Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

Semiconductor processing station

Номер патента: US11462425B2
Опубликовано: 04-10-2022
Автор(ы): Chia-Wei Lu, Hon-Lin Huang, Hung-Chih Wang
Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Chamber, semiconductor processing station, and semiconductor process using the same

Номер патента: US20170221737A1. Автор: Hon-Lin Huang,Hung-Chih Wang,Chia-Wei Lu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-08-03.

Semiconductor processing station

Номер патента: US20190051545A1. Автор: Hon-Lin Huang,Hung-Chih Wang,Chia-Wei Lu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2019-02-14.

Semiconductor process chamber contamination prevention system

Номер патента: US12090503B2. Автор: Che-Fu Chen,Kai-Chin WEI. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Semiconductor process chamber contamination prevention system

Номер патента: US11779949B2. Автор: Che-Fu Chen,Kai-Chin WEI. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-10.

Semiconductor process chamber contamination prevention system

Номер патента: US20230372960A1. Автор: Che-Fu Chen,Kai-Chin WEI. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

SEMICONDUCTOR PROCESSING STATION

Номер патента: US20190051545A1. Автор: WANG HUNG-CHIH,Huang Hon-Lin,Lu Chia-Wei. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.. Дата публикации: 2019-02-14.

SEMICONDUCTOR PROCESSING STATION

Номер патента: US20200321230A1. Автор: WANG HUNG-CHIH,Huang Hon-Lin,Lu Chia-Wei. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.. Дата публикации: 2020-10-08.

Method for repairing semiconductor processing components

Номер патента: US09956589B2. Автор: Joung Il Kim. Владелец: Tokai Carbon Korea Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-01.

Process stop loss reduction system through rapid replacement of apparatus for trapping of reaction by-product for semiconductor process

Номер патента: US20240063031A1. Автор: In Hwan Kim,Sung Won Yoon,Che Hoo CHO,Yeon Ju Lee. Владелец: Milaebo Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-22.

Semiconductor process system and method of cleaning the same

Номер патента: US20240141481A1. Автор: Chang-Ha Lee,Ireh Seo,Taeung YOON,Rak-Young Jeon. Владелец: University Industry Foundation UIF of Yonsei University. Дата публикации: 2024-05-02.

Semiconductor processing tool

Номер патента: US12084769B2. Автор: Chyi-Tsong Ni,Chih-Tsung Lee,Kuang-Wei Cheng,Sheng-chun YANG,Yung-Tsun LIU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Semiconductor processing tool

Номер патента: US11851761B2. Автор: Chyi-Tsong Ni,Chih-Tsung Lee,Kuang-Wei Cheng,Sheng-chun YANG,Yung-Tsun LIU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Semiconductor processing tool

Номер патента: US20240084454A1. Автор: Chyi-Tsong Ni,Chih-Tsung Lee,Kuang-Wei Cheng,Sheng-chun YANG,Yung-Tsun LIU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Pre-processing method, method for forming metal silicide and semiconductor processing apparatus

Номер патента: US10916417B2. Автор: Xiaodong Liu,Chih-Hsien Huang,Jian-Zhi Fang,Chen-Hao Liu. Владелец: Nexchip Semiconductor Corp. Дата публикации: 2021-02-09.

Chemical resistant semiconductor processing chamber bodies

Номер патента: WO2008021257A8. Автор: Katrina Mikhaylichenko,Arnold Kholodenko,Grant Peng,Mark Mandelboym,Wing Cheng. Владелец: Mark Mandelboym. Дата публикации: 2009-07-30.

Chemical resistant semiconductor processing chamber bodies

Номер патента: WO2008021257A2. Автор: Katrina Mikhaylichenko,Arnold Kholodenko,Grant Peng,Mark Mandelboym,Wing Cheng. Владелец: Cheng, Helen. Дата публикации: 2008-02-21.

Dry cleaning of semiconductor processing chambers using non-metallic, carbon-comprising material

Номер патента: US5753137A. Автор: YAN Ye,Gerald Z. Yin,Charles Steven Rhoades. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1998-05-19.

Dry cleaning of semiconductor processing chambers

Номер патента: US5685916A. Автор: YAN Ye,Gerald Z. Yin,Charles Steven Rhoades. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1997-11-11.

Systems and methods for controlling accretion in semiconductor processing system exhaust arrangements

Номер патента: US20230307255A1. Автор: Fan GAO,Peipei Gao,Gregory Deye,Caleb Miskin. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-09-28.

Apparatuses for uniform fluid delivery in a multi-station semiconductor processing chamber

Номер патента: US20240222151A1. Автор: Michael Philip Roberts,Joseph R. Abel,Douglas Walter Agnew,Eli Jeon,Daniel BOATRIGHT,Arun Anandhan Duraisamy,William Laurence McDaniel. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Apparatuses for cleaning a multi-station semiconductor processing chamber

Номер патента: EP4420156A1. Автор: Bo Gong,Ching-Yun Chang,Tongtong GUO,Francisco J. Juarez,Rachel E. Batzer,Harish Kumar Premakumar. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-28.

Measuring individual layer thickness during multi-layer deposition semiconductor processing

Номер патента: US09953887B2. Автор: Edward Augustyniak,Boaz Kenane. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-04-24.

Semiconductor process chamber, semiconductor process apparatus, and semiconductor process method

Номер патента: EP4397783A1. Автор: Yunfeng LAN,qing She,Yongfei WANG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-10.

Semiconductor process apparatus

Номер патента: EP4253596A1. Автор: HAO WANG,Bo Zheng,Yunfeng LAN,Wenqiang Zhang,Xiaoyan Ren,Xiaoping Shi,Haifeng Qin,Yongfei WANG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-04.

Equipment front-end modules for semiconductor processing systems and methods of making semiconductor processing systems

Номер патента: US20240178019A1. Автор: Mandar Deshpande,Joseph KRAUS,Gurupkar Singh Nerwal,Kyle Barrette. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-05-30.

Semiconductor process chamber, semiconductor process instrument, and semiconductor process method

Номер патента: US20240371672A1. Автор: Yunfeng LAN,qing She,Yongfei WANG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-07.

Semiconductor Processing System, and Control Assembly and Method Thereof

Номер патента: US20230399746A1. Автор: Julian Juuchuan Hsieh. Владелец: Enchip Enterprise LLC. Дата публикации: 2023-12-14.

Switchable delivery for semiconductor processing system

Номер патента: WO2022020185A1. Автор: Ganesh Balasubramanian,Yue Chen,Qiang Ma,Zhijun Jiang,Daemian Raj BENJAMIN RAJ,Shailendra Srivastava,Sai Susmita ADDEPALLI,Abhigyan KESHRI. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-01-27.

Semiconductor processing apparatus and semiconductor processing method using the same

Номер патента: US20230002903A1. Автор: Minju Lee,Sangyub IE,Sookyeom Yong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-01-05.

Switchable delivery for semiconductor processing system

Номер патента: US12094689B2. Автор: Ganesh Balasubramanian,Yue Chen,Qiang Ma,Zhijun Jiang,Daemian Raj BENJAMIN RAJ,Shailendra Srivastava,Sai Susmita ADDEPALLI,Abhigyan KESHRI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-17.

Semiconductor processing apparatus and semiconductor processing system

Номер патента: US20200168494A1. Автор: Hyun Ho CHOI. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-05-28.

Semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20230411188A1. Автор: HAO WANG,Yunfeng LAN,Wenqiang Zhang,Xiaoyan Ren,Xiaoping Shi,Haifeng Qin,Yongfei WANG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Semiconductor processing chamber

Номер патента: WO2017180283A2. Автор: Lara Hawrylchak,Mehran Behdjat,Aaron Muir Hunter,Douglas R. McAllister,Kong Lung Samuel Chan,Dongming IU,Niraj MERCHANT. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2017-10-19.

Gasbox for semiconductor processing chamber

Номер патента: US12057325B2. Автор: Abhijit A. Kangude,Yunzhe YANG,Rahul Rajeev,Kedar Joshi. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-06.

Semiconductor processing device

Номер патента: EP4135015A1. Автор: qing She,Jingfeng WEI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-15.

Semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20230162998A1. Автор: qing She,Jingfeng WEI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-25.

Wafer carrying mechanism and semiconductor process apparatus

Номер патента: EP4234757A1. Автор: Bin Yu. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-30.

Semiconductor processing equipment including electrostatic chuck for plasma processing

Номер патента: US11862440B2. Автор: Jongwoo SUN,Jinyoung Park,Hyungjoo Lee,Jeongil MUN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-01-02.

Semiconductor processing apparatus and methods for monitoring and controlling a semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20230243033A1. Автор: Mohith Verghese,Todd Dunn,John Kevin Shugrue. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-08-03.

Gas inlet assembly of process chamber, gas inlet device, and semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20240117522A1. Автор: Shikai Li. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Multi-chamber semiconductor processing system with transfer robot temperature adjustment

Номер патента: US20230335423A1. Автор: Yen-Yu Chen,Chia-Hsi Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-19.

Semiconductor processing apparatus and mixing inlet device

Номер патента: US20240183032A1. Автор: Hong Ji,LEI Zhu,Keke Zhao,Jingfeng WEI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Temperature change rate control device, method, and semiconductor process apparatus

Номер патента: US20230238261A1. Автор: Hongwei GENG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-27.

Systems and methods for controlling moisture in semiconductor processing systems

Номер патента: US20230197472A1. Автор: Mario Gonzalez,Mandar Deshpande,Joseph KRAUS. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-06-22.

Semiconductor processing system

Номер патента: EP4331010A1. Автор: Michael John Norrington,Christopher Mark Bailey,Stephen PHILLIP. Владелец: Edwards Ltd. Дата публикации: 2024-03-06.

Semiconductor processing system

Номер патента: US20240213039A1. Автор: Helen Shaw,Michael John Norrington,Christopher Mark Bailey,Stephen PHILLIP. Владелец: Edwards Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Semiconductor processing device with wafer edge purging

Номер патента: US20230207377A1. Автор: Herbert Terhorst,Jereld Lee Winkler,Todd Robert Dunn,Eric James Shero,Michael Schmotzer,Ankit Kimtee,Shuyang Zhang,Shubham Garg,Rohan Vijay Rane. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-06-29.

Assembly of chamber lid and ceiling for semiconductor processes and film deposition

Номер патента: US20190032204A1. Автор: Chih-Kuo YANG. Владелец: Hermes Epitek Corp. Дата публикации: 2019-01-31.

Assembly of gas injector and ceiling for semiconductor processes and film deposition

Номер патента: US20180282868A1. Автор: Tsung-Hsien Chuang. Владелец: Hermes Epitek Corp. Дата публикации: 2018-10-04.

Gasbox for semiconductor processing chamber

Номер патента: US20230343608A1. Автор: Abhijit A. Kangude,Yunzhe YANG,Rahul Rajeev,Kedar Joshi. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-26.

Semiconductor processing system including temperature controller

Номер патента: US20220139736A1. Автор: Dongha Kim,Hogon KIM,Kyoungsik Cho,Myoungryul Han,Hyunchul Kwun,Jangho Son. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-05-05.

Flow control arrangements with flow switches, semiconductor processing systems, and flow control methods

Номер патента: US20240019879A1. Автор: Glenn Holbrook. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-01-18.

Chamber arrangements with laser sources, semiconductor processing systems, and material layer deposition methods

Номер патента: US20240112930A1. Автор: Han Ye,Xing Lin,Wentao Wang,Alexandros Demos,Kai Zhou,Fan GAO,Peipei Gao,Kishor Patil. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-04-04.

Flow control arrangements with enclosed flow switches and isolation valves, semiconductor processing systems, and flow control methods

Номер патента: US20240018656A1. Автор: Glenn Holbrook,Mark Fessler. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-01-18.

Chamber liner for semiconductor processing

Номер патента: US20240006203A1. Автор: Chien-Liang Chen,Wei-Da Chen,Yu-Ning Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Chamber applied in semiconductor process

Номер патента: US20220005676A1. Автор: Ping-Fan Chen. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2022-01-06.

Semiconductor processing apparatus having improved temperature control

Номер патента: US12009185B2. Автор: Jun Ma,Chen-An Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-11.

Flow control arrangements, semiconductor processing systems having flow control arrangements, and flow control methods

Номер патента: US20240068098A1. Автор: Glenn Holbrook. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-02-29.

Semiconductor process chamber

Номер патента: US20230392260A1. Автор: Dong Won Seo,Ju Yeon KWON,Yu Ri SHIN. Владелец: Hanwha Corp. Дата публикации: 2023-12-07.

Apparatus for trapping multiple reaction by-products for semiconductor process

Номер патента: US12104247B2. Автор: Jin Woong Kim,Che Hoo CHO,Yeon Ju Lee,Ji Eun Han. Владелец: Milaebo Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Semiconductor processing equipment with high temperature resistant nickel alloy joints and methods for making same

Номер патента: WO2019108858A1. Автор: Michael Parker,Jason Stephens,Guleid Hussen,Alfred Grant Elliot,Brent D.a. ELLIOT. Владелец: Component Re-Engineering Company, Inc.. Дата публикации: 2019-06-06.

Castable aluminum alloys for wafer handling chambers in semiconductor processing systems

Номер патента: US20230235428A1. Автор: Felix Rabinovich,Hong Gao,Shaofeng Chen,Joaquin Aguilar SANTILLAN,Shanker KUTTATH,Gary Urban Keppers. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-07-27.

Polymeric coating for semiconductor processing chamber components

Номер патента: US20240120180A1. Автор: LIN Xu,Yiwei Song,Christopher Kimball,Johnny Pham,Yuanping SONG. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-04-11.

Adhesive tape for semiconductor processing and method for producing semiconductor device

Номер патента: US11942353B2. Автор: Jun Maeda,Kazuto Aizawa. Владелец: Lintec Corp. Дата публикации: 2024-03-26.

Method to protect internal components of semiconductor processing equipment

Номер патента: EP1637626B1. Автор: Eugene Joseph Karwacki, Jr.,Bing Ji,Stephen Andrew Motika,David Allen Roberts,Dingjun Wu. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 2008-12-17.

SEMICONDUCTOR PROCESSING CHUCKS FEATURING RECESSED REGIONS NEAR OUTER PERIMETER OF WAFER FOR MITIGATION OF EDGE/CENTER NONUNIFORMITY

Номер патента: US20230010049A1. Автор: YU PAN,Eric H. Lenz,Ravi Vellanki. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-01-12.

Semiconductor process equipment

Номер патента: US20240153799A1. Автор: Thomas Brezoczky,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Bhaskar PRASAD,Lakshmikanth Krishnamurthy SHIRAHATTI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-09.

Semiconductor process equipment

Номер патента: US20240153803A1. Автор: Thomas Brezoczky,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Bhaskar PRASAD,Lakshmikanth Krishnamurthy SHIRAHATTI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-09.

Semiconductor process equipment

Номер патента: US20240153801A1. Автор: Thomas Brezoczky,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Bhaskar PRASAD,Lakshmikanth Krishnamurthy SHIRAHATTI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-09.

Semiconductor process equipment

Номер патента: US20240153802A1. Автор: Thomas Brezoczky,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Bhaskar PRASAD,Lakshmikanth Krishnamurthy SHIRAHATTI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-09.

Semiconductor process equipment

Номер патента: US20240153800A1. Автор: Thomas Brezoczky,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Bhaskar PRASAD,Lakshmikanth Krishnamurthy SHIRAHATTI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-09.

Semiconductor process equipment

Номер патента: WO2024102247A1. Автор: Thomas Brezoczky,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Bhaskar PRASAD,Lakshmikanth Krishnamurthy SHIRAHATTI. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-05-16.

Gas flow accelerator to prevent buildup of processing byproduct in a main pumping line of a semiconductor processing tool

Номер патента: US20240258123A1. Автор: Yi-Ming Lin,Chih-Lung Cheng,Sheng-chun YANG,Po-Chih Huang,Yu-Hsiang Juan,Xuan-Yang Zheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Shaft members, process kits and semiconductor processing systems having shaft members, and methods of making semiconductor processing systems

Номер патента: US20240222187A1. Автор: Han Ye,Felix Rabinovich,Wentao Wang,Aniket Chitale,Bradley Wayne Evans,Gary Urban Keppers,Amin Azimi,Gregory Rosendahl. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-07-04.

Semiconductor process equipment

Номер патента: US20240150888A1. Автор: Thomas Brezoczky,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Bhaskar PRASAD,Lakshmikanth Krishnamurthy SHIRAHATTI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-09.

Semiconductor processing device and method for monitoring wafer position status

Номер патента: EP4424887A1. Автор: Huan WANG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-04.

Semiconductor processing apparatus and methods for calibrating a semiconductor processing apparatus

Номер патента: US12040200B2. Автор: John Tolle,Shiva Rajavelu,Rich McCartney. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-07-16.

Semiconductor processing apparatus with improved uniformity

Номер патента: WO2021041002A1. Автор: JIAN Li,Paul Brillhart,Juan Carlos Rocha,Vinay K. PRABHAKAR,Viren KALSEKAR. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-03-04.

Semiconductor processing chamber component with a metal body and laser glazed ceramic coating

Номер патента: WO2024177759A1. Автор: LIN Xu,Eric A. Pape,David Joseph WETZEL,Jesu Titus IRUDAYARAJ. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-08-29.

Material layer deposition methods, semiconductor processing systems, and related computer program products

Номер патента: US20230125884A1. Автор: Alexandros Demos,Arun Murali,Gregory Deye,Caleb Miskin,Frederick Aryeetey. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-04-27.

Gas flow accelerator to prevent buildup of processing byproduct in a main pumping line of a semiconductor processing tool

Номер патента: EP3945143A1. Автор: Yi-Ming Lin,Chih-Lung Cheng,Sheng-chun YANG,Po-Chih Huang,Yu-Hsiang Juan,Xuan-Yang Zheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-02-02.

