. Babayan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-30.

Systems and methods for eliminating flourine residue in a substrate processing chamber using a plasma-based process

Номер патента: US09601319B1. Автор: Joydeep Guha,Andrew Stratton Bravo,Amit Pharkya. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Semiconductor processing apparatus having improved temperature control

Номер патента: US12009185B2. Автор: Jun Ma,Chen-An Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-11.

Apparatus and method for gas delivery in semiconductor process chambers

Номер патента: EP3635776A1. Автор: Felix Rabinovich,Faruk Gungor,Vincent Kirchhoff,Gary Keppers. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-04-15.

Multi-thermal CVD chambers with shared gas delivery and exhaust system

Номер патента: US12037701B2. Автор: Lori Washington,Zhiyuan Ye,Schubert S. Chu,Brian H. Burrows,Nyi O. Myo,Shu-Kwan Danny LAU,Herman Diniz,Richard O. COLLINS,Manish Hemkar,Martin A. Hilkene. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-16.

Multi-thermal cvd chambers with shared gas delivery and exhaust system

Номер патента: US20240318351A1. Автор: Zhiyuan Ye,Schubert S. Chu,Shu-Kwan LAU,Nyi Oo Myo,Lori D. Washington,Herman Diniz,Richard O. COLLINS,Manish Hemkar,Brian Burrows,Martin A. Hilkene. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-26.

Semiconductor processing device

Номер патента: EP4135015A1. Автор: qing She,Jingfeng WEI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-15.

Semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20230162998A1. Автор: qing She,Jingfeng WEI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-25.

Twin-type coating device with improved separating plate

Номер патента: US20110303149A1. Автор: Oliver Heimel,Hans Wolf,Frank Fuchs,Joerg Krempel-Hesse. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2011-12-15.

Plasma processing chamber with a grounded electrode assembly

Номер патента: US09905402B2. Автор: Arnold Kholodenko,Anwar Husain. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Material layer deposition methods, semiconductor processing systems, and related computer program products

Номер патента: US20230125884A1. Автор: Alexandros Demos,Arun Murali,Gregory Deye,Caleb Miskin,Frederick Aryeetey. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-04-27.

Shutter disc for a semiconductor processing tool

Номер патента: US20230383397A1. Автор: Chin-Szu Lee,Yi-Chao Chang,Yi-Lin Wang,Hua-Sheng Chiu,Zih-Shou MUE. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Shutter disc for a semiconductor processing tool

Номер патента: US11827970B2. Автор: Chin-Szu Lee,Yi-Chao Chang,Yi-Lin Wang,Hua-Sheng Chiu,Zih-Shou MUE. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-28.

Cluster type semiconductor processing apparatus and method for manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20150243535A1. Автор: Eun Soo Lee,Hee Cheol Kim,Sung Yong Kim,Seung Tae LEE,Ig Jun SHIN. Владелец: STS Semiconductor and Telecommunications Co Ltd. Дата публикации: 2015-08-27.

Pre-processing method, method for forming metal silicide and semiconductor processing apparatus

Номер патента: US10916417B2. Автор: Xiaodong Liu,Chih-Hsien Huang,Jian-Zhi Fang,Chen-Hao Liu. Владелец: Nexchip Semiconductor Corp. Дата публикации: 2021-02-09.

Semiconductor reaction chamber and semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20230223280A1. Автор: Jian Liu. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-13.

Gas flow accelerator to prevent buildup of processing byproduct in a main pumping line of a semiconductor processing tool

Номер патента: EP3945143A1. Автор: Yi-Ming Lin,Chih-Lung Cheng,Sheng-chun YANG,Po-Chih Huang,Yu-Hsiang Juan,Xuan-Yang Zheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-02-02.

Chamber, semiconductor processing station, and semiconductor process using the same

Номер патента: US20170221737A1. Автор: Hon-Lin Huang,Hung-Chih Wang,Chia-Wei Lu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-08-03.

Gas flow accelerator to prevent buildup of processing byproduct in a main pumping line of a semiconductor processing tool

Номер патента: US11972957B2. Автор: Yi-Ming Lin,Chih-Lung Cheng,Sheng-chun YANG,Po-Chih Huang,Yu-Hsiang Juan,Xuan-Yang Zheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-04-30.

Shielding mechanism and substrate-processing chamber with the same

Номер патента: US11476100B1. Автор: Jing-Cheng Lin,Chi-Hung Cheng,Ta-Hao Kuo,Yu-Te Shen. Владелец: Sky Tech Inc. Дата публикации: 2022-10-18.

Semiconductor processing tool and methods of operation

Номер патента: US20220367297A1. Автор: Chyi-Tsong Ni,Chih-Tsung Lee,Kuang-Wei Cheng,Yung-Tsun LIU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-11-17.

Wafer carrying mechanism and semiconductor process apparatus

Номер патента: EP4234757A1. Автор: Bin Yu. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-30.

Systems and methods for controlling accretion in semiconductor processing system exhaust arrangements

Номер патента: US20230307255A1. Автор: Fan GAO,Peipei Gao,Gregory Deye,Caleb Miskin. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-09-28.

Model-based failure mitigation for semiconductor processing systems

Номер патента: WO2023049285A1. Автор: Binbin Wang,Anshul Ashok VYAS,Liem Ferryanto,Ravi C. EDUPUGANTI. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-03-30.

Liquid filter apparatus for gas/solid separation for semiconductor processes

Номер патента: US11786858B2. Автор: Imad Mahawili. Владелец: Edwards Vacuum LLC. Дата публикации: 2023-10-17.

Model-based failure mitigation for semiconductor processing systems

Номер патента: US11955358B2. Автор: Binbin Wang,Anshul Ashok VYAS,Liem Ferryanto,Ravi C. EDUPUGANTI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-09.

Liquid filter apparatus for gas/solid separation for semiconductor processes

Номер патента: EP3991210A1. Автор: Imad Mahawili. Владелец: Qolibri Inc. Дата публикации: 2022-05-04.

Multi-chamber semiconductor processing system with transfer robot temperature adjustment

Номер патента: US20230335423A1. Автор: Yen-Yu Chen,Chia-Hsi Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-19.

System with a process chamber having two process compartments with a vacuum pressure barrier in between and method for operating such a system

Номер патента: NL2029733B1. Автор: PENG Shou,YIN Xinjian,FU Ganhua,Mischke Marcel,Ma Liyun,Pan Jingong. Владелец: China Triumph Int Eng Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-14.

Substrate supports, semiconductor processing systems having substrate supports, and methods of making substrate supports for semiconductor processing systems

Номер патента: US20230212752A1. Автор: Hong Gao,Zhengyan Zhou. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-07-06.

Ion beam etching chamber with etching by-product redistributor

Номер патента: US20230369024A1. Автор: Lee-Chuan Tseng,Te-Hsien Hsieh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Multi-layer semiconductor processing with scavenging between layers by excimer laser

Номер патента: US4685976A. Автор: Lyle O. Hoppie,Steven R. Schachameyer,James A. Benjamin,John B. Pardee. Владелец: Eaton Corp. Дата публикации: 1987-08-11.

Semiconductor processing tool

Номер патента: US11851761B2. Автор: Chyi-Tsong Ni,Chih-Tsung Lee,Kuang-Wei Cheng,Sheng-chun YANG,Yung-Tsun LIU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Segmented focus ring for plasma semiconductor processing and processing tool configured to use the segmented focus ring

Номер патента: WO2024040520A1. Автор: Yulin Peng,Jinrong ZHAO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co., Ltd.. Дата публикации: 2024-02-29.

Semiconductor processing tool

Номер патента: US20240084454A1. Автор: Chyi-Tsong Ni,Chih-Tsung Lee,Kuang-Wei Cheng,Sheng-chun YANG,Yung-Tsun LIU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Extension of pvd chamber with multiple reaction gases, high bias power, and high power impulse source for deposition, implantation, and treatment

Номер патента: WO2018140193A2. Автор: Srinivas D. Nemani,Ludovic Godet,Yongmei Chen,Jingjing Liu,Anantha K. Subramani. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-08-02.

Isolated volume seals and method of forming an isolated volume within a processing chamber

Номер патента: US20240332046A1. Автор: Thomas Brezoczky,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Bhaskar PRASAD,Srinivasa Rao Yedla,Nitin Bharadwaj SATYAVOLU. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-03.

Method of manufacturing semiconductor device, method of cleaning interior of process chamber, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US09895727B2. Автор: Yoshinobu Nakamura,Masayuki Asai,Kazuyuki Okuda,Masayoshi Minami,Yuji Urano. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-02-20.

Semiconductor processing device

Номер патента: US11946136B2. Автор: Jereld Lee Winkler,Carl Louis White,Eric James Shero,Bhushan Zope,Shankar Swaminathan. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-04-02.

Susceptor bias adjustment apparatus and method, and semiconductor process device

Номер патента: EP4379088A1. Автор: Chao Zhang. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-05.

Semiconductor processing device

Номер патента: US20240200189A1. Автор: Jereld Lee Winkler,Carl Louis White,Eric James Shero,Bhushan Zope,Shankar Swaminathan. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-06-20.

Heat source arrangements, processing chambers, and related methods to facilitate deposition process adjustability

Номер патента: US20240234175A9. Автор: Ala Moradian,Saurabh Chopra. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

System and Method for Reducing Particle Formation in a Process Chamber of an Ion Implanter

Номер патента: US20240274404A1. Автор: Bon-Woong Koo,Frank Sinclair,Tseh-Jen Hsieh,Vikram M. Bhosle,Gregory Edward Stratoti. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-15.

System and method for reducing particle formation in a process chamber of an ion implanter

Номер патента: WO2024167666A1. Автор: Bon-Woong Koo,Frank Sinclair,Tseh-Jen Hsieh,Vikram M. Bhosle,Gregory Edward Stratoti. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-15.

Integrated process kit for a substrate processing chamber

Номер патента: US09953812B2. Автор: XIN Wang,Prashant Prabhu,Kirankumar Savandaiah,William Johanson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-04-24.

Apparatus for controlling the flow of a gas in a process chamber

Номер патента: US09443753B2. Автор: Michael D. Willwerth,Jingbao Liu,David Palagashvili. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-09-13.

Physical vapor deposition ( pvd) chamber with reduced arcing

Номер патента: US20200051795A1. Автор: Chen Gong,Yong Cao,Xianmin Tang,Rongjun Wang,Mingdong Li,Chao DU,Fuhong Zhang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-02-13.

Semiconductor processing apparatus and a method for processing a substrate

Номер патента: US12018365B2. Автор: Petri Raisanen,David Marquardt,Thomas Aswad. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-06-25.

Method and system for rotating a semiconductor wafer in processing chambers

Номер патента: EP1356503A2. Автор: Zion Koren,James Tsuneo Taoka,Yorkman Ma,Rudy Santo Tomas Cardena,Sharon Gibson,Lois Wride,Craig Mc Farland. Владелец: Mattson Thermal Products Inc. Дата публикации: 2003-10-29.

Selective in-situ cleaning of high-k films from processing chamber using reactive gas precursor

Номер патента: US12076763B2. Автор: Soo Young Choi,Tae Kyung Won,Dong-Kil Yim,Lai ZHAO,Xiangxin Rui,Yujia ZHAI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-03.

Pressure control method for process chamber and pressure control device for process chamber

Номер патента: US09880569B2. Автор: EMMANUEL Vyers,Mie Kimura. Владелец: PROGRESSIO LLC. Дата публикации: 2018-01-30.

Method for cleaning plasma processing chamber and substrate

Номер патента: US09595448B2. Автор: Yu-Cheng Liu,Shih-Ping Hong. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Corrosion-resistant aluminum article for semiconductor processing equipment

Номер патента: US5811195A. Автор: Laxman Murugesh,Craig Bercaw,Joshua E. Byrne. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1998-09-22.

Method and apparatus for generating a precursor for a semiconductor processing system

Номер патента: WO2004106584B1. Автор: Ling Chen,Seshadri Ganguli,Mei Chang,Hua Chung,Christophe Marcadal,Dien-Yeh Wu,Alan Ouye,Jenny Lin,Vincent W Ku. Владелец: Vincent W Ku. Дата публикации: 2005-02-17.

Semiconductor processing device with wafer edge purging

Номер патента: US20230207377A1. Автор: Herbert Terhorst,Jereld Lee Winkler,Todd Robert Dunn,Eric James Shero,Michael Schmotzer,Ankit Kimtee,Shuyang Zhang,Shubham Garg,Rohan Vijay Rane. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-06-29.

Semiconductor processing station

Номер патента: US11462425B2. Автор: Hon-Lin Huang,Hung-Chih Wang,Chia-Wei Lu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-10-04.

Assembly of chamber lid and ceiling for semiconductor processes and film deposition

Номер патента: US20190032204A1. Автор: Chih-Kuo YANG. Владелец: Hermes Epitek Corp. Дата публикации: 2019-01-31.

Gas flow guiding device for semiconductor processing apparatus and method of using the same

Номер патента: US20210125846A1. Автор: Kunho Kim,Jinsun Choi. Владелец: Xia Tai Xin Semiconductor Qing Dao Ltd. Дата публикации: 2021-04-29.

Semiconductor processing system including temperature controller

Номер патента: US20220139736A1. Автор: Dongha Kim,Hogon KIM,Kyoungsik Cho,Myoungryul Han,Hyunchul Kwun,Jangho Son. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-05-05.

Flow control arrangements with flow switches, semiconductor processing systems, and flow control methods

Номер патента: US20240019879A1. Автор: Glenn Holbrook. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-01-18.

Chamber arrangements, semiconductor processing systems having chamber arrangements, and related material layer deposition methods

Номер патента: US20240068103A1. Автор: Alexandros Demos,Arun Murali,Caleb Miskin,Amir Kajbafvala,Yanfu Lu. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-02-29.

Semiconductor processing apparatus with protective coating including amorphous phase

Номер патента: US20180226232A9. Автор: Kenneth S. Collins,Jennifer Y. Sun,Ren-Guan Duan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-08-09.

Flow control arrangements with bypass switches, semiconductor processing systems, and related flow control methods

Номер патента: US20240019880A1. Автор: Glenn Holbrook,Mark Fessler. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-01-18.

Corrosion resistant component of semiconductor processing equipment and method of manufacturing thereof

Номер патента: WO2001000901A9. Автор: Robert J Steger,Chris Chang. Владелец: Chris Chang. Дата публикации: 2002-12-27.

Multi-layer focus ring for plasma semiconductor processing

Номер патента: WO2024040526A1. Автор: Yulin Peng,Jinrong ZHAO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co., Ltd.. Дата публикации: 2024-02-29.

Flow control arrangements with enclosed flow switches and isolation valves, semiconductor processing systems, and flow control methods

Номер патента: US20240018656A1. Автор: Glenn Holbrook,Mark Fessler. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-01-18.

Semiconductor processing station

Номер патента: US20190051545A1. Автор: Hon-Lin Huang,Hung-Chih Wang,Chia-Wei Lu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2019-02-14.

Chamber applied in semiconductor process

Номер патента: US20220005676A1. Автор: Ping-Fan Chen. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2022-01-06.

Substrate supports, semiconductor processing systems, and material layer deposition methods

Номер патента: US20230386874A1. Автор: Xing Lin,Wentao Wang,Junwei Su,Shujin Huang. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-11-30.

Flow control arrangements, semiconductor processing systems having flow control arrangements, and flow control methods

Номер патента: US20240068098A1. Автор: Glenn Holbrook. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-02-29.

Coil for improved process chamber deposition and etch uniformity

Номер патента: WO2022192296A1. Автор: Rui Li,Goichi Yoshidome,Andrew Tomko,Xiangjin Xie. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-09-15.

Process chamber for etching low k and other dielectric films

Номер патента: US09666414B2. Автор: Ellie Yieh,Dmitry Lubomirsky,Srinivas Nemani,Sergey G. BELOSTOTSKIY. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-05-30.

Two step process for cleaning a substrate processing chamber

Номер патента: US6068729A. Автор: Ashish V. Shrotriya. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-05-30.

Isolated volume seals and method of forming an isolated volume within a processing chamber

Номер патента: US11955355B2. Автор: Thomas Brezoczky,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Bhaskar PRASAD,Srinivasa Rao Yedla,Nitin Bharadwaj SATYAVOLU. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-09.

Internally divisible process chamber using a shutter disk assembly

Номер патента: US11830710B2. Автор: Yang Guo,Anantha K. Subramani,John Joseph MAZZOCCO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-28.

Device for adjusting position of chamber and plasma process chamber including the same for semiconductor manufacturing

Номер патента: US11955322B2. Автор: Wei-Chen Liao,Ming Che Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-04-09.

Protection of aluminum process chamber components

Номер патента: US11810766B2. Автор: Mats Larsson,Kartik Shah,Kevin A. Papke,Umesh M. Kelkar,Karthikeyan BALARAMAN,Balamurugan RAMASAMY,Rajasekhar PATIBANDLA,Sathyanarayana BINDIGANAVALE,William M. Lu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-07.

Protection of aluminum process chamber components

Номер патента: WO2020009766A1. Автор: Mats Larsson,Kartik Shah,Kevin A. Papke,Umesh M. Kelkar,Karthikeyan BALARAMAN,Balamurugan RAMASAMY,Rajasekhar PATIBANDLA,Sathyanarayana BINDIGANAVALE,William M. Lu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-01-09.

Methods and apparatus for reconfigurable flow control in process chambers

Номер патента: US20190385874A1. Автор: Ananthkrishna Jupudi,Ribhu GAUTAM,Preetham P. RAO,Tuck Foong Koh,Madhukar C Guledgudd. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-12-19.

Internally divisible process chamber using a shutter disk assembly

Номер патента: US20220139684A1. Автор: Yang Guo,Anantha K. Subramani,John Joseph MAZZOCCO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-05-05.

Internally divisible process chamber using a shutter disk assembly

Номер патента: US20220319822A1. Автор: Yang Guo,Anantha K. Subramani,John Joseph MAZZOCCO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-10-06.

Heat source arrangements, processing chambers, and related methods to facilitate deposition process adjustability

Номер патента: US20240136207A1. Автор: Ala Moradian,Saurabh Chopra. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-25.

Wafer edge temperature correction in batch thermal process chamber

Номер патента: EP4189733A1. Автор: Schubert S. Chu,Shu-Kwan LAU,Surajit Kumar,Ala Moradian,Nyi O. Myo,Zuoming Zhu,Vishwas Kumar Pandey,Adel George Tannous,Brian Hayes Burrows,Kartik Bhupendra SHAH,Srinivasa Rangappa. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-06-07.

Protective layers for processing chamber components

Номер патента: US20200020511A1. Автор: Mats Larsson,Kartik Shah,Kevin A. Papke,Umesh M. Kelkar,Karthikeyan BALARAMAN,Balamurugan RAMASAMY,Rajasekhar PATIBANDLA,Sathyanarayana BINDIGANAVALE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-01-16.

Plasma resistant process chamber lid

Номер патента: US12049696B2. Автор: Xiaowei Wu,Michael R. Rice,Jennifer Y. Sun. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-30.

Methods for preventing plasma un-confinement events in a plasma processing chamber

Номер патента: US09928995B2. Автор: Andreas Fischer,Rajinder Dhindsa. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-03-27.

Parasitic plasma prevention in plasma processing chambers

Номер патента: US09728429B2. Автор: Saurabh Ullal,Anthony Ricci,Larry Martinez. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-08-08.

Selectively groundable cover ring for substrate process chambers

Номер патента: US09472443B2. Автор: Zhenbin Ge,Muhammad M. Rasheed,Goichi Yoshidome,Kirankumar Savandaiah,William Johanson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-10-18.

Multi-zone gas flow control in a process chamber

Номер патента: US6090210A. Автор: James V. Tietz,David S. Ballance,Benjamin Bierman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-07-18.

Method and apparatus for depositing a layer on a semiconductor wafer by vapor deposition in a process chamber

Номер патента: MY166009A. Автор: Brenninger Georg. Владелец: SILTRONIC AG. Дата публикации: 2018-05-21.

Process chamber with reflector

Номер патента: WO2024085913A1. Автор: Peter Reimer,Shu-Kwan LAU,Ala Moradian,Amir H. Tavakoli. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-04-25.

Hydrophobic Shafts For Use In Process Chambers

Номер патента: US20200139401A1. Автор: Jeffrey E. Krampert,Ernest E. Allen, Jr.,Jonathan David Fischer. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2020-05-07.

Processing chamber mixing systems

Номер патента: WO2020146162A1. Автор: Ganesh SUBBUSWAMY,Steven WARNERT. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-07-16.

Substrate processing chamber having improved process volume sealing

Номер патента: WO2019060259A1. Автор: Keith A. Miller,Ilya Lavitsky,John Mazzocco. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2019-03-28.

Heat source arrangements, processing chambers, and related methods to facilitate deposition process adjustability

Номер патента: WO2024085915A1. Автор: Ala Moradian,Saurabh Chopra. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-04-25.

Device for adjusting position of chamber and plasma process chamber including the same for semiconductor manufacturing

Номер патента: US20230386805A1. Автор: Wei-Chen Liao,Ming Che Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Hydrophobic Shafts For Use In Process Chambers

Номер патента: US20190299249A1. Автор: Jeffrey E. Krampert,Ernest E. Allen, Jr.,Jonathan David Fischer. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2019-10-03.

Spatial wafer processing with improved temperature uniformity

Номер патента: US11479855B2. Автор: Michael Rice,Sanjeev Baluja,Tejas ULAVI,Jared Ahmad Lee,Joseph AuBuchon,Dhritiman Subha Kashyap. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-10-25.

Pump assembly for creating vacuum in wafer processing chamber

Номер патента: US10879054B2. Автор: Shian-Hung SU,Chen-Yung WANG,Jia-Ming LEE. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-12-29.

Method and system for supplying a cleaning gas into a process chamber

Номер патента: WO2009155028A1. Автор: Hichem M'Saad,Ganesh Balasubramanian,Visweswaren Sivaramakrishnan,Thomas Nowak,Karthik Janakiraman,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Dale Du Bois,Ramprakash Sankarakrishnan. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2009-12-23.