Gas flow accelerator to prevent buildup of processing byproduct in a main pumping line of a semiconductor processing tool

Номер патента: US11972957B2. Автор: Yi-Ming Lin,Chih-Lung Cheng,Sheng-chun YANG,Po-Chih Huang,Yu-Hsiang Juan,Xuan-Yang Zheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-04-30.

Substrate supports, semiconductor processing systems having substrate supports, and methods of making substrate supports for semiconductor processing systems

Номер патента: US20230212752A1. Автор: Hong Gao,Zhengyan Zhou. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-07-06.

System and method for performing semiconductor processes with coated bell jar

Номер патента: US11939664B2. Автор: Tsung-Yu Tsai,Chin-Szu Lee,Szu-Hua Wu,Hsing-Yuan HUANG,Meng-Chun HSIEH,Chih-Chang WU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-03-26.

Segmented focus ring for plasma semiconductor processing and processing tool configured to use the segmented focus ring

Номер патента: WO2024040520A1. Автор: Yulin Peng,Jinrong ZHAO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co., Ltd.. Дата публикации: 2024-02-29.

Semiconductor processing apparatus and a method for processing a substrate

Номер патента: US12018365B2. Автор: Petri Raisanen,David Marquardt,Thomas Aswad. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-06-25.

Semiconductor process chamber including lower volume upper dome

Номер патента: US11821106B2. Автор: Sun Jung Kim,Gyeom KIM,Jeong Ho Yoo,Pan Kwi Park,Keum Seok Park,Yi Hwan Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-21.

Lift pin actuators for semiconductor processing systems and related methods

Номер патента: US20240112946A1. Автор: Xing Lin,Alexandros Demos,Junwei Su,Shujin Huang,Loc Tran,Bradley Wayne Evans. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-04-04.

Carrier device and semiconductor processing equipment

Номер патента: US20240084453A1. Автор: Xu Zhu,Zhenguo MA,Mingke YAO,Haiyun ZHU,Yanbao WEI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Multi-layer focus ring for plasma semiconductor processing

Номер патента: WO2024040526A1. Автор: Yulin Peng,Jinrong ZHAO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co., Ltd.. Дата публикации: 2024-02-29.

Composition for semiconductor processing and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US12110421B2. Автор: Han Teo PARK,Seung Chul Hong,Deok Su Han. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Polishing composition for semiconductor processing polishing composition preparation method, and semiconductor device manufacturing method to which polishing composition is applied

Номер патента: US20240030041A1. Автор: Han Teo PARK,Jang Kuk KWON,Seung Chul Hong,Deok Su Han. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Yttrium aluminum perovskite (yap) based coatings for semiconductor processing chamber components

Номер патента: US20240212991A1. Автор: LIN Xu,Satish Srinivasan,Eric A. Pape,David Joseph WETZEL,Robin Koshy,Douglas DETERT,Jeremiah Michael DEDERICK. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Semiconductor processing system, method for precleaning substrate, semiconductor processing anhydrous hydrogen fluoride delivery system, semiconductor processing water vapor delivery system, and method for forming passivating film

Номер патента: TW202243755A. Автор: 王非,辛宇正,金曲,林興,魏創,阿迪亞 喬杜里,普拉拉德 庫爾卡尼,孫孝達,布貝西 巴卜 喬希斯瓦蘭,阿迪亞 瓦林貝,拉吉夫 雷迪 科西雷迪,傅彥君,阿明 阿齊米. Владелец: 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司. Дата публикации: 2022-11-16.

Semiconductor processing tool and method for passivation layer formation and removal

Номер патента: US20230042277A1. Автор: Chih-Chien Chi,Chia-Pang Kuo,Yao-Min Liu,Shu-Cheng Chin,Cheng-Hui Weng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-02-09.

Pressure-sensitive adhesive sheet for semiconductor processing

Номер патента: EP3919578A1. Автор: Shunpei Tanaka,Hiroki Kono,Taiki Ueno. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2021-12-08.

Method of particle abatement in a semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20230127177A1. Автор: Cornelis Thaddeus Herbschleb,Kelly Houben. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-04-27.

Coating components for semiconductor processing with fluorine-containing materials

Номер патента: US20240347336A1. Автор: Jennifer Y. Sun,Zhijun Jiang,Katherine Woo,Nitin Deepak,Ryan Sheil. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-17.

Coating components for semiconductor processing with fluorine-containing materials

Номер патента: WO2024220286A1. Автор: Jennifer Y. Sun,Zhijun Jiang,Katherine Woo,Nitin Deepak,Ryan Sheil. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-10-24.

Process and related device for removing by-product on semiconductor processing chamber sidewalls

Номер патента: US20240331988A1. Автор: Chang-Ming Wu,Lee-Chuan Tseng,Jing-Cheng Liao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Semiconductor processing system with gas line for transporting excited species and related methods

Номер патента: US20230290613A1. Автор: Varun Sharma,Tom Blomberg. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-09-14.

Semiconductor processing

Номер патента: WO2009045250A1. Автор: Shyam Surthi. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2009-04-09.

Apparatus for treating semiconductor process gas and method of treating semiconductor process gas

Номер патента: US20220205094A1. Автор: Seoyoung MAENG,Suji Gim,Youngseok Roh,Jongyong Bae,Jungjoon Pyeon,Sunwoo YOOK,Youngduk KO,Jihnkoo LEE,Jongha HWANG. Владелец: PURESPHERE CO Ltd. Дата публикации: 2022-06-30.

Process gas ramp during semiconductor processing

Номер патента: US20240376598A1. Автор: Gang Liu,Xing Zhang,Anand Chandrashekar,Kaihan Abidi Ashtiani,Jasmine Lin. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-11-14.

Polishing composition for semiconductor process and method for polishing a substrate using the same

Номер патента: EP4417661A1. Автор: Han Teo PARK,Seung Chul Hong,Deok Su Han,Hwan Chul Kim. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-21.

Polishing composition for semiconductor process and method for polishing a substrate using the same

Номер патента: US20240274439A1. Автор: Han Teo PARK,Seung Chul Hong,Deok Su Han,Hwan Chul Kim. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Polishing composition for semiconductor processing and method of polishing a substrate

Номер патента: US20240218251A1. Автор: Han Teo PARK,Seung Chul Hong,Deok Su Han,Yongsoo Choi,Kangsik MYUNG. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Material layer deposition methods, material layer stacks, semiconductor processing systems, and related computer program products

Номер патента: US20240203733A1. Автор: Alexandros Demos,Caleb Miskin,Yanfu Lu,Omar Elleuch. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-06-20.

Method for repairing an equipment piece used in semiconductor processing

Номер патента: EP3288914A1. Автор: Michael Parker,Frank Balma,Alexander Veytser,Brent D.a. ELLIOT,Jeff Cunha. Владелец: Component Re Engineering Co Inc. Дата публикации: 2018-03-07.

Method for repairing an equipment piece used in semiconductor processing

Номер патента: WO2016178839A1. Автор: Michael Parker,Frank Balma,Alexander Veytser,Brent D.a. ELLIOT,Jeff Cunha. Владелец: Component Re-Engineering Company, Inc.. Дата публикации: 2016-11-10.

Cluster type semiconductor processing apparatus and method for manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20150243535A1. Автор: Eun Soo Lee,Hee Cheol Kim,Sung Yong Kim,Seung Tae LEE,Ig Jun SHIN. Владелец: STS Semiconductor and Telecommunications Co Ltd. Дата публикации: 2015-08-27.

Semiconductor process chamber with heat pipe

Номер патента: US20210134565A1. Автор: Che-Fu Chen,Kai-Chin WEI. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-05-06.

Polishing compostion for semiconductor process, manufacturing method of polishing composition and method for manufacturing semiconductor device by using the same

Номер патента: US20230332014A1. Автор: Han Teo PARK,Jang Kuk KWON,Seung Chul Hong,Deok Su Han. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-19.

Recycle method and device for recycle of waste water containing suspension from semiconductor processing process, in particular, chemical-mechanical finishing

Номер патента: RU2520474C2. Автор: Франц БРУММЕР. Владелец: Хигхк-Фэктори Гмбх. Дата публикации: 2014-06-27.

Multi-layer semiconductor processing with scavenging between layers by excimer laser

Номер патента: US4685976A. Автор: Lyle O. Hoppie,Steven R. Schachameyer,James A. Benjamin,John B. Pardee. Владелец: Eaton Corp. Дата публикации: 1987-08-11.

Semiconductor processing with dc assisted rf power for improved control

Номер патента: WO2014022192A1. Автор: Jang-Gyoo Yang,Soonam Park,Shankar Venkataraman,Xinglong Chen,Saurabh Garg,Jonghoon Baek. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-02-06.

Semiconductor processing device

Номер патента: US11946136B2. Автор: Jereld Lee Winkler,Carl Louis White,Eric James Shero,Bhushan Zope,Shankar Swaminathan. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-04-02.

Semiconductor processing device

Номер патента: US20240200189A1. Автор: Jereld Lee Winkler,Carl Louis White,Eric James Shero,Bhushan Zope,Shankar Swaminathan. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-06-20.

Semiconductor-processing tape

Номер патента: US11901211B2. Автор: Yukihiro Matsubara,Hirotoki Yokoi. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.

Semiconductor processing apparatus for processing a plurality of substrates with cross flow

Номер патента: EP4303337A1. Автор: Ivo Raaijmakers,Theodorus G.M. Oosterlaken. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-01-10.

Semiconductor processing apparatus for processing a plurality of substrates with cross flow

Номер патента: US20240003009A1. Автор: Ivo Raaijmakers,Theodorus G.M. Oosterlaken. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-01-04.

Corrosion-resistant aluminum article for semiconductor processing equipment

Номер патента: US5811195A. Автор: Laxman Murugesh,Craig Bercaw,Joshua E. Byrne. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1998-09-22.

Method and apparatus for generating a precursor for a semiconductor processing system

Номер патента: WO2004106584B1. Автор: Ling Chen,Seshadri Ganguli,Mei Chang,Hua Chung,Christophe Marcadal,Dien-Yeh Wu,Alan Ouye,Jenny Lin,Vincent W Ku. Владелец: Vincent W Ku. Дата публикации: 2005-02-17.

Chamber arrangements, semiconductor processing systems having chamber arrangements, and related material layer deposition methods

Номер патента: US20240068103A1. Автор: Alexandros Demos,Arun Murali,Caleb Miskin,Amir Kajbafvala,Yanfu Lu. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-02-29.

Corrosion resistant component of semiconductor processing equipment and method of manufacturing thereof

Номер патента: WO2001000901A9. Автор: Robert J Steger,Chris Chang. Владелец: Chris Chang. Дата публикации: 2002-12-27.

Substrate supports, semiconductor processing systems, and material layer deposition methods

Номер патента: US20230386874A1. Автор: Xing Lin,Wentao Wang,Junwei Su,Shujin Huang. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-11-30.

Apparatus and method for gas delivery in semiconductor process chambers

Номер патента: EP3635776A1. Автор: Felix Rabinovich,Faruk Gungor,Vincent Kirchhoff,Gary Keppers. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-04-15.

Semiconductor processing apparatus having wafer re-orientation mechanism

Номер патента: EP1034123A1. Автор: Daniel J. Woodruff,Kyle Hanson,Vlad Zila,Mark Dix. Владелец: Semitool Inc. Дата публикации: 2000-09-13.

Semiconductor processing system

Номер патента: US12080570B2. Автор: Gerald Zheyao Yin,Heng Tao. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2024-09-03.

Replacing end effectors in semiconductor processing systems

Номер патента: US12119256B2. Автор: Dongyang Chen. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-10-15.

Semiconductor processing apparatus and method of operating the same

Номер патента: US09793143B2. Автор: Yao-Hwan Kao,Kai-Yuan Cheng,Ching-Hai Yang,shang-sheng Li,Jian-Yuan LAI,Yung-Chang LU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-10-17.

Semiconductor process and semiconductor processing device using the same

Номер патента: US09666461B1. Автор: Pinyen Lin,Chih-Ming Sun,Yii-Cheng LIN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Semiconductor processing tool and methods of operation

Номер патента: US12131962B2. Автор: Chyi-Tsong Ni,Chih-Tsung Lee,Kuang-Wei Cheng,Yung-Tsun LIU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Method of installing elastomer ring in semiconductor processing equipment and guiding sheet and jig used in installing elastomer ring

Номер патента: US20160163518A1. Автор: Chun-Yao Huang,Yo-Yu CHANG. Владелец: Mfc Sealing Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-09.

Method of installing elastomer ring in semiconductor processing equipment and guiding sheet and jig used in installing elastomer ring

Номер патента: US10153140B2. Автор: Chun-Yao Huang,Yo-Yu CHANG. Владелец: Mfc Sealing Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-12-11.

Device for treating semiconductor process exhaust gas

Номер патента: US20230271133A1. Автор: Jong Pil Yoon. Владелец: Plasma Science System Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Semiconductor processing device

Номер патента: US20240282596A1. Автор: Zhikai Wang,Sophia Wen. Владелец: Huaying Research Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Dual medium filter for ion and particle filtering during semiconductor processing

Номер патента: US09607864B2. Автор: Laertis Economikos,Wei-Tsu Tseng,John H. Zhang,Adam Ticknor. Владелец: STMicroelectronics lnc USA. Дата публикации: 2017-03-28.

RF current measurement in semiconductor processing tool

Номер патента: US12051630B2. Автор: Thomas Frederick,Sunil Kapoor. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-07-30.

Semiconductor processing tape

Номер патента: MY181315A. Автор: Toru Sano,Masami Aoyama,Jirou Sugiyama. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-21.

Method for conditioning semiconductor processing chamber components

Номер патента: US12129569B2. Автор: LIN Xu,Hong Shih,John Daugherty,Satish Srinivasan,David Joseph WETZEL,Yiwei Song,Christopher Kimball,Johnny Pham,Yuanping SONG. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-29.

Jigs and methods of teaching substrate handling in semiconductor processing systems using jigs

Номер патента: US20230100356A1. Автор: Dongyang Chen. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-03-30.

Semiconductor processing device

Номер патента: EP3840025A1. Автор: Zhikai Wang,Sophia Wen. Владелец: Huaying Research Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-23.

Semiconductor processing tool and methods of operation

Номер патента: US20220367297A1. Автор: Chyi-Tsong Ni,Chih-Tsung Lee,Kuang-Wei Cheng,Yung-Tsun LIU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-11-17.

Semiconductor processing device

Номер патента: US20170250098A1. Автор: Pinyen Lin,Chih-Ming Sun,Yii-Cheng LIN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-08-31.

Semiconductor processing device

Номер патента: US11393704B2. Автор: Pinyen Lin,Chih-Ming Sun,Yii-Cheng LIN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-07-19.

Model-based failure mitigation for semiconductor processing systems

Номер патента: WO2023049285A1. Автор: Binbin Wang,Anshul Ashok VYAS,Liem Ferryanto,Ravi C. EDUPUGANTI. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-03-30.

Model-based failure mitigation for semiconductor processing systems

Номер патента: US11955358B2. Автор: Binbin Wang,Anshul Ashok VYAS,Liem Ferryanto,Ravi C. EDUPUGANTI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-09.

Jigs and methods of teaching substrate handling in semiconductor processing systems using jigs

Номер патента: US20230105844A1. Автор: Dongyang Chen. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-04-06.

Device for treating semiconductor process exhaust gas

Номер патента: EP4327916A1. Автор: Jong Pil Yoon. Владелец: Plasma Science System Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-28.

System and method for thermally calibrating semiconductor process chambers

Номер патента: US20200080894A1. Автор: Hyeongeu Kim,Yen Lin Leow,Caleb Koy Miskin. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2020-03-12.

System and method for thermally calibrating semiconductor process chambers

Номер патента: US11747209B2. Автор: Hyeongeu Kim,Yen Lin Leow,Caleb Koy Miskin. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-09-05.

Portable enclosure for semiconductor processing

Номер патента: WO2002021580A9. Автор: Taro Yamazaki,Woo Sik Yoo. Владелец: WaferMasters Inc. Дата публикации: 2003-03-06.

Portable enclosure for semiconductor processing

Номер патента: WO2002021580A3. Автор: Taro Yamazaki,Woo Sik Yoo. Владелец: WaferMasters Inc. Дата публикации: 2003-02-06.

Portable enclosure for semiconductor processing

Номер патента: WO2002021580A2. Автор: Taro Yamazaki,Woo Sik Yoo. Владелец: Wafermasters, Inc.. Дата публикации: 2002-03-14.

Semiconductor process equipment, and process chamber therefor

Номер патента: EP4234755A1. Автор: Yujie Yang,Shiru Wang. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-30.

Susceptor bias adjustment apparatus and method, and semiconductor process device

Номер патента: EP4379088A1. Автор: Chao Zhang. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-05.

Composition for semiconductor processing and polishing method of semiconductor device using the same

Номер патента: EP4261258A1. Автор: Han Teo PARK,Seung Chul Hong,Deok Su Han,Hyeong Ju Lee,Hwan Chul Kim. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-18.

Composition for semiconductor processing and polishing method of semiconductor device using the same

Номер патента: US20230332016A1. Автор: Han Teo PARK,Seung Chul Hong,Deok Su Han,Hyeong Ju Lee,Hwan Chul Kim. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-19.

Composition for semiconductor processing and manufacturing method of semiconductor device using the same

Номер патента: US20230332017A1. Автор: Han Teo PARK,Seung Chul Hong,Deok Su Han,Yongsoo Choi,Kangsik MYUNG. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-19.

Composition for semiconductor processing and manufacturing method of semiconductor device using the same using the same

Номер патента: EP4261257A1. Автор: Han Teo PARK,Seung Chul Hong,Deok Su Han,Yongsoo Choi,Kangsik MYUNG. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-18.

Gas flow guiding device for semiconductor processing apparatus and method of using the same

Номер патента: US20210125846A1. Автор: Kunho Kim,Jinsun Choi. Владелец: Xia Tai Xin Semiconductor Qing Dao Ltd. Дата публикации: 2021-04-29.

Flow control arrangements with bypass switches, semiconductor processing systems, and related flow control methods

Номер патента: US20240019880A1. Автор: Glenn Holbrook,Mark Fessler. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-01-18.

Lift and rotate assembly for use in a workpiece processing station and a method of attaching the same

Номер патента: US20010023821A1. Автор: Randy Harris,Daniel Woodruff. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-09-27.

Chemical resistant semiconductor processing chamber bodies

Номер патента: TW200826218A. Автор: Katrina Mikhaylichenko,Arnold Kholodenko,Grant Peng,Mark Mandelboym,Wing-Lau Cheng. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2008-06-16.

Ultrathin conformal coatings for electrostatic dissipation in semiconductor process tools

Номер патента: US20240284650A1. Автор: Darshan THAKARE,Prerna Goradia,Jeff Hudgens,David Fenwick,Jennifer Sun,Xiaoming He,Geetika Bajaj,Rajkumar THANU,Karuppasamy Muthukamatchy,Gayatri NATU,Sanni Seppaelae,Arun Dhayalan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-22.

Semiconductor processing chamber with filament lamps having nonuniform heat output

Номер патента: US11842908B2. Автор: Sam Kim,Shiva K. T. Rajavelu Muralidhar. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-12-12.

Waste gas abatement technology for semiconductor processing

Номер патента: US11931682B2. Автор: Imad Mahawili. Владелец: Edwards Vacuum LLC. Дата публикации: 2024-03-19.

Waste gas abatement technology for semiconductor processing

Номер патента: WO2022066511A1. Автор: Imad Mahawili. Владелец: Qolibri, Inc.. Дата публикации: 2022-03-31.

Waste gas abatement technology for semiconductor processing

Номер патента: EP4217092A1. Автор: Imad Mahawili. Владелец: Edwards Vacuum LLC. Дата публикации: 2023-08-02.

Semiconductor processing by a combination of photolytic, pyrolytic and catalytic processes

Номер патента: US4843030A. Автор: J. Gary Eden,Kevin K. King,Viken Tavitian. Владелец: Eaton Corp. Дата публикации: 1989-06-27.

Semiconductor processing device, reaction chamber thereof, and film layer deposition method

Номер патента: EP4249633A1. Автор: Yunfeng LAN,Fang Zhang,Huanyu Wang,Wenqiang Zhang,Haifeng Qin,Shuaitao SHI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-27.

Methods of forming structures, semiconductor processing systems, and semiconductor device structures

Номер патента: US11959173B2. Автор: ROBINSON JAMES,Caleb Miskin,Amir Kajbafvala,Yanfu Lu. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-04-16.

Methods of forming structures, semiconductor processing systems, and semiconductor device structures

Номер патента: US20240209510A1. Автор: ROBINSON JAMES,Caleb Miskin,Amir Kajbafvala,Yanfu Lu. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-06-27.

Semiconductor processing chamber with filament lamps having nonuniform heat output

Номер патента: US20240055279A1. Автор: Sam Kim,Shiva K.T. Rajavelu Muralidhar. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-02-15.

Apparatus and method for gas delivery in semiconductor process chambers

Номер патента: US20180350627A1. Автор: Felix Rabinovich,Faruk Gungor,Vincent Kirchhoff,Gary Keppers. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-12-06.

Thermal management of edge ring in semiconductor processing

Номер патента: US09947559B2. Автор: Dmitry Lubomirsky,Andrew Nguyen,Aniruddha Pal,Martin Jeffrey Salinas,Imad Yousif. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

Exhaust deposit buildup monitoring in semiconductor processing

Номер патента: WO2007095487A1. Автор: Raymond Joe,Jonathan Pettit. Владелец: Tokyo Electron America, Inc.. Дата публикации: 2007-08-23.

Actuator to adjust dynamically showerhead tilt in a semiconductor- processing apparatus

Номер патента: US20200181776A1. Автор: John Wiltse. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2020-06-11.

Distribution components for semiconductor processing systems

Номер патента: WO2022020194A1. Автор: Yang Guo,Swaminathan Srinivasan,Philip A. Kraus,Kallol Bera,Nitin Pathak,Anantha K. Subramani,Badri N. RAMAMURTHI,Xiaopu LI,Seyyed Abdolreza Fazeli. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-01-27.

Method and apparatus for semiconductor processing

Номер патента: US20210005478A1. Автор: Errol Antonio C. Sanchez. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-01-07.

Reduction of condensed gases on chamber walls via purge gas dilution and evacuation for semiconductor processing equipment

Номер патента: WO2020142159A1. Автор: John Baggett. Владелец: AXCELIS TECHNOLOGIES, INC.. Дата публикации: 2020-07-09.

Pre-cleaning tool and semiconductor processing apparatus

Номер патента: TWI338326B. Автор: Victor Chen,Wen Sheng Wu,Kuo Liang Sung,Shuen Liang Tseng. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2011-03-01.

Semiconductor process apparatus

Номер патента: EP4253596A4. Автор: HAO WANG,Bo Zheng,Yunfeng LAN,Wenqiang Zhang,Xiaoyan Ren,Xiaoping Shi,Haifeng Qin,Yongfei WANG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-20.

Semiconductor processing tool and methods of operation

Номер патента: US12084762B2. Автор: Lun-Kuang Tan,Yen-Hsing Chen,Ker-Hsun LIAO,Wei-Ming Wang,Yi Chen Ho. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

SEMICONDUCTOR PROCESSING APPARATUS AND SEMICONDUCTOR PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20200168494A1. Автор: Choi Hyun Ho. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2020-05-28.

SEMICONDUCTOR PROCESSING APPARATUS AND SEMICONDUCTOR PROCESSING METHOD

Номер патента: US20190252236A1. Автор: IGARASHI Junichi. Владелец: Toshiba Memory Corporation. Дата публикации: 2019-08-15.

Semiconductor processing apparatus and methods for monitoring and controlling a semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20190276934A1. Автор: Mohith Verghese,Todd Dunn,John Kevin Shugrue. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2019-09-12.

System of semiconductor process and control method thereof

Номер патента: US12125687B2. Автор: Youngdo Kim,Sungyeol KIM,Sangki NAM,Daewon KANG,Sungyong LIM,Jonghun PI,Myunggeun SONG,Byungkook Cho,Hyeoncheol Jin. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-22.

Sputter source for semiconductor process chambers

Номер патента: US09620339B2. Автор: Prashanth Kothnur,Tza-Jing Gung,Anantha K. Subramani,Hanbing Wu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-04-11.

Showerhead-cooler system of a semiconductor-processing chamber for semiconductor wafers of large area

Номер патента: US09484190B2. Автор: Yuri Glukhoy. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-11-01.

Removable showerhead faceplate for semiconductor processing tools

Номер патента: US20230279547A1. Автор: Eric H. Lenz,Bin Luo,Manjesh SHANKARNARAYANA. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-09-07.

Component with a dual layer hermetic atomic layer deposition coatings for a semiconductor processing chamber

Номер патента: WO2024097505A1. Автор: LIN Xu,Eric A. Pape,David Joseph WETZEL. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-05-10.

Semiconductor process chamber exhaust port quartz removal tool

Номер патента: US5833290A. Автор: Bradley Mitchell Curelop,James Hann. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1998-11-10.

Semiconductor process chamber exhaust port quartz removal tool

Номер патента: US5743581A. Автор: Bradley Mitchell Curelop,James Hann. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1998-04-28.

Sheet for semiconductor processing

Номер патента: MY183013A. Автор: SATO Akinori,Yamashita Shigeyuki. Владелец: Lintec Corp. Дата публикации: 2021-02-05.

Pressure-sensitive adhesive sheet for semiconductor processing

Номер патента: US20240034914A1. Автор: Yuji Kato,Jun Akiyama,Taiki Ueno. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2024-02-01.

Sputter source for semiconductor process chambers

Номер патента: US20170211175A1. Автор: Prashanth Kothnur,Tza-Jing Gung,Anantha K. Subramani,Hanbing Wu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-07-27.

Semiconductor processing chamber with metal or metalloid fluoride process exposed coating

Номер патента: WO2024123579A1. Автор: LIN Xu,Eric A. Pape,David Joseph WETZEL,Robin Koshy. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-06-13.

Electrostatic chuck mechanism and semiconductor processing device having the same

Номер патента: US10985045B2. Автор: Haiying Liu,Yulin Peng. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-20.

Semiconductor processing apparatus with protective coating including amorphous phase

Номер патента: US20180226232A9. Автор: Kenneth S. Collins,Jennifer Y. Sun,Ren-Guan Duan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-08-09.

Semiconductor processing apparatus

Номер патента: SG160413A1. Автор: Sheng Lin. Владелец: Beijing NMC Co Ltd. Дата публикации: 2010-04-29.

Showerhead electrode design for semiconductor processing reactor

Номер патента: WO2003015133A2. Автор: Rajinder Dhindsa,Eric Lenz. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2003-02-20.

Semiconductor-processing temporary-adhesive tape

Номер патента: MY197838A. Автор: Goto Yusuke,Uchiyama Tomoaki. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-20.

Methods of making heating blocks, heating blocks, and semiconductor processing systems having heating blocks

Номер патента: US20230389134A1. Автор: Hong Gao,Changmin Lee,Joaquin Aguilar SANTILLAN,Nobuaki Tanabe,Shanker KUTTATH. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-11-30.

Combiner and distributor for adjusting impedances or power across multiple plasma processing stations

Номер патента: US10622962B2. Автор: George Thomas,Edward Augustyniak,Sunil Kapoor,Yaswanth Rangineni. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2020-04-14.

Combiner and distributor for adjusting impedances or power across multiple plasma processing stations

Номер патента: US20200195216A1. Автор: George Thomas,Edward Augustyniak,Sunil Kapoor,Yaswanth Rangineni. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2020-06-18.

Combiner and distributor for adjusting impedances or power across multiple plasma processing stations

Номер патента: US20190149119A1. Автор: George Thomas,Edward Augustyniak,Sunil Kapoor,Yaswanth Rangineni. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2019-05-16.

Combiner and distributor for adjusting impedances or power across multiple plasma processing stations

Номер патента: US20220158604A1. Автор: George Thomas,Edward Augustyniak,Sunil Kapoor,Yaswanth Rangineni. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2022-05-19.

Semiconductor processing equipment with high temperature resistant nickel alloy joints and methods for making same

Номер патента: US20230278123A1. Автор: Michael Parker,Jason Stephens,Guleid Hussen,Alfred Grant Elliot,Brent Elliot. Владелец: Watlow Electric Manufacturing Co. Дата публикации: 2023-09-07.

Purge nozzle assembly and semiconductor processing assembly including the purge nozzle assembly

Номер патента: US20210375644A1. Автор: Klaas P. Boonstra,Christianus G.M. de Ridder. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2021-12-02.

Semiconductor processing device and method

Номер патента: RU2713171C9. Автор: София ВЭНЬ,Чжикай ВАН. Владелец: Хуаин Рисерч Ко., Лтд. Дата публикации: 2020-07-22.

Apparatus and methods for semiconductor processing

Номер патента: US20240258153A1. Автор: Joseph Yudovsky,Kaushal Gangakhedkar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Semiconductor processing chambers for deposition and etch

Номер патента: WO2022055718A1. Автор: Tsutomu Tanaka,Canfeng Lai,Timothy Franklin,Khokan Chandra Paul,Adam J. Fischbach,Carlaton WONG,Ravikumar PATIL,Vijet Patil. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-03-17.

Semiconductor process

Номер патента: US20110244678A1. Автор: Yu-Tsung Lai,Shih-Fang Tzou,Jiunn-Hsiung Liao,Jyh-Cherng Yau,Chang-Hsiao Lee,Ming-Da Hsieh. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2011-10-06.

Method comprising applying an external mechanical stress to a semiconductor structure and semiconductor processing tool

Номер патента: US9281252B1. Автор: Moritz Andreas Meyer,Alexander Würfel. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2016-03-08.

Polishing composition for semiconductor processing,method for preparing polishing composition, and method for manufacturing semiconductor element to which polishing composition is applied

Номер патента: US20240043718A1. Автор: Han Teo PARK,Jang Kuk KWON,Seung Chul Hong,Deok Su Han. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Electrostatic chuck for use in semiconductor processing

Номер патента: US11817341B2. Автор: Troy Alan Gomm. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-11-14.

Electrostatic chuck for use in semiconductor processing

Номер патента: EP4258332A2. Автор: Troy Alan Gomm. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-10-11.

Electrostatic chuck for use in semiconductor processing

Номер патента: EP3631846A1. Автор: Troy Alan Gomm. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2020-04-08.

Electrostatic chuck for use in semiconductor processing

Номер патента: US20240038568A1. Автор: Troy Alan Gomm. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-02-01.

Electrostatic chuck for use in semiconductor processing

Номер патента: EP4258332A3. Автор: Troy Alan Gomm. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-01-03.

Wafer positioning pedestal for semiconductor processing

Номер патента: US09892956B1. Автор: Easwar Srinivasan,Karl F. Leeser,Paul Konkola. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-02-13.

Polishing composition for semiconductor processing,method for preparing polishing composition, and method for manufacturing semiconductor element to which polishing composition is applied

Номер патента: US20240043719A1. Автор: Han Teo PARK,Jang Kuk KWON,Seung Chul Hong,Deok Su Han. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Composition for semiconductor processing and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: EP4293087A1. Автор: Han Teo PARK,Yong Soo Choi,Seung Chul Hong,Deok Su Han,Hyeong Ju Lee,Kang Sik MYUNG. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-20.

Composition for semiconductor processing and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20230407135A1. Автор: Han Teo PARK,Yong Soo Choi,Seung Chul Hong,Deok Su Han,Hyeong Ju Lee,Kang Sik MYUNG. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Polishing composition for semiconductor process and manufacturing method for polished article

Номер патента: EP4116386A1. Автор: Donghyun Kim,Seung Chul Hong,Deok Su Han,Jin Hyuk Lim,Jieun Lee. Владелец: SKC Solmics Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-11.

Polishing composition for semiconductor process and manufacturing method for polished article

Номер патента: US20230019730A1. Автор: Donghyun Kim,Seung Chul Hong,Deok Su Han,Jin Hyuk Lim,Jieun Lee. Владелец: SKC Solmics Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-19.

Semiconductor processing adhesive tape and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11842916B2. Автор: Jun Maeda,Kazuto Aizawa. Владелец: Lintec Corp. Дата публикации: 2023-12-12.

Semiconductor processing chambers and methods for deposition and etch

Номер патента: US20230343552A1. Автор: Tsutomu Tanaka,Canfeng Lai,Timothy Franklin,Khokan Chandra Paul,Adam J. Fischbach,Carlaton WONG,Ravikumar PATIL,Vijet Patil. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-26.

Semiconductor processing liquid and method for processing substrate

Номер патента: US11807792B2. Автор: Lihong Liu,Takahiro Eto. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-07.

Semiconductor processing liquid and method for processing substrate

Номер патента: US11773324B2. Автор: Lihong Liu,Takahiro Eto. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Composition for semiconductor processing and processing method

Номер патента: US20240150677A1. Автор: Hiroyuki Tano. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-05-09.

Semiconductor processing liquid and method for processing substrate

Номер патента: US20220372369A1. Автор: Lihong Liu,Takahiro Eto. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-24.

Composition for semiconductor processing and processing method

Номер патента: US20240150680A1. Автор: Hiroyuki Tano. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-05-09.

Apparatus and methods for semiconductor processing

Номер патента: US11984343B2. Автор: Joseph Yudovsky,Kaushal Gangakhedkar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-14.

Process chamber of semiconductor process equipment and semiconductor process equipment

Номер патента: CN112813419B. Автор: 田西强. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2022-10-21.

A load device, a reaction chamber and a semiconductor processing device

Номер патента: TWI569363B. Автор: xue-wei Wu. Владелец: . Дата публикации: 2017-02-01.

Rotating biasable pedestal and electrostatic chuck in semiconductor process chamber

Номер патента: US12112972B2. Автор: Qiwei Liang,Dmitry Lubomirsky,Gautam PISHARODY,Douglas Arthur BUCHBERGER, Jr.,Shekhar ATHANI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-08.

Showerhead device for semiconductor processing system

Номер патента: US20240332039A1. Автор: Tom E. Blomberg,Varun Sharma. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-10-03.

Semiconductor processing chambers for deposition and etch

Номер патента: WO2022055736A1. Автор: Khokan Chandra Paul,Ravikumar PATIL. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-03-17.

Semiconductor processing chambers for deposition and etch

Номер патента: US11887811B2. Автор: Khokan Chandra Paul,Ravikumar PATIL. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-30.

Parameter adjustment model for semiconductor processing chambers

Номер патента: WO2023154151A1. Автор: Eric J. Bergman,John L. Klocke,Gregory J. Wilson,Paul R. McHugh,Adam Marc McClure. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-08-17.

Parameter adjustment model for semiconductor processing chambers

Номер патента: US12116686B2. Автор: Eric J. Bergman,Gregory J. Wilson,Paul R. McHugh,John L Klocke,Adam Marc McClure. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-15.

Parameter adjustment model for semiconductor processing chambers

Номер патента: US20230257900A1. Автор: Eric J. Bergman,John L. Klocke,Gregory J. Wilson,Paul R. McHugh,Adam Marc McClure. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-08-17.