Lid assembly for a process chamber employing asymmetric flow geometries

Номер патента: US6110556A. Автор: Ellie Yieh,Won Bang,Thanh Pham. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-08-29.

Method and apparatus for supplying improved gas flow to a processing volume of a processing chamber

Номер патента: US11732355B2. Автор: Vishwas Kumar Pandey,Christopher S. Olsen,Kartik Shah,Eric Kihara Shono,Taewan Kim,Agus Sofian Tjandra,Hansel LO,Tobin Kaufman-Osborn. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-08-22.

Gas diffuser unit, process chamber and wafer processing method

Номер патента: US20150002017A1. Автор: Fei-Fan Chen,Joung-Wei Liou,Shih-Wen Huang,Chien Kuo Huang,Chia-I Shen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-01-01.

Method and system for supplying a cleaning gas into a process chamber

Номер патента: US20140076236A1. Автор: Hichem M'Saad,Ganesh Balasubramanian,Visweswaren Sivaramakrishnan,Thomas Nowak,Karthik Janakiraman,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Dale R. Du Bois,Ramprakash Sankarakrishnan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-03-20.

Method and apparatus for supplying improved gas flow to a processing volume of a processing chamber

Номер патента: US20230407471A1. Автор: Vishwas Kumar Pandey,Christopher S. Olsen,Kartik Shah,Eric Kihara Shono,Taewan Kim,Agus Sofian Tjandra,Hansel LO,Tobin Kaufman-Osborn. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-21.

Near-substrate supplemental plasma density generation with low bias voltage within inductively coupled plasma processing chamber

Номер патента: WO2018136121A1. Автор: Qing Xu,Qian Fu,Yiting Zhang,Saravanapriyan Sriraman,Alex Paterson,Ying Wu,Zhongkui Tan. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2018-07-26.

Shield for a substrate processing chamber

Номер патента: US20190267220A1. Автор: Goichi Yoshidome,Adolph Miller Allen,Kathleen Scheible,Michael Allen Flanigan,Cristopher Pavloff. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-08-29.

Overlapping substrate supports and pre-heat rings, and related process kits, processing chambers, methods, and components

Номер патента: WO2024167634A1. Автор: TAO Sheng,Hui Chen,Xinning Luan,Zhepeng Cong,Chen-ying WU,NIMROD SMITH. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-15.

Overlapping substrate supports and pre-heat rings, and related process kits, processing chambers, methods, and components

Номер патента: US20240274463A1. Автор: TAO Sheng,Hui Chen,Xinning Luan,Zhepeng Cong,Chen-ying WU,NIMROD SMITH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-15.

Device for homogenizing a gas distribution in a process chamber

Номер патента: US20230241560A1. Автор: Daniel DÜNSER,Sven Rieschl,Samir Jokar. Владелец: VAT HOLDING AG. Дата публикации: 2023-08-03.

Substrate receiving area for process chambers

Номер патента: US20230040661A1. Автор: Walter May. Владелец: CemeCon AG. Дата публикации: 2023-02-09.

Process chamber purge module for semiconductor processing equipment

Номер патента: US5405444A. Автор: Mehrdad M. Moslehi. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1995-04-11.

Semiconductor processing chamber with filament lamps having nonuniform heat output

Номер патента: US11842908B2. Автор: Sam Kim,Shiva K. T. Rajavelu Muralidhar. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-12-12.

Semiconductor processing chamber with filament lamps having nonuniform heat output

Номер патента: US20240055279A1. Автор: Sam Kim,Shiva K.T. Rajavelu Muralidhar. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-02-15.

Method for cleaning a processing chamber and method for manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US20040074515A1. Автор: Hyeon-deok Lee,Jin-gi Hong,Ji-Soon Park,Jung-Wook Kim,Eung-joon Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2004-04-22.

Method for cleaning a processing chamber and method for manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US7311109B2. Автор: Hyeon-deok Lee,Jin-gi Hong,Ji-Soon Park,Jung-Wook Kim,Eung-joon Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-12-25.

Apparatus and method for gas delivery in semiconductor process chambers

Номер патента: US20180350627A1. Автор: Felix Rabinovich,Faruk Gungor,Vincent Kirchhoff,Gary Keppers. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-12-06.

Semiconductor processing equipment including electrostatic chuck for plasma processing

Номер патента: US11862440B2. Автор: Jongwoo SUN,Jinyoung Park,Hyungjoo Lee,Jeongil MUN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-01-02.

Semiconductor processing by a combination of photolytic, pyrolytic and catalytic processes

Номер патента: US4843030A. Автор: J. Gary Eden,Kevin K. King,Viken Tavitian. Владелец: Eaton Corp. Дата публикации: 1989-06-27.

Semiconductor processing device, reaction chamber thereof, and film layer deposition method

Номер патента: EP4249633A1. Автор: Yunfeng LAN,Fang Zhang,Huanyu Wang,Wenqiang Zhang,Haifeng Qin,Shuaitao SHI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-27.

Methods of forming structures, semiconductor processing systems, and semiconductor device structures

Номер патента: US11959173B2. Автор: ROBINSON JAMES,Caleb Miskin,Amir Kajbafvala,Yanfu Lu. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-04-16.

Methods of forming structures, semiconductor processing systems, and semiconductor device structures

Номер патента: US20240209510A1. Автор: ROBINSON JAMES,Caleb Miskin,Amir Kajbafvala,Yanfu Lu. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-06-27.

Composition for semiconductor processing and polishing method of semiconductor device using the same

Номер патента: EP4261258A1. Автор: Han Teo PARK,Seung Chul Hong,Deok Su Han,Hyeong Ju Lee,Hwan Chul Kim. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-18.

Composition for semiconductor processing and polishing method of semiconductor device using the same

Номер патента: US20230332016A1. Автор: Han Teo PARK,Seung Chul Hong,Deok Su Han,Hyeong Ju Lee,Hwan Chul Kim. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-19.

Composition for semiconductor processing and manufacturing method of semiconductor device using the same

Номер патента: US20230332017A1. Автор: Han Teo PARK,Seung Chul Hong,Deok Su Han,Yongsoo Choi,Kangsik MYUNG. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-19.

Composition for semiconductor processing and manufacturing method of semiconductor device using the same using the same

Номер патента: EP4261257A1. Автор: Han Teo PARK,Seung Chul Hong,Deok Su Han,Yongsoo Choi,Kangsik MYUNG. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-18.

Chamber arrangements with laser sources, semiconductor processing systems, and material layer deposition methods

Номер патента: US20240112930A1. Автор: Han Ye,Xing Lin,Wentao Wang,Alexandros Demos,Kai Zhou,Fan GAO,Peipei Gao,Kishor Patil. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-04-04.

Systems and methods for providing gases to a process chamber

Номер патента: US09721763B2. Автор: Iqbal Shareef,Mark Taskar,Evangelos Spyropoulos. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-08-01.

Process chamber component and method of forming a surface texture

Номер патента: EP3648913A1. Автор: Olivier MARCHAND. Владелец: Cleanpart Group GmbH. Дата публикации: 2020-05-13.

Processing chamber condition and process state monitoring using optical reflector attached to processing chamber liner

Номер патента: US20230304150A1. Автор: Patrick Tae. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-28.

Process chamber component and method of forming a surface texture

Номер патента: US20200176225A1. Автор: Olivier MARCHAND. Владелец: Cleanpart Group GmbH. Дата публикации: 2020-06-04.

Substrate processing apparatus capable of adjusting inner pressure of process chamber thereof and method therefor

Номер патента: US11846025B2. Автор: Takayuki Nakada,Masamichi Yachi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-12-19.

Improved reflector for process chamber

Номер патента: WO2024220120A1. Автор: Ala Moradian,Vishwas Kumar Pandey,Hemantha Kumar Raju,Anilkumar Bodepudi. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-10-24.

Chemical resistant semiconductor processing chamber bodies

Номер патента: WO2008021257A8. Автор: Katrina Mikhaylichenko,Arnold Kholodenko,Grant Peng,Mark Mandelboym,Wing Cheng. Владелец: Mark Mandelboym. Дата публикации: 2009-07-30.

Highly reflective metallic alloys for components of semiconductor processing equipment, and related methods

Номер патента: US20240295048A1. Автор: Tetsuya Ishikawa,Ala Moradian,Shawn Thanhson Le,Amir H. Tavakoli. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-05.

Chemical resistant semiconductor processing chamber bodies

Номер патента: WO2008021257A2. Автор: Katrina Mikhaylichenko,Arnold Kholodenko,Grant Peng,Mark Mandelboym,Wing Cheng. Владелец: Cheng, Helen. Дата публикации: 2008-02-21.

Parameter adjustment model for semiconductor processing chambers

Номер патента: WO2023154151A1. Автор: Eric J. Bergman,John L. Klocke,Gregory J. Wilson,Paul R. McHugh,Adam Marc McClure. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-08-17.

Parameter adjustment model for semiconductor processing chambers

Номер патента: US12116686B2. Автор: Eric J. Bergman,Gregory J. Wilson,Paul R. McHugh,John L Klocke,Adam Marc McClure. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-15.

Pre-heat rings and processing chambers including black quartz, and related methods

Номер патента: US20240247404A1. Автор: Ashur J. Atanos,Zhepeng Cong,NIMROD SMITH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Method of making high purity polycrystalline aluminum oxynitride bodies useful in semiconductor process chambers

Номер патента: US09637415B2. Автор: Suri A. Sastri,Sreeram Balasubramanian,Lee M. Goldman. Владелец: Surmet Corp. Дата публикации: 2017-05-02.

Semiconductor processing equipment with high temperature resistant nickel alloy joints and methods for making same

Номер патента: WO2019108858A1. Автор: Michael Parker,Jason Stephens,Guleid Hussen,Alfred Grant Elliot,Brent D.a. ELLIOT. Владелец: Component Re-Engineering Company, Inc.. Дата публикации: 2019-06-06.

Pre-heat rings and processing chambers including black quartz, and related methods

Номер патента: WO2024158417A1. Автор: Ashur J. Atanos,Zhepeng Cong,NIMROD SMITH. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-02.

Waste gas abatement technology for semiconductor processing

Номер патента: US11931682B2. Автор: Imad Mahawili. Владелец: Edwards Vacuum LLC. Дата публикации: 2024-03-19.

Waste gas abatement technology for semiconductor processing

Номер патента: WO2022066511A1. Автор: Imad Mahawili. Владелец: Qolibri, Inc.. Дата публикации: 2022-03-31.

Waste gas abatement technology for semiconductor processing

Номер патента: EP4217092A1. Автор: Imad Mahawili. Владелец: Edwards Vacuum LLC. Дата публикации: 2023-08-02.

Nickel-Carbon And Nickel-Cobalt-Carbon Brazes And Brazing Processes For Joining Ceramics And Metals And Semiconductor Processing And Industrial Equipment Using Same

Номер патента: US20240278359A1. Автор: Alfred Grant Elliot,Brent Elliot. Владелец: Watlow Electric Manufacturing Co. Дата публикации: 2024-08-22.

Semiconductor heat treatment device and method for controlling pressure in process chamber thereof

Номер патента: EP4394092A1. Автор: Dan Geng,YAN Jia,Zhimin Chen. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-03.

Method for repairing an equipment piece used in semiconductor processing

Номер патента: EP3288914A1. Автор: Michael Parker,Frank Balma,Alexander Veytser,Brent D.a. ELLIOT,Jeff Cunha. Владелец: Component Re Engineering Co Inc. Дата публикации: 2018-03-07.

Method for repairing an equipment piece used in semiconductor processing

Номер патента: WO2016178839A1. Автор: Michael Parker,Frank Balma,Alexander Veytser,Brent D.a. ELLIOT,Jeff Cunha. Владелец: Component Re-Engineering Company, Inc.. Дата публикации: 2016-11-10.

Semiconductor process wastewater treatment system and semiconductor process wastewater treatment method using the same

Номер патента: US11760674B2. Автор: Soyoun KIM,Chanhyuk Park,Sehyuk AHN,Minju CHA. Владелец: Industry Collaboration Foundation of Ewha University. Дата публикации: 2023-09-19.

Adhesive composition for semiconductor processing, film comprising same for semiconductor processing, and method for producing semiconductor package using same

Номер патента: US20240254372A1. Автор: Kwang Joo Lee,Ji Ho HAN,Hee Song. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Dense oxide coated component of a plasma processing chamber and method of manufacture thereof

Номер патента: US09546432B2. Автор: Tom Stevenson,LIN Xu,Hong Shih,Sivakami Ramanathan,John Daugherty,Robert G. O'Neill,John Michael Kerns,William Charles,Russell Ormond. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-01-17.

Method for repairing heaters and chucks used in semiconductor processing

Номер патента: US09999947B2. Автор: Michael Parker,Frank Balma,Alexander Veytser,Brent Elliot,Jeff Cunha. Владелец: Component Re Engineering Co Inc. Дата публикации: 2018-06-19.

Wafer immersion in semiconductor processing chambers

Номер патента: WO2023146590A1. Автор: John L. Klocke,John Igo. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-08-03.

Pressure-sensitive adhesive sheet for semiconductor processing

Номер патента: EP3919578A1. Автор: Shunpei Tanaka,Hiroki Kono,Taiki Ueno. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2021-12-08.

Composition for semiconductor processing and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US12110421B2. Автор: Han Teo PARK,Seung Chul Hong,Deok Su Han. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Semiconductor processing sheet

Номер патента: US20120208012A1. Автор: Keisuke Watanabe,Masakazu Morimoto,Masayoshi Natsume,Junki Mori. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2012-08-16.

Polishing composition for semiconductor process and method for manufacturing semiconductor device by using the same

Номер патента: US12116503B2. Автор: Han Teo PARK,Jang Kuk KWON,Seung Chul Hong,Deok Su Han. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-15.

Parameter adjustment model for semiconductor processing chambers

Номер патента: US20230257900A1. Автор: Eric J. Bergman,John L. Klocke,Gregory J. Wilson,Paul R. McHugh,Adam Marc McClure. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-08-17.

Semiconductor process

Номер патента: US20110244678A1. Автор: Yu-Tsung Lai,Shih-Fang Tzou,Jiunn-Hsiung Liao,Jyh-Cherng Yau,Chang-Hsiao Lee,Ming-Da Hsieh. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2011-10-06.

Semiconductor processing tape

Номер патента: MY181315A. Автор: Toru Sano,Masami Aoyama,Jirou Sugiyama. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-21.

Nickel-Carbon And Nickel-Cobalt-Carbon Brazes And Brazing Processes For Joining Ceramics And Metals And Semiconductor Processing And Industrial Equipment Using Same

Номер патента: US20230321766A1. Автор: Alfred Grant Elliot,Brent Elliot. Владелец: Watlow Electric Manufacturing Co. Дата публикации: 2023-10-12.

Apparatus for treating semiconductor process gas and method of treating semiconductor process gas

Номер патента: US20220205094A1. Автор: Seoyoung MAENG,Suji Gim,Youngseok Roh,Jongyong Bae,Jungjoon Pyeon,Sunwoo YOOK,Youngduk KO,Jihnkoo LEE,Jongha HWANG. Владелец: PURESPHERE CO Ltd. Дата публикации: 2022-06-30.

Method of reducing plasma arcing on surfaces of semiconductor processing apparatus components in a plasma processing chamber

Номер патента: US8871312B2. Автор: Jie Yuan,Kenneth S. Collins,Jennifer Y. Sun,Senh Thach,Ren-Guan Duan,Thomas Graves,Xiaoming He. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-10-28.

Polishing composition for semiconductor process and method for polishing a substrate using the same

Номер патента: EP4417661A1. Автор: Han Teo PARK,Seung Chul Hong,Deok Su Han,Hwan Chul Kim. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-21.

Polishing composition for semiconductor process and method for polishing a substrate using the same

Номер патента: US20240274439A1. Автор: Han Teo PARK,Seung Chul Hong,Deok Su Han,Hwan Chul Kim. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Polishing composition for semiconductor processing and method of polishing a substrate

Номер патента: US20240218251A1. Автор: Han Teo PARK,Seung Chul Hong,Deok Su Han,Yongsoo Choi,Kangsik MYUNG. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Compact external torch assembly for semiconductor processing

Номер патента: EP1071913A1. Автор: Gideon Drimer,Leo Mendelovici,Nachum Borivker. Владелец: Persys Technology Ltd. Дата публикации: 2001-01-31.

Semiconductor process wastewater treatment system and semiconductor process wastewater treatment method using the same

Номер патента: US20220127177A1. Автор: Soyoun KIM,Chanhyuk Park,Sehyuk AHN,Minju CHA. Владелец: Industry Collaboration Foundation of Ewha University. Дата публикации: 2022-04-28.

Polishing composition for semiconductor processing polishing composition preparation method, and semiconductor device manufacturing method to which polishing composition is applied

Номер патента: US20240030041A1. Автор: Han Teo PARK,Jang Kuk KWON,Seung Chul Hong,Deok Su Han. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Polishing composition for semiconductor processing,method for preparing polishing composition, and method for manufacturing semiconductor element to which polishing composition is applied

Номер патента: US20240043718A1. Автор: Han Teo PARK,Jang Kuk KWON,Seung Chul Hong,Deok Su Han. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Polishing compostion for semiconductor process, manufacturing method of polishing composition and method for manufacturing semiconductor device by using the same

Номер патента: US20230332014A1. Автор: Han Teo PARK,Jang Kuk KWON,Seung Chul Hong,Deok Su Han. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-19.

Polishing composition for semiconductor processing,method for preparing polishing composition, and method for manufacturing semiconductor element to which polishing composition is applied

Номер патента: US20240043719A1. Автор: Han Teo PARK,Jang Kuk KWON,Seung Chul Hong,Deok Su Han. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Recycle method and device for recycle of waste water containing suspension from semiconductor processing process, in particular, chemical-mechanical finishing

Номер патента: RU2520474C2. Автор: Франц БРУММЕР. Владелец: Хигхк-Фэктори Гмбх. Дата публикации: 2014-06-27.

Thermal diffusion chamber with heat exchanger

Номер патента: EP2659024A1. Автор: Mark R. Erickson,Nader Jamshidi,Henry J. POOLE,Arthur W. CUSTER, III,Aaron L. DINGUS. Владелец: POOLE VENTURA Inc. Дата публикации: 2013-11-06.

Thermal diffusion chamber with heat exchanger

Номер патента: WO2012099687A1. Автор: Mark R. Erickson,Nader Jamshidi,Henry J. POOLE,Arthur W. CUSTER, III,Aaron L. DINGUS. Владелец: POOLE VENTURA, INC.. Дата публикации: 2012-07-26.

EPI chamber with full wafer laser heating

Номер патента: US12033874B2. Автор: Zhiyuan Ye,Shu-Kwan Danny LAU,Adel George Tannous,Patrick C. Genis. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-09.

Epi chamber with full wafer laser heating

Номер патента: US20240339342A1. Автор: Zhiyuan Ye,Shu-Kwan Danny LAU,Adel George Tannous,Patrick C. Genis. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-10.

Composition for semiconductor processing and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: EP4293087A1. Автор: Han Teo PARK,Yong Soo Choi,Seung Chul Hong,Deok Su Han,Hyeong Ju Lee,Kang Sik MYUNG. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-20.

Composition for semiconductor processing and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20230407135A1. Автор: Han Teo PARK,Yong Soo Choi,Seung Chul Hong,Deok Su Han,Hyeong Ju Lee,Kang Sik MYUNG. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Controlling deposition and etching in a chamber with fine time control of parameters and gas flow

Номер патента: GB2499816A. Автор: Mark Edward Mcnie,Michael Joseph Cooke,Leslie Michael Lea. Владелец: OXFORD INSTRUMENTS NANOTECHNOLOGY TOOLS LTD. Дата публикации: 2013-09-04.

Process chamber with reflector

Номер патента: US20240231042A9. Автор: Peter Reimer,Shu-Kwan LAU,Ala Moradian,Amir H. Tavakoli. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Sheet for semiconductor processing

Номер патента: MY183013A. Автор: SATO Akinori,Yamashita Shigeyuki. Владелец: Lintec Corp. Дата публикации: 2021-02-05.

Pressure-sensitive adhesive sheet for semiconductor processing

Номер патента: US20240034914A1. Автор: Yuji Kato,Jun Akiyama,Taiki Ueno. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2024-02-01.

Pressure-sensitive adhesive sheet for semiconductor processing

Номер патента: US20240043724A1. Автор: Yuji Kato,Jun Akiyama,Taiki Ueno. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2024-02-08.

Polishing composition for semiconductor process and manufacturing method for polished article

Номер патента: EP4116386A1. Автор: Donghyun Kim,Seung Chul Hong,Deok Su Han,Jin Hyuk Lim,Jieun Lee. Владелец: SKC Solmics Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-11.

Polishing composition for semiconductor process and manufacturing method for polished article

Номер патента: US20230019730A1. Автор: Donghyun Kim,Seung Chul Hong,Deok Su Han,Jin Hyuk Lim,Jieun Lee. Владелец: SKC Solmics Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-19.

Castable aluminum alloys for wafer handling chambers in semiconductor processing systems

Номер патента: US20230235428A1. Автор: Felix Rabinovich,Hong Gao,Shaofeng Chen,Joaquin Aguilar SANTILLAN,Shanker KUTTATH,Gary Urban Keppers. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-07-27.

Semiconductor-processing tape

Номер патента: US11901211B2. Автор: Yukihiro Matsubara,Hirotoki Yokoi. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.

Adhesive tape for semiconductor processing and method for producing semiconductor device

Номер патента: US11942353B2. Автор: Jun Maeda,Kazuto Aizawa. Владелец: Lintec Corp. Дата публикации: 2024-03-26.

Semiconductor processing adhesive tape and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11842916B2. Автор: Jun Maeda,Kazuto Aizawa. Владелец: Lintec Corp. Дата публикации: 2023-12-12.

Semiconductor processing liquid and method for processing substrate

Номер патента: US11807792B2. Автор: Lihong Liu,Takahiro Eto. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-07.

Semiconductor processing liquid and method for processing substrate

Номер патента: US11773324B2. Автор: Lihong Liu,Takahiro Eto. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Composition for semiconductor processing and processing method

Номер патента: US20240150677A1. Автор: Hiroyuki Tano. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-05-09.