Adhesive composition for semiconductor processing, film comprising same for semiconductor processing, and method for producing semiconductor package using same

Номер патента: US20240254372A1. Автор: Kwang Joo Lee,Ji Ho HAN,Hee Song. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Semiconductor Process Optimized For Quantum Structures

Номер патента: US20200220065A1. Автор: Dirk Robert Walter Leipold,George Adrian Maxim,Michael Albert Asker. Владелец: Equal1 Labs Inc. Дата публикации: 2020-07-09.

Semiconductor Process for Quantum Structures with Staircase Active Well

Номер патента: US20200152776A1. Автор: Dirk Robert Walter Leipold,George Adrian Maxim,Michael Albert Asker. Владелец: Equal1 Labs Inc. Дата публикации: 2020-05-14.

Semiconductor processing sheet

Номер патента: US20120208012A1. Автор: Keisuke Watanabe,Masakazu Morimoto,Masayoshi Natsume,Junki Mori. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2012-08-16.

Polishing composition for semiconductor process and method for manufacturing semiconductor device by using the same

Номер патента: US12116503B2. Автор: Han Teo PARK,Jang Kuk KWON,Seung Chul Hong,Deok Su Han. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-15.

Dual medium filter for ion and particle filtering during semiconductor processing

Номер патента: US20170148647A1. Автор: Laertis Economikos,Wei-Tsu Tseng,John H. Zhang,Adam Ticknor. Владелец: STMicroelectronics lnc USA. Дата публикации: 2017-05-25.

Pressure-sensitive adhesive sheet for semiconductor processing

Номер патента: US20240043724A1. Автор: Yuji Kato,Jun Akiyama,Taiki Ueno. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2024-02-08.

Semiconductor processing system and method of assembly

Номер патента: US20230307269A1. Автор: Adriaan Garssen. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-09-28.

Semiconductor processing system and method of assembly

Номер патента: EP4250343A1. Автор: Adriaan Garssen. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-09-27.

Method for cleaning semiconductor process equipment and system thereof

Номер патента: US20230141790A1. Автор: Chun-Jung Chiu,Chun-Hsiung Chen,Wan-Chen Chuang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-05-11.

Semiconductor processing station and method for processing semiconductor wafer

Номер патента: US09558974B2. Автор: Hsu-Shui Liu,Jiun-Rong Pai,Tien-Chen Hu,Mao-Lin Kao,Li-Jen Ko,Hsiang-Yin Shen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Semiconductor processing device and method

Номер патента: RU2694171C1. Автор: София ВЭНЬ,Чжикай ВАН. Владелец: Уси Хуаин Микроэлектроникс Текнолоджи Ко., Лтд. Дата публикации: 2019-07-09.

Semiconductor processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20240282604A1. Автор: SunWoo PARK,Seungdon Lee,Hyunjin Lee,Minwoo Rhee,Kyeongbin LIM,Bumki Moon,Sujie Kang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Process assembly for semiconductor processing and semiconductor processing method

Номер патента: US20240355649A1. Автор: Peter Volk,Jan Dirk Kähler. Владелец: Centrotherm International AG. Дата публикации: 2024-10-24.

Process chamber, semiconductor process device, and semiconductor process method

Номер патента: EP4421853A1. Автор: Yongfei WANG,Wenkai CHI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-28.

Semiconductor process device and impedance matching method therefor

Номер патента: EP4411784A1. Автор: JING Yang,Di Zhang,Gang Wei,Wenqing Li,Shuqi JIANG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-07.

Temperature control of semiconductor processing chambers

Номер патента: WO2014040038A2. Автор: Michael Nam,David Gunther,Jae Yeol Park,Kyle PETERSEN. Владелец: Semicat, Inc.. Дата публикации: 2014-03-13.

Semiconductor processing flow field control apparatus and method

Номер патента: US20210225673A1. Автор: Che-Fu Chen,Kai-Chin WEI. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-07-22.

Method and system for recognizing and addressing plasma discharge during semiconductor processes

Номер патента: US12100604B2. Автор: Chih-Yu Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-24.

Automated semiconductor processing systems

Номер патента: US20050045214A1. Автор: Gary Curtis,Jeffrey Davis. Владелец: Semitool Inc. Дата публикации: 2005-03-03.

Semiconductor processing equipment and impedance-matching method

Номер патента: US20240249917A1. Автор: JING Yang,Di Zhang,Gang Wei,Wenqing Li,Shuqi JIANG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Semiconductor processing tool and methods of operation

Номер патента: US12068169B2. Автор: Liang-Guang Chen,Kei-Wei Chen,Ji Cui,Chih Hung Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Semiconductor processing tool and methods of operation

Номер патента: US20240363361A1. Автор: Liang-Guang Chen,Kei-Wei Chen,Ji Cui,Chih Hung Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Semiconductor process apparatus scheduling control method and semiconductor process apparatus

Номер патента: EP4459668A1. Автор: Junxiang Zhao. Владелец: Xi'an Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-06.

Method for operating a semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20050089625A1. Автор: Hideyuki Yamamoto,Ken Yoshioka,Saburou Kanai,Ryoji Nishio,Seiichiro Kanno,Hideki Kihara. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-04-28.

Apparatus and method for selectively restricting process fluid flow in semiconductor processing

Номер патента: US20010031560A1. Автор: David Rose. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-10-18.

Hexapod-based pedestal systems for use in semiconductor processing operations

Номер патента: EP4449489A1. Автор: Jacob Lee Hiester,Jason Gordon GALGINAITIS,Richard M BLANK. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-23.

Mechanisms for cleaning load ports of semiconductor process tools

Номер патента: US09691640B2. Автор: HUNG-WEN Chen,Ching-Fa Chen,Mei-Wei Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Substrate storage racks for semiconductor processing systems

Номер патента: US20230143667A1. Автор: Senthil Sivaraman,Gurupkar Nerwal. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-05-11.

Examination method and examination assistant device for quartz product of semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20070008638A1. Автор: Nobuhiro Takahashi,Teruyuki Hayashi,Masayuki Oikawa,Katsuhiko Anbai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-01-11.

Semiconductor processing tool and methods of operation

Номер патента: US20230268215A1. Автор: Sheng-Wen Huang,Yan-Cheng Chen,Kai-Lin Chuang,Jun Xiu Liu,Chung-Pin CHOU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-24.

Semiconductor processing tool and methods of operation

Номер патента: US12087611B2. Автор: Sheng-Wen Huang,Yan-Cheng Chen,Kai-Lin Chuang,Jun Xiu Liu,Chung-Pin CHOU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Frequency generation device for providing bias power in semiconductor process

Номер патента: US20240274406A1. Автор: Jihoon Kim,Sae Hoon Uhm,Se Hong PARK,Dong Jegal,Yeonghoon SOHN. Владелец: En2Core Technology Inc. Дата публикации: 2024-08-15.

Method and apparatus for uniform thermal distribution in a microwave cavity during semiconductor processing

Номер патента: WO2018204576A1. Автор: Ananthkrishna Jupudi,Yueh Sheng Ow,Preetham Rao,Dennis Ivanov. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-11-08.

Semiconductor processing

Номер патента: US20200328076A1. Автор: Sanjeev Sapra,Jerome A. Imonigie,Armin Saeedi Vahdat,Sevim Korkmaz. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2020-10-15.

Method and apparatus for preventing a furnace in a semiconductor process from temperature and gas excursion

Номер патента: US6996459B2. Автор: Chung Chih Chang,Ta Neng Ho,Chung Pin Lin,Lin Wu Yang. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2006-02-07.

Semiconductor process device and wafer support structure thereof

Номер патента: EP4411796A1. Автор: Jun Zhang,qing She,Jingfeng WEI,Shoulin HUANG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-07.

Semiconductor process machine and operation method thereof

Номер патента: US20240297056A1. Автор: Haipeng Zhu,Min-Hsien Chen,Wen Yi Tan,Kuo Liang Huang,Xijun GUO. Владелец: United Semiconductor Xiamen Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Furnace and semiconductor processing equipment

Номер патента: US20240344769A1. Автор: Wu Zhang,Qun Liu,Qinghua Chang,Tairong ZHU. Владелец: Laplace Renewable Energy Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Semiconductor process tool incorporating heat exchanger

Номер патента: US20030167781A1. Автор: Sanjiv Patel,Taylor Thompson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-09-11.

Power management system for a semiconductor processing facility

Номер патента: US5801961A. Автор: Michael Peterson,Gary M. Moore,Steven C. Beese. Владелец: Moore Epitaxial Inc. Дата публикации: 1998-09-01.

Integrated benchtop semiconductor processing cells and semiconductor fabs formed from such cells and semiconductor tool libraries

Номер патента: US20230420276A1. Автор: Mitchell David Hsing,Parker Andrew Gould. Владелец: Inchfab Inc. Дата публикации: 2023-12-28.

Integrated benchtop semiconductor processing cells and semiconductor fabs formed from such cells and semiconductor tool libraries

Номер патента: WO2024006352A1. Автор: Mitchell David Hsing,Parker Andrew Gould. Владелец: Inchfab, Inc.. Дата публикации: 2024-01-04.

Semiconductor installation, containing at-least also a long narrow semiconductor substrate transfer / processing tunnel-arrangement to during its operation the uninterruptedly taking place of a total semiconductor processing / treatment- process of the therein displacing semiconductor substrates

Номер патента: WO2011145918A1. Автор: Edward Bok. Владелец: Edward Bok. Дата публикации: 2011-11-24.

Temperature control of semiconductor processing chambers

Номер патента: WO2014040038A3. Автор: Michael Nam,David Gunther,Jae Yeol Park,Kyle PETERSEN. Владелец: Semicat, Inc.. Дата публикации: 2015-07-16.

Method and system for recognizing and addressing plasma discharge during semiconductor processes

Номер патента: US11894250B2. Автор: Chih-Yu Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-02-06.

Semiconductor process system and gas treatment method

Номер патента: US20240096649A1. Автор: Jong-San Chang,Hyunseok Kim,Kimoon LEE,JungDae PARK,Wonsu Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-21.

Semiconductor processing apparatus and method utilizing electrostatic discharge (ESD) prevention layer

Номер патента: US11854860B2. Автор: Cheng-Han Wu,Fang-Yu Liu,Tzu-Yang Lin,Tsai-Hao Hung,Ping-Cheng KO. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Semiconductor processing apparatus and method utilizing electrostatic discharge (esd) prevention layer

Номер патента: US20200335386A1. Автор: Cheng-Han Wu,Fang-Yu Liu,Tzu-Yang Lin,Tsai-Hao Hung,Ping-Cheng KO. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-10-22.

Semiconductor processing apparatus and method utilizing electrostatic discharge (esd) prevention layer

Номер патента: US20240087945A1. Автор: Cheng-Han Wu,Fang-Yu Liu,Tzu-Yang Lin,Tsai-Hao Hung,Ping-Cheng KO. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Post-placement wafer-centering systems for semiconductor processing tools

Номер патента: WO2024112616A1. Автор: Jacob Lee Hiester,Jr. Nick Ray Linebarger. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-05-30.

Method and apparatus for verifying the calibration of semiconductor processing equipment

Номер патента: US5948958A. Автор: Won Bang,Chen-An Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1999-09-07.

Process stop loss reduction system through rapid replacement of apparatus for trapping of reaction by-product for semiconductor process

Номер патента: US20240186154A1. Автор: In Hwan Kim,Sung Won Yoon,Yeon Ju Lee,In Mun Hwang. Владелец: Milaebo Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Process chamber and semiconductor process device

Номер патента: US20230402265A1. Автор: Gang Wei,Yancheng LU,Xingfei MAO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Semiconductor process analysis device, semiconductor process analysis method, and storage medium

Номер патента: US11469122B2. Автор: Yuka SHIBATA,Yukako TANAKA,Sho SAIKI,Kaito DATE. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2022-10-11.

Dispatch method for production line in semiconductor process, storage medium and semiconductor device

Номер патента: US11988969B2. Автор: Chin-Chang Huang. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2024-05-21.

Vacuum pump, vacuum pump set for evacuating a semiconductor processing chamber and method of evacuating a semiconductor processing chamber

Номер патента: EP4088034A1. Автор: Nigel Paul Schofield. Владелец: Edwards Ltd. Дата публикации: 2022-11-16.

Dispatch method for production line in semiconductor process, storage medium and semiconductor device

Номер патента: US20230057823A1. Автор: Chin-Chang Huang. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2023-02-23.

Semiconductor process analysis device, semiconductor process analysis method, and storage medium

Номер патента: US20210143038A1. Автор: Yuka SHIBATA,Yukako TANAKA,Sho SAIKI,Kaito DATE. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2021-05-13.

Compact substrate processing tool with multi-station processing and pre-processing and/or post-processing stations

Номер патента: US09916995B2. Автор: Karl Leeser. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Hexapod-based pedestal systems for use in semiconductor processing operations

Номер патента: WO2023114729A1. Автор: Jacob Lee Hiester,Jason Gordon GALGINAITIS,Richard M BLANK. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2023-06-22.

Material scheduling method and device of semiconductor processing equipment

Номер патента: US20240210926A1. Автор: Lin Cui,Sixue SHI,Muya LIU. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Semiconductor processing device equipped with process chamber

Номер патента: US20180294173A1. Автор: Kee Won Suh. Владелец: ALLIED TECHFINDERS CO Ltd. Дата публикации: 2018-10-11.

Coil structure for generating plasma and semiconductor process device

Номер патента: EP4369870A1. Автор: XING Chen,Ying Zhang,Song WANG,Gang Wei,Jinrong ZHAO,Jinji XU. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-15.

Semiconductor processing tool and methods of operation

Номер патента: US11764094B2. Автор: Sheng-Wen Huang,Yan-Cheng Chen,Kai-Lin Chuang,Jun Xiu Liu,Chung-Pin CHOU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Semiconductor process device, and control method and apparatus for moving component thereof

Номер патента: EP4362072A1. Автор: Jinheng ZHU. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-01.

Wafer chuck apparatus, method for measuring wafer bow value and semiconductor process flow

Номер патента: US20200294828A1. Автор: Cheng-Yen Tsai,Wei-Sheng Chen. Владелец: Powerchip Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2020-09-17.

Semiconductor process device and wafer transmission system thereof

Номер патента: EP4365933A1. Автор: Donghua ZHAO,Yingjun SI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-08.

Semiconductor processing tool and methods of operation

Номер патента: US20230369092A1. Автор: Sheng-Wen Huang,Yan-Cheng Chen,Kai-Lin Chuang,Jun Xiu Liu,Chung-Pin CHOU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Semiconductor processing device and semiconductor processing system

Номер патента: US20240178025A1. Автор: Kyusang Lee,Jinhyuk CHOI,Beomsoo HWANG,Kongwoo Lee,Myungki Song,Hyunwoong Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-30.

Load lock arrangements, semiconductor processing systems having load lock arrangements, and methods of making load locks for semiconductor processing systems

Номер патента: US20240178021A1. Автор: Samer Banna,Mandar Deshpande,Senthil Sivaraman. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-05-30.

System and method for illuminating a semiconductor processing system

Номер патента: EP1277226A1. Автор: Bharath Rangarajan,Bhanwar Singh,Ramkumar Subramanian,Khoi A. Phan,Bryan K. Choo. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2003-01-22.

Semiconductor processing system and vaporizer

Номер патента: US7883076B2. Автор: Tsuneyuki Okabe,Shigeyuki Okura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-02-08.

Pressure controller configuration for semiconductor processing applications

Номер патента: WO2014172142A1. Автор: Jonathan Dinh,Andrew Nguyen,Sergey G. BELOSTOTSKIY,Ying-sheng LIN. Владелец: APPLIED MATERIALS, INC. Дата публикации: 2014-10-23.

Very high resolution spectrometer for monitoring of semiconductor processes

Номер патента: US20240019302A1. Автор: Andrew Weeks Kueny. Владелец: Verity Instruments Inc. Дата публикации: 2024-01-18.

Semiconductor processing chamber adapter

Номер патента: EP4364181A1. Автор: Ryan Pakulski,Son T. Nguyen,Anh N. Nguyen,Anchuan Wang,Zihui Li,Kenneth D. Schatz,Soonwook JUNG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-08.

Multi-channel temperature control system for semiconductor processing facilities

Номер патента: WO2002081983A1. Автор: In-kwon Jeong. Владелец: Oriol, Inc.. Дата публикации: 2002-10-17.

Semiconductor Processing Apparatus

Номер патента: US20220076918A1. Автор: Akira Nishioka,Masashi Fujita,Shuichi Nakagawa,Takaaki Kikuchi,Kenta Nomura,Naoya Ishigaki,Masaki Mizuochi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-03-10.

Substrate transfer module and semiconductor processing system

Номер патента: US20210358782A1. Автор: Zhuo Wang,Jason Lee Tian. Владелец: Piotech Inc. Дата публикации: 2021-11-18.

Ventilated semiconductor processing apparatus

Номер патента: US12014897B2. Автор: Akira Nishioka,Masashi Fujita,Shuichi Nakagawa,Takaaki Kikuchi,Kenta Nomura,Naoya Ishigaki,Masaki Mizuochi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-18.

Control system employing fiber optic communication link for semiconductor processing apparatus

Номер патента: US6138054A. Автор: Ching Tu On. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2000-10-24.

Anodization for metal matrix composite semiconductor processing chamber components

Номер патента: US20230343627A1. Автор: Debanjan DAS,Darrell EHRLICH,Eric SAMULON. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-10-26.

A semiconductor processing system with lamp cooling

Номер патента: WO2001099157A1. Автор: Joseph M. Ranish,Andreas G. Hegedus. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2001-12-27.

Electrostatic chuck and semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20230260817A1. Автор: Jian Liu. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Semiconductor process device

Номер патента: US20240047247A1. Автор: Ilwoo KIM,Sungho Jang,Sangki NAM,Yoonjae Kim,Daewon KANG,Changsoon LIM,Chansoo KANG,Jonghun PI,Jungmo YANG,Youngil KANG,Jongmu KIM,Yongbeom Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-08.

Method and system for improving the operation of semiconductor processing

Номер патента: US11856706B2. Автор: Siamak Salimian,Tom K. Cho,Yao-Hung Yang,Chun-Chung Chen,Chien-Min Liao,Hsui YANG,Jeevan SHANBHAG,Earl HUNTER,David GANON,Mariana LUIGI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-26.

Semiconductor processing apparatus for generating plasma

Номер патента: US20240014016A1. Автор: Cheng-Yi Huang,Chih-shen Yang,Chien-Hsiang Chen,Yen-Ji Chen,Ching-Horng CHEN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Anti freeze valve apparatus and semiconductor processing device including the same and manufacturing method thereof

Номер патента: US20230136985A1. Автор: Ki Bong Kim,Jin Se PARK,Myung Seok Cha. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-04.

Patterned wafer geometry measurements for semiconductor process controls

Номер патента: EP3117454A1. Автор: Jaydeep Sinha,Pradeep Vukkadala. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2017-01-18.

Patterned wafer geometry measurements for semiconductor process controls

Номер патента: WO2015199801A1. Автор: Jaydeep Sinha,Pradeep Vukkadala. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2015-12-30.

Dew point sensing in semiconductor processing system load locks

Номер патента: US20230194392A1. Автор: Andrew Rosser,Frank A. Pugliese, JR.. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-06-22.

Apparatus for aligning an optical device an object, an optical instrument and a semiconductor process system

Номер патента: US20100223767A1. Автор: Job Vianen,Jozef P.W. Stokkermans. Владелец: NXP BV. Дата публикации: 2010-09-09.

Processing station for planar substrates and method for processing planar substrates

Номер патента: US09484234B2. Автор: Michael Reichenbach,Markus Bau. Владелец: Jrt Photovoltaics & Co KG GmbH. Дата публикации: 2016-11-01.

Apparatus, system, and method for impedance adjustment of processing station

Номер патента: US20210398779A1. Автор: Zhen Liu,Junichi Arami,Si Shen,Yaxin Zhang,Giyoul Kim,Yinghao Lin. Владелец: Piotech Inc. Дата публикации: 2021-12-23.

Device and method for moving an object into a processing station, conveying system and processing apparatus

Номер патента: WO2020260389A1. Автор: Rüdiger PRETSCHER. Владелец: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH. Дата публикации: 2020-12-30.

Device and method for moving an object into a processing station, conveying system and processing apparatus

Номер патента: EP3758049A1. Автор: Rüdiger PRETSCHER. Владелец: Atotech Deutschland GmbH and Co KG. Дата публикации: 2020-12-30.

Device and method for moving an object into a processing station, conveying system and processing apparatus

Номер патента: US20220336243A1. Автор: Rüdiger PRETSCHER. Владелец: Atotech Deutschland GmbH and Co KG. Дата публикации: 2022-10-20.

Catalyst and formulations comprising same for alkoxysilanes hydrolysis reaction in semiconductor process

Номер патента: US20130180215A1. Автор: XINJIAN LEI,Ronald Martin Pearlstein,Manchao Xiao,Daniel P. Spence,Richard Ho,Steven Gerard Mayorga. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 2013-07-18.

Semiconductor processing equipment having tiled ceramic liner

Номер патента: EP1138055A1. Автор: William S. Kennedy,Robert A. Maraschin,Jerome S. Hubacek. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2001-10-04.

Catalyst and formulations comprising same for alkoxysilanes hydrolysis reaction in semiconductor process

Номер патента: US09809711B2. Автор: XINJIAN LEI,Ronald Martin Pearlstein,Manchao Xiao,Daniel P. Spence,Richard Ho,Steven Gerard Mayorga. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2017-11-07.

Process and related device for removing by-product on semiconductor processing chamber sidewalls

Номер патента: US12027350B2. Автор: Chang-Ming Wu,Lee-Chuan Tseng,Jing-Cheng Liao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

Flowable carbon for semiconductor processing

Номер патента: US09514932B2. Автор: Abhijit Basu Mallick,Nitin K. Ingle. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-12-06.

RPS assisted RF plasma source for semiconductor processing

Номер патента: US09741545B2. Автор: Jang-Gyoo Yang,Xinglong Chen,Saurabh Garg. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

RPS assisted RF plasma source for semiconductor processing

Номер патента: US09502218B2. Автор: Jang-Gyoo Yang,Xinglong Chen,Saurabh Garg. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-11-22.

Radiation Control in Semiconductor Processing

Номер патента: US20220415721A1. Автор: Chung-Yi Su,Ming-Feng Lee,Yu-Chun TAI,Ta-Ching Yang,Ping-Cheng LU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-12-29.

Atomic layer deposition of protective coatings for semiconductor process chamber components

Номер патента: US12104246B2. Автор: Jennifer Y. Sun,David Fenwick. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-01.

Method for repairing heaters and chucks used in semiconductor processing

Номер патента: US09999947B2. Автор: Michael Parker,Frank Balma,Alexander Veytser,Brent Elliot,Jeff Cunha. Владелец: Component Re Engineering Co Inc. Дата публикации: 2018-06-19.

Process for vertically patterning substrates in semiconductor process technology by means of inconformal deposition

Номер патента: TW200403724A. Автор: Thomas Hecht,Uwe Schroeder,Matthias Goldbach. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2004-03-01.

Process for vertically patterning substrates in semiconductor process technology by means of inconformal deposition

Номер патента: TWI236706B. Автор: Thomas Hecht,Uwe Schroeder,Matthias Goldbach. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2005-07-21.

Process gas delivery for semiconductor process chamber

Номер патента: WO2010022215A2. Автор: Anh N. Nguyen,Kedarnath Sangam. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2010-02-25.

Via deposition process on substrate and semiconductor processing apparatus

Номер патента: SG11201607490RA. Автор: Guodong Bian. Владелец: Beijing NMC Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-28.

Monopole antenna array source for semiconductor process equipment

Номер патента: US20180342373A1. Автор: Qiwei Liang,Srinivas D. Nemani. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-11-29.

Semiconductor processing using vapor mixtures

Номер патента: US6319841B1. Автор: Eric J. Bergman,Robert W. Berner,David Oberlitner. Владелец: Semitool Inc. Дата публикации: 2001-11-20.

The fabricating method of single electron transistor (set) by employing nano-lithographical technology in the semiconductor process

Номер патента: WO2007079174A3. Автор: Ming-Nung Lin. Владелец: Ming-Nung Lin. Дата публикации: 2007-12-06.

The fabricating method of single electron transistor (set) by employing nano-lithographical technology in the semiconductor process

Номер патента: EP1972016A2. Автор: Ming-Nung Lin. Владелец: Chen Chung-Chin. Дата публикации: 2008-09-24.

The fabricating method of single electron transistor (set) by employing nano-lithographical technology in the semiconductor process

Номер патента: WO2007079174A2. Автор: Ming-Nung Lin. Владелец: Chen, Chung, Chin. Дата публикации: 2007-07-12.

Film formation method and apparatus for semiconductor process

Номер патента: TW200907093A. Автор: Mitsuhiro Okada,Kazumi Kubo. Владелец: Tokyo Electron Co Ltd. Дата публикации: 2009-02-16.

Semiconductor processing equipment having tiled ceramic liner

Номер патента: AU7477900A. Автор: William S. Kennedy,Robert A. Maraschin,Jerome S. Hubacek. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2001-04-24.

Ion source cleaning in semiconductor processing systems

Номер патента: US09991095B2. Автор: LIN Feng,Ying Tang,David Eldridge,W. Karl Olander,Robert Kaim,Steven E. Bishop,Oleg Byl,Joseph D. Sweeney,Sharad N. Yedave. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2018-06-05.

Film formation method and apparatus for semiconductor process

Номер патента: US09580802B2. Автор: Hitoshi Kato,Kohichi Orito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Apparatus and methods for reducing particles in semiconductor process chambers

Номер патента: US09761416B2. Автор: ANAND Kumar,Shahid Rauf,Michael D. Willwerth,Kenneth S. Collins,Andrew Nguyen,Ajit Balakrishna,Tom K. Cho,Yogananda SARODE VISHWANATH,Bradley Howard. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-09-12.

System And Method For Reduced Workpiece Adhesion Due To Electrostatic Charge During Removal From A Processing Station

Номер патента: US20190057835A1. Автор: David E. Suuronen,Julian G. Blake,Michael W. Osborne,Eric D. Wilson. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2019-02-21.

Semiconductor process

Номер патента: US20150132867A1. Автор: Chun-Chieh Lin,Yu-Pin Tsai,Yu-Cheng Tsao,Cheng-Hung Wang,Hsiu-Hsiung YANG. Владелец: Advanced Semiconductor Engineering Inc. Дата публикации: 2015-05-14.

Semiconductor process

Номер патента: US09564376B2. Автор: Chun-Chieh Lin,Yu-Pin Tsai,Yu-Cheng Tsao,Cheng-Hung Wang,Hsiu-Hsiung YANG. Владелец: Advanced Semiconductor Engineering Inc. Дата публикации: 2017-02-07.

Thread profiles for semiconductor process chamber components

Номер патента: US12068137B2. Автор: Timothy Joseph Franklin,Carlaton WONG,Reyn Tetsuro Wakabayashi. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-20.

Semiconductor processing boat design with pressure sensor

Номер патента: US09911633B2. Автор: Chung-Shi Liu,Hsiu-Jen Lin,Ming-Da Cheng,Wei-Hung Lin,Ai-Tee Ang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-03-06.

Semiconductor processing boat design with pressure sensor

Номер патента: US09427818B2. Автор: Chung-Shi Liu,Hsiu-Jen Lin,Ming-Da Cheng,Wei-Hung Lin,Ai-Tee Ang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-08-30.

Semiconductor processing method

Номер патента: US20180233455A1. Автор: Yi Xin CHEW. Владелец: PEP INNOVATION PTE LTD. Дата публикации: 2018-08-16.

Hydrosilylation in semiconductor processing

Номер патента: WO2019125852A9. Автор: Gurtej S. Sandhu,Matthew S. Thorum. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2019-09-06.

Method and apparatus for minimizing contamination in semiconductor processing chamber

Номер патента: WO2010090781A2. Автор: Eric Shero,Joseph C. Reed. Владелец: ASM AMERICA, INC.. Дата публикации: 2010-08-12.

Method and system for compensating manufacturing error in semiconductor process

Номер патента: US20240332094A1. Автор: Wen-Shian Chen. Владелец: Prosemi Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Optical absorption sensor for semiconductor processing

Номер патента: US11848178B2. Автор: Diwakar Kedlaya,Fang RUAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-19.

Optical absorption sensor for semiconductor processing

Номер патента: US20240079220A1. Автор: Diwakar Kedlaya,Fang RUAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

On-site generation of ultra-high-purity buffered-HF for semiconductor processing

Номер патента: US5722442A. Автор: Joe G. Hoffman,R. Scot Clark. Владелец: Startec Ventures Inc. Дата публикации: 1998-03-03.

Process module, semiconductor processing system, and method for processing semiconductor substrates

Номер патента: TW202203352A. Автор: 森幸博. Владелец: 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司. Дата публикации: 2022-01-16.

Method of installing elastomer ring in semiconductor processing equipment and guiding sheet and jig used in installing elastomer ring

Номер патента: SG10201509974QA. Автор: Huang Chun-Yao,Chang Yo-Yu. Владелец: Mfc Sealing Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-07-28.

Semiconductor processing furnace

Номер патента: TW377456B. Автор: Paul R Mchugh,John Z Smith,Robert A Weaver,Martin R Jones. Владелец: Semitool Inc. Дата публикации: 1999-12-21.

Semiconductor processing apparatus with improved thermal characteristics and method for providing the same

Номер патента: TW201003749A. Автор: Ridder Christianus Gerardus Maria De. Владелец: Asm Int. Дата публикации: 2010-01-16.

Base bias adjustment apparatus and method, and semiconductor process device

Номер патента: US20240282553A1. Автор: Chao Zhang. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Direct-pick robot for multi station semiconductor processing chambers

Номер патента: EP4441779A1. Автор: Izya Kremerman,Richard M. Blank. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-09.

Rf current measurement in semiconductor processing tool

Номер патента: US20240347400A1. Автор: Sunil Kapoor,Thomas Lee FREDERICK. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-17.

Semiconductor processing apparatus and method

Номер патента: US20220208590A1. Автор: Zhuo Wang,Saiqian Zhang. Владелец: Piotech Inc. Дата публикации: 2022-06-30.

Method and apparatus for alignment of carriers and semiconductor processing equipment

Номер патента: WO2002025707A3. Автор: Alan Rick Lappen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-06-06.

Interposer, semiconductor package structure, and semiconductor process

Номер патента: US20180076122A1. Автор: Min Lung Huang,Wen-Long Lu. Владелец: Advanced Semiconductor Engineering Inc. Дата публикации: 2018-03-15.

Laminated top plate of a workpiece carrier in micromechanical and semiconductor processing

Номер патента: WO2018017183A1. Автор: Kadthala R. Narendrnath. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-01-25.

Semiconductor processing device

Номер патента: IE20190077U1. Автор: Huang Chun-Yao,Chang Yo-Yu. Владелец: MFC Sealing Tech Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-24.

Combiner and distributor for adjusting impedances or power across multiple plasma processing stations

Номер патента: US12143087B2. Автор: George Thomas,Edward Augustyniak,Sunil Kapoor,Yaswanth Rangineni. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-11-12.

Process chamber purge module for semiconductor processing equipment

Номер патента: US5405444A. Автор: Mehrdad M. Moslehi. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1995-04-11.

Uv-activated red ceramic bodies comprising yag for use in semiconductor processing chambers

Номер патента: EP4399191A1. Автор: Luke Walker,Matthew Joseph DONELON,Steven Roger Kennedy. Владелец: Heraeus Conamic North America Llc. Дата публикации: 2024-07-17.

Cyclic etch-ash process for semiconductor processing

Номер патента: US20240274432A1. Автор: Michael O'Toole,Gregory McKee,Gordon Nielsen,Aravindsekar Pandiasekar. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2024-08-15.

Methods and devices of correcting layout for semiconductor processes using machine learning

Номер патента: US12086526B2. Автор: Sooyong Lee,Seunghune YANG,Jeeyong Lee,Hyeyoung Ji. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-10.

Chamber liner for semiconductor process chambers

Номер патента: EP1125317A2. Автор: Michael Barnes,Alan M. Schoepp,William M. Denty, Jr.. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2001-08-22.

Semiconductor process

Номер патента: US09543195B1. Автор: Bin-Siang Tsai,Wei-Hsin Liu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Semiconductor process

Номер патента: US09449829B1. Автор: Yu-Ren Wang,Chien-Liang Lin,Yu-Tung Hsiao. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2016-09-20.

Semiconductor process

Номер патента: US20160379864A1. Автор: Bin-Siang Tsai,Wei-Hsin Liu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2016-12-29.

Methods for semiconductor process chamber

Номер патента: WO2024163137A1. Автор: Qi Wang,Akiteru Ko,Sergey Voronin,Hamed Hajibabaeinajafabadi. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2024-08-08.

Semiconductor process evaluation methods including variable ion implanting conditions

Номер патента: US7781234B2. Автор: Sang-rok Hah,Sun-Yong Lee,Min-Suk Kim,Chee-Wan Kim,Seung-Chul Kim,Chan-seung Choi,Won-bae Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-08-24.

Semiconductor process evaluation methods including variable ion implanting conditions

Номер патента: US7972874B2. Автор: Sang-rok Hah,Sun-Yong Lee,Min-Suk Kim,Chee-Wan Kim,Seung-Chul Kim,Chan-seung Choi,Won-bae Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2011-07-05.

Semiconductor process evaluation methods including variable ion implanting conditions

Номер патента: US20100279442A1. Автор: Sang-rok Hah,Sun-Yong Lee,Min-Suk Kim,Chee-Wan Kim,Seung-Chul Kim,Chan-seung Choi,Won-bae Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-11-04.

Methods for Semiconductor Process Chamber

Номер патента: US20240266149A1. Автор: Qi Wang,Akiteru Ko,Sergey Voronin,Hamed Hajibabaeinajafabadi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Semiconductor process of forming metal gates with different threshold voltages and semiconductor structure thereof

Номер патента: US09659937B2. Автор: Chi-Mao Hsu,Ching-Yun Chang,Kuo-Chih Lai,Nien-Ting Ho,Wei-Ming Hsiao. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-05-23.

Focus ring for a plasma-based semiconductor processing tool

Номер патента: US20230386799A1. Автор: Jr-Sheng Chen,Sheng-Chieh Huang,Chih-Hsien Hsu,Chung-Hsiu Cheng,Chun Yan Chen,Chang Kuang TSO,Chou Feng LEE,Chin-Tai HUNG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Semiconductor process

Номер патента: US20140256115A1. Автор: Chih-Chien Liu,Chia-Lung Chang,Jui-Min Lee,Yuh-Min Lin,Jei-Ming Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2014-09-11.

Semiconductor package structure and semiconductor process

Номер патента: US09978715B2. Автор: Chun-Hung Lin,Yi-Ting Chen,Wen-Hsin Lin,Shih-Ming Huang,Yung-Hsing Chang,Shih-Wei CHAN. Владелец: Advanced Semiconductor Engineering Inc. Дата публикации: 2018-05-22.

Semiconductor processing chamber

Номер патента: US20240266150A1. Автор: Yan Li,Xingfei MAO,Shixuan GUO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Semiconductor process

Номер патента: US20130052825A1. Автор: Chia-Lin Hsu,Teng-Chun Tsai,Chun-Wei Hsu,Yen-Ming Chen,Po-Cheng Huang,Chih-Hsun Lin,Chang-Hung Kung. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2013-02-28.