Semiconductor processing liquid and method for processing substrate

Номер патента: US20220372369A1. Автор: Lihong Liu,Takahiro Eto. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-24.

Composition for semiconductor processing and processing method

Номер патента: US20240150680A1. Автор: Hiroyuki Tano. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-05-09.

Semiconductor-processing temporary-adhesive tape

Номер патента: MY197838A. Автор: Goto Yusuke,Uchiyama Tomoaki. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-20.

Methods of making heating blocks, heating blocks, and semiconductor processing systems having heating blocks

Номер патента: US20230389134A1. Автор: Hong Gao,Changmin Lee,Joaquin Aguilar SANTILLAN,Nobuaki Tanabe,Shanker KUTTATH. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-11-30.

Methods for preparing blood or plasma component solutions with improved concentrations

Номер патента: EP1242157A1. Автор: Gautam Bhaskar,Glenn A. Joergensen. Владелец: Bristol Myers Squibb Co. Дата публикации: 2002-09-25.

Methods for preparing blood or plasma component solutions with improved concentrations

Номер патента: WO2001032289A9. Автор: Gautam Bhaskar,Glenn A Joergensen. Владелец: Bristol Myers Squibb Co. Дата публикации: 2002-09-26.

Removing metal contamination from surfaces of a processing chamber

Номер патента: US11842888B2. Автор: Seongjun Heo,Samantha SiamHwa Tan,Jengyi Yu,Ge YUAN,Siva Krishnan Kanakasabapathy. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-12-12.

Removing metal contamination from surfaces of a processing chamber

Номер патента: US20240112896A1. Автор: Seongjun Heo,Samantha SiamHwa Tan,Jengyi Yu,Ge YUAN,Siva Krishnan Kanakasabapathy. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-04-04.

Methods for preparing blood or plasma component solutions with improved concentrations

Номер патента: EP1242157A4. Автор: Gautam Bhaskar,Glenn A Joergensen. Владелец: Bristol Myers Squibb Co. Дата публикации: 2002-10-24.

Methods for preparing blood or plasma component solutions with improved concentrations

Номер патента: AU7843700A. Автор: Gautam Bhaskar,Glenn A. Joergensen. Владелец: Bristol Myers Squibb Co. Дата публикации: 2001-05-14.

Method of producing steel and portland cement and process chambers for implementing method

Номер патента: RU2710088C1. Автор: Сергей Викторович Ласанкин. Владелец: Сергей Викторович Ласанкин. Дата публикации: 2019-12-24.

Single workpiece processing chamber

Номер патента: US20120060869A1. Автор: Daniel J. Woodruff. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-03-15.

Single workpiece processing chamber

Номер патента: EP1735817A1. Автор: Daniel J. Woodruff. Владелец: Semitool Inc. Дата публикации: 2006-12-27.

Single workpiece processing chamber

Номер патента: WO2005091340A1. Автор: Daniel J. Woodruff. Владелец: Semitool, Inc.. Дата публикации: 2005-09-29.

Lift assemblies, and related methods and components, for substrate processing chambers

Номер патента: US20240198468A1. Автор: Shu-Kwan LAU,Martin Jeffrey Salinas,Aniketnitin Patil,Raja Murali Dhamodharan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-20.

Surface annealing of components for substrate processing chambers

Номер патента: US20140167327A1. Автор: Ashish Bhatnagar,Laxman Murugesh,Padma Gopalakrishnan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-06-19.

Cell architectural structures for enhanced thermal management in epitaxial growth processing chamber

Номер патента: US20240254653A1. Автор: Ala Moradian,Shawn Thanhson Le,Amir H. Tavakoli. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Cell architectural structures for enhanced thermal management in epitaxial growth processing chamber

Номер патента: WO2024158639A1. Автор: Ala Moradian,Amir H. Tavakoli,Shawn LE. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-02.

Semiconductor heat treatment device and method for controlling pressure in process chamber

Номер патента: US20240355646A1. Автор: Dan Geng,YAN Jia,Zhimin Chen. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Process chamber with reflector

Номер патента: US20240134151A1. Автор: Peter Reimer,Shu-Kwan LAU,Ala Moradian,Amir H. Tavakoli. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-25.

Oil distillates with improved electroconductivity and low-temperature fluidity

Номер патента: RU2419652C2. Автор: Маттиас Крулль,Вернер РАЙМАНН. Владелец: Клариант Продукте (Дойчланд) Гмбх. Дата публикации: 2011-05-27.

Plastic lubrication for heavily loaded sliding friction units with improved tribological characteristics

Номер патента: RU2663843C1. Автор: Дмитрий Сергеевич Колыбельский,Ярослав Владимирович Порфирьев,Алексей Юрьевич Евстафьев,Ольга Вячеславовна Ермакова. Владелец: Публичное акционерное общество "НК "Роснефть" - МЗ "Нефтепродукт". Дата публикации: 2018-08-10.

Method for producing diesel fuels with improved low-temperature properties and reduced sulfur content and device for implementation thereof

Номер патента: RU2685550C1. Автор: Анатолий Ильич Дудко,Виталий Иванович Кияница,Сергей Владимирович Гробов,Юрий Николаевич Киташов,Андрей Владимирович Назаров. Владелец: Андрей Владимирович Назаров. Дата публикации: 2019-04-22.

Non-woven meltblowns without crushers and with improved barrier properties

Номер патента: RU2676763C1. Автор: Джингбо Ванг,Маркус ГАХЛЕИТНЕР,Антти ТИНИС,Йоахим ФИЕБИГ,ПАРИДОН Хенк ВАН,Вильхельмус Хенрикус Адольф САРС. Владелец: Бореалис Аг. Дата публикации: 2019-01-11.

Fc-ERYTHROPOIETIN FUSED PROTEIN WITH IMPROVED PHARMACOKINETICS

Номер патента: RU2370276C2. Автор: Ханс-Кристиан МАЛЕР,Роберт МЮЛЛЕР,Скотт ЛОДЕР,Стивен Д. ДЖИЛИС,Дороте КРЕСС. Владелец: Мерк Патент Гмбх. Дата публикации: 2009-10-20.

Composition intended for manufacture of cans with improved adhesion to pvc plastisol during manufacture of a screw lid

Номер патента: RU2744689C1. Автор: Николай Алексеевич Апанович,Елена Юрьевна Максимова,Александра Дмитриевна Зеленская,Александр Валерьевич Павлов,Антон Владимирович Алексеенко,Наталья Михайловна Филатова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Российский химико-технологический университет имени Д.И. Менделеева" (РХТУ им. Д.И. Менделеева). Дата публикации: 2021-03-15.

Tomato plants with improved resistance to diseases

Номер патента: RU2721952C2. Автор: Барт БРУГМАНЗ,Дерек ДРОСТ,Альберт ГРИТ,Якобус ХОГСТРАТЕН,Мария Фернанда РОДРИГЕС. Владелец: Семиниз Веджитэбл Сидз, Инк.. Дата публикации: 2020-05-25.

Cleaning composition and cleaning method for component of semiconductor manufacturing process chamber

Номер патента: US20220135916A1. Автор: Yasuo Suzuki,Isao Hirano. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-05.

Retractable and expandable water cooled valve gate useful for sealing a hot processing chamber

Номер патента: EP2577139A1. Автор: William L. Luter,Dick S. Williams. Владелец: Confluence Solar Inc. Дата публикации: 2013-04-10.

Process chamber, semiconductor process device, and semiconductor process method

Номер патента: EP4421853A1. Автор: Yongfei WANG,Wenkai CHI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-28.

Power control method and device of lower radio frequency power supply and semiconductor processing equipment

Номер патента: US20240234088A1. Автор: Yu Zhang,JING Yang,JING Wei,Gang Wei,Guodao SHAN,Chenyu ZHONG,Yanyan YOU. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Power control method and apparatus for lower radio frequency power source, and semiconductor processing device

Номер патента: EP4407651A1. Автор: Yu Zhang,JING Yang,XING Chen,JING Wei,Gang Wei,Guodao SHAN,Chenyu ZHONG,Yanyan YOU. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-31.

Temperature control of semiconductor processing chambers

Номер патента: WO2014040038A2. Автор: Michael Nam,David Gunther,Jae Yeol Park,Kyle PETERSEN. Владелец: Semicat, Inc.. Дата публикации: 2014-03-13.

Semiconductor processing flow field control apparatus and method

Номер патента: US20210225673A1. Автор: Che-Fu Chen,Kai-Chin WEI. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-07-22.

Chamber liner for semiconductor process chambers

Номер патента: EP1125317A2. Автор: Michael Barnes,Alan M. Schoepp,William M. Denty, Jr.. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2001-08-22.

Semiconductor processing system

Номер патента: US12080570B2. Автор: Gerald Zheyao Yin,Heng Tao. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2024-09-03.

Dynamic processing chamber baffle

Номер патента: WO2023064197A1. Автор: Mayur Govind KULKARNI,Udit S. KOTAGI. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-04-20.

Method and system for recognizing and addressing plasma discharge during semiconductor processes

Номер патента: US12100604B2. Автор: Chih-Yu Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-24.

Dynamic processing chamber baffle

Номер патента: US12119209B2. Автор: Mayur Govind KULKARNI,Udit S. KOTAGI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-15.

Methods for Semiconductor Process Chamber

Номер патента: US20240266149A1. Автор: Qi Wang,Akiteru Ko,Sergey Voronin,Hamed Hajibabaeinajafabadi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Method and apparatus for minimizing contamination in semiconductor processing chamber

Номер патента: WO2010090781A2. Автор: Eric Shero,Joseph C. Reed. Владелец: ASM AMERICA, INC.. Дата публикации: 2010-08-12.

Apparatus and method for selectively restricting process fluid flow in semiconductor processing

Номер патента: US20010031560A1. Автор: David Rose. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-10-18.

Methods for semiconductor process chamber

Номер патента: WO2024163137A1. Автор: Qi Wang,Akiteru Ko,Sergey Voronin,Hamed Hajibabaeinajafabadi. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2024-08-08.

Device for treating semiconductor process exhaust gas

Номер патента: US20230271133A1. Автор: Jong Pil Yoon. Владелец: Plasma Science System Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Semiconductor processing chamber

Номер патента: US20240266150A1. Автор: Yan Li,Xingfei MAO,Shixuan GUO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

System of semiconductor process and control method thereof

Номер патента: US12125687B2. Автор: Youngdo Kim,Sungyeol KIM,Sangki NAM,Daewon KANG,Sungyong LIM,Jonghun PI,Myunggeun SONG,Byungkook Cho,Hyeoncheol Jin. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-22.

Apparatus and methods for reducing particles in semiconductor process chambers

Номер патента: US09761416B2. Автор: ANAND Kumar,Shahid Rauf,Michael D. Willwerth,Kenneth S. Collins,Andrew Nguyen,Ajit Balakrishna,Tom K. Cho,Yogananda SARODE VISHWANATH,Bradley Howard. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-09-12.

Semiconductor processing tool platform configuration with reduced footprint

Номер патента: US20240258137A1. Автор: Schubert S. Chu,Sushant S. Koshti,Nyi Oo Myo,Michael C. Kuchar,Nir Merry,Songjae Lee. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Semiconductor process device and impedance matching method therefor

Номер патента: EP4411784A1. Автор: JING Yang,Di Zhang,Gang Wei,Wenqing Li,Shuqi JIANG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-07.

Method of monitoring semiconductor process

Номер патента: US20110140719A1. Автор: Yong-Jin Kim,Kye-Hyun Baek,Ho-Ki Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2011-06-16.

Modular mainframe layout for supporting multiple semiconductor process modules or chambers

Номер патента: US20220262653A1. Автор: Alpay Yilmaz,Randy A. Harris,Vincent DiCaprio,Coby Scott GROVE,Paul Zachary WIRTH,Avinash Shantaram,Amir Nissan,Jitendra Ratilal Bhimjiyani,Niranjan Pingle. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-08-18.

Modular mainframe layout for supporting multiple semiconductor process modules or chambers

Номер патента: EP4423800A1. Автор: Alpay Yilmaz,Randy A. Harris,Vincent DiCaprio,Coby Scott GROVE,Paul Zachary WIRTH,Avinash Shantaram,Amir Nissan,Jitendra Ratilal Bhimjiyani,Niranjan Pingle. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-04.

Advanced semiconductor process optimization and adaptive control during manufacturing

Номер патента: EP4276891A3. Автор: Dermot Cantwell,Samer Banna,Waheb Bishara,Lior Engel. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-21.

Semiconductor processing equipment and impedance-matching method

Номер патента: US20240249917A1. Автор: JING Yang,Di Zhang,Gang Wei,Wenqing Li,Shuqi JIANG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Smart window for semiconductor processing tool

Номер патента: US09612207B2. Автор: Xinxin He,Cameron Paul Simoes. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-04-04.

Semiconductor processing chamber

Номер патента: US12080524B2. Автор: Yan Li,Xingfei MAO,Shixuan GUO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Upper electrode power supply power adjustment method, and semiconductor process device

Номер патента: EP4318547A1. Автор: Yu Zhang,JING Yang,XING Chen,Xin Yue,JING Wei,Gang Wei,Guibin Wang. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-07.

Power adjustment method of upper electrode power supply and semiconductor process apparatus

Номер патента: US20240194441A1. Автор: Yu Zhang,JING Yang,Xin Yue,JING Wei,Gang Wei,Guibin Wang. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Absorbing reflector for semiconductor processing chamber

Номер патента: US20180084610A1. Автор: RAMACHANDRAN BALASUBRAMANIAN,Daniel REDFIELD,Joseph M. Ranish,Paul Brillhart,Satheesh Kuppurao,Kailash Kiran Patalay,Kin Pong Lo,Michael Olsen,James Francis Mack,Richard Halpin,Eddie Feigel,Brett Vetorino. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-03-22.

Absorbing reflector for semiconductor processing chamber

Номер патента: US20140376898A1. Автор: BALASUBRAMANIAN Ramachandran,Daniel REDFIELD,Joseph M. Ranish,Paul Brillhart,Satheesh Kuppurao,Kailash Kiran Patalay,Kin Pong Lo,Michael Olsen,James Francis Mack,Richard Halpin,Eddie Feigel,Brett Vetorino. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-12-25.

Anomalous plasma event detection and mitigation in semiconductor processing

Номер патента: WO2020167601A2. Автор: LIANG Meng,Yukinori Sakiyama,Sunil Kapoor,Karl Frederick Leeser,Noah Baker. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2020-08-20.

Anomalous plasma event detection and mitigation in semiconductor processing

Номер патента: US20240355600A1. Автор: LIANG Meng,Yukinori Sakiyama,Sunil Kapoor,Noah Elliot BAKER,Karl Frederick Leeser. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-24.

Absorbing reflector for semiconductor processing chamber

Номер патента: US09832816B2. Автор: BALASUBRAMANIAN Ramachandran,Daniel REDFIELD,Joseph M. Ranish,Paul Brillhart,Satheesh Kuppurao,Kailash Kiran Patalay,Kin Pong Lo,Michael Olsen,James Francis Mack,Richard Halpin,Eddie Feigel,Brett Vetorino. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-11-28.

Method and apparatus for providing mask in semiconductor processing

Номер патента: WO2007136515A1. Автор: Jonathan Kim,Camelia Rusu,Yoojin Kim. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2007-11-29.

Methods and mechanisms for modifying machine-learning models for new semiconductor processing equipment

Номер патента: US20240288779A1. Автор: Waheb Bishara,Subhasish Bandyopadhyay. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-29.

Hexapod-based pedestal systems for use in semiconductor processing operations

Номер патента: EP4449489A1. Автор: Jacob Lee Hiester,Jason Gordon GALGINAITIS,Richard M BLANK. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-23.

Optical absorption sensor for semiconductor processing

Номер патента: US11848178B2. Автор: Diwakar Kedlaya,Fang RUAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-19.

Optical absorption sensor for semiconductor processing

Номер патента: US20240079220A1. Автор: Diwakar Kedlaya,Fang RUAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Temperature control of semiconductor processing chambers by modulating plasma generation energy

Номер патента: WO2014040033A3. Автор: Michael Nam,David Gunther,Jae Yeol Park,Kyle PETERSEN. Владелец: Semicat, Inc. Дата публикации: 2014-06-26.

Temperature control of semiconductor processing chambers

Номер патента: WO2014040038A3. Автор: Michael Nam,David Gunther,Jae Yeol Park,Kyle PETERSEN. Владелец: Semicat, Inc.. Дата публикации: 2015-07-16.

Temperature control of semiconductor processing chambers by modulating plasma generation energy

Номер патента: WO2014040033A2. Автор: Michael Nam,David Gunther,Jae Yeol Park,Kyle PETERSEN. Владелец: Semicat, Inc. Дата публикации: 2014-03-13.

Control for semiconductor processing systems

Номер патента: US20240021450A1. Автор: Chris Pylant. Владелец: Verity Instruments Inc. Дата публикации: 2024-01-18.

Process chamber and semiconductor process device

Номер патента: US20230402265A1. Автор: Gang Wei,Yancheng LU,Xingfei MAO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Exhaust manifold for semiconductor process chamber

Номер патента: US20240030045A1. Автор: Yeh-Chieh Wang,Kuang-Wei Cheng,Sung-Ju Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Semiconductor processing device and method

Номер патента: RU2694171C1. Автор: София ВЭНЬ,Чжикай ВАН. Владелец: Уси Хуаин Микроэлектроникс Текнолоджи Ко., Лтд. Дата публикации: 2019-07-09.

Indentification of the composition of particles in a process chamber

Номер патента: US6015718A. Автор: Richard A. Rathbone. Владелец: Cypress Semiconductor Corp. Дата публикации: 2000-01-18.

Method and system for recognizing and addressing plasma discharge during semiconductor processes

Номер патента: US11894250B2. Автор: Chih-Yu Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-02-06.

Semiconductor process system and gas treatment method

Номер патента: US20240096649A1. Автор: Jong-San Chang,Hyunseok Kim,Kimoon LEE,JungDae PARK,Wonsu Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-21.

Wafer tray and ceramic blade for semiconductor processing apparatus

Номер патента: US5636964A. Автор: Sasson Somekh,Kevin Fairbairn,Gary M. Kolstoe,Gregory W. White,W. George Faraco, Jr.. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1997-06-10.

Semiconductor processing device equipped with process chamber

Номер патента: US20180294173A1. Автор: Kee Won Suh. Владелец: ALLIED TECHFINDERS CO Ltd. Дата публикации: 2018-10-11.

Semiconductor process apparatus and power control method

Номер патента: US20240006170A1. Автор: JING Yang,JING Wei,Gang Wei,Guodao SHAN. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Vacuum pump, vacuum pump set for evacuating a semiconductor processing chamber and method of evacuating a semiconductor processing chamber

Номер патента: EP4088034A1. Автор: Nigel Paul Schofield. Владелец: Edwards Ltd. Дата публикации: 2022-11-16.

Semiconductor processing device and method

Номер патента: RU2713171C9. Автор: София ВЭНЬ,Чжикай ВАН. Владелец: Хуаин Рисерч Ко., Лтд. Дата публикации: 2020-07-22.

Substrate transfer module and semiconductor processing system

Номер патента: US20210358782A1. Автор: Zhuo Wang,Jason Lee Tian. Владелец: Piotech Inc. Дата публикации: 2021-11-18.

Device for treating semiconductor process exhaust gas

Номер патента: EP4327916A1. Автор: Jong Pil Yoon. Владелец: Plasma Science System Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-28.

Semiconductor process chamber

Номер патента: EP4280253A1. Автор: Yan Li,Xingfei MAO,Shixuan GUO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-22.

Training method for semiconductor process prediction model, semiconductor process prediction device, and semiconductor process prediction method

Номер патента: US20230236553A1. Автор: Ming-Wei Chen,Chia-Wei Chen,Ching-Pei Lin,Chung-Yi Chiu,Hsiao-Ying Yang,Te-Hsuan Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2023-07-27.

Method and apparatus for verifying the calibration of semiconductor processing equipment

Номер патента: US5948958A. Автор: Won Bang,Chen-An Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1999-09-07.

Process stop loss reduction system through rapid replacement of apparatus for trapping of reaction by-product for semiconductor process

Номер патента: US20240186154A1. Автор: In Hwan Kim,Sung Won Yoon,Yeon Ju Lee,In Mun Hwang. Владелец: Milaebo Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Methods and apparatus for microwave leakage reduction for semiconductor process chambers

Номер патента: US20190326141A1. Автор: Ananthkrishna Jupudi,Ribhu GAUTAM,Preetham P. RAO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-10-24.

Methods and apparatus for microwave leakage reduction for semiconductor process chambers

Номер патента: WO2019204110A1. Автор: Ananthkrishna Jupudi,Ribhu GAUTAM,Preetham P. RAO. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2019-10-24.

Semiconductor processing device, semiconductor processing system and semiconductor processing management method

Номер патента: US20030157736A1. Автор: Hiroshi Matsushita. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2003-08-21.

Semiconductor processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20240282604A1. Автор: SunWoo PARK,Seungdon Lee,Hyunjin Lee,Minwoo Rhee,Kyeongbin LIM,Bumki Moon,Sujie Kang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

System and method for illuminating a semiconductor processing system

Номер патента: EP1277226A1. Автор: Bharath Rangarajan,Bhanwar Singh,Ramkumar Subramanian,Khoi A. Phan,Bryan K. Choo. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2003-01-22.

Process assembly for semiconductor processing and semiconductor processing method

Номер патента: US20240355649A1. Автор: Peter Volk,Jan Dirk Kähler. Владелец: Centrotherm International AG. Дата публикации: 2024-10-24.

Semiconductor process chamber electrode

Номер патента: US6106663A. Автор: Lumin Li,Andras Kuthi. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2000-08-22.

Semiconductor processing chamber adapter

Номер патента: EP4364181A1. Автор: Ryan Pakulski,Son T. Nguyen,Anh N. Nguyen,Anchuan Wang,Zihui Li,Kenneth D. Schatz,Soonwook JUNG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-08.

Apparatus to detect and quantify radical concentration in semiconductor processing systems

Номер патента: EP4348695A1. Автор: Mehran Moalem. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-10.

Apparatus to detect and quantify radical concentration in semiconductor processing systems

Номер патента: WO2022256161A1. Автор: Mehran Moalem. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-12-08.

Method for improved semiconductor processing equipment tool pedestal/pad vibration isolation and reduction

Номер патента: WO2018184033A1. Автор: Suk K. Kim-Whitty. Владелец: SK COMMERCIAL CONSTRUCTION, INC.. Дата публикации: 2018-10-04.

Method, apparatus, and system for establishing a virtual tether between a mobile device and a semiconductor processing tool

Номер патента: US09736135B2. Автор: Vincent Wong,Chung Ho Huang,Paul Ballintine,Henry T. Chan,Chris Thorgrimsson,Chad Weetman. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-08-15.

Semiconductor process chamber exhaust port quartz removal tool

Номер патента: US5833290A. Автор: Bradley Mitchell Curelop,James Hann. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1998-11-10.

Semiconductor process chamber exhaust port quartz removal tool

Номер патента: US5743581A. Автор: Bradley Mitchell Curelop,James Hann. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1998-04-28.

Modular mainframe layout for supporting multiple semiconductor process modules or chambers

Номер патента: US11935771B2. Автор: Alpay Yilmaz,Randy A. Harris,Vincent DiCaprio,Coby Scott GROVE,Paul Zachary WIRTH,Avinash Shantaram,Amir Nissan,Jitendra Ratilal Bhimjiyani,Niranjan Pingle. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-19.

Modular mainframe layout for supporting multiple semiconductor process modules or chambers

Номер патента: US11935770B2. Автор: Alpay Yilmaz,Randy A. Harris,Vincent DiCaprio,Coby Scott GROVE,Paul Zachary WIRTH,Avinash Shantaram,Amir Nissan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-19.

Pressure controller configuration for semiconductor processing applications

Номер патента: WO2014172142A1. Автор: Jonathan Dinh,Andrew Nguyen,Sergey G. BELOSTOTSKIY,Ying-sheng LIN. Владелец: APPLIED MATERIALS, INC. Дата публикации: 2014-10-23.

Semiconductor processing tool platform configuration with reduced footprint

Номер патента: EP4268272A1. Автор: Schubert S. Chu,Sushant S. Koshti,Nyi Oo Myo,Michael C. Kuchar,Nir Merry,Songjae Lee. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-01.

Semiconductor processing tool platform configuration with reduced footprint

Номер патента: US11996307B2. Автор: Schubert S. Chu,Sushant S. Koshti,Nyi Oo Myo,Michael C. Kuchar,Nir Merry,Songjae Lee. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-28.

Process chamber with uv irradiance

Номер патента: US20230294190A1. Автор: Christopher Lane,Ramakanth Alapati,Tapani LAAKSONEN,Craig Walter McCOY,M Ziaul Karim. Владелец: Yield Engineering Systems Inc. Дата публикации: 2023-09-21.

Modular mainframe layout for supporting multiple semiconductor process modules or chambers

Номер патента: EP4295389A1. Автор: Alpay Yilmaz,Randy A. Harris,Vincent DiCaprio,Coby Scott GROVE,Paul Zachary WIRTH,Avinash Shantaram,Amir Nissan,Jitendra Ratilal Bhimjiyani,Niranjan Pingle. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-27.

Method for improved semiconductor processing equipment tool pedestal / pad vibration isolation and reduction

Номер патента: US20180283486A1. Автор: Suk K. Kim-Whitty. Владелец: Sk Commercial Construction Inc. Дата публикации: 2018-10-04.

Semiconductor Process Optimized For Quantum Structures

Номер патента: US20200220065A1. Автор: Dirk Robert Walter Leipold,George Adrian Maxim,Michael Albert Asker. Владелец: Equal1 Labs Inc. Дата публикации: 2020-07-09.

Cyclic etch-ash process for semiconductor processing

Номер патента: US20240274432A1. Автор: Michael O'Toole,Gregory McKee,Gordon Nielsen,Aravindsekar Pandiasekar. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2024-08-15.

Semiconductor process formula acquisition method and system and semiconductor process device

Номер патента: EP4428780A1. Автор: Yuanwei LIN. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-11.

Data processing method and system for detection of deterioration of semiconductor process kits

Номер патента: US12055498B2. Автор: Feng-Min Shen,Chyuan-Ruey LIN,Hung-Chia SU. Владелец: Top Technology Platform Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Fuel injector with premixing chamber with protective coating, built-up with laser

Номер патента: RU2630067C2. Автор: Александр Илих КРАЙЧЕВЕР,II Роберт Энтони КОРР,Питер БАРКЕР,Бруно Энрикес СТРАК,Джон Престон МОНТАГЬЮ. Владелец: Соулар Тёрбинз Инкорпорейтед. Дата публикации: 2017-09-05.

Technological chamber with device for injection of gaseous fluid medium

Номер патента: RU2589971C2. Автор: Дитмар ВИЛАНД,Оливер ИГЛАУЕР,Кристоф КНЮЗЕЛЬ,Мариус ВИНКЛЕР. Владелец: Дюрр Системс Гмбх. Дата публикации: 2016-07-10.

Semiconductor process chamber electrode

Номер патента: EP1090407B1. Автор: Lumin Li,Andras Kuthi. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2010-03-10.

Advanced semiconductor process optimization and adaptive control during manufacturing

Номер патента: EP4276891A2. Автор: Dermot Cantwell,Samer Banna,Waheb Bishara,Lior Engel. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-15.

Rf frequency control and ground path return in semiconductor process chambers

Номер патента: WO2021252812A1. Автор: Rajinder Dhindsa,James Hugh Rogers,Timothy Joseph Franklin,Carlaton WONG,Joseph Perry,Daniel Sang BYUN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-12-16.

Modular mainframe layout for supporting multiple semiconductor process modules or chambers

Номер патента: US20240194503A1. Автор: Alpay Yilmaz,Randy A. Harris,Vincent DiCaprio,Coby Scott GROVE,Paul Zachary WIRTH,Avinash Shantaram,Amir Nissan,Jitendra Ratilal Bhimjiyani,Niranjan Pingle. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-13.

Semiconductor processing tool and methods of operation

Номер патента: US12068169B2. Автор: Liang-Guang Chen,Kei-Wei Chen,Ji Cui,Chih Hung Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Deposition or etch chamber with complete symmetry and high temperature surfaces

Номер патента: US20240290638A1. Автор: Dmitry Lubomirsky,Kaushik ALAYAVALLI,Amit Ashok Hattangadi,Bhawesh Agrawal,Vishwas Basavarajaiah Somashekar,Chethan Somanahalli Malleshappa. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-29.

Deposition or etch chamber with complete symmetry and high temperature surfaces

Номер патента: WO2024178188A1. Автор: Dmitry Lubomirsky,Kaushik ALAYAVALLI,Amit Ashok Hattangadi,Bhawesh Agrawal,Vishwas Basavarajaiah Somashekar,Chethan Somanahalli Malleshappa. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-29.

Methods and devices of correcting layout for semiconductor processes using machine learning

Номер патента: US12086526B2. Автор: Sooyong Lee,Seunghune YANG,Jeeyong Lee,Hyeyoung Ji. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-10.

Replacing end effectors in semiconductor processing systems

Номер патента: US12119256B2. Автор: Dongyang Chen. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-10-15.

Semiconductor processing tool and methods of operation

Номер патента: US20240363361A1. Автор: Liang-Guang Chen,Kei-Wei Chen,Ji Cui,Chih Hung Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Semiconductor processing apparatus and method of operating the same

Номер патента: US09793143B2. Автор: Yao-Hwan Kao,Kai-Yuan Cheng,Ching-Hai Yang,shang-sheng Li,Jian-Yuan LAI,Yung-Chang LU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-10-17.

Semiconductor process management system, semiconductor manufacturing system including the same, and method of manufacturing semiconductor

Номер патента: US09791855B2. Автор: Do-Hyung Kim,Sung-Hyup Kim,Jai-Hyung Won,Ho-jun Kim,Dong-Hoon Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-10-17.

Lithography system and semiconductor processing process

Номер патента: US09753373B2. Автор: Chia-Hung Wang,En-Chiuan Liou. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-09-05.

Plasma ignition optimization in semiconductor processing chambers

Номер патента: US11894217B2. Автор: Kenneth D. Schatz,Soonwook JUNG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-06.

Plasma ignition optimization in semiconductor processing chambers

Номер патента: US20230197405A1. Автор: Kenneth D. Schatz,Soonwook JUNG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-06-22.

Improved optical access for spectroscopic monitoring of semiconductor processes

Номер патента: WO2024097654A1. Автор: Mark Meloni. Владелец: Verity Instruments, Inc.. Дата публикации: 2024-05-10.

Plasma ignition optimization in semiconductor processing chambers

Номер патента: WO2022109049A1. Автор: Kenneth D. Schatz,Soonwook JUNG. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-05-27.

Semiconductor process

Номер патента: US20150132867A1. Автор: Chun-Chieh Lin,Yu-Pin Tsai,Yu-Cheng Tsao,Cheng-Hung Wang,Hsiu-Hsiung YANG. Владелец: Advanced Semiconductor Engineering Inc. Дата публикации: 2015-05-14.

Method for operating a semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20050089625A1. Автор: Hideyuki Yamamoto,Ken Yoshioka,Saburou Kanai,Ryoji Nishio,Seiichiro Kanno,Hideki Kihara. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-04-28.

Method of training semiconductor process image generator

Номер патента: US20230177815A1. Автор: Hyeok Lee,Jaewon Yang,Sangchul Yeo,Sooryong Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-08.

Semiconductor process apparatus scheduling control method and semiconductor process apparatus

Номер патента: EP4459668A1. Автор: Junxiang Zhao. Владелец: Xi'an Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-06.

Semiconductor process and semiconductor processing device using the same

Номер патента: US09666461B1. Автор: Pinyen Lin,Chih-Ming Sun,Yii-Cheng LIN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Semiconductor process

Номер патента: US09564376B2. Автор: Chun-Chieh Lin,Yu-Pin Tsai,Yu-Cheng Tsao,Cheng-Hung Wang,Hsiu-Hsiung YANG. Владелец: Advanced Semiconductor Engineering Inc. Дата публикации: 2017-02-07.

Method for photoresist development with improved CD

Номер патента: US20040043329A1. Автор: Sung-Cheng Chiu,Cheng-Ming Wu,Wei-Jen Wu,Ching-Jiunn Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2004-03-04.

Susceptor transfer for process chamber

Номер патента: WO2024064423A1. Автор: Masato Ishii,Shu-Kwan LAU,Ribhu GAUTAM,Miao-chun CHEN,Kuan Chien Shen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-03-28.

Susceptor transfer for process chamber

Номер патента: US20240105485A1. Автор: Masato Ishii,Shu-Kwan LAU,Ribhu GAUTAM,Miao-chun CHEN,Kuan Chien Shen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-28.

Improved lamphead for a rapid thermal processing chamber

Номер патента: WO2003014645A3. Автор: Peter A Knoot,Paul Steffas. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-05-08.

Improved lamphead for a rapid thermal processing chamber

Номер патента: EP1415327A2. Автор: Peter A. Knoot,Paul Steffas. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-05-06.

Semiconductor Process for Quantum Structures with Staircase Active Well

Номер патента: US20200152776A1. Автор: Dirk Robert Walter Leipold,George Adrian Maxim,Michael Albert Asker. Владелец: Equal1 Labs Inc. Дата публикации: 2020-05-14.

Non-intrusive measurement of a wafer DC self-bias in semiconductor processing equipment

Номер патента: US09601301B2. Автор: Andrew Nguyen,Sergey G. BELOSTOTSKIY,Michael G. Chafin,Chinh Dinh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-03-21.

Semiconductor process

Номер патента: US09543195B1. Автор: Bin-Siang Tsai,Wei-Hsin Liu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Semiconductor process

Номер патента: US09449829B1. Автор: Yu-Ren Wang,Chien-Liang Lin,Yu-Tung Hsiao. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2016-09-20.

Semiconductor processing system and vaporizer

Номер патента: US7883076B2. Автор: Tsuneyuki Okabe,Shigeyuki Okura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-02-08.

Refractory components for a semiconductor processing chamber

Номер патента: WO2024097506A1. Автор: LIN Xu,John Daugherty,Eric A. Pape,David Joseph WETZEL. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-05-10.

Semiconductor process

Номер патента: US20160379864A1. Автор: Bin-Siang Tsai,Wei-Hsin Liu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2016-12-29.

Edge ring or process kit for semiconductor process module

Номер патента: US20230296512A1. Автор: Allen L. D'Ambra,Sheshraj L. Tulshibagwale. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-21.

Anodization for metal matrix composite semiconductor processing chamber components

Номер патента: US20230343627A1. Автор: Debanjan DAS,Darrell EHRLICH,Eric SAMULON. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-10-26.

Polymeric coating for semiconductor processing chamber components

Номер патента: US20240120180A1. Автор: LIN Xu,Yiwei Song,Christopher Kimball,Johnny Pham,Yuanping SONG. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-04-11.

Symmetric semiconductor processing chamber

Номер патента: US20240170262A1. Автор: Yogananda SARODE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-23.

Pre-certified process chamber and method

Номер патента: WO2008030501A3. Автор: Sowmya Krishnan. Владелец: Sowmya Krishnan. Дата публикации: 2008-04-24.

Method of installing elastomer ring in semiconductor processing equipment and guiding sheet and jig used in installing elastomer ring

Номер патента: US20160163518A1. Автор: Chun-Yao Huang,Yo-Yu CHANG. Владелец: Mfc Sealing Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-09.

Semiconductor process evaluation methods including variable ion implanting conditions

Номер патента: US7781234B2. Автор: Sang-rok Hah,Sun-Yong Lee,Min-Suk Kim,Chee-Wan Kim,Seung-Chul Kim,Chan-seung Choi,Won-bae Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-08-24.

Method of installing elastomer ring in semiconductor processing equipment and guiding sheet and jig used in installing elastomer ring

Номер патента: US10153140B2. Автор: Chun-Yao Huang,Yo-Yu CHANG. Владелец: Mfc Sealing Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-12-11.

Data acquisition method, device, and system for semiconductor process equipment

Номер патента: EP4398127A1. Автор: Jiajia CHAI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-10.

Semiconductor process evaluation methods including variable ion implanting conditions

Номер патента: US7972874B2. Автор: Sang-rok Hah,Sun-Yong Lee,Min-Suk Kim,Chee-Wan Kim,Seung-Chul Kim,Chan-seung Choi,Won-bae Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2011-07-05.

Semiconductor process evaluation methods including variable ion implanting conditions

Номер патента: US20100279442A1. Автор: Sang-rok Hah,Sun-Yong Lee,Min-Suk Kim,Chee-Wan Kim,Seung-Chul Kim,Chan-seung Choi,Won-bae Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-11-04.

Semiconductor processing methods and semiconductor defect detection methods

Номер патента: US20010024836A1. Автор: Garry Mercaldi,Michael Nuttal. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-09-27.

Semiconductor process of forming metal gates with different threshold voltages and semiconductor structure thereof

Номер патента: US09659937B2. Автор: Chi-Mao Hsu,Ching-Yun Chang,Kuo-Chih Lai,Nien-Ting Ho,Wei-Ming Hsiao. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-05-23.

Semiconductor processing station and method for processing semiconductor wafer

Номер патента: US09558974B2. Автор: Hsu-Shui Liu,Jiun-Rong Pai,Tien-Chen Hu,Mao-Lin Kao,Li-Jen Ko,Hsiang-Yin Shen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Atmospheric pressure plasma enhanced abatement of semiconductor process effluent species

Номер патента: US20020111045A1. Автор: Jose Arno. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-08-15.

Semiconductor processing systems with in-situ electrical bias

Номер патента: US11894240B2. Автор: Robert Clark,Gerrit J. Leusink,Patrick Hughes,David Hurley,Ioan Domsa,Ian Colgan,Gerhardus Van Der Linde,Maciej Burel,Barry Clarke,Mihaela Ioana Popovici,Lars-Ake Ragnarsson,Dina Triyoso. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-06.

In line water scrubber system for semiconductor processing

Номер патента: EP4395913A1. Автор: Imad Mahawili. Владелец: Edwards Vacuum LLC. Дата публикации: 2024-07-10.

A double exposure semiconductor process for improved process margin

Номер патента: EP2176710A1. Автор: Jonathan Jung-Ching Ho. Владелец: Xilinx Inc. Дата публикации: 2010-04-21.

In line water scrubber system for semiconductor processing

Номер патента: WO2023031819A1. Автор: Imad Mahawili. Владелец: Edwards Vacuum LLC. Дата публикации: 2023-03-09.

Semiconductor processing device

Номер патента: US20240282596A1. Автор: Zhikai Wang,Sophia Wen. Владелец: Huaying Research Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Dual medium filter for ion and particle filtering during semiconductor processing

Номер патента: US09607864B2. Автор: Laertis Economikos,Wei-Tsu Tseng,John H. Zhang,Adam Ticknor. Владелец: STMicroelectronics lnc USA. Дата публикации: 2017-03-28.

Monitoring of wafer presence and position in semiconductor processing operations

Номер патента: US5948986A. Автор: Karl Brown. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1999-09-07.

Hexapod-based pedestal systems for use in semiconductor processing operations

Номер патента: WO2023114729A1. Автор: Jacob Lee Hiester,Jason Gordon GALGINAITIS,Richard M BLANK. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2023-06-22.

Predictive spatial digital design of experiment for advanced semiconductor process optimization and control

Номер патента: US20200110852A1. Автор: Dermot Cantwell,Samer Banna,Waheb Bishara. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-04-09.

Jig for evaluating semiconductor processing chamber

Номер патента: US20190267269A1. Автор: Sean L. ZUMKELLER,Robert J. DUPERIER. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-08-29.

Yttrium aluminum perovskite (yap) based coatings for semiconductor processing chamber components

Номер патента: US20240212991A1. Автор: LIN Xu,Satish Srinivasan,Eric A. Pape,David Joseph WETZEL,Robin Koshy,Douglas DETERT,Jeremiah Michael DEDERICK. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Semiconductor processing method

Номер патента: US20180233455A1. Автор: Yi Xin CHEW. Владелец: PEP INNOVATION PTE LTD. Дата публикации: 2018-08-16.

Focus ring for a plasma-based semiconductor processing tool

Номер патента: US20230386799A1. Автор: Jr-Sheng Chen,Sheng-Chieh Huang,Chih-Hsien Hsu,Chung-Hsiu Cheng,Chun Yan Chen,Chang Kuang TSO,Chou Feng LEE,Chin-Tai HUNG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Semiconductor process apparatus and plasma ignition method

Номер патента: US20230411120A1. Автор: JING Yang,Gang Wei,Chenyu ZHONG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

A double exposure semiconductor process for improved process margin

Номер патента: WO2009020979A1. Автор: Jonathan Jung-Ching Ho. Владелец: XILINX, INC.. Дата публикации: 2009-02-12.

Double exposure semiconductor process for improved process margin

Номер патента: US20090042389A1. Автор: Jonathan Jung-Ching Ho. Владелец: Xilinx Inc. Дата публикации: 2009-02-12.

Semiconductor process

Номер патента: US20140256115A1. Автор: Chih-Chien Liu,Chia-Lung Chang,Jui-Min Lee,Yuh-Min Lin,Jei-Ming Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2014-09-11.

Semiconductor processing method using virtual modules

Номер патента: EP1782139A1. Автор: Merritt Funk,Wesley Natzle. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-05-09.

Mechanisms for cleaning load ports of semiconductor process tools

Номер патента: US09691640B2. Автор: HUNG-WEN Chen,Ching-Fa Chen,Mei-Wei Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Semiconductor processing system with in-situ electrical bias and methods thereof

Номер патента: US11335792B2. Автор: Patrick Hughes,David Hurley,Ioan Domsa,Ian Colgan,Gerhardus Van Der Linde,Maciej Burel,Barry Clarke,Mihaela Ioana Popovici,Lars-Ake Ragnarsson. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-05-17.

Semiconductor processing system with in-situ electrical bias and methods thereof

Номер патента: US11837652B2. Автор: Patrick Hughes,David Hurley,Ioan Domsa,Ian Colgan,Gerhardus Van Der Linde,Maciej Burel,Barry Clarke,Mihaela Ioana Popovici,Lars-Ake Ragnarsson. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-05.

Processing chamber with substrate edge enhancement processing

Номер патента: WO2020101804A1. Автор: Changhun Lee,Michael D. Willwerth,Valentin N. Todorow,Hun Sang Kim,Hean Cheal LEE. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-05-22.

Remote access gateway for semiconductor processing equipment

Номер патента: WO2010048379A2. Автор: Ronald Vern Schauer. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2010-04-29.

Semiconductor process

Номер патента: US20130052825A1. Автор: Chia-Lin Hsu,Teng-Chun Tsai,Chun-Wei Hsu,Yen-Ming Chen,Po-Cheng Huang,Chih-Hsun Lin,Chang-Hung Kung. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2013-02-28.

Test structure, test structure formation and mask reuse in semiconductor processing

Номер патента: WO2009006175A3. Автор: Yung-Tin Chen,Paul Wai Kie Poon,Calvin K Li,En-Shing Chen. Владелец: En-Shing Chen. Дата публикации: 2009-03-12.

Substrate storage racks for semiconductor processing systems

Номер патента: US20230143667A1. Автор: Senthil Sivaraman,Gurupkar Nerwal. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-05-11.

Examination method and examination assistant device for quartz product of semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20070008638A1. Автор: Nobuhiro Takahashi,Teruyuki Hayashi,Masayuki Oikawa,Katsuhiko Anbai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-01-11.

Valve for throttling gas flow from a semiconductor processing tool

Номер патента: US12055228B2. Автор: Chang Chun,Yi-Ming Lin,Sheng-chun YANG,Po-Chih Huang,Xuan-Yang Zheng,Ren-Jyue Wang,Tzu-Chuan Chao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Method and system for improved semiconductor processing equipment vibration isolation and reduction

Номер патента: US09995365B1. Автор: Suk K. Kim-Whitty. Владелец: Sk Commercial Construction Inc. Дата публикации: 2018-06-12.