Semiconductor process for forming gates with different pitches and different dimensions

Номер патента: US09525041B2. Автор: Yu-Cheng Tung,En-Chiuan Liou. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2016-12-20.

Semiconductor process

Номер патента: US09685316B2. Автор: Chun-Ling Lin,Chi-Mao Hsu,Chia Chang Hsu,Pin-Hong Chen,Bor-Shyang LIAO,Shu Min Huang,Kuo-Chih Lai,Min-Chung Cheng. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-06-20.

Part maintenance device of semiconductor processing system and method for operating the same

Номер патента: US20020000677A1. Автор: Kazushi Tahara,Akira Obi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2002-01-03.

Semiconductor process

Номер патента: US20130203230A1. Автор: Ying-Tsung Chen,Chih-Wei Chen,Chien-Ting Lin,Ssu-I Fu,Kai-Ping Wang,Shih-Hung Tsai,Wen-Tai Chiang,Shao-Wei Wang,Chiu-Hsien Yeh. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2013-08-08.

Semiconductor process

Номер патента: US09871113B2. Автор: Chun-Wei Yu,Chueh-Yang Liu,Yu-Ren Wang,Kuang-Hsiu Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2018-01-16.

Semiconductor processing methods of forming a plurality of capacitors on a substrate, bit line contacts and method of forming bit line contacts

Номер патента: US20030064557A1. Автор: Werner Juengling. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-04-03.

Semiconductor processing methods of forming a plurality of capacitors on a substrate, bit line contacts and method of forming bit line contacts

Номер патента: US6593203B2. Автор: Werner Juengling. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2003-07-15.

Semiconductor process

Номер патента: US20160042957A1. Автор: Zhen Chen,Yuan-Hsiang Chang,Yi-Shan Chiu,Wei-Chang Liu,Wei Ta. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2016-02-11.

Semiconductor process

Номер патента: US09362125B2. Автор: Zhen Chen,Yuan-Hsiang Chang,Yi-Shan Chiu,Wei-Chang Liu,Wei Ta. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2016-06-07.

Semiconductor processing methods of forming a plurality of capacitors on a substrate, bit line contacts and method of forming bit line contacts

Номер патента: US20020115261A1. Автор: Werner Juengling. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-08-22.

Semiconductor process and semiconductor device

Номер патента: US09755047B2. Автор: Chi-Mao Hsu,Chia-Chang Hsu,Chun-Chieh Chiu,Hsin-Fu Huang,Li-Han Chen,Pin-Hong Chen,Kuo-Chih Lai,Wei-Chuan Tsai,Min-Chuan Tsai,Kuo-Chin Hung. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-09-05.

Semiconductor process

Номер патента: US20140349467A1. Автор: Chun-Yuan Wu,Chin-Cheng Chien,Tien-Wei YU,Szu-Hao Lai,Ming-Hua Chang,Yu-Shu Lin. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2014-11-27.

Semiconductor process for modifying shape of recess

Номер патента: US20150263170A1. Автор: Chun-Yuan Wu,Chin-Cheng Chien,Tien-Wei YU,Szu-Hao Lai,Ming-Hua Chang,Yu-Shu Lin. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2015-09-17.

Semiconductor process for treating metal gate

Номер патента: US09613826B2. Автор: Cheng-Chi Tai,Chung-Che Huang,Chun-Ju Tao. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-04-04.

Semiconductor process

Номер патента: US09443726B1. Автор: Jen-Chieh Lin,Wen-Chin Lin,Tzu-Hsiang Hung,Po-Cheng Huang,Yu-Ting Li,Chun-Tsen Lu,Kun-Ju Li,Chih-Hsun Lin,Wu-Sian Sie,I-Lun Hung. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2016-09-13.

Semiconductor process

Номер патента: US20140242770A1. Автор: Shih-Chang Chang,Po-Jui Liao,Jie-Ning Yang,Yao-Chang Wang,Chi-Sheng Tseng,Kuang-Hung Huang. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2014-08-28.

Systems and methods of local focus error compensation for semiconductor processes

Номер патента: US20150187663A1. Автор: Chih-Ming Chen,Chia-Chen Chen,Chia-Hao Hsu,Chia-Ching HUANG,Pei-Cheng Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-07-02.

Semiconductor processing method using photoresist and an antireflective coating

Номер патента: US20030153190A1. Автор: John Moore,Terry Gilton,Kristy Campbell,Steve Bowes,Joseph Brooks. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-08-14.

Semiconductor processing method of making electrical contact to a node received within a mass of insulating dielectric material

Номер патента: US6037261A. Автор: Mark E. Jost,Phillip G. Wald. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-03-14.

Semiconductor processing chamber

Номер патента: US12080524B2. Автор: Yan Li,Xingfei MAO,Shixuan GUO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Semiconductor process

Номер патента: US09985110B2. Автор: Chi-Mao Hsu,Chia-Chang Hsu,Chun-Chieh Chiu,Hsin-Fu Huang,Li-Han Chen,Pin-Hong Chen,Kuo-Chih Lai,Wei-Chuan Tsai,Min-Chuan Tsai,Kuo-Chin Hung. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2018-05-29.

Systems and methods of local focus error compensation for semiconductor processes

Номер патента: US09735065B2. Автор: Chih-Ming Chen,Chia-Chen Chen,Chia-Hao Hsu,Chia-Ching HUANG,Pei-Cheng Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-08-15.

Method for removing particles from a semiconductor processing tool

Номер патента: US20040079385A1. Автор: Scott Kellogg,Michael Montgomery,Iraj Shahvandi,Larry Frisa,Grant McEwan. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-04-29.

Semiconductor processing tool cleaning

Номер патента: US20240177977A1. Автор: Gregory McKee,David Claar. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2024-05-30.

Semiconductor processing method of forming a conductive gate line and semiconductor processing method of making ohmic contact between a transistor gate line and a substrate diffusion region

Номер патента: US6066549A. Автор: Monte Manning. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-05-23.

Semiconductor processing methods of forming transistors, semiconductor processing methods of forming dynamic random access memory circuitry, and related integrated circuitry

Номер патента: US20020072199A1. Автор: Luan Tran. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-06-13.

Semiconductor processing method and semiconductor structure

Номер патента: US8772163B2. Автор: Terrence B. Mcdaniel,Dennis J. Pretti. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2014-07-08.

Semiconductor process having dielectric layer including metal oxide and mos transistor process

Номер патента: US20120231600A1. Автор: Chan-Lon Yang,Shih-Fang Tzou,Chen-Kuo Chiang. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2012-09-13.

Semiconductor process

Номер патента: US20130288448A1. Автор: Chia-Lin Hsu,Chien-Hao Chen,Yung-Lun Hsieh,Bo-Syuan Lee,Chin-I Liao,Min-Chung Cheng. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-10-31.

Semiconductor processing method and semiconductor structure

Номер патента: US20130320502A1. Автор: Terrence B. Mcdaniel,Dennis J. Pretti. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2013-12-05.

Coil device for generating plasma and semiconductor processing apparatus

Номер патента: EP4369360A1. Автор: Xingfei MAO,Jinji XU. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-15.

Method for h2 recycling in semiconductor processing system

Номер патента: WO2002081788A9. Автор: Woo Sik Yoo. Владелец: WaferMasters Inc. Дата публикации: 2003-02-20.

Liquid filter apparatus for gas/solid separation for semiconductor processes

Номер патента: US11786858B2. Автор: Imad Mahawili. Владелец: Edwards Vacuum LLC. Дата публикации: 2023-10-17.

Liquid filter apparatus for gas/solid separation for semiconductor processes

Номер патента: EP3991210A1. Автор: Imad Mahawili. Владелец: Qolibri Inc. Дата публикации: 2022-05-04.

Method to cure mobile ion contamination in semiconductor processing

Номер патента: US6114222A. Автор: Randhir P. S. Thakur. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-09-05.

Semiconductor processing method of forming field oxide regions on a semiconductor substrate

Номер патента: US5909629A. Автор: Monte Manning. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1999-06-01.

Method and structure for manufacturing contact windows in semiconductor process

Номер патента: US6153900A. Автор: Da-Zen Chuang,Julian Y. Chang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2000-11-28.

Semiconductor processing method for providing large grain polysilicon films

Номер патента: US6048781A. Автор: Monte Manning,Charles L. Turner. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-04-11.

Semiconductor processing methods of forming field oxidation regions on a semiconductor substrate

Номер патента: US5670412A. Автор: Werner Juengling. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1997-09-23.

Semiconductor processing methods and integrated circuitry

Номер патента: US6277737B1. Автор: Gurtej S. Sandhu,Ravi Iyer. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-08-21.

Semiconductor processing method of providing electrical isolation between adjacent semiconductor diffusion regions of different field effect transistors and integrated circuitry having adjacent electrically isolated field effect transistors

Номер патента: US5895243A. Автор: Trung Tri Doan,Charles H. Dennison. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1999-04-20.

Semiconductor processing system with ultra low-k dielectric

Номер патента: SG144033A1. Автор: HSIA Liang Choo,ZHANG Bei Chao,Yasri Yudhistira,Johnny Widodo. Владелец: Chartered Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2008-07-29.

Semiconductor process chamber

Номер патента: EP4280253A1. Автор: Yan Li,Xingfei MAO,Shixuan GUO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-22.

Semiconductor processing method of forming a conductive line, and buried bit line memory circuitry

Номер патента: US20010021579A1. Автор: Scott DeBoer,Pai-Hung Pan,Yongjun Hu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-09-13.

Semiconductor process

Номер патента: US20150126015A1. Автор: Chieh-Te Chen,Li-Chiang Chen,Yi-Po Lin,Jiunn-Hsiung Liao,Shui-Yen Lu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2015-05-07.

Semiconductor process

Номер патента: US20120309192A1. Автор: Yi-Nan Chen,Hsien-Wen Liu,Wen-Chieh Wang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2012-12-06.

Semiconductor process for improving loading effect in planarization

Номер патента: US20190157097A1. Автор: Feng-Yi Chang,Fu-Che Lee. Владелец: Fujian Jinhua Integrated Circuit Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-23.

Semiconductor processing method of providing a doped polysilicon layer

Номер патента: US5869389A. Автор: Randhir P. S. Thakur,Er-Xang Ping. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1999-02-09.

Semiconductor process

Номер патента: US20130295735A1. Автор: Shui-Yen Lu,Tzung-I Tsai. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-11-07.

Modular input/output bridge system for semiconductor processing equipment

Номер патента: WO2010129894A3. Автор: Ronald V. Schauer. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2011-02-17.

Modular input/output bridge system for semiconductor processing equipment

Номер патента: WO2010129894A2. Автор: Ronald V. Schauer. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2010-11-11.

Semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20240038493A1. Автор: Hyuk Kim,Edward Sung,Yonghwan Kim,Sangwuk PARK,Chanhoon Park,Junho Yoon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-01.

Photo-mask and semiconductor process

Номер патента: US11662658B2. Автор: You-Ming KE. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2023-05-30.

Semiconductor process

Номер патента: US20130078818A1. Автор: Chun-Hsien Lin,Shih-Hung Tsai,Yu-Ren Wang,Shao-Wei Wang,Chien-Liang Lin,Ying-Wei Yen,Te-Lin Sun. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2013-03-28.

Semiconductor process

Номер патента: US20110195571A1. Автор: An-Chi Liu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2011-08-11.

Semiconductor processing method of providing an electrically conductive interconnecting plug between an elevationally inner electrically conductive node and an elevationally outer electrically conductive node

Номер патента: US5817573A. Автор: Howard E. Rhodes,Rod C. Langley,Timothy P. O'Brien. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1998-10-06.

Semiconductor processing methods of forming integrated circuitry

Номер патента: US7045405B2. Автор: Luan C. Tran. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2006-05-16.

Semiconductor processing method using photoresist and an antireflective coating

Номер патента: US20040102046A1. Автор: John Moore,Terry Gilton,Kristy Campbell,Steve Bowes,Joseph Brooks. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-05-27.

Automatic sampling of hot phosphoric acid for the determination of chemical element concentrations and control of semiconductor processes

Номер патента: US20230395384A1. Автор: Jae Seok Lee,Daniel R. Wiederin,Patrick Sullivan,Kyle W. Uhlmeyer. Владелец: Elemental Scientific Inc. Дата публикации: 2023-12-07.

Semiconductor processing methods of forming and utilizing antireflective material layers, and methods of forming transistor gate stacks

Номер патента: WO2000014781A1. Автор: Sujit Sharan,Gurtej S. Sandhu. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2000-03-16.

Semiconductor process

Номер патента: US20150249008A1. Автор: Chih-Chun Wang,Chun-Feng Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2015-09-03.

Semiconductor process

Номер патента: US20170323950A1. Автор: Chi-Mao Hsu,Chia-Chang Hsu,Chun-Chieh Chiu,Hsin-Fu Huang,Li-Han Chen,Pin-Hong Chen,Kuo-Chih Lai,Wei-Chuan Tsai,Min-Chuan Tsai,Kuo-Chin Hung. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-11-09.

Systems and methods of local focus error compensation for semiconductor processes

Номер патента: US20140127836A1. Автор: Chih-Ming Chen,Chia-Chen Chen,Chia-Hao Hsu,Chia-Ching HUANG,Pei-Cheng Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2014-05-08.

Titanium carboxylate films for use in semiconductor processing

Номер патента: WO2004077530A3. Автор: Xin Zhang,Seigi Suh,Paul J Roman Jr,Ross H Hill. Владелец: Ross H Hill. Дата публикации: 2005-02-03.

Gas distribution apparatus for semiconductor processing

Номер патента: WO2001003159A9. Автор: Rajinder Dhindsa,Eric Lenz,Fangli Hao. Владелец: Fangli Hao. Дата публикации: 2002-05-02.

Gas distribution apparatus for semiconductor processing

Номер патента: EP1200981A1. Автор: Rajinder Dhindsa,Eric Lenz,Fangli Hao. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2002-05-02.

Semiconductor processing chambers and methods for cleaning the same

Номер патента: US20240247371A1. Автор: Tuan A. Nguyen,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Amit Bansal,Nitin Pathak,Yuxing Zhang,Kalyanjit GHOSH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Film for back surface of flip-chip semiconductor, dicing-tape-integrated film for back surface of semiconductor, process for producing semiconductor device, and flip-chip semiconductor device

Номер патента: TW201203425A. Автор: Naohide Takamoto,Goji Shiga. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2012-01-16.

Methods for shaping magnetic fields during semiconductor processing

Номер патента: US20220380888A1. Автор: Wei Lei,Prashanth Kothnur,Goichi Yoshidome,Andrew Tomko,Fuhong Zhang,Martin Lee Riker,Shirish A. PETHE,Kishor Kumar KALATHIPARAMBIL,Suhas Bangalore Umesh,Sushil Arun Samant. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-12-01.

Semiconductor processing tool and methods of operation

Номер патента: US12087563B2. Автор: Yen-Liang Lin,Yu-Kang Huang,Yu-Chuan TAI. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Semiconductor processing tool and methods of operation

Номер патента: US20240347327A1. Автор: Yen-Liang Lin,Yu-Kang Huang,Yu-Chuan TAI. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Sputter source for use in a semiconductor process chamber

Номер патента: US09580795B2. Автор: Keith A. Miller,Martin Lee Riker. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-02-28.

Ex situ coating of chamber components for semiconductor processing

Номер патента: US20220275504A1. Автор: Tony Kaushal,Gang Liu,Leonard Wai Fung Kho,Bo Gong,Huatan Qiu,Geoffrey Hohn,Anand Chandrashekar,William SCHLOSSER,Rohit Khare,Thadeous BAMFORD,Guangbi Yuan,Fengyuan Lai,Andrew H. Breninger,Krishna BIRRU,Chen-Hua Hsu,Damodar Rajaram Shanbhag,Curtis Warren Bailey. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2022-09-01.

Ex situ coating of chamber components for semiconductor processing

Номер патента: US20230002891A1. Автор: Tony Kaushal,Gang Liu,Leonard Wai Fung Kho,Bo Gong,Huatan Qiu,Geoffrey Hohn,Anand Chandrashekar,William SCHLOSSER,Rohit Khare,Thadeous BAMFORD,Guangbi Yuan,Fengyuan Lai,Andrew H. Breninger,Krishna BIRRU,Chen-Hua Hsu,Damodar Rajaram Shanbhag,Curtis Warren Bailey. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-01-05.

Ex situ coating of chamber components for semiconductor processing

Номер патента: US20200347497A1. Автор: Tony Kaushal,Gang Liu,Leonard Wai Fung Kho,Bo Gong,Huatan Qiu,Geoffrey Hohn,Anand Chandrashekar,William SCHLOSSER,Rohit Khare,Thadeous BAMFORD,Guangbi Yuan,Fengyuan Lai,Andrew H. Breninger,Krishna BIRRU,Chen-Hua Hsu,Curtis Warren Bailey,Damodar Shanbhag. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2020-11-05.

Ex situ coating of chamber components for semiconductor processing

Номер патента: WO2019118248A1. Автор: Tony Kaushal,Gang Liu,Leonard Wai Fung Kho,Bo Gong,Huatan Qiu,Geoffrey Hohn,Anand Chandrashekar,William SCHLOSSER,Rohit Khare,Thadeous BAMFORD,Guangbi Yuan,Fengyuan Lai,Andrew H. Breninger,Krishna BIRRU,Chen-Hua Hsu,Curtis Warren Bailey,Damodar Shanbhag. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2019-06-20.

The laminate for semiconductor processing, the adhesive tape for semiconductor processing, and the manufacturing method of a semiconductor device

Номер патента: KR20220092814A. Автор: 사토시 하야시,마코토 히시다. Владелец: 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤. Дата публикации: 2022-07-04.