Semiconductor package structure and semiconductor process

Номер патента: US09978715B2. Автор: Chun-Hung Lin,Yi-Ting Chen,Wen-Hsin Lin,Shih-Ming Huang,Yung-Hsing Chang,Shih-Wei CHAN. Владелец: Advanced Semiconductor Engineering Inc. Дата публикации: 2018-05-22.

Semiconductor process for forming gates with different pitches and different dimensions

Номер патента: US09525041B2. Автор: Yu-Cheng Tung,En-Chiuan Liou. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2016-12-20.

Processing chamber with features from side wall

Номер патента: US09484243B2. Автор: Andreas Fischer,Dean J. Larson,Harmeet Singh,Jason Augustino,Andre W. DESEPTE. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-11-01.

Front side illuminated semiconductor structure with improved light absorption efficiency and manufacturing method thereof

Номер патента: US20150325616A1. Автор: Sen-Huang Huang,Ching-Wei Chen,Huan-Kun Pan,Yi-Chang Chang. Владелец: PixArt Imaging Inc. Дата публикации: 2015-11-12.

Semiconductor processing tool and methods of operation

Номер патента: US20230268215A1. Автор: Sheng-Wen Huang,Yan-Cheng Chen,Kai-Lin Chuang,Jun Xiu Liu,Chung-Pin CHOU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-24.

Semiconductor process for solving contact piping defect

Номер патента: US20240196605A1. Автор: Kai-Yao Shih,Yu-Mei Liao,Hung-Ju Chien,Hui-Chin Huang. Владелец: Powerchip Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Semiconductor processing tool and methods of operation

Номер патента: US12087611B2. Автор: Sheng-Wen Huang,Yan-Cheng Chen,Kai-Lin Chuang,Jun Xiu Liu,Chung-Pin CHOU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Semiconductor process

Номер патента: US09685316B2. Автор: Chun-Ling Lin,Chi-Mao Hsu,Chia Chang Hsu,Pin-Hong Chen,Bor-Shyang LIAO,Shu Min Huang,Kuo-Chih Lai,Min-Chung Cheng. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-06-20.

Part maintenance device of semiconductor processing system and method for operating the same

Номер патента: US20020000677A1. Автор: Kazushi Tahara,Akira Obi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2002-01-03.

Frequency generation device for providing bias power in semiconductor process

Номер патента: US20240274406A1. Автор: Jihoon Kim,Sae Hoon Uhm,Se Hong PARK,Dong Jegal,Yeonghoon SOHN. Владелец: En2Core Technology Inc. Дата публикации: 2024-08-15.

Semiconductor process flow for nand flash memory products

Номер патента: EP1145308A1. Автор: Hao Fang,John Jianshi Wang,Masaaki Higashitani,Kent Kuohua Chang,Salvatore F. Cagnina. Владелец: Fujitsu AMD Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2001-10-17.

Semiconductor process

Номер патента: US20130203230A1. Автор: Ying-Tsung Chen,Chih-Wei Chen,Chien-Ting Lin,Ssu-I Fu,Kai-Ping Wang,Shih-Hung Tsai,Wen-Tai Chiang,Shao-Wei Wang,Chiu-Hsien Yeh. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2013-08-08.

Semiconductor process

Номер патента: US09871113B2. Автор: Chun-Wei Yu,Chueh-Yang Liu,Yu-Ren Wang,Kuang-Hsiu Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2018-01-16.

Semiconductor processing technique, including pyrometric measurement of radiantly heated bodies

Номер патента: US5442727A. Автор: Anthony T. Fiory. Владелец: AT&T Corp. Дата публикации: 1995-08-15.

Semiconductor processing technique, including pyrometric measurement of radiantly heated bodies

Номер патента: US5305416A. Автор: Anthony T. Fiory. Владелец: AT&T Bell Laboratories Inc. Дата публикации: 1994-04-19.

Semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20240038493A1. Автор: Hyuk Kim,Edward Sung,Yonghwan Kim,Sangwuk PARK,Chanhoon Park,Junho Yoon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-01.

A semiconductor processing system with lamp cooling

Номер патента: WO2001099157A1. Автор: Joseph M. Ranish,Andreas G. Hegedus. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2001-12-27.

Electrostatic chuck and semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20230260817A1. Автор: Jian Liu. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Condenser and semiconductor processing machine

Номер патента: US20220349654A1. Автор: Tianlong LI. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2022-11-03.

Condenser and semiconductor processing machine

Номер патента: US11519669B2. Автор: Tianlong LI. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2022-12-06.

Method and apparatus for uniform thermal distribution in a microwave cavity during semiconductor processing

Номер патента: WO2018204576A1. Автор: Ananthkrishna Jupudi,Yueh Sheng Ow,Preetham Rao,Dennis Ivanov. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-11-08.

Semiconductor processing

Номер патента: US20200328076A1. Автор: Sanjeev Sapra,Jerome A. Imonigie,Armin Saeedi Vahdat,Sevim Korkmaz. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2020-10-15.

Semiconductor processing methods of forming a plurality of capacitors on a substrate, bit line contacts and method of forming bit line contacts

Номер патента: US20020115261A1. Автор: Werner Juengling. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-08-22.

Semiconductor processing methods of forming a plurality of capacitors on a substrate, bit line contacts and method of forming bit line contacts

Номер патента: US20030064557A1. Автор: Werner Juengling. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-04-03.

Semiconductor processing methods of forming a plurality of capacitors on a substrate, bit line contacts and method of forming bit line contacts

Номер патента: US6593203B2. Автор: Werner Juengling. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2003-07-15.

Semiconductor process

Номер патента: US20160042957A1. Автор: Zhen Chen,Yuan-Hsiang Chang,Yi-Shan Chiu,Wei-Chang Liu,Wei Ta. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2016-02-11.

Reduction of condensed gases on chamber walls via heated chamber housing for semiconductor processing equipment

Номер патента: WO2020142155A1. Автор: John Baggett. Владелец: AXCELIS TECHNOLOGIES, INC.. Дата публикации: 2020-07-09.

Semiconductor processing methods of forming devices on a substrate, forming device arrays on a substrate, forming conductive lines on a substrate, and forming capacitor arrays on a substrate, and integrated circuitry

Номер патента: US20030049902A1. Автор: Werner Juengling. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-03-13.

Semiconductor processing methods of forming devices on a substrate, forming device arrays on a substrate, forming conductive lines on a substrate, and forming capacitor arrays on a substrate, and integrated circuitry

Номер патента: US20020009849A1. Автор: Werner Juengling. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-01-24.

Semiconductor processing tool with rf-transmissive dome structure and dynamic cooling system & method for manufacturing rf-transmissive dome structure

Номер патента: WO2024155977A1. Автор: Prasanna Kulkarni,Bo Gong,Ching-Yun Chang,Tongtong GUO,John Michael WILTSE,Rachel E. Batzer,Jacob Lee Hiester,Mohan Thilagaraj,Madison Wren ZENG,Pratyush RAWAL,Spencer Lorenzo BRODERICK,Joshua Michael MACEACHERN,Shawn FIEDLER,Michael Keith MAPSTON,Vineeth BANGERA. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-07-25.

Semiconductor process and semiconductor device

Номер патента: US09755047B2. Автор: Chi-Mao Hsu,Chia-Chang Hsu,Chun-Chieh Chiu,Hsin-Fu Huang,Li-Han Chen,Pin-Hong Chen,Kuo-Chih Lai,Wei-Chuan Tsai,Min-Chuan Tsai,Kuo-Chin Hung. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-09-05.

Semiconductor process

Номер патента: US09362125B2. Автор: Zhen Chen,Yuan-Hsiang Chang,Yi-Shan Chiu,Wei-Chang Liu,Wei Ta. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2016-06-07.

Multizone flow gasbox for processing chamber

Номер патента: US20210159053A1. Автор: Li-Qun Xia,Daemian Raj BENJAMIN RAJ,Mingle Tong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-05-27.

Process chamber with improved process feedback

Номер патента: WO2024102229A1. Автор: WEI Liu,Tobin Kaufman-Osborn,Hugo Rivera. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-05-16.

Process chamber with improved process feedback

Номер патента: US20240170268A1. Автор: WEI Liu,Tobin Kaufman-Osborn,Hugo Rivera. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-23.

Semiconductor process

Номер патента: US20140349467A1. Автор: Chun-Yuan Wu,Chin-Cheng Chien,Tien-Wei YU,Szu-Hao Lai,Ming-Hua Chang,Yu-Shu Lin. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2014-11-27.

Nickel-coated free-standing silicon carbide structure for sensing fluoro or halogen species in semiconductor processing systems, and processes of making and using same

Номер патента: EP1721143A2. Автор: James Welch,Frank DiMeo, Jr.,Jeffrey W. Neuner,Ing-Shin Chen,Philip S.H. Chen. Владелец: Advanced Technology Materials Inc. Дата публикации: 2006-11-15.

Semiconductor process for modifying shape of recess

Номер патента: US20150263170A1. Автор: Chun-Yuan Wu,Chin-Cheng Chien,Tien-Wei YU,Szu-Hao Lai,Ming-Hua Chang,Yu-Shu Lin. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2015-09-17.

Method and system for compensating manufacturing error in semiconductor process

Номер патента: US20240332094A1. Автор: Wen-Shian Chen. Владелец: Prosemi Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Semiconductor process for treating metal gate

Номер патента: US09613826B2. Автор: Cheng-Chi Tai,Chung-Che Huang,Chun-Ju Tao. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-04-04.

Semiconductor process

Номер патента: US09443726B1. Автор: Jen-Chieh Lin,Wen-Chin Lin,Tzu-Hsiang Hung,Po-Cheng Huang,Yu-Ting Li,Chun-Tsen Lu,Kun-Ju Li,Chih-Hsun Lin,Wu-Sian Sie,I-Lun Hung. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2016-09-13.

Single-substrate-heat-treatment apparatus in semiconductor processing system

Номер патента: US6080965A. Автор: Tetsu Osawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2000-06-27.

Method and system for improving the operation of semiconductor processing

Номер патента: US11856706B2. Автор: Siamak Salimian,Tom K. Cho,Yao-Hung Yang,Chun-Chung Chen,Chien-Min Liao,Hsui YANG,Jeevan SHANBHAG,Earl HUNTER,David GANON,Mariana LUIGI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-26.

Medical implant processing chamber

Номер патента: WO2005061122A1. Автор: Steven Spencer,Leo Klisch. Владелец: BOSTON SCIENTIFIC LIMITED. Дата публикации: 2005-07-07.

System and method for detecting liquid flow from a nozzle in a semiconductor processing device

Номер патента: US20060091335A1. Автор: Kenneth Roberts. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2006-05-04.

Semiconductor process

Номер патента: US20140242770A1. Автор: Shih-Chang Chang,Po-Jui Liao,Jie-Ning Yang,Yao-Chang Wang,Chi-Sheng Tseng,Kuang-Hung Huang. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2014-08-28.

Upper electrode mechanism, current control method for radio frequency coil, and semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20230197407A1. Автор: JING Yang,JING Wei,Gang Wei,Xingfei MAO,Chen NIU. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-22.

Systems and methods of local focus error compensation for semiconductor processes

Номер патента: US20150187663A1. Автор: Chih-Ming Chen,Chia-Chen Chen,Chia-Hao Hsu,Chia-Ching HUANG,Pei-Cheng Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-07-02.

Device of purifying hydrogen fluoride in semiconductor process waste gas

Номер патента: US10293305B2. Автор: Wu-Yu Fong. Владелец: Orient Service Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-21.

Semiconductor processing method using photoresist and an antireflective coating

Номер патента: US20030153190A1. Автор: John Moore,Terry Gilton,Kristy Campbell,Steve Bowes,Joseph Brooks. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-08-14.

Method and apparatus for preventing a furnace in a semiconductor process from temperature and gas excursion

Номер патента: US6996459B2. Автор: Chung Chih Chang,Ta Neng Ho,Chung Pin Lin,Lin Wu Yang. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2006-02-07.

Method and apparatus for compensating for temperature drift in semiconductor processes and circuitry

Номер патента: WO2005033820A1. Автор: Stefan Marinca,Thomas G. O'Dwyer. Владелец: ANALOG DEVICES, INC.. Дата публикации: 2005-04-14.

Semiconductor processing apparatus having a moving member and a force compensator therefor

Номер патента: US20020088949A1. Автор: Geoffrey Ryding. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-07-11.

Semiconductor process device and wafer support structure thereof

Номер патента: EP4411796A1. Автор: Jun Zhang,qing She,Jingfeng WEI,Shoulin HUANG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-07.

Specification establishing method for controlling semiconductor process

Номер патента: US8332416B2. Автор: Yun-Zong Tian,Wei Jun Chen,Yij Chieh Chu,Cheng-Hao Chen,Shih-Chang Kao. Владелец: Inotera Memories Inc. Дата публикации: 2012-12-11.

Apparatuses and systems for ammonia/chlorine chemistry semiconductor processing

Номер патента: EP4416755A1. Автор: Aaron Blake MILLER,Aaron Durbin,Bradley Taylor STRENG,Rachel E. Batzer,Christopher Nicholas IADANZA. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-21.

Semiconductor process machine and operation method thereof

Номер патента: US20240297056A1. Автор: Haipeng Zhu,Min-Hsien Chen,Wen Yi Tan,Kuo Liang Huang,Xijun GUO. Владелец: United Semiconductor Xiamen Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Semiconductor processing method of making electrical contact to a node received within a mass of insulating dielectric material

Номер патента: US6037261A. Автор: Mark E. Jost,Phillip G. Wald. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-03-14.

Testing apparatus and method for determining an etch bias associated with a semiconductor-processing step

Номер патента: WO2005033720A2. Автор: James Chingwei Li,Richard L. Pierson, Jr.,Berinder S. Brar. Владелец: Rockwell Scientific Licensing, Llc. Дата публикации: 2005-04-14.

Semiconductor processing method of making a hemispherical grain (HSG) polysilicon layer

Номер патента: US20010009808A1. Автор: Randhir Thakur,Er-Xang Ping. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-07-26.

Methods of sensing temperature of an electronic device workpiece and methods of semiconductor processing

Номер патента: US20020034832A1. Автор: Salman Akram,David R. Hembree. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-03-21.

Method of managing semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20240272561A1. Автор: Seungbeom Park,Hojun Lee,Myungjun Lee,Junho SHIN,Wookrae Kim,Jangwoon SUNG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-15.

Method of manufacturing an electrostatic object clamp, electrostatic object clamp and semiconductor processing apparatus

Номер патента: WO2024179830A1. Автор: Simon HALM,Nicholas Alan ALLSOP,Till Warming,Frank Bert WIGGERS,Heike LUDWIG. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-09-06.

Method of manufacturing an electrostatic object clamp, electrostatic object clamp and semiconductor processing apparatus

Номер патента: EP4425259A1. Автор: Simon HALM,Nicholas Alan ALLSOP,Till Warming,Frank Bert WIGGERS,Heike LUDWIG. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-09-04.

Furnace and semiconductor processing equipment

Номер патента: US20240344769A1. Автор: Wu Zhang,Qun Liu,Qinghua Chang,Tairong ZHU. Владелец: Laplace Renewable Energy Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Electrical variable capacitor circuit and semiconductor processing system including same

Номер патента: US20240348225A1. Автор: Yongsug Suh,Juhwa MIN. Владелец: Industrial Cooperation Foudation Jeonbuk National University. Дата публикации: 2024-10-17.

Connect structure for semiconductor processing equipment

Номер патента: US12040163B2. Автор: Hung-Chih Wang,Sheng-Yuan Lin,Ming-Sze CHEN,Yuan-Hsin CHI. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Semiconductor process

Номер патента: US09985110B2. Автор: Chi-Mao Hsu,Chia-Chang Hsu,Chun-Chieh Chiu,Hsin-Fu Huang,Li-Han Chen,Pin-Hong Chen,Kuo-Chih Lai,Wei-Chuan Tsai,Min-Chuan Tsai,Kuo-Chin Hung. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2018-05-29.

Systems and methods of local focus error compensation for semiconductor processes

Номер патента: US09735065B2. Автор: Chih-Ming Chen,Chia-Chen Chen,Chia-Hao Hsu,Chia-Ching HUANG,Pei-Cheng Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-08-15.

Capacitively coupled plasma source for abating compounds produced in semiconductor processes

Номер патента: US09543124B2. Автор: Colin John Dickinson,Roger M. Johnson,Rongping Wang,Michael S. Cox,Brian T. West. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Semiconductor process and fin-shaped field effect transistor

Номер патента: US09450094B1. Автор: Kai-Lin Lee,Chih-Chieh Yeh. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2016-09-20.

Power management system for a semiconductor processing facility

Номер патента: US5801961A. Автор: Michael Peterson,Gary M. Moore,Steven C. Beese. Владелец: Moore Epitaxial Inc. Дата публикации: 1998-09-01.

Semiconductor process tool incorporating heat exchanger

Номер патента: US20030167781A1. Автор: Sanjiv Patel,Taylor Thompson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-09-11.

Process chamber with pressure charging and pulsing capability

Номер патента: US20240153790A1. Автор: Jiang Lu,Le Zhang,Xiaoxiong Yuan,David T. Or,Chih-Hsun Hsu,Borui Xia. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-09.

Method of forming capacitor of semiconductor device by successively forming a dielectric layer and a plate electrode in a single processing chamber

Номер патента: US20060234500A1. Автор: Jong Park. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2006-10-19.

Method and apparatus for automated validation of semiconductor process recipes

Номер патента: WO2012030930A2. Автор: Charles Hardy,Roger Alan Lindley. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-03-08.

Integrated benchtop semiconductor processing cells and semiconductor fabs formed from such cells and semiconductor tool libraries

Номер патента: US20230420276A1. Автор: Mitchell David Hsing,Parker Andrew Gould. Владелец: Inchfab Inc. Дата публикации: 2023-12-28.

Integrated benchtop semiconductor processing cells and semiconductor fabs formed from such cells and semiconductor tool libraries

Номер патента: WO2024006352A1. Автор: Mitchell David Hsing,Parker Andrew Gould. Владелец: Inchfab, Inc.. Дата публикации: 2024-01-04.

Semiconductor processing apparatus having wafer re-orientation mechanism

Номер патента: EP1034123A1. Автор: Daniel J. Woodruff,Kyle Hanson,Vlad Zila,Mark Dix. Владелец: Semitool Inc. Дата публикации: 2000-09-13.

Inductively coupled plasma process chamber with shield electrode interposed between antenna and dielectric window

Номер патента: EP1238407A1. Автор: Robert E. Ryan,Arthur Sato,Zhiwen Sun,Xueyu Qian,Valentin N. Todorov,Jin-Yuan Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-09-11.

Method for making enhanced semiconductor structures in single wafer processing chamber with desired uniformity control

Номер патента: EP3295484A1. Автор: Nyles Cody,Robert John Stephenson,Robert J. Mears. Владелец: Atomera Inc. Дата публикации: 2018-03-21.

Model-based characterization of plasmas in semiconductor processing systems

Номер патента: WO2023049252A1. Автор: Kenneth D. Schatz,Soonwook JUNG,Hunkee CHO. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-03-30.

Semiconductor installation, containing at-least also a long narrow semiconductor substrate transfer / processing tunnel-arrangement to during its operation the uninterruptedly taking place of a total semiconductor processing / treatment- process of the therein displacing semiconductor substrates

Номер патента: WO2011145918A1. Автор: Edward Bok. Владелец: Edward Bok. Дата публикации: 2011-11-24.

System for detecting semiconductor process and method for detecting semiconductor process

Номер патента: US20220043432A1. Автор: Yong-Yu Chen,Huan-Cheng Li. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2022-02-10.

Gas treatment system, semiconductor process system including the same, and gas treatment method using the same

Номер патента: US20240042385A1. Автор: Jong-San Chang,Hyunseok Kim,Kimoon LEE,JungDae PARK,Wonsu Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-08.

Jigs and methods of teaching substrate handling in semiconductor processing systems using jigs

Номер патента: US20230100356A1. Автор: Dongyang Chen. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-03-30.

Apparatus and method for the automated management of a processing chamber with a controlled atmosphere

Номер патента: US20220204203A1. Автор: Gabriele Gabusi. Владелец: IMA Industria Macchine Automatiche SpA. Дата публикации: 2022-06-30.

Semiconductor processing tool cleaning

Номер патента: US20240177977A1. Автор: Gregory McKee,David Claar. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2024-05-30.

Lithography system and semiconductor processing process

Номер патента: US20170139329A1. Автор: Chia-Hung Wang,En-Chiuan Liou. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-05-18.

Control system for semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20060178768A1. Автор: Jae-Woo Chung,Hyo-Sang Jung,Jong-hwan Weon,Myung-Kill Kim,Tae-Ha Jeon,Kyung-Bo Sim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2006-08-10.

Apparatus and method for the automated management of a processing chamber with a controlled atmosphere

Номер патента: EP3966002A1. Автор: Gabriele Gabusi. Владелец: IMA Industria Macchine Automatiche SpA. Дата публикации: 2022-03-16.

Apparatus and method for the automated management of a processing chamber with a controlled atmosphere

Номер патента: WO2020225838A1. Автор: Gabriele Gabusi. Владелец: I.M.A. INDUSTRIA MACCHINE AUTOMATICHE S.P.A.. Дата публикации: 2020-11-12.

Semiconductor processing device

Номер патента: EP3840025A1. Автор: Zhikai Wang,Sophia Wen. Владелец: Huaying Research Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-23.

Semiconductor manufacturing chamber with plasma/gas flow control device

Номер патента: US20230369027A1. Автор: Chien-Liang Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Semiconductor process and yield analysis integrated real-time management method

Номер патента: US7099729B2. Автор: Chien-Chung Chen,Hung-En Tai,Sheng-Jen Wang. Владелец: Powerchip Semiconductor Corp. Дата публикации: 2006-08-29.

Method, Computer Program and System Providing for Semiconductor Processes Optimization

Номер патента: US20090031260A1. Автор: Theodorus E. Standaert,Matthew Angyal,Ibrahim M. Elfadel,Raminderpal Singh,Alina Deutsch,Wayne H. Woods. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2009-01-29.

Method and apparatus for starting process task in semiconductor process device

Номер патента: EP4199039A1. Автор: Fangna WU,Sixue SHI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-21.