Gas distribution apparatus for semiconductor processing

Номер патента: TW460915B. Автор: Rajinder Dhindsa,Eric Lenz,Fangli Hao. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2001-10-21.

Apparatus for generating magnetic fields on substrates during semiconductor processing

Номер патента: WO2023069158A1. Автор: Goichi Yoshidome,Kishor Kumar KALATHIPARAMBIL,Suhas Bangalore Umesh. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-04-27.

Electrostatic chuck mechanism and semiconductor processing device

Номер патента: SG11201805094RA. Автор: Haiying Liu,Yulin Peng. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2018-07-30.

Carrier substrate for semiconductor processing

Номер патента: EP3479396A1. Автор: Sumalee Likitvanichkul Fagan,Weiguo Miao,Eric James NICHOLS. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2019-05-08.

Cooled deposition baffle in high density plasma semiconductor processing

Номер патента: TWI305549B. Автор: Jozef Brcka,Mark Kleshock,Tim Provencher. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-01-21.

Cooled deposition baffle in high density plasma semiconductor processing

Номер патента: WO2004064113A2. Автор: Jozef Brcka,Tim Provencher,Mark Kieshock. Владелец: Tokyo Electron Arizona, Inc.. Дата публикации: 2004-07-29.

Cooled deposition baffle in high density plasma semiconductor processing

Номер патента: WO2004064113A3. Автор: Jozef Brcka,Tim Provencher,Mark Kieshock. Владелец: Mark Kieshock. Дата публикации: 2005-02-10.

Training method for semiconductor process prediction model, semiconductor process prediction device, and semiconductor process prediction method

Номер патента: US20230236553A1. Автор: Ming-Wei Chen,Chia-Wei Chen,Ching-Pei Lin,Chung-Yi Chiu,Hsiao-Ying Yang,Te-Hsuan Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2023-07-27.

Semiconductor processing device, semiconductor processing system and semiconductor processing management method

Номер патента: US20030157736A1. Автор: Hiroshi Matsushita. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2003-08-21.

Method, apparatus, and system for establishing a virtual tether between a mobile device and a semiconductor processing tool

Номер патента: US09736135B2. Автор: Vincent Wong,Chung Ho Huang,Paul Ballintine,Henry T. Chan,Chris Thorgrimsson,Chad Weetman. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-08-15.

Method for improved semiconductor processing equipment tool pedestal/pad vibration isolation and reduction

Номер патента: WO2018184033A1. Автор: Suk K. Kim-Whitty. Владелец: SK COMMERCIAL CONSTRUCTION, INC.. Дата публикации: 2018-10-04.

Method for improved semiconductor processing equipment tool pedestal / pad vibration isolation and reduction

Номер патента: US20180283486A1. Автор: Suk K. Kim-Whitty. Владелец: Sk Commercial Construction Inc. Дата публикации: 2018-10-04.

Semiconductor process formula acquisition method and system and semiconductor process device

Номер патента: EP4428780A1. Автор: Yuanwei LIN. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-11.

Data processing method and system for detection of deterioration of semiconductor process kits

Номер патента: US12055498B2. Автор: Feng-Min Shen,Chyuan-Ruey LIN,Hung-Chia SU. Владелец: Top Technology Platform Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Smart window for semiconductor processing tool

Номер патента: US09612207B2. Автор: Xinxin He,Cameron Paul Simoes. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-04-04.

Semiconductor processing methods and semiconductor defect detection methods

Номер патента: US20010024836A1. Автор: Garry Mercaldi,Michael Nuttal. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-09-27.

Semiconductor processing method using virtual modules

Номер патента: EP1782139A1. Автор: Merritt Funk,Wesley Natzle. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-05-09.

Control for semiconductor processing systems

Номер патента: US20240021450A1. Автор: Chris Pylant. Владелец: Verity Instruments Inc. Дата публикации: 2024-01-18.

Remote access gateway for semiconductor processing equipment

Номер патента: WO2010048379A2. Автор: Ronald Vern Schauer. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2010-04-29.

Test structure, test structure formation and mask reuse in semiconductor processing

Номер патента: WO2009006175A3. Автор: Yung-Tin Chen,Paul Wai Kie Poon,Calvin K Li,En-Shing Chen. Владелец: En-Shing Chen. Дата публикации: 2009-03-12.

Method of monitoring semiconductor process

Номер патента: US20110140719A1. Автор: Yong-Jin Kim,Kye-Hyun Baek,Ho-Ki Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2011-06-16.

Semiconductor process flow for nand flash memory products

Номер патента: EP1145308A1. Автор: Hao Fang,John Jianshi Wang,Masaaki Higashitani,Kent Kuohua Chang,Salvatore F. Cagnina. Владелец: Fujitsu AMD Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2001-10-17.

Condenser and semiconductor processing machine

Номер патента: US11519669B2. Автор: Tianlong LI. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2022-12-06.

Semiconductor processing methods of forming devices on a substrate, forming device arrays on a substrate, forming conductive lines on a substrate, and forming capacitor arrays on a substrate, and integrated circuitry

Номер патента: US20030049902A1. Автор: Werner Juengling. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-03-13.

Condenser and semiconductor processing machine

Номер патента: US20220349654A1. Автор: Tianlong LI. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2022-11-03.

Semiconductor processing methods of forming devices on a substrate, forming device arrays on a substrate, forming conductive lines on a substrate, and forming capacitor arrays on a substrate, and integrated circuitry

Номер патента: US20020009849A1. Автор: Werner Juengling. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-01-24.

Specification establishing method for controlling semiconductor process

Номер патента: US8332416B2. Автор: Yun-Zong Tian,Wei Jun Chen,Yij Chieh Chu,Cheng-Hao Chen,Shih-Chang Kao. Владелец: Inotera Memories Inc. Дата публикации: 2012-12-11.

Testing apparatus and method for determining an etch bias associated with a semiconductor-processing step

Номер патента: WO2005033720A2. Автор: James Chingwei Li,Richard L. Pierson, Jr.,Berinder S. Brar. Владелец: Rockwell Scientific Licensing, Llc. Дата публикации: 2005-04-14.

Semiconductor processing method of making a hemispherical grain (HSG) polysilicon layer

Номер патента: US20010009808A1. Автор: Randhir Thakur,Er-Xang Ping. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-07-26.

Methods of sensing temperature of an electronic device workpiece and methods of semiconductor processing

Номер патента: US20020034832A1. Автор: Salman Akram,David R. Hembree. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-03-21.

Semiconductor process and fin-shaped field effect transistor

Номер патента: US09450094B1. Автор: Kai-Lin Lee,Chih-Chieh Yeh. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2016-09-20.

Control system for semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20060178768A1. Автор: Jae-Woo Chung,Hyo-Sang Jung,Jong-hwan Weon,Myung-Kill Kim,Tae-Ha Jeon,Kyung-Bo Sim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2006-08-10.

Method and apparatus for starting process task in semiconductor process device

Номер патента: EP4199039A1. Автор: Fangna WU,Sixue SHI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-21.

Processing task start method and device in semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20230307272A1. Автор: Fangna WU,Sixue SHI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Semiconductor process and yield analysis integrated real-time management method

Номер патента: US7099729B2. Автор: Chien-Chung Chen,Hung-En Tai,Sheng-Jen Wang. Владелец: Powerchip Semiconductor Corp. Дата публикации: 2006-08-29.

Chuck and semiconductor process using the same

Номер патента: US20150200144A1. Автор: Yung-Chang Lin,Ming-Tse Lin,Chung-Sung JANG. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2015-07-16.

Inspection apparatus for semiconductor process and semiconductor process device

Номер патента: US20190323973A1. Автор: Jong Su Kim,Chang Hoon Choi,Jeong Su Ha,Myung Ho Jung,Sung Chai KIM,Young Su RYU,Won Guk Seo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-10-24.

Semiconductor processing for alignment mark

Номер патента: US20240096814A1. Автор: Peng Hu,Lei Zhang,FEI Yu,She Yu Tang,Guoyong Zhang,Shu Min Ma. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2024-03-21.

Semiconductor processing process control system and its control method

Номер патента: US6853870B2. Автор: Makoto Ikeda,Etsuo Fukuda,Shoichi Harakawa. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2005-02-08.

Manufacturing method of semiconductor device and semiconductor processing system

Номер патента: US11061333B2. Автор: Ming-Hung Lin,Yu-Kai Chen,Su-Yu Yeh,Chia-Hung Chung,Ko-Bin Kao,Li-Jen Wu,Zhi-You Ke. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-07-13.

Semiconductor processing method of forming a static random access memory cell and static random access memory cell

Номер патента: US5650350A. Автор: Charles H. Dennison,Ken Marr. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1997-07-22.

Semiconductor processing method of forming a static random access memory cell and static random access memory cell

Номер патента: US5739056A. Автор: Charles H. Dennison,Ken Marr. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1998-04-14.

Chuck and semiconductor process using the same

Номер патента: US20140065553A1. Автор: Yung-Chang Lin,Ming-Tse Lin,Chung-Sung JANG. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2014-03-06.

Semiconductor process

Номер патента: US11527652B2. Автор: Zhi-Cheng Lee,Wei-Jen Chen,Kai-Lin Lee. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2022-12-13.

Endpoint optimization for semiconductor processes

Номер патента: US20240128131A1. Автор: David J. Lee,David P. Surdock,Qintao Zhang,Samphy Hong,Avishay Vaxman,Jeffrey P. Koch,Wayne R. Swart,Aldrin Bernard Vincent Eddy,Daniel G. Deyo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-18.

Method of monitoring semiconductor process

Номер патента: US11887898B2. Автор: Chen-Wei Liao,Chien-Yen Liu,Cheng-Chieh Shen,Chung-Hsin Lai. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2024-01-30.

Method of monitoring semiconductor process

Номер патента: US20210125880A1. Автор: Chen-Wei Liao,Chien-Yen Liu,Cheng-Chieh Shen,Chung-Hsin Lai. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2021-04-29.

Method and apparatus for baking out a gate valve in a semiconductor processing system

Номер патента: US5965046A. Автор: Timothy Joseph Franklin,David Datong Huo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1999-10-12.

Production of high-performance passive devices using existing operations of a semiconductor process

Номер патента: US8987107B2. Автор: James Hall,Daniel Hahn,Steven Leibiger,Sunglyong Kim,Christopher Nassar. Владелец: Fairchild Semiconductor Corp. Дата публикации: 2015-03-24.

Semiconductor processing method of forming a contact pedestal, of forming a storage node of a capacitor

Номер патента: US6083831A. Автор: Charles H. Dennison. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-07-04.

Semiconductor process

Номер патента: US9070710B2. Автор: Chien-Ting Lin,Ssu-I Fu,Yu-Hsiang Hung,Chung-Fu Chang,Cheng-Guo Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2015-06-30.

Testing apparatus and method for determining an etch bias associated with a semiconductor-processing step

Номер патента: CA2540359A1. Автор: James Chingwei Li,Richard L. Pierson, Jr.,Berinder S. Brar. Владелец: Berinder S. Brar. Дата публикации: 2005-04-14.

Testing apparatus and method for determining an etch bias associated with a semiconductor-processing step

Номер патента: EP1676317A2. Автор: James Chingwei Li,Richard L. Pierson, Jr.,Berinder S. Brar. Владелец: Teledyne Scientific and Imaging LLC. Дата публикации: 2006-07-05.

Power control method and device of lower radio frequency power supply and semiconductor processing equipment

Номер патента: US20240234088A1. Автор: Yu Zhang,JING Yang,JING Wei,Gang Wei,Guodao SHAN,Chenyu ZHONG,Yanyan YOU. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Power control method and apparatus for lower radio frequency power source, and semiconductor processing device

Номер патента: EP4407651A1. Автор: Yu Zhang,JING Yang,XING Chen,JING Wei,Gang Wei,Guodao SHAN,Chenyu ZHONG,Yanyan YOU. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-31.

Semiconductor process apparatus and plasma ignition method

Номер патента: US20230411120A1. Автор: JING Yang,Gang Wei,Chenyu ZHONG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Semiconductor processing tool with rf-transmissive dome structure and dynamic cooling system & method for manufacturing rf-transmissive dome structure

Номер патента: WO2024155977A1. Автор: Prasanna Kulkarni,Bo Gong,Ching-Yun Chang,Tongtong GUO,John Michael WILTSE,Rachel E. Batzer,Jacob Lee Hiester,Mohan Thilagaraj,Madison Wren ZENG,Pratyush RAWAL,Spencer Lorenzo BRODERICK,Joshua Michael MACEACHERN,Shawn FIEDLER,Michael Keith MAPSTON,Vineeth BANGERA. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-07-25.

Nickel-coated free-standing silicon carbide structure for sensing fluoro or halogen species in semiconductor processing systems, and processes of making and using same

Номер патента: EP1721143A2. Автор: James Welch,Frank DiMeo, Jr.,Jeffrey W. Neuner,Ing-Shin Chen,Philip S.H. Chen. Владелец: Advanced Technology Materials Inc. Дата публикации: 2006-11-15.

Cleaning process and semiconductor processing method

Номер патента: US12112939B2. Автор: Zhaopei CUI,Bingyu ZHU. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2024-10-08.

Upper electrode mechanism, current control method for radio frequency coil, and semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20230197407A1. Автор: JING Yang,JING Wei,Gang Wei,Xingfei MAO,Chen NIU. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-22.

Anomalous plasma event detection and mitigation in semiconductor processing

Номер патента: WO2020167601A2. Автор: LIANG Meng,Yukinori Sakiyama,Sunil Kapoor,Karl Frederick Leeser,Noah Baker. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2020-08-20.

Semiconductor processing apparatus having a moving member and a force compensator therefor

Номер патента: US20020088949A1. Автор: Geoffrey Ryding. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-07-11.

Apparatuses and systems for ammonia/chlorine chemistry semiconductor processing

Номер патента: EP4416755A1. Автор: Aaron Blake MILLER,Aaron Durbin,Bradley Taylor STRENG,Rachel E. Batzer,Christopher Nicholas IADANZA. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-21.

Electrical variable capacitor circuit and semiconductor processing system including same

Номер патента: US20240348225A1. Автор: Yongsug Suh,Juhwa MIN. Владелец: Industrial Cooperation Foudation Jeonbuk National University. Дата публикации: 2024-10-17.

Connect structure for semiconductor processing equipment

Номер патента: US12040163B2. Автор: Hung-Chih Wang,Sheng-Yuan Lin,Ming-Sze CHEN,Yuan-Hsin CHI. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Capacitively coupled plasma source for abating compounds produced in semiconductor processes

Номер патента: US09543124B2. Автор: Colin John Dickinson,Roger M. Johnson,Rongping Wang,Michael S. Cox,Brian T. West. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Anomalous plasma event detection and mitigation in semiconductor processing

Номер патента: US20240355600A1. Автор: LIANG Meng,Yukinori Sakiyama,Sunil Kapoor,Noah Elliot BAKER,Karl Frederick Leeser. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-24.

Power adjustment method of upper electrode power supply and semiconductor process apparatus

Номер патента: US20240194441A1. Автор: Yu Zhang,JING Yang,Xin Yue,JING Wei,Gang Wei,Guibin Wang. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Upper electrode power supply power adjustment method, and semiconductor process device

Номер патента: EP4318547A1. Автор: Yu Zhang,JING Yang,XING Chen,Xin Yue,JING Wei,Gang Wei,Guibin Wang. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-07.

Model-based characterization of plasmas in semiconductor processing systems

Номер патента: WO2023049252A1. Автор: Kenneth D. Schatz,Soonwook JUNG,Hunkee CHO. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-03-30.

Temperature control of semiconductor processing chambers by modulating plasma generation energy

Номер патента: WO2014040033A3. Автор: Michael Nam,David Gunther,Jae Yeol Park,Kyle PETERSEN. Владелец: Semicat, Inc. Дата публикации: 2014-06-26.

Temperature control of semiconductor processing chambers by modulating plasma generation energy

Номер патента: WO2014040033A2. Автор: Michael Nam,David Gunther,Jae Yeol Park,Kyle PETERSEN. Владелец: Semicat, Inc. Дата публикации: 2014-03-13.

Semiconductor processing tool and methods of operation

Номер патента: US20240355627A1. Автор: Shang-Yu Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Semiconductor process apparatus and power control method

Номер патента: US20240006170A1. Автор: JING Yang,JING Wei,Gang Wei,Guodao SHAN. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Impedance-matching method, impedance-matching device, and semiconductor process apparatus

Номер патента: US20230386790A1. Автор: JING Wei,Gang Wei,Yueping HUA. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Using sacrificial polymer materials in semiconductor processing

Номер патента: US10916418B2. Автор: Michael T. Andreas,Sanjeev Sapra,Prashant Raghu,Jerome A. Imonigie,Ian K. McDaniel. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2021-02-09.

Using sacrificial polymer materials in semiconductor processing

Номер патента: US20190267232A1. Автор: Michael T. Andreas,Sanjeev Sapra,Prashant Raghu,Jerome A. Imonigie,Ian K. McDaniel. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2019-08-29.

Using sacrificial polymer materials in semiconductor processing

Номер патента: US20200075316A1. Автор: Michael T. Andreas,Sanjeev Sapra,Prashant Raghu,Jerome A. Imonigie,Ian K. McDaniel. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2020-03-05.

Semiconductor processing tool and methods of operation

Номер патента: US20230411227A1. Автор: Ming-Che Lee,Yung-Lung Lin,Kuo-Ming Wu,Sheng-Chau Chen,Che Wei Yang,Hau-Yi Hsiao,I-Nan. CHEN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Semiconductor process recording apparatus

Номер патента: US6755933B2. Автор: Wei-Chen Chen,Hung-Hsiang Wang,Andy Lin,Shuenn-chuan Yu,Pan-kai Liu,Hsin-chen Liu. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2004-06-29.