Deterioration detecting system and method for semiconductor process kits

Номер патента: US20220034814A1. Автор: Feng-Min Shen,Chyuan-Ruey LIN,Hung-Chia SU. Владелец: Top Technology Platform Co Ltd. Дата публикации: 2022-02-03.

Semiconductor processing apparatus and method utilizing electrostatic discharge (ESD) prevention layer

Номер патента: US11854860B2. Автор: Cheng-Han Wu,Fang-Yu Liu,Tzu-Yang Lin,Tsai-Hao Hung,Ping-Cheng KO. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Chuck and semiconductor process using the same

Номер патента: US20150200144A1. Автор: Yung-Chang Lin,Ming-Tse Lin,Chung-Sung JANG. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2015-07-16.

Processing task start method and device in semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20230307272A1. Автор: Fangna WU,Sixue SHI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Processing chamber with substrate edge enhancement processing

Номер патента: US20200152431A1. Автор: Changhun Lee,Michael D. Willwerth,Valentin N. Todorow,Hun Sang Kim,Hean Cheal LEE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-05-14.

Semiconductor process method and multi-chamber apparatus therewith

Номер патента: US20230197413A1. Автор: QIONG Sun,Ke Han,Xinjia Qian. Владелец: Hangzhou Fullsemi Semiconductor Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-22.

Semiconductor process prediction method and semiconductor process prediction apparatus considering overall features and local features

Номер патента: US20220237450A1. Автор: Hsin-Ming Hou. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2022-07-28.

Semiconductor processing apparatus and method utilizing electrostatic discharge (esd) prevention layer

Номер патента: US20200335386A1. Автор: Cheng-Han Wu,Fang-Yu Liu,Tzu-Yang Lin,Tsai-Hao Hung,Ping-Cheng KO. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-10-22.

Semiconductor processing apparatus and method utilizing electrostatic discharge (esd) prevention layer

Номер патента: US20240087945A1. Автор: Cheng-Han Wu,Fang-Yu Liu,Tzu-Yang Lin,Tsai-Hao Hung,Ping-Cheng KO. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Inspection apparatus for semiconductor process and semiconductor process device

Номер патента: US20190323973A1. Автор: Jong Su Kim,Chang Hoon Choi,Jeong Su Ha,Myung Ho Jung,Sung Chai KIM,Young Su RYU,Won Guk Seo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-10-24.

Processing chamber for thermal processes

Номер патента: WO2020236408A1. Автор: Zhiyuan Ye,Shu-Kwan LAU,Martin A. Hilkene. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-11-26.

Computer readable medium for controlling a method of cleaning a process chamber

Номер патента: US6482746B2. Автор: LI Wu,Mei Chang,Toshio Itoh,Frederick Wu,Anand Vasudev,Ramamujapuram A. Srinivas,Brian Boyle. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-11-19.

Semiconductor processing method of forming a conductive gate line and semiconductor processing method of making ohmic contact between a transistor gate line and a substrate diffusion region

Номер патента: US6066549A. Автор: Monte Manning. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-05-23.

Method of correcting layout for semiconductor process using machine learning, method of manufacturing semiconductor device using the same, and layout correction system performing the same

Номер патента: US20240143886A1. Автор: Jungmin Kim,Kyeonghwan Kang,Hungbae AHN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-02.

Post-placement wafer-centering systems for semiconductor processing tools

Номер патента: WO2024112616A1. Автор: Jacob Lee Hiester,Jr. Nick Ray Linebarger. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-05-30.

Detection of electric capacitance in electrochemical analysis with improved sampling time shift

Номер патента: RU2571285C2. Автор: Дэвид ЭЛДЕР. Владелец: Лайфскэн Скотлэнд Лимитед. Дата публикации: 2015-12-20.

Automated semiconductor processing systems

Номер патента: US20050045214A1. Автор: Gary Curtis,Jeffrey Davis. Владелец: Semitool Inc. Дата публикации: 2005-03-03.

Demounted combustion chamber with improved aerodynamic characteristics

Номер патента: RU2411412C2. Автор: Кристоф ПЬЕССЕРГ,Лоран МАРНА,Пьер САБЛАЙРОЛЛЬ. Владелец: Снекма. Дата публикации: 2011-02-10.

Semiconductor processing methods of forming transistors, semiconductor processing methods of forming dynamic random access memory circuitry, and related integrated circuitry

Номер патента: US20020072199A1. Автор: Luan Tran. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-06-13.

Semiconductor processing method and semiconductor structure

Номер патента: US8772163B2. Автор: Terrence B. Mcdaniel,Dennis J. Pretti. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2014-07-08.

Semiconductor process having dielectric layer including metal oxide and mos transistor process

Номер патента: US20120231600A1. Автор: Chan-Lon Yang,Shih-Fang Tzou,Chen-Kuo Chiang. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2012-09-13.

Thermal processing chamber with low temperature control

Номер патента: US20200149968A1. Автор: Michael Liu,Lara Hawrylchak,Leonid M. Tertitski,Samuel C. Howells,Wolfgang R. Aderhold,Norman L. Tam,Ji-Dih Hu,Dongming IU. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-05-14.

Semiconductor processing device

Номер патента: US20170250098A1. Автор: Pinyen Lin,Chih-Ming Sun,Yii-Cheng LIN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-08-31.

Semiconductor processing device

Номер патента: US11393704B2. Автор: Pinyen Lin,Chih-Ming Sun,Yii-Cheng LIN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-07-19.

Impedance-matching method, impedance-matching device, and semiconductor process apparatus

Номер патента: US20230386790A1. Автор: JING Wei,Gang Wei,Yueping HUA. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Thermal processing chamber with low temperature control

Номер патента: US20180340832A1. Автор: Michael Liu,Lara Hawrylchak,Leonid M. Tertitski,Samuel C. Howells,Wolfgang R. Aderhold,Norman L. Tam,Ji-Dih Hu,Dongming IU. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-11-29.

Semiconductor process

Номер патента: US20130288448A1. Автор: Chia-Lin Hsu,Chien-Hao Chen,Yung-Lun Hsieh,Bo-Syuan Lee,Chin-I Liao,Min-Chung Cheng. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-10-31.

Semiconductor processing method and semiconductor structure

Номер патента: US20130320502A1. Автор: Terrence B. Mcdaniel,Dennis J. Pretti. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2013-12-05.

Processing chamber with translating wear plate for lift pin

Номер патента: WO2011008805A3. Автор: John M. White,Tom K. Cho,Oscar Lopez,Jeonghoon Oh,Alexander S. Polyak,Uday Pai,Silja James. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2011-05-05.

Coil device for generating plasma and semiconductor processing apparatus

Номер патента: EP4369360A1. Автор: Xingfei MAO,Jinji XU. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-15.

Semiconductor process analysis device, semiconductor process analysis method, and storage medium

Номер патента: US11469122B2. Автор: Yuka SHIBATA,Yukako TANAKA,Sho SAIKI,Kaito DATE. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2022-10-11.

Jigs and methods of teaching substrate handling in semiconductor processing systems using jigs

Номер патента: US20230105844A1. Автор: Dongyang Chen. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-04-06.

Semiconductor processing for alignment mark

Номер патента: US20240096814A1. Автор: Peng Hu,Lei Zhang,FEI Yu,She Yu Tang,Guoyong Zhang,Shu Min Ma. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2024-03-21.

Dispatch method for production line in semiconductor process, storage medium and semiconductor device

Номер патента: US11988969B2. Автор: Chin-Chang Huang. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2024-05-21.

Dispatch method for production line in semiconductor process, storage medium and semiconductor device

Номер патента: US20230057823A1. Автор: Chin-Chang Huang. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2023-02-23.

Semiconductor process analysis device, semiconductor process analysis method, and storage medium

Номер патента: US20210143038A1. Автор: Yuka SHIBATA,Yukako TANAKA,Sho SAIKI,Kaito DATE. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2021-05-13.

Workpiece processing system for carrying out sequential execution of process of workpiece in each process chamber by setting start time of process in each process chamber based on necessary processing duration specific to each chamber and necessary conveyance duration between the chambers

Номер патента: US09989959B2. Автор: Seiichi Asahara. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2018-06-05.

Semiconductor processing process control system and its control method

Номер патента: US6853870B2. Автор: Makoto Ikeda,Etsuo Fukuda,Shoichi Harakawa. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2005-02-08.

Semiconductor processing method of forming field oxide regions on a semiconductor substrate

Номер патента: US5909629A. Автор: Monte Manning. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1999-06-01.

Method to cure mobile ion contamination in semiconductor processing

Номер патента: US6114222A. Автор: Randhir P. S. Thakur. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-09-05.

Method and structure for manufacturing contact windows in semiconductor process

Номер патента: US6153900A. Автор: Da-Zen Chuang,Julian Y. Chang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2000-11-28.

Double exposure semiconductor process for improved process margin

Номер патента: US7951722B2. Автор: Jonathan Jung-Ching Ho. Владелец: Xilinx Inc. Дата публикации: 2011-05-31.

Monitor system and method for semiconductor processes

Номер патента: US20150148933A1. Автор: Chih-Wei Huang,Feng-Ning Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-05-28.

Method of controlling semiconductor process and semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20240152046A1. Автор: Jeongjin Lee,Chan Hwang,Seungyoon LEE,Doogyu Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-09.

Dual medium filter for ion and particle filtering during semiconductor processing

Номер патента: US20170148647A1. Автор: Laertis Economikos,Wei-Tsu Tseng,John H. Zhang,Adam Ticknor. Владелец: STMicroelectronics lnc USA. Дата публикации: 2017-05-25.

Methods and apparatus to prevent interference between processing chambers

Номер патента: WO2018067463A1. Автор: Xiaodong Wang,Zheng Wang,Sunil Kumar Garg,Paul Kiely,Fuhong Zhang,Martin Lee Riker,William Fruchterman. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-04-12.

Methods and Apparatus to Prevent Interference Between Processing Chambers

Номер патента: US20180096871A1. Автор: Xiaodong Wang,Zheng Wang,Sunil Kumar Garg,Paul Kiely,Fuhong Zhang,Martin Lee Riker,William Fruchterman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-04-05.

Methods And Apparatus To Prevent Interference Between Processing Chambers

Номер патента: US20200035527A1. Автор: Xiaodong Wang,Zheng Wang,Sunil Kumar Garg,Paul Kiely,Fuhong Zhang,Martin Lee Riker,William Fruchterman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-01-30.

Material scheduling method and device of semiconductor processing equipment

Номер патента: US20240210926A1. Автор: Lin Cui,Sixue SHI,Muya LIU. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Vacuum processing chamber and method of processing a semiconductor work piece

Номер патента: US20070039165A1. Автор: Yaomin Xia. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc Asia. Дата публикации: 2007-02-22.

Semiconductor processing method for providing large grain polysilicon films

Номер патента: US6048781A. Автор: Monte Manning,Charles L. Turner. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-04-11.

Semiconductor processing methods of forming field oxidation regions on a semiconductor substrate

Номер патента: US5670412A. Автор: Werner Juengling. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1997-09-23.

Manufacturing method of semiconductor device and semiconductor processing system

Номер патента: US11061333B2. Автор: Ming-Hung Lin,Yu-Kai Chen,Su-Yu Yeh,Chia-Hung Chung,Ko-Bin Kao,Li-Jen Wu,Zhi-You Ke. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-07-13.

Semiconductor processing method of forming a static random access memory cell and static random access memory cell

Номер патента: US5650350A. Автор: Charles H. Dennison,Ken Marr. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1997-07-22.

Semiconductor processing methods and integrated circuitry

Номер патента: US6277737B1. Автор: Gurtej S. Sandhu,Ravi Iyer. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-08-21.

Semiconductor processing

Номер патента: US8003521B2. Автор: Eugene P. Marsh,Timothy A. Quick. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2011-08-23.

Semiconductor processing method of providing electrical isolation between adjacent semiconductor diffusion regions of different field effect transistors and integrated circuitry having adjacent electrically isolated field effect transistors

Номер патента: US5895243A. Автор: Trung Tri Doan,Charles H. Dennison. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1999-04-20.

Semiconductor processing method of forming a static random access memory cell and static random access memory cell

Номер патента: US5739056A. Автор: Charles H. Dennison,Ken Marr. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1998-04-14.

Chuck and semiconductor process using the same

Номер патента: US20140065553A1. Автор: Yung-Chang Lin,Ming-Tse Lin,Chung-Sung JANG. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2014-03-06.

System and method for fault detection and operational readiness for optical instruments for semiconductor processes

Номер патента: US20240019305A1. Автор: Andrew Weeks Kueny,Mike Whelan. Владелец: Verity Instruments Inc. Дата публикации: 2024-01-18.

Semiconductor process

Номер патента: US11527652B2. Автор: Zhi-Cheng Lee,Wei-Jen Chen,Kai-Lin Lee. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2022-12-13.

Three-dimensional printing system with improved process chamber

Номер патента: US20210053290A1. Автор: Brawley Valkenborgs,Luc Cuyt,Jonas Van Vaerenbergh,Jan VAN ROMPAY. Владелец: Layerwise NV. Дата публикации: 2021-02-25.

Coil structure for generating plasma and semiconductor process device

Номер патента: EP4369870A1. Автор: XING Chen,Ying Zhang,Song WANG,Gang Wei,Jinrong ZHAO,Jinji XU. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-15.

Processing chamber with optical fiber with bragg grating sensors

Номер патента: US11901165B2. Автор: Huy D. Nguyen,William J. O'Banion,An-Dien Nguyen. Владелец: Isensecloud Inc. Дата публикации: 2024-02-13.

Semiconductor processing tool and methods of operation

Номер патента: US11764094B2. Автор: Sheng-Wen Huang,Yan-Cheng Chen,Kai-Lin Chuang,Jun Xiu Liu,Chung-Pin CHOU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Method of patterning a metal film with improved sidewall roughness

Номер патента: US20210313192A1. Автор: Angelique RALEY,Nicholas Joy. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-10-07.

Method of patterning a metal film with improved sidewall roughness

Номер патента: WO2021202193A1. Автор: Angelique RALEY,Nicholas Joy. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2021-10-07.

Semiconductor process device, and control method and apparatus for moving component thereof

Номер патента: EP4362072A1. Автор: Jinheng ZHU. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-01.

Wafer chuck apparatus, method for measuring wafer bow value and semiconductor process flow

Номер патента: US20200294828A1. Автор: Cheng-Yen Tsai,Wei-Sheng Chen. Владелец: Powerchip Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2020-09-17.

Semiconductor process device and wafer transmission system thereof

Номер патента: EP4365933A1. Автор: Donghua ZHAO,Yingjun SI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-08.

Portable enclosure for semiconductor processing

Номер патента: WO2002021580A9. Автор: Taro Yamazaki,Woo Sik Yoo. Владелец: WaferMasters Inc. Дата публикации: 2003-03-06.

Semiconductor processing tool and methods of operation

Номер патента: US20230369092A1. Автор: Sheng-Wen Huang,Yan-Cheng Chen,Kai-Lin Chuang,Jun Xiu Liu,Chung-Pin CHOU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Semiconductor processing device and semiconductor processing system

Номер патента: US20240178025A1. Автор: Kyusang Lee,Jinhyuk CHOI,Beomsoo HWANG,Kongwoo Lee,Myungki Song,Hyunwoong Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-30.

Load lock arrangements, semiconductor processing systems having load lock arrangements, and methods of making load locks for semiconductor processing systems

Номер патента: US20240178021A1. Автор: Samer Banna,Mandar Deshpande,Senthil Sivaraman. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-05-30.

Portable enclosure for semiconductor processing

Номер патента: WO2002021580A3. Автор: Taro Yamazaki,Woo Sik Yoo. Владелец: WaferMasters Inc. Дата публикации: 2003-02-06.

Semiconductor processing system with ultra low-k dielectric

Номер патента: SG144033A1. Автор: HSIA Liang Choo,ZHANG Bei Chao,Yasri Yudhistira,Johnny Widodo. Владелец: Chartered Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2008-07-29.

Processing chamber with optical fiber with bragg grating sensors

Номер патента: US20240186124A1. Автор: Huy D. Nguyen,William J. O'Banion,An-Dien Nguyen. Владелец: Isensecloud Inc. Дата публикации: 2024-06-06.

Semiconductor processing apparatus and method

Номер патента: US20220208590A1. Автор: Zhuo Wang,Saiqian Zhang. Владелец: Piotech Inc. Дата публикации: 2022-06-30.

Semiconductor processing method of forming a conductive line, and buried bit line memory circuitry

Номер патента: US20010021579A1. Автор: Scott DeBoer,Pai-Hung Pan,Yongjun Hu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-09-13.

Semiconductor process

Номер патента: US20150126015A1. Автор: Chieh-Te Chen,Li-Chiang Chen,Yi-Po Lin,Jiunn-Hsiung Liao,Shui-Yen Lu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2015-05-07.

Portable enclosure for semiconductor processing

Номер патента: WO2002021580A2. Автор: Taro Yamazaki,Woo Sik Yoo. Владелец: Wafermasters, Inc.. Дата публикации: 2002-03-14.

Method and apparatus for alignment of carriers and semiconductor processing equipment

Номер патента: WO2002025707A3. Автор: Alan Rick Lappen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-06-06.

Cover plate for a processing chamber

Номер патента: EP3021660A1. Автор: Willem Jacobus Reijersen Van Buuren,Tobias Keune. Владелец: Forage Innovations BV. Дата публикации: 2016-05-25.

Tangential flow material processing chamber and associated material processing system

Номер патента: CA3229955A1. Автор: Nicholas Kane BERRY,James Barr. Владелец: Seed Terminator Holdings Pty Ltd. Дата публикации: 2023-03-02.

Protection gas control method and apparatus for non-sealed process chamber

Номер патента: US20090182457A1. Автор: Tsang-Fang Jeng,Chun-Hung Huang,Tzu-Hsin Kuo,Yen-Chia Peng,Ming-Lang Chang. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2009-07-16.

Process chamber qualification for maintenance process endpoint detection

Номер патента: US20240248466A1. Автор: YI Qi,Arvind Shankar Raman,Harikrishnan Rajagopal,Vishwath Ram Amarnath,Minal Balkrishna Shettigar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Tangential flow material processing chamber and associated material processing system

Номер патента: AU2022333544A1. Автор: Nicholas Kane BERRY,James Barr. Владелец: Seed Terminator Holdings Pty Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Tangential flow material processing chamber and associated material processing system

Номер патента: EP4391789A1. Автор: Nicholas Kane BERRY,James Barr. Владелец: Seed Terminator Holdings Pty Ltd. Дата публикации: 2024-07-03.

Process chamber clean

Номер патента: US20240307930A1. Автор: Yi Wang,Wolfgang R. Aderhold,Karthik Raman SHARMA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-19.

Improved process chamber clean

Номер патента: WO2024191570A1. Автор: Yi Wang,Wolfgang R. Aderhold,Karthik Raman SHARMA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-09-19.

Process chamber gas flow improvements

Номер патента: US09779917B2. Автор: Brian T. West,Ronald Vern Schauer,Stanley Detmar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Reprographic fluorescent lamp having improved reflector layer

Номер патента: US3995191A. Автор: Edward E. Hammer,Edward E. Kaduk. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1976-11-30.

Semiconductor process

Номер патента: US20120309192A1. Автор: Yi-Nan Chen,Hsien-Wen Liu,Wen-Chieh Wang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2012-12-06.

Endpoint optimization for semiconductor processes

Номер патента: US20240128131A1. Автор: David J. Lee,David P. Surdock,Qintao Zhang,Samphy Hong,Avishay Vaxman,Jeffrey P. Koch,Wayne R. Swart,Aldrin Bernard Vincent Eddy,Daniel G. Deyo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-18.

Very high resolution spectrometer for monitoring of semiconductor processes

Номер патента: US20240019302A1. Автор: Andrew Weeks Kueny. Владелец: Verity Instruments Inc. Дата публикации: 2024-01-18.

Plasma processing chamber for bevel edge processing

Номер патента: US20130233490A1. Автор: Yunsang Kim,Andrew D. Bailey, III. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2013-09-12.

Semiconductor process for improving loading effect in planarization

Номер патента: US20190157097A1. Автор: Feng-Yi Chang,Fu-Che Lee. Владелец: Fujian Jinhua Integrated Circuit Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-23.

Improved methods and apparatus for controlled partial ashing in a variable-gap plasma processing chamber

Номер патента: WO1998042014A1. Автор: David M. Bullock. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 1998-09-24.

Monitoring system, apparatus, and method for determining maintenance cycle of processing chamber

Номер патента: US20240186126A1. Автор: Dong Woo Kim,Ji Eun Kang,Geun Young Yeom,Seung Yup CHOI. Владелец: Sungkyunkwan University Research and Business Foundation. Дата публикации: 2024-06-06.

Process chamber having gate slit opening and closing apparatus

Номер патента: US8834673B2. Автор: Hyoung Kyu Son. Владелец: ADP Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2014-09-16.

Apparatus for providing and directing heat energy in a process chamber

Номер патента: US20140105583A1. Автор: Mathew Abraham,Joseph Johnson,Joseph M. Ranish,Aaron Muir Hunter,John Gerling,Aneesh Nainani. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-04-17.

Plasma treating a process chamber

Номер патента: US09831091B2. Автор: WEI Liu,Rene George,Lara Hawrylchak,Philip A. Bottini,Theresa Kramer Guarini,Houda Graoui,Malcolm Bevan,Huy Q. Nguyen,Bernard L. Hwang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-11-28.

Detecting arcing using processing chamber data

Номер патента: US09653269B2. Автор: Shuo Na,Ilias Iliopoulos,Chunsheng Chen,Kelby YANCY. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-05-16.

Apparatus for providing and directing heat energy in a process chamber

Номер патента: US09543172B2. Автор: Mathew Abraham,Joseph Johnson,Joseph M. Ranish,Aaron Muir Hunter,John Gerling,Aneesh Nainani. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Multi-channel temperature control system for semiconductor processing facilities

Номер патента: WO2002081983A1. Автор: In-kwon Jeong. Владелец: Oriol, Inc.. Дата публикации: 2002-10-17.

Chamber with uniform flow and plasma distribution

Номер патента: US8840725B2. Автор: Michael D. Willwerth,Jingbao Liu,David Palagashvili,Alex Erenstein. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-09-23.

Semiconductor process recording apparatus

Номер патента: US6755933B2. Автор: Wei-Chen Chen,Hung-Hsiang Wang,Andy Lin,Shuenn-chuan Yu,Pan-kai Liu,Hsin-chen Liu. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2004-06-29.

Closed chamber with fluid separation feature

Номер патента: US8485204B2. Автор: Rainer Obweger,Andreas GLEISSNER. Владелец: LAM RESEARCH AG. Дата публикации: 2013-07-16.

Semiconductor processing method of providing a doped polysilicon layer

Номер патента: US5869389A. Автор: Randhir P. S. Thakur,Er-Xang Ping. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1999-02-09.

Semiconductor Processing Apparatus

Номер патента: US20220076918A1. Автор: Akira Nishioka,Masashi Fujita,Shuichi Nakagawa,Takaaki Kikuchi,Kenta Nomura,Naoya Ishigaki,Masaki Mizuochi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-03-10.

Plasma processing chamber for bevel edge processing

Номер патента: US20140174661A1. Автор: Yunsang Kim,Andrew D. Bailey, III. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2014-06-26.

Plasma processing chamber for bevel edge processing

Номер патента: US8673111B2. Автор: Yunsang Kim,Andrew D. Bailey, III. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2014-03-18.

A method and apparatus for ion energy distribution manipulation for plasma processing chambers that allows ion energy boosting through amplitude modulation

Номер патента: WO2018160554A1. Автор: HAITAO Wang,Kartik Ramaswamy,Wonseok Lee,Ankur Agarwal. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-09-07.

Semiconductor processing system and method of assembly

Номер патента: US20230307269A1. Автор: Adriaan Garssen. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-09-28.

Semiconductor process

Номер патента: US20130295735A1. Автор: Shui-Yen Lu,Tzung-I Tsai. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-11-07.

Method of monitoring semiconductor process

Номер патента: US11887898B2. Автор: Chen-Wei Liao,Chien-Yen Liu,Cheng-Chieh Shen,Chung-Hsin Lai. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2024-01-30.

Modular input/output bridge system for semiconductor processing equipment

Номер патента: WO2010129894A3. Автор: Ronald V. Schauer. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2011-02-17.

Modular input/output bridge system for semiconductor processing equipment

Номер патента: WO2010129894A2. Автор: Ronald V. Schauer. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2010-11-11.

Method and apparatus for ion energy distribution manipulation for plasma processing chambers that allows ion energy boosting through amplitude modulation

Номер патента: US20180254171A1. Автор: HAITAO Wang,Kartik Ramaswamy,Wonseok Lee,Ankur Agarwal. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-09-06.

Semiconductor processing system and method of assembly

Номер патента: EP4250343A1. Автор: Adriaan Garssen. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-09-27.

Process chamber with pressure charging and pulsing capability

Номер патента: WO2024102363A1. Автор: Jiang Lu,Le Zhang,Xiaoxiong Yuan,David T. Or,Chih-Hsun Hsu,Borui Xia. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-05-16.

Method of monitoring semiconductor process

Номер патента: US20210125880A1. Автор: Chen-Wei Liao,Chien-Yen Liu,Cheng-Chieh Shen,Chung-Hsin Lai. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2021-04-29.

Interposer, semiconductor package structure, and semiconductor process

Номер патента: US20180076122A1. Автор: Min Lung Huang,Wen-Long Lu. Владелец: Advanced Semiconductor Engineering Inc. Дата публикации: 2018-03-15.

Ventilated semiconductor processing apparatus

Номер патента: US12014897B2. Автор: Akira Nishioka,Masashi Fujita,Shuichi Nakagawa,Takaaki Kikuchi,Kenta Nomura,Naoya Ishigaki,Masaki Mizuochi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-18.

Protection gas control method for non-sealed process chamber

Номер патента: US7809474B2. Автор: Tsang-Fang Jeng,Chun-Hung Huang,Tzu-Hsin Kuo,Yen-Chia Peng,Ming-Lang Chang. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2010-10-05.

Processing chamber cleaning method, cleaning attachment and substrate processing system

Номер патента: US20240157410A1. Автор: Noritake SUMI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Colorimetric gas detector and windowed process chamber

Номер патента: WO2005019797A2. Автор: Thomas H. Baum,Jeffrey F. Roeder,Jose I. Arno,Joseph D. Sweeney,Glenn M. Tom,Paul J. Marganski,James R. Hills. Владелец: ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC.. Дата публикации: 2005-03-03.

Scroll refrigeration compressor with improved retaining means and bypass valves

Номер патента: US9103341B2. Автор: Pierre Ginies,Dominique Gross,Mickael Bron,Franck Meynand,Jean-Francois LE COAT. Владелец: Danfoss Commercial Compressors SA. Дата публикации: 2015-08-11.

Method and apparatus for the compensation of edge ring wear in a plasma processing chamber

Номер патента: IL167491A. Автор: Robert J Steger. Владелец: Robert J Steger. Дата публикации: 2009-08-03.

A method and apparatus for the compensation of edge ring wear in a plasma processing chamber

Номер патента: EP1540695B1. Автор: Robert J. Steger. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2010-03-03.

A method and apparatus for the compensation of edge ring wear in a plasma processing chamber

Номер патента: EP1540695A2. Автор: Robert J. Steger. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2005-06-15.

System having a process chamber for workpieces

Номер патента: US09970706B2. Автор: Dietmar Wieland,Oliver Iglauer,Christof Knuesel,Marius Winkler. Владелец: Duerr Systems AG. Дата публикации: 2018-05-15.

Methods and apparatus for providing a gas mixture to a pair of process chambers

Номер патента: US09587789B2. Автор: Ezra Robert Gold,Jared Ahmad Lee,Martin Jeffrey Salinas,James P. Cruse. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-03-07.

Method and device for pumping of a process chamber

Номер патента: US09558969B2. Автор: Bertrand Seigeot. Владелец: Adixen Vacuum Products SAS. Дата публикации: 2017-01-31.

Method for processing a carrier, a method for operating a plasma processing chamber, and a method for processing a semiconductor wafer

Номер патента: US09543157B2. Автор: Michael Renner,Lothar Brencher. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2017-01-10.

System having a process chamber for workpieces

Номер патента: US09423179B2. Автор: Dietmar Wieland,Oliver Iglauer,Christof Knuesel,Marius Winkler. Владелец: Duerr Systems AG. Дата публикации: 2016-08-23.

Control system employing fiber optic communication link for semiconductor processing apparatus

Номер патента: US6138054A. Автор: Ching Tu On. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2000-10-24.

Pressure gauge for semiconductor processing

Номер патента: CA2238053A1. Автор: Walter J. Ferguson. Владелец: Individual. Дата публикации: 1997-07-24.

Photo-mask and semiconductor process

Номер патента: US11662658B2. Автор: You-Ming KE. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2023-05-30.

Pressure gauge for semiconductor processing

Номер патента: WO1997026519A1. Автор: Walter J. Ferguson. Владелец: Dresser Industries Inc.. Дата публикации: 1997-07-24.

Semiconductor process

Номер патента: US20130078818A1. Автор: Chun-Hsien Lin,Shih-Hung Tsai,Yu-Ren Wang,Shao-Wei Wang,Chien-Liang Lin,Ying-Wei Yen,Te-Lin Sun. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2013-03-28.

Reduction of condensed gases on chamber walls via heated chamber housing for semiconductor processing equipment

Номер патента: US20200219705A1. Автор: John F. Baggett. Владелец: Axcelis Technologies Inc. Дата публикации: 2020-07-09.

Method of semiconductor process simulation

Номер патента: US20240193323A1. Автор: Yukihide Tsuji,Shinwook Yi,Hisashi KOTAKEMORI,Yuntae Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-13.

Systems and methods for determining polymer build-up within a chemical processing chamber

Номер патента: WO2024155784A1. Автор: Ashish Bhatnagar,Grant BREWER. Владелец: WATLOW ELECTRIC MANUFACTURING COMPANY. Дата публикации: 2024-07-25.

Thin film, in-situ measurement through transparent crystal and transparent substrate within processing chamber wall

Номер патента: US20240290592A1. Автор: Patrick Tae,Blake W. ERICKSON,Zhaozhao ZHU,Michael David WILLWERTH,Barry Paul CRAVER. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-29.

High temperature process chamber lid

Номер патента: US09831109B2. Автор: Mei Chang,Chien-Teh Kao,Dien-Yeh Wu,Joel M. Huston,Ilker Durukan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-11-28.

Semiconductor process

Номер патента: US20110195571A1. Автор: An-Chi Liu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2011-08-11.

Semiconductor processing method of providing an electrically conductive interconnecting plug between an elevationally inner electrically conductive node and an elevationally outer electrically conductive node

Номер патента: US5817573A. Автор: Howard E. Rhodes,Rod C. Langley,Timothy P. O'Brien. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1998-10-06.

Method and apparatus for baking out a gate valve in a semiconductor processing system

Номер патента: US5965046A. Автор: Timothy Joseph Franklin,David Datong Huo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1999-10-12.

Process chamber in connection with a fluidized bed reactor

Номер патента: CA2344219C. Автор: Michael G. Alliston,Tero Luomaharju,Ari Kokko,Timo Mero. Владелец: METSO POWER OY. Дата публикации: 2008-12-16.

Production of high-performance passive devices using existing operations of a semiconductor process

Номер патента: US8987107B2. Автор: James Hall,Daniel Hahn,Steven Leibiger,Sunglyong Kim,Christopher Nassar. Владелец: Fairchild Semiconductor Corp. Дата публикации: 2015-03-24.

Semiconductor processing methods of forming integrated circuitry

Номер патента: US7045405B2. Автор: Luan C. Tran. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2006-05-16.

High pressure processing chamber for multiple semiconductor substrates

Номер патента: EP1501961A2. Автор: Maximilian A. Biberger,Frederick P. Layman. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2005-02-02.

Test circuitry for determining the defect density of a semiconductor process as a function of individual metal layers

Номер патента: US6061814A. Автор: V. Swamy Irrinki,Emery O. Sugasawara. Владелец: LSI Logic Corp. Дата публикации: 2000-05-09.

Semiconductor processing method of forming a contact pedestal, of forming a storage node of a capacitor

Номер патента: US6083831A. Автор: Charles H. Dennison. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-07-04.

Semiconductor process

Номер патента: US9070710B2. Автор: Chien-Ting Lin,Ssu-I Fu,Yu-Hsiang Hung,Chung-Fu Chang,Cheng-Guo Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2015-06-30.

Electrostatic chuck mechanism and semiconductor processing device having the same

Номер патента: US10985045B2. Автор: Haiying Liu,Yulin Peng. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-20.

Semiconductor processing apparatus and electrode member therefor

Номер патента: US20030066608A1. Автор: Masuhiro Natsuhara,Hirohiko Nakata,Akira Kuibira. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2003-04-10.

Process chambers for substrate vacuum processing tool

Номер патента: WO2007101207A3. Автор: John M Smith,James Carter Hall,Jeffrey G Ellison. Владелец: Anaconda Semi Lp. Дата публикации: 2008-01-10.

Semiconductor processing method using photoresist and an antireflective coating

Номер патента: US20040102046A1. Автор: John Moore,Terry Gilton,Kristy Campbell,Steve Bowes,Joseph Brooks. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-05-27.

Semiconductor process device

Номер патента: US20240047247A1. Автор: Ilwoo KIM,Sungho Jang,Sangki NAM,Yoonjae Kim,Daewon KANG,Changsoon LIM,Chansoo KANG,Jonghun PI,Jungmo YANG,Youngil KANG,Jongmu KIM,Yongbeom Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-08.

Automatic sampling of hot phosphoric acid for the determination of chemical element concentrations and control of semiconductor processes

Номер патента: US20230395384A1. Автор: Jae Seok Lee,Daniel R. Wiederin,Patrick Sullivan,Kyle W. Uhlmeyer. Владелец: Elemental Scientific Inc. Дата публикации: 2023-12-07.

Laminated top plate of a workpiece carrier in micromechanical and semiconductor processing

Номер патента: WO2018017183A1. Автор: Kadthala R. Narendrnath. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-01-25.

Semiconductor processing apparatus for generating plasma

Номер патента: US20240014016A1. Автор: Cheng-Yi Huang,Chih-shen Yang,Chien-Hsiang Chen,Yen-Ji Chen,Ching-Horng CHEN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Semiconductor processing methods of forming and utilizing antireflective material layers, and methods of forming transistor gate stacks

Номер патента: WO2000014781A1. Автор: Sujit Sharan,Gurtej S. Sandhu. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2000-03-16.

Semiconductor process

Номер патента: US20150249008A1. Автор: Chih-Chun Wang,Chun-Feng Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2015-09-03.

Anti freeze valve apparatus and semiconductor processing device including the same and manufacturing method thereof

Номер патента: US20230136985A1. Автор: Ki Bong Kim,Jin Se PARK,Myung Seok Cha. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-04.

Patterned wafer geometry measurements for semiconductor process controls

Номер патента: EP3117454A1. Автор: Jaydeep Sinha,Pradeep Vukkadala. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2017-01-18.

Patterned wafer geometry measurements for semiconductor process controls

Номер патента: WO2015199801A1. Автор: Jaydeep Sinha,Pradeep Vukkadala. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2015-12-30.

Connect structure for semiconductor processing equipment

Номер патента: US20240021416A1. Автор: Hung-Chih Wang,Sheng-Yuan Lin,Ming-Sze CHEN,Yuan-Hsin CHI. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-01-18.

Apparatus and method for treating substrate including process chambers and transfer chamber

Номер патента: US11923216B2. Автор: KORIAKIN ANTON,Sang Jin Park,Joon Ho WON,Ji Hwan Park,Seung Min Shin,Hae Won Choi,Pil Kyun HEO,Kun Tack LEE,Jin Yeong SUNG,Jang Jin LEE. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

Semiconductor processing device

Номер патента: IE20190077U1. Автор: Huang Chun-Yao,Chang Yo-Yu. Владелец: MFC Sealing Tech Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-24.

Testing apparatus and method for determining an etch bias associated with a semiconductor-processing step

Номер патента: CA2540359A1. Автор: James Chingwei Li,Richard L. Pierson, Jr.,Berinder S. Brar. Владелец: Berinder S. Brar. Дата публикации: 2005-04-14.

Testing apparatus and method for determining an etch bias associated with a semiconductor-processing step

Номер патента: EP1676317A2. Автор: James Chingwei Li,Richard L. Pierson, Jr.,Berinder S. Brar. Владелец: Teledyne Scientific and Imaging LLC. Дата публикации: 2006-07-05.

Dew point sensing in semiconductor processing system load locks

Номер патента: US20230194392A1. Автор: Andrew Rosser,Frank A. Pugliese, JR.. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-06-22.

Semiconductor process

Номер патента: US20170323950A1. Автор: Chi-Mao Hsu,Chia-Chang Hsu,Chun-Chieh Chiu,Hsin-Fu Huang,Li-Han Chen,Pin-Hong Chen,Kuo-Chih Lai,Wei-Chuan Tsai,Min-Chuan Tsai,Kuo-Chin Hung. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-11-09.

Apparatus for aligning an optical device an object, an optical instrument and a semiconductor process system

Номер патента: US20100223767A1. Автор: Job Vianen,Jozef P.W. Stokkermans. Владелец: NXP BV. Дата публикации: 2010-09-09.

Systems and methods of local focus error compensation for semiconductor processes

Номер патента: US20140127836A1. Автор: Chih-Ming Chen,Chia-Chen Chen,Chia-Hao Hsu,Chia-Ching HUANG,Pei-Cheng Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2014-05-08.

Device of purifying hydrogen fluoride in semiconductor process waste gas

Номер патента: US20180161724A1. Автор: Wu-Yu Fong. Владелец: Orient Service Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-14.

Method for cleaning semiconductor process equipment and system thereof

Номер патента: US20230141790A1. Автор: Chun-Jung Chiu,Chun-Hsiung Chen,Wan-Chen Chuang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-05-11.

Titanium carboxylate films for use in semiconductor processing

Номер патента: WO2004077530A3. Автор: Xin Zhang,Seigi Suh,Paul J Roman Jr,Ross H Hill. Владелец: Ross H Hill. Дата публикации: 2005-02-03.

Self-bias calculation on a substrate in a process chamber with bias power for single or multiple frequencies

Номер патента: US20130110435A1. Автор: Gary Leray,Samer Banna,Valentin Nikolov Todorow. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2013-05-02.

Semiconductor manufacturing chamber with plasma/gas flow control device

Номер патента: US12002660B2. Автор: Chien-Liang Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-04.

Control circuit, pulse power source system, and semiconductor processing device

Номер патента: EP4080542A1. Автор: Gang Wei. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2022-10-26.

Igniter assembly with improved insulation and method of insulating the igniter assembly

Номер патента: US20180274514A1. Автор: James D. Lykowski,John E. Miller,Kristapher I. MIXELL,John Antony Burrows,Yusuf Esmail NEEMUCHWALA. Владелец: Hewlett Packard Development Co LP. Дата публикации: 2018-09-27.

Interior antenna for substrate processing chamber

Номер патента: US20120211358A1. Автор: Genhua Xu,Keith A. Miller,Shengde Zhong,Mahendra Bhagwat Lokhande. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2012-08-23.

Catch-pin water support for process chamber

Номер патента: US20040131460A1. Автор: Ying-Lang Wang,Yu-Ku Lin,Ting-Chun Wang,Hsi-Kuei Cheng,Chun-Tse Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2004-07-08.

Method and apparatus for preventing arcing at ports exposed to a plasma in plasma processing chambers

Номер патента: SG144071A1. Автор: Daniel John Hoffman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2008-07-29.

Process chamber

Номер патента: EP4428905A1. Автор: Yancheng LU. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-11.

Electromagnetic dipole for plasma density tuning in a substrate processing chamber

Номер патента: US09779953B2. Автор: Joseph F. Aubuchon,Tza-Jing Gung,Samer Banna. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Real-time calibration for wafer processing chamber lamp modules

Номер патента: US09698065B2. Автор: Chin-Hsiang Lin,Sunny Wu,Jo Fei Wang,Jong-I Mou,Chih-Tien Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-07-04.

Plasma treatment process for in-situ chamber cleaning efficiency enhancement in plasma processing chamber

Номер патента: US10002745B2. Автор: LIN Zhang,Xuesong Lu,Andrew V. Le,Jang Seok Oh,Xinhai Han. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-06-19.

Apparatus for monitoring process chamber

Номер патента: US10229818B2. Автор: Protopopov Vladimir,Ki Ho Hwang,Se Jin Oh,Doug Yong SUNG,Kul INN,Yun Kwang Jeon,Sung Ho Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-03-12.

Apparatus for blocking and unblocking a loading/unloading opening of a process chamber

Номер патента: WO2012016693A1. Автор: Peter Volk. Владелец: Centrotherm Thermal Solutions GmbH & Co. KG. Дата публикации: 2012-02-09.

Method and mechanism for contact-free process chamber characterization

Номер патента: EP4367714A1. Автор: Chunlei Zhang,Vivek B. Shah. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-15.

Apparatus for transferring member to be disposed in substrate processing chamber, substrate processing system, and method for transferring member

Номер патента: US20230290656A1. Автор: Wataru Matsumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

Apparatus for monitoring process chamber

Номер патента: US20170213710A1. Автор: Protopopov Vladimir,Ki Ho Hwang,Se Jin Oh,Doug Yong SUNG,Kul INN,Yun Kwang Jeon,Sung Ho Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-07-27.

Process chamber for a supercritical process and apparatus for treating substrates having the same

Номер патента: US20190096712A1. Автор: Yong-Sun Ko,Kwang-Wook Lee,Yong-jhin Cho,Byung-kwon CHO,Sang-Jine Park,Yeon-Jin Gil. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-03-28.

Methods for low temperature conditioning of process chambers

Номер патента: US20110306186A1. Автор: David K. Carlson,Zhiyuan Ye,Errol Antonio C. Sanchez,Yi-Chiau Huang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2011-12-15.

Igniter assembly with improved insulation and method of insulating the igniter assembly

Номер патента: US20190353136A1. Автор: James D. Lykowski,John E. Miller,Kristapher I. MIXELL,John Antony Burrows,Yusuf Esmail NEEMUCHWALA. Владелец: Tenneco Inc. Дата публикации: 2019-11-21.

Processing chamber

Номер патента: CA2410322C. Автор: Yitzhak Ben-Asouli,Farhat Osman. Владелец: Gene Bio Application Ltd. Дата публикации: 2010-07-20.

Processing chamber and step conveyor

Номер патента: CA1264460A. Автор: Guy Edward Buller-Colthurst. Владелец: Knud Simonsen Industries Ltd. Дата публикации: 1990-01-16.

Steam supply system for superposed turbine and process chamber, such as coal gasification

Номер патента: CA1260780A. Автор: William M. Menger. Владелец: Houston Industries Inc. Дата публикации: 1989-09-26.

Process chamber for an additive manufacturing apparatus and method for operating the process chamber

Номер патента: EP4334060A1. Автор: Birk Hoppe,Karsten Neumann,Tobias SCHMITHÜSEN. Владелец: Nikon SLM Solutions AG. Дата публикации: 2024-03-13.

Processing chamber purge plate with shroud, and pedestal shield system

Номер патента: WO2023215109A1. Автор: Vinayakaraddy GULABAL,Ravi Vellanki,Andrew Paul EIB,Hans Peter NYGREN,Eashan Raju DHAWADE. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2023-11-09.

Temperature-controllable process chambers, electronic device processing systems, and manufacturing methods

Номер патента: US11837478B2. Автор: Paul Z. Wirth. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-05.

Method of manufacturing semiconductor device by setting process chamber maintenance enable state

Номер патента: US11749550B2. Автор: Naofumi Ohashi,Shun Matsui,Yasuhiro Mizuguchi,Tadashi Takasaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-09-05.

Pressure Control System for a Multi-Head Processing Chamber of a Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20230012873A1. Автор: Maolin Long,Changle GUAN,Junliang Li. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-19.

Method of manufacturing semiconductor device by setting process chamber to maintenance enable state

Номер патента: US20230360942A1. Автор: Naofumi Ohashi,Shun Matsui,Yasuhiro Mizuguchi,Tadashi Takasaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-11-09.

Process chamber for an additive manufacturing apparatus and method for operating the process chamber

Номер патента: US20240157648A1. Автор: Birk Hoppe,Karsten Neumann,Tobias SCHMITHÜSEN. Владелец: Nikon SLM Solutions AG. Дата публикации: 2024-05-16.

Cover plate for a processing chamber

Номер патента: WO2015009142A1. Автор: Willem Jacobus Reijersen Van Buuren,Tobias Keune. Владелец: FORAGE INNOVATIONS B.V.. Дата публикации: 2015-01-22.

Methods for extending the lifetime of pressure gauges coupled to substrate process chambers

Номер патента: US20110265824A1. Автор: James P. Cruse. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2011-11-03.

Mist collecting system for multiple processing chambers

Номер патента: US20230381838A1. Автор: Noritaka Akatsu. Владелец: Fuji Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Processing chamber calibration

Номер патента: WO2023133293A1. Автор: Xiaoxiong Yuan,Karthik Ramanathan,Adolph Miller Allen,Weize HU,Rohit Mahakali,Elizabeth Kathryn Neville. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-07-13.

Process Chamber and Substrate Processing Apparatus Including the Same

Номер патента: US20210217636A1. Автор: Hyosan Lee,Kuntack Lee,Yong-jhin Cho,Jihoon Jeong,Young-Hoo Kim,Jung-min Oh,Yungjun Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-07-15.

Roll frame with improved product collection

Номер патента: US20230415162A1. Автор: Daniel Mark,Daniel Rickenbach,Stefan Salzmann,Daniel DOERIG,Beno CHIALINA. Владелец: BUEHLER AG. Дата публикации: 2023-12-28.

Methods and apparatus for gas delivery into plasma processing chambers

Номер патента: WO2012087919A2. Автор: Robert P. Chebi,Alan Cheshire,Stanley Detmar,Alfredo Granados,Gabriel Roupillard. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-06-28.

Apparatus and methods for heating tunability in processing chambers

Номер патента: US20240248282A1. Автор: Ala Moradian,Lori D. Washington,Saurabh Chopra. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Methods for controlling time scale of gas delivery into a processing chamber

Номер патента: WO2009155221A3. Автор: Robert Charatan,Iqbal A. Shareef,Gunsu Yun,Kurt Jorgensen. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2010-03-25.

Process Chamber And Process Kits For Advanced Packaging

Номер патента: US20230307211A1. Автор: Cheng-Hsiung Matthew TSAI,Manjunatha KOPPA,Aravind Miyar Kamath. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-28.

Spark plasma sintered component for cryo-plasma processing chamber

Номер патента: WO2023183330A1. Автор: LIN Xu,John Daugherty,Harmeet Singh,Satish Srinivasan,Pankaj HAZARIKA. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2023-09-28.

Erosion resistant plasma processing chamber components

Номер патента: US20230317424A1. Автор: LIN Xu,Harmeet Singh,Justin Charles CANNIFF,Robin Koshy,Simon Gosselin,Adrian Radocea. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-10-05.

Direct temperature control for a component of a substrate processing chamber

Номер патента: EP1070336A1. Автор: Nitin Khurana,Tushar Mandrekar,Anish Tolia. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-01-24.

Additive manufacturing apparatus with a processing chamber and an optical module having a house containing optical train

Номер патента: EP3299110A3. Автор: Simon Peter Scott,Christopher John Sutcliffe. Владелец: RENISHAW PLC. Дата публикации: 2018-06-20.

Method and apparatus for control of deposit build-up on an inner surface of a plasma processing chamber

Номер патента: WO1998044535A1. Автор: William S. Kennedy,Thomas E. Wicker,Robert A. Maraschin,Albert J. Lamm. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 1998-10-08.

Apparatus and methods for heating tunability in processing chambers

Номер патента: WO2024158418A1. Автор: Ala Moradian,Lori D. Washington,Saurabh Chopra. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-02.

Freewire system for suppression of particulate deposition and accumulation on processing chamber walls

Номер патента: US20040175301A1. Автор: Aaron Mao,Samuel Antonio,Pom Hyare. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-09-09.

High conductance inner shield for process chamber

Номер патента: US12100577B2. Автор: Kang Zhang,Yuichi Wada,Ananthkrishna Jupudi,Yueh Sheng Ow,Junqi Wei,Sarath Babu,Kelvin Boh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-24.

Mechatronic curtain for a process chamber for carrying out thermal processes in the manufacture of electronic assemblies

Номер патента: US20240318915A1. Автор: Paul Wild. Владелец: REHM THERMAL SYSTEMS GMBH. Дата публикации: 2024-09-26.

L-motion slit door for substrate processing chamber

Номер патента: US12125688B2. Автор: Hamid Noorbakhsh,James Hugh Rogers. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-22.

Vacuum process chamber component and methods of making

Номер патента: US09969022B2. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-05-15.

Process chamber gate valve

Номер патента: US09765897B2. Автор: Shin-Young Jee. Владелец: Presys Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Power generating apparatus using effluent gases exhausted from process chamber

Номер патента: WO2013012246A3. Автор: Sung-Yul Park. Владелец: Tes Co., Ltd. Дата публикации: 2013-04-11.

Apparatus for uniform pumping within a substrate process chamber

Номер патента: US09464732B2. Автор: Jared Ahmad Lee,Martin Jeffrey Salinas,Imad Yousif,Paul Benjamin Reuter. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-10-11.

Systems and methods for cooling and removing reactants from a substrate processing chamber

Номер патента: US09453614B2. Автор: Colin F. Smith. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-09-27.

Tools and methods for processing microelectronic workpieces using process chamber designs that easily transition between open and closed modes of operation

Номер патента: US20090280235A1. Автор: Jimmy D. Collins,Tracy A. Gast,Alan D. Rose,Jeffrey M. Lauerhaas. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-11-12.

Cellulose fibres with improved surface, methods for production of cellulose fibres with improved surface, products containing cellulose fibres with improved surface, and methods for production of such products

Номер патента: RU2707797C2. Автор: Бруно МАРКОЧЧИЯ,Харшад ПАНДЕ. Владелец: ДОМТАР ПЭЙПЕР КОМПАНИ, ЭлЭлСи. Дата публикации: 2019-11-29.

Reduction of oxygen content in a process chamber

Номер патента: EP4299315A1. Автор: Aron PFAFF. Владелец: Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV. Дата публикации: 2024-01-03.

Anneal chamber with getter

Номер патента: WO2018222215A1. Автор: Joseph M. Ranish. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-12-06.

Anneal chamber with getter

Номер патента: US20180345215A1. Автор: Joseph M. Ranish. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-12-06.

Reduced volume processing chamber

Номер патента: US20190214247A1. Автор: Han-Wen Chen,Steven Verhaverbeke,Roman Gouk,Jean Delmas. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-07-11.

Pressure control valve assembly of plasma processing chamber and rapid alternating process

Номер патента: WO2013070416A1. Автор: Brian McMillin,Camelia Rusu,Mirzafer Abatchev. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2013-05-16.

Detection and analysis of substrate support and pre-heat ring in a process chamber via imaging

Номер патента: US20240145281A1. Автор: Hui Chen,Ashur J. Atanos,Xinning Luan,Zhepeng Cong,Martin Jeffrey Salinas. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Method and system for cleaning a process chamber

Номер патента: US20200251311A1. Автор: Sanjeev Baluja,Tejas ULAVI,Amit Kumar BANSAL,Kalyanjit GHOSH,Yusheng Zhou,Shailendra Srivastava. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-08-06.

Methods and apparatus for providing a gas mixture to a pair of process chambers

Номер патента: US20110265831A1. Автор: Ezra Robert Gold,Martin Jeff Salinas,Jared Ahmad Lee,James P. Cruse. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2011-11-03.

Functional Module for Moving to a Dosing Station Positioned in a Process Chamber of a Containment System and Corresponding Method

Номер патента: US20230257148A1. Автор: Matteo GIULIANI,Andrea RONCARA. Владелец: Pharma Integration Srl. Дата публикации: 2023-08-17.

Method for processing a carrier, a method for operating a plasma processing chamber, and a method for processing a semiconductor wafer

Номер патента: US20160093500A1. Автор: Michael Renner,Lothar Brencher. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2016-03-31.

Detection and analysis of substrate support and pre-heat ring in a process chamber via imaging

Номер патента: WO2024091304A1. Автор: Hui Chen,Ashur J. Atanos,Xinning Luan,Zhepeng Cong,Martin Jeffrey Salinas. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-05-02.

Method for conditioning a processing chamber for steady etching rate control

Номер патента: US20190013221A1. Автор: Chun Yan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-01-10.

Vane pump with improved seal assembly for control chamber

Номер патента: EP3959445A1. Автор: Tuncay BAYO. Владелец: Stackpole International Engineered Products Ltd. Дата публикации: 2022-03-02.

Vane pump with improved seal assembly for control chamber

Номер патента: US20200340478A1. Автор: Tuncay BAYO. Владелец: Stackpole International Engineered Products Ltd. Дата публикации: 2020-10-29.

High pressure turbine with improved chamber of radial gap control of moving blades, and turbo-machine using such turbine

Номер патента: RU2503822C2. Автор: Ален Доминик ЖАНДРО,Дельфин ЛЕРУ,СТРАТ Жан-Люк ЛЕ,Паскаль ТАСЬОССЬЯН. Владелец: Снекма. Дата публикации: 2014-01-10.

Absorbent article with improved features indicator

Номер патента: RU2373911C2. Автор: Джованни КАРЛУЧЧИ,Пол Томас ВАЙСМАН,Питер Чарльз мл. МЕЙСОН,Рональд Босман ВИСЧЕР,Джин Мэри ХЬЮЗ,Фольке ШЛЮТЕР,Эмма ЗОММА. Владелец: Дзе Проктер Энд Гэмбл Компани. Дата публикации: 2009-11-27.

Electronic cigarette with improved flavour properties

Номер патента: RU2631623C2. Автор: Бернард ДЖАСТЕР,Эяль ПЕЛЕГ,Аарон Арье ВАЙГЕНСБЕРГ,Самюель КАПУАНО,Иехезкель ШТЕРН. Владелец: Сис Рисорсез Лтд.. Дата публикации: 2017-09-25.

White chocolate with improved properties and methods for producing thereof

Номер патента: RU2709716C2. Автор: Нэнси Чиан,Джон П. МУНАФО,Марк С. МАККИ,Лаура Д. ЛЮКАСЕВЫЧ. Владелец: Марс, Инкорпорейтед. Дата публикации: 2019-12-19.

Apparatus and method to improve uniformity and reduce local effect of process chamber

Номер патента: US8223470B2. Автор: Yu-Cheng Chang,Ying-Lin Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2012-07-17.

Etching process apparatus and member for etching process chamber

Номер патента: US20090183835A1. Автор: Shingo Kimura,Muneo Furuse,Masanori Kadotani. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2009-07-23.

Electrostatic chuck design with improved chucking and arcing performance

Номер патента: US20230298922A1. Автор: Prashant Kumar KULSHRESHTHA,Abdul Aziz KHAJA,Sarah Michelle Bobek,Venkata Sharat Chandra PARIMI,Vinay K. PRABHAKAR. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-21.

Hardware switch on main feed line in a radio frequency plasma processing chamber

Номер патента: US11823868B2. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Yue Guo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-21.

Combination Vacuum And Over-Pressure Process Chamber And Methods Related Thereto

Номер патента: US20200234986A1. Автор: Craig Walter McCOY,William Moffat. Владелец: Yield Engineering Systems Inc. Дата публикации: 2020-07-23.

Radio frequency source for inductively coupled and capacitively coupled plasmas in substrate processing chambers

Номер патента: US20230317411A1. Автор: Juan Carlos Rocha-Alvarez,Abdul Aziz KHAJA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-05.

Thermal shield for processing chamber

Номер патента: US20230282454A1. Автор: Muhannad MUSTAFA,Kartik Shah,Dhritiman Subha Kashyap,Youngki CHANG,Dhivanraj SUBRAMANIAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-07.

Device for radical diagnostic in plasma processing chamber, radical diagnostic system having the same, and operating method thereof

Номер патента: US20230197423A1. Автор: Kyungmin Lee,SeungBo SHIM,Youngdo Kim,Sungyeol KIM,Sangki NAM,Sungyong LIM,Chansoo KANG,Namkyun Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-22.

System comprising a single wafer, reduced volume process chamber

Номер патента: US20200203208A1. Автор: Wieland Pethe,Dirk Noack. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2020-06-25.

Flow meter with improved thermal stability and methods of use

Номер патента: WO2012057886A1. Автор: Joseph Yudovsky,Dennis L. DeMars. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-05-03.

Generator with improved output voltage waveform based on nuclear power plant

Номер патента: RU2761183C1. Автор: Леонид Петрович Гаврилов. Владелец: Леонид Петрович Гаврилов. Дата публикации: 2021-12-06.

Solid composition with improved solubility and stability and method of obtaining it

Номер патента: RU2375046C2. Автор: Масаки СУНАМИ,Сого ЯМАНЕ,Хирофуми ЯМАНЕ. Владелец: Джапан Тобакко Инк.. Дата публикации: 2009-12-10.

Decoder for formation of audio signal with improved frequency characteristic, decoding method, encoder for formation of encoded signal and encoding method using compact additional information for selection

Номер патента: RU2676870C1. Автор: Саша ДИШ,Фредерик НАГЕЛЬ,Андреас НИДЕРМАЙЕР. Владелец: Фраунхофер-Гезелльшафт Цур Фердерунг Дер Ангевандтен Форшунг Е.Ф.. Дата публикации: 2019-01-11.

Glazing element with improved properties of vibroacoustic damping, method for manufacturing such glazing element and method of acoustic protection in vehicle cabin

Номер патента: RU2522535C2. Автор: Давид Фурнье,Сильвен ПЕЙО. Владелец: СЭН-ГОБЭН ГЛАСС ФРАНС. Дата публикации: 2014-07-20.

Process chamber assembly with reflective hot plate

Номер патента: EP1536457A2. Автор: Jae Yun Lee,Lovell C. Chase. Владелец: ASML US Inc. Дата публикации: 2005-06-01.

Method and apparatus for displaying process endpoint signal based on emission concentration within a processing chamber

Номер патента: US5343412A. Автор: Manoocher Birang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1994-08-30.

Ring removal from processing chamber

Номер патента: US20200335312A1. Автор: Andreas Schmid,Damon K. Cox,Nicholas M. Kopec. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-10-22.

Substrate transfer door assemblies with radiating elements for substrate processing chambers

Номер патента: US20230253217A1. Автор: John Drewery,David Inori,Michael Julius KINSLER,Andre DESEPTE. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-08-10.

Auto feed humidification chamber with improved structure

Номер патента: US20200338300A1. Автор: Tao-Tsun Hsiung,Xu-Xiang Wang,I-Chen TSAI. Владелец: Besmed Health Business Corp. Дата публикации: 2020-10-29.

Radio frequency source for inductively coupled and capacitively coupled plasmas in substrate processing chambers

Номер патента: WO2023178022A1. Автор: Juan Carlos Rocha-Alvarez,Abdul Aziz KHAJA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-09-21.

Thermal shield for processing chamber

Номер патента: WO2023167881A1. Автор: Muhannad MUSTAFA,Kartik Shah,Dhritiman Subha Kashyap,Youngki CHANG,Dhivanraj SUBRAMANIAN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-09-07.

High-pressure discharge lamp with improved color point stability and high luminous efficacy

Номер патента: WO2004025691A1. Автор: Klaus Scholler,Rolf Gervelmeyer. Владелец: Philips Intellectual Property & Standards Gmbh. Дата публикации: 2004-03-25.

Device for radical diagnostic in plasma processing chamber, radical diagnostic system having the same, and operating method thereof

Номер патента: US11996275B2. Автор: Kyungmin Lee,SeungBo SHIM,Youngdo Kim,Sungyeol KIM,Sangki NAM,Sungyong LIM,Chansoo KANG,Namkyun Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-28.

Movable electrode for process chamber

Номер патента: US20220093436A1. Автор: Rick Kustra. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-03-24.

High-pressure discharge lamp with improved color point stability and high luminous efficacy

Номер патента: EP1540702A1. Автор: Klaus c/o Philips Intellectual Property SCHÖLLER,Rolf c/o Philips Intell. Property GERVELMEYER. Владелец: Philips Intellectual Property and Standards GmbH. Дата публикации: 2005-06-15.

Movable grounding arrangements in a plasma processing chamber and methods therefor

Номер патента: WO2013081844A2. Автор: Rajinder Dhindsa,Alexei Marakhtanov,Anthony de la Llera,Michael C. KELLOG. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2013-06-06.

Apparatus and methods for heating tunability in processing chambers

Номер патента: US20240248297A1. Автор: Ala Moradian,Lori D. Washington,Saurabh Chopra. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Apparatus and methods for heating tunability in processing chambers

Номер патента: US20240248298A1. Автор: Ala Moradian,Lori D. Washington,Saurabh Chopra. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Methods and apparatus for calibration of substrate processing chamber placement via imaging

Номер патента: US20240258141A1. Автор: TAO Sheng,Zhepeng Cong,NIMROD SMITH,Vinh N. TRAN,Khokan C. PAUL,Awse MA'AYA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Substrate processing chamber, substrate processing system including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20230043451A1. Автор: Yongmyung Jun,Seohyun Kim,Hyunjin Ko,Jae Seong RYU,Inkwang BAE,Seungbu BAEK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-02-09.

Apparatus for regulating temperature of a process kit in a semiconductor wafer-processing chamber

Номер патента: WO2002093624A3. Автор: Senh Thach,Arnold Kholodenko,Dennis Grimard,Wing Cheng,Alex Veytser. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-01-09.

Seal venting in a substrate processing chamber

Номер патента: US20230253189A1. Автор: Hui Ling Han,Michael Julius KINSLER,Steven James Madsen,Gabriel PIOUX. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-08-10.

Apparatus and methods for heating tunability in processing chambers

Номер патента: WO2024158420A1. Автор: Ala Moradian,Lori D. Washington,Saurabh Chopra. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-02.

Apparatus and methods for heating tunability in processing chambers

Номер патента: WO2024158419A1. Автор: Ala Moradian,Lori D. Washington,Saurabh Chopra. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-02.

Methods and apparatus for calibration of substrate processing chamber placement via imaging

Номер патента: WO2024158630A1. Автор: TAO Sheng,Zhepeng Cong,NIMROD SMITH,Vinh N. TRAN,Khokan C. PAUL,Awse MA'AYA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-02.

Integrated solution for solid state light sources in a process chamber

Номер патента: WO2014133743A1. Автор: Joseph Johnson,Joseph M. Ranish. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-09-04.

Apparatus for regulating temperature of a process kit in a semiconductor wafer-processing chamber

Номер патента: WO2002093624A2. Автор: Senh Thach,Arnold Kholodenko,Dennis Grimard,Wing Cheng,Alex Veytser. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2002-11-21.

Distortion current mitigation in a radio frequency plasma processing chamber

Номер патента: US12106938B2. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Yue Guo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-01.

Additive manufacturing apparatus with decoupled process chamber and additive manufacturing method

Номер патента: US20240293866A1. Автор: Christian Tenbrock,Stefan Schoen,Meinolf Tepper,Marc Timmer. Владелец: Dmg Mori Additive GmbH. Дата публикации: 2024-09-05.

System and process for calibrating pyrometers in thermal processing chambers

Номер патента: EP1175604A1. Автор: Julio Guardado. Владелец: Steag RTP Systems Inc. Дата публикации: 2002-01-30.

E-beam enhanced decoupled source for semiconductor processing

Номер патента: SG193943A1. Автор: Akira Koshiishi,Harmeet Singh,John Patrick Holland,Jun Shinagawa,Peter L G Ventzek. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2013-11-29.

CORNER CHAMBER WITH HEATER

Номер патента: US20120003062A1. Автор: Chen Jinliang,Taburaza Noe D.. Владелец: WD Media, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS FOR ENHANCED PROCESSING CHAMBER CLEANING

Номер патента: US20120000490A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

CONSUMABLE ISOLATION RING FOR MOVABLE SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY OF A PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20120000605A1. Автор: Dhindsa Rajinder,Kellogg Michael C.,Marakhtanov Alexei. Владелец: Lam Research Corporation.. Дата публикации: 2012-01-05.

C-SHAPED CONFINEMENT RING FOR A PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20120000608A1. Автор: Dhindsa Rajinder,Kellogg Michael C.,Marakhtanov Alexei. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

MOVABLE GROUND RING FOR A PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20120003836A1. Автор: . Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Method of teaching eyepoints for wire bonding and related semiconductor processing operations

Номер патента: SG179485A1. Автор: Zhijie Wang,Deepak Sood,Peter M Lister,Michael T Deley. Владелец: Kulicke & Soffa Ind Inc. Дата публикации: 2012-04-27.

Semiconductor processing apparatus

Номер патента: SG194251A1. Автор: Yao Hua Sun,Eeyian Toh. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2013-11-29.

Semiconductor processing device

Номер патента: IES87130B2. Автор: Chang Yoyu,Huang Chunyao,Yu Chang Yo,Yao Huang Chun. Владелец: Mfc Sealing Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-05.

Semiconductor processing device

Номер патента: IES20190077A2. Автор: Chang Yoyu,Huang Chunyao,Yu Chang Yo,Yao Huang Chun. Владелец: Mfc Sealing Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-24.

Integration of dry development and etch processes for euv patterning in a single process chamber

Номер патента: WO2024196643A1. Автор: Daniel Peter,Jun Xue,Younghee Lee,Da Li,Ji Yeon Kim,Nader Shamma,Patrick A. Van Cleemput,Samantha S.H. Tan,Hongxiang Zhao,Michelle Margarita FLORES ESPINOSA. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-09-26.

COPOLYCARBONATES WITH IMPROVED PROPERTIES

Номер патента: US20120004375A1. Автор: . Владелец: BAYER MATERIALSCIENCE AG. Дата публикации: 2012-01-05.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.