Refractory components for a semiconductor processing chamber

Номер патента: WO2024097506A1. Автор: LIN Xu,John Daugherty,Eric A. Pape,David Joseph WETZEL. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-05-10.

Processing station and method for the automated manufacture of cable harnesses and processing unit for such a processing station

Номер патента: US09787042B2. Автор: Christian Dreyer,Daniel Reiter,Markus Stallwitz. Владелец: Leoni Bordnetz Systeme GmbH. Дата публикации: 2017-10-10.

Semiconductor process method and multi-chamber apparatus therewith

Номер патента: US20230197413A1. Автор: QIONG Sun,Ke Han,Xinjia Qian. Владелец: Hangzhou Fullsemi Semiconductor Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-22.

Semiconductor processing apparatus and electrode member therefor

Номер патента: US20030066608A1. Автор: Masuhiro Natsuhara,Hirohiko Nakata,Akira Kuibira. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2003-04-10.

Connect structure for semiconductor processing equipment

Номер патента: US20240021416A1. Автор: Hung-Chih Wang,Sheng-Yuan Lin,Ming-Sze CHEN,Yuan-Hsin CHI. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-01-18.

Control circuit, pulse power source system, and semiconductor processing device

Номер патента: EP4080542A1. Автор: Gang Wei. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2022-10-26.

Processing system with digital printing and a post-processing station

Номер патента: US20180029396A1. Автор: Jürg Möckli. Владелец: Ferag AG. Дата публикации: 2018-02-01.

Dynamic metrology schemes and sampling schemes for advanced process control in semiconductor processing

Номер патента: EP1399961A2. Автор: Alexander T. Schwarm,Arulkumar P. Shanmugasundram. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-03-24.

Cable-processing machine with swiveling device for serving processing stations with cable-ends

Номер патента: US7637005B2. Автор: Alois Lustenberger,Matthias Luscher. Владелец: KOMAX HOLDING AG. Дата публикации: 2009-12-29.

Wide Band Gap Semiconductor Process, Device, and Method

Номер патента: US20240006242A1. Автор: Bishnu Prasanna Gogoi,Jinho Seo,Tirunelveli Subramaniam Ravi,Hoeseok Lee. Владелец: Thinsic Inc. Дата публикации: 2024-01-04.

Glass-ceramic substrates for semiconductor processing

Номер патента: US09640621B2. Автор: Sasha Marjanovic,George Halsey Beall,James Gregory Couillard,Gregory Albert Merkel. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2017-05-02.

Plasma processing method in semiconductor processing system

Номер патента: TW382743B. Автор: Gohei Kawamura,Hiroyuki Ishihara. Владелец: Tel Yamanishi Kk. Дата публикации: 2000-02-21.

Base material film for semiconductor processing sheet, semiconductor processing sheet, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: KR101908390B1. Автор: 나오키 타야,이사오 이치카와,마사시 우에다,마사아키 후루다테. Владелец: 린텍 가부시키가이샤. Дата публикации: 2018-10-16.

SEMICONDUCTOR FILM COMPOSITION, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR FILM COMPOSITION, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR MEMBER, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR PROCESSING MATERIAL, AND SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20180327547A1. Автор: Ono Shoko,Tanaka Hirofumi,Kayaba Yasuhisa,WACHI Hiroko. Владелец: Mitsui Chemicals, Inc.. Дата публикации: 2018-11-15.

SEMICONDUCTOR FILM COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR FILM COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR MEMBER, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR PROCESSING MATERIAL, AND SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20200347265A1. Автор: Tanaka Hirofumi,Inoue Koji,Kayaba Yasuhisa. Владелец: Mitsui Chemicals, Inc.. Дата публикации: 2020-11-05.

Systems and methods for storage and supply of F3NO-free FNO gases and F3NO-free FNO gas mixtures for semiconductor processes

Номер патента: US12106940B2. Автор: PENG Shen,Nathan Stafford,Chih-Yu Hsu,Jiro Yokota,Ayaka NISHIYAMA. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 2024-10-01.

COMPOSITION FOR SEMICONDUCTOR PROCESS AND SEMICONDUCTOR PROCESS

Номер патента: US20190276740A1. Автор: Jin Gyu An,KIM Byoungsoo,OH Jun Rok. Владелец: . Дата публикации: 2019-09-12.

Composition for semiconductor process and semiconductor process

Номер патента: US20190276778A1. Автор: Jun Rok Oh,Byoungsoo Kim,Gyu An Jin. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-12.

Compositions and methods for semiconductor processing and devices formed therefrom

Номер патента: US09793188B2. Автор: Arjun Mendiratta. Владелец: Equity Solar Inc. Дата публикации: 2017-10-17.

Polishing composition for semiconductor process and method for manufacturing semiconductor device by using the same

Номер патента: EP4086312B1. Автор: Han Teo PARK,Jang Kuk KWON,Seung Chul Hong,Deok Su Han. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-19.

Endpoint detector for a semiconductor processing station and associated methods

Номер патента: US9002493B2. Автор: Cindy Goldberg,John H. Zhang. Владелец: STMicroelectronics lnc USA. Дата публикации: 2015-04-07.

Process for producing solar cell, process for producing thin-film semiconductor, process for separating thin-film semiconductor, and process for forming semiconductor

Номер патента: US6331208B1. Автор: Takao Yonehara,Kiyofumi Sakaguchi,Shoji Nishida,Masaaki Iwane. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2001-12-18.

Dry-etching gas for semiconductor process

Номер патента: US20080203353A1. Автор: Dong Hyun Kim,Jong Yeol Yang,Young Hoon Ahn,Bong Suk Kim,Hae Seok Ji,Ook Jae Cho,Jae Gug Ryu. Владелец: Ulsan Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2008-08-28.

Adhesive composition for use of semiconductor process, film for use of semiconductor process comprising adhesive composition, and manufacturing method for semiconductor package using the same

Номер патента: KR20230114922A. Автор: 이광주,한지호,송희. Владелец: 주식회사 엘지화학. Дата публикации: 2023-08-02.

Semiconductor film composition, method for manufacturing semiconductor film composition, method for manufacturing semiconductor member, method for manufacturing semiconductor processing material, and semiconductor device

Номер патента: US11965109B2. Автор: Koji Inoue,Hirofumi Tanaka,Yasuhisa Kayaba. Владелец: Mitsui Chemicals Inc. Дата публикации: 2024-04-23.

Semiconductor film composition, method for manufacturing semiconductor film composition, method for manufacturing semiconductor member, method for manufacturing semiconductor processing material, and semiconductor device

Номер патента: US20180334588A1. Автор: Koji Inoue,Hirofumi Tanaka,Yasuhisa Kayaba. Владелец: Mitsui Chemicals Inc. Дата публикации: 2018-11-22.

Semiconductor film composition, manufacturing method of semiconductor film composition, manufacturing method of semiconductor member, manufacturing method of semiconductor processing material and semiconductor device

Номер патента: KR102075905B1. Автор: 야스히사 가야바,히로후미 다나카,쇼코 오노,히로코 와치. Владелец: 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2020-02-11.

Semiconductor film composition, manufacturing method of semiconductor film composition, manufacturing method of semiconductor member, manufacturing method of semiconductor process material and semiconductor device

Номер патента: KR102059759B1. Автор: 야스히사 가야바,히로후미 다나카,고지 이노우에. Владелец: 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2019-12-26.

Semiconductor film composition, method of manufacturing semiconductor film composition, method of manufacturing semiconductor member, method of manufacturing semiconductor processing material, and semiconductor device

Номер патента: US10759964B2. Автор: Hirofumi Tanaka,Hiroko Wachi,Yasuhisa Kayaba,Shoko Ono. Владелец: Mitsui Chemicals Inc. Дата публикации: 2020-09-01.

Semiconductor film composition, semiconductor film composition manufacturing method, semiconductor member manufacturing method, semiconductor process material manufacturing method, and semiconductor device

Номер патента: JPWO2017086360A1. Автор: 和知　　浩子,博文 田中,田中　博文,靖剛 茅場,昇子 小野,和知　浩子. Владелец: Mitsui Chemicals Inc. Дата публикации: 2018-04-05.

Method of correction for wafer crystal cut error in semiconductor processing

Номер патента: TWI372430B. Автор: Andy Ray. Владелец: Axcelis Tech Inc. Дата публикации: 2012-09-11.

In-situ measurement method and apparatus for semiconductor processing

Номер патента: TW464767B. Автор: Bertrand Flietner,K Paul Muller. Владелец: Ibm. Дата публикации: 2001-11-21.

Semiconductor process wastewater treatment system and semiconductor process wastewater treatment method using the same

Номер патента: US11760674B2. Автор: Soyoun KIM,Chanhyuk Park,Sehyuk AHN,Minju CHA. Владелец: Industry Collaboration Foundation of Ewha University. Дата публикации: 2023-09-19.

Semiconductor process wastewater treatment system and semiconductor process wastewater treatment method using the same

Номер патента: US20220127177A1. Автор: Soyoun KIM,Chanhyuk Park,Sehyuk AHN,Minju CHA. Владелец: Industry Collaboration Foundation of Ewha University. Дата публикации: 2022-04-28.

Data processing apparatus for semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20030168171A1. Автор: Toshio Masuda,Junichi Tanaka,Hideyuki Yamamoto,Akira Kagoshima,Shoji Ikuhara. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2003-09-11.

SEMICONDUCTOR PROCESSING STATION, SEMICONDUCTOR PROCESS AND METHOD OF OPERATING SEMICONDUCTOR PROCESSING STATION

Номер патента: US20170207109A1. Автор: Chou You-Hua,Huang Chih-Wei,Chuang Kuo-Sheng,Chien Cheng-Chung. Владелец: . Дата публикации: 2017-07-20.

Semiconductor processing system with wireless sensor network monitoring system incorporated therewith

Номер патента: WO2007112180A2. Автор: Kenji Sugishima,Sanjeev Kaushal,Donthineni Ramesh Kumar Rao. Владелец: Tokyo Electron America, Inc.. Дата публикации: 2007-10-04.

Using sacrificial solids in semiconductor processing

Номер патента: US20190333756A1. Автор: Gurtej S. Sandhu,Matthew S. Thorum. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2019-10-31.

Using sacrificial solids in semiconductor processing

Номер патента: US20210183643A1. Автор: Gurtej S. Sandhu,Matthew S. Thorum. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2021-06-17.

Using sacrificial solids in semiconductor processing

Номер патента: US20190189424A1. Автор: Gurtej S. Sandhu,Matthew S. Thorum. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2019-06-20.

Using sacrificial solids in semiconductor processing

Номер патента: WO2019125760A1. Автор: Gurtej S. Sandhu,Matthew S. Thorum. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2019-06-27.

Semiconductor processing system having multiple decoupled plasma sources

Номер патента: US09947557B2. Автор: Richard Gottscho,Harmeet Singh,Peter L. G. Ventzek,John Patrick Holland. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-04-17.

Microwave excursion detection for semiconductor processing

Номер патента: WO2014003893A1. Автор: Juan Carlos Rocha-Alvarez,Sanjeev Baluja,Scott A. Hendrickson,Liliya Krivulina. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-01-03.

CHAMBER, SEMICONDUCTOR PROCESSING STATION, AND SEMICONDUCTOR PROCESS USING THE SAME

Номер патента: US20170221737A1. Автор: WANG HUNG-CHIH,Huang Hon-Lin,Lu Chia-Wei. Владелец: . Дата публикации: 2017-08-03.

Architecture for general purpose programmable semiconductor processing system and methods therefor

Номер патента: EP1642341A2. Автор: Roger Patrick,Vincent Wong,Chung Ho Huang. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2006-04-05.

Architecture for general purpose programmable semiconductor processing system and methods therefor

Номер патента: WO2005001893A3. Автор: Roger Patrick,Vincent Wong,Chung Ho Huang. Владелец: Chung Ho Huang. Дата публикации: 2006-07-27.

Vacuum pump, vacuum pump set for evacuating a semiconductor processing chamber and method of evacuating a semiconductor processing chamber

Номер патента: IL294347A. Автор: . Владелец: Edwards Ltd. Дата публикации: 2022-08-01.

Semiconductor processing tool platform configuration with reduced footprint

Номер патента: US20240258137A1. Автор: Schubert S. Chu,Sushant S. Koshti,Nyi Oo Myo,Michael C. Kuchar,Nir Merry,Songjae Lee. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Modular mainframe layout for supporting multiple semiconductor process modules or chambers

Номер патента: US20220262653A1. Автор: Alpay Yilmaz,Randy A. Harris,Vincent DiCaprio,Coby Scott GROVE,Paul Zachary WIRTH,Avinash Shantaram,Amir Nissan,Jitendra Ratilal Bhimjiyani,Niranjan Pingle. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-08-18.

Modular mainframe layout for supporting multiple semiconductor process modules or chambers

Номер патента: EP4423800A1. Автор: Alpay Yilmaz,Randy A. Harris,Vincent DiCaprio,Coby Scott GROVE,Paul Zachary WIRTH,Avinash Shantaram,Amir Nissan,Jitendra Ratilal Bhimjiyani,Niranjan Pingle. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-04.

Absorbing reflector for semiconductor processing chamber

Номер патента: US20180084610A1. Автор: RAMACHANDRAN BALASUBRAMANIAN,Daniel REDFIELD,Joseph M. Ranish,Paul Brillhart,Satheesh Kuppurao,Kailash Kiran Patalay,Kin Pong Lo,Michael Olsen,James Francis Mack,Richard Halpin,Eddie Feigel,Brett Vetorino. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-03-22.

Absorbing reflector for semiconductor processing chamber

Номер патента: US20140376898A1. Автор: BALASUBRAMANIAN Ramachandran,Daniel REDFIELD,Joseph M. Ranish,Paul Brillhart,Satheesh Kuppurao,Kailash Kiran Patalay,Kin Pong Lo,Michael Olsen,James Francis Mack,Richard Halpin,Eddie Feigel,Brett Vetorino. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-12-25.

Absorbing reflector for semiconductor processing chamber

Номер патента: US09832816B2. Автор: BALASUBRAMANIAN Ramachandran,Daniel REDFIELD,Joseph M. Ranish,Paul Brillhart,Satheesh Kuppurao,Kailash Kiran Patalay,Kin Pong Lo,Michael Olsen,James Francis Mack,Richard Halpin,Eddie Feigel,Brett Vetorino. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-11-28.

Exhaust manifold for semiconductor process chamber

Номер патента: US20240030045A1. Автор: Yeh-Chieh Wang,Kuang-Wei Cheng,Sung-Ju Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Gas Control in Semiconductor Processing

Номер патента: US20220367292A1. Автор: Mu-Tsang Lin,Yen-Lin CHANG,Pu-Kuan Fang,Yung-Ta Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-11-17.

Semiconductor processing chamber architecture for higher throughput and faster transition time

Номер патента: US12062526B2. Автор: Viren KALSEKAR. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-13.

Vacuum processing system and vacuum processing method of semiconductor processing substrate

Номер патента: TW201123339A. Автор: Hideaki Kondo,Atsushi Shimoda,Keita Nogi,Teruo Nakata,Susumu Tauchi,Takafumi Chida. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2011-07-01.

Semiconductor process device, control method and apparatus for moving parts thereof

Номер патента: US20240338008A1. Автор: Jinheng ZHU. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

INTERCONNECT FABRICATION AT AN INTEGRATED SEMICONDUCTOR PROCESSING STATION

Номер патента: US20140315381A1. Автор: Wang Zhihong,Tu Wen-Chiang,Wang You. Владелец: . Дата публикации: 2014-10-23.

SEMICONDUCTOR PROCESSING STATION

Номер патента: US20190311930A1. Автор: Chou You-Hua,Huang Chih-Wei,Chuang Kuo-Sheng,Chien Cheng-Chung. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.. Дата публикации: 2019-10-10.

Front-end and rear-end module of equipment and semiconductor processing station with front-end and rear-end modules of equipment

Номер патента: CN112750717B. Автор: 金建澔,具德滋. Владелец: Xia Tai Xin Semiconductor Qing Dao Ltd. Дата публикации: 2022-12-02.

Semiconductor processing stations

Номер патента: CN106981443A. Автор: 黄志伟,周友华,庄国胜,简正忠. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-07-25.

Semiconductor processing systems with in-situ electrical bias

Номер патента: US11894240B2. Автор: Robert Clark,Gerrit J. Leusink,Patrick Hughes,David Hurley,Ioan Domsa,Ian Colgan,Gerhardus Van Der Linde,Maciej Burel,Barry Clarke,Mihaela Ioana Popovici,Lars-Ake Ragnarsson,Dina Triyoso. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-06.

Wafer soak temperature readback and control via thermocouple embedded end effector for semiconductor processing equipment

Номер патента: WO2020131253A1. Автор: John Baggett. Владелец: AXCELIS TECHNOLOGIES, INC.. Дата публикации: 2020-06-25.

Methods and apparatus for microwave leakage reduction for semiconductor process chambers

Номер патента: US20190326141A1. Автор: Ananthkrishna Jupudi,Ribhu GAUTAM,Preetham P. RAO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-10-24.

Methods and apparatus for microwave leakage reduction for semiconductor process chambers

Номер патента: WO2019204110A1. Автор: Ananthkrishna Jupudi,Ribhu GAUTAM,Preetham P. RAO. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2019-10-24.

Semiconductor processing apparatus with enhanced chamber usability and the method thereof

Номер патента: US20240222176A1. Автор: Yoshiyuki Umeoka. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-07-04.

Reduction of condensed gases on chamber walls via heated chamber housing for semiconductor processing equipment

Номер патента: WO2020142155A1. Автор: John Baggett. Владелец: AXCELIS TECHNOLOGIES, INC.. Дата публикации: 2020-07-09.

Semiconductor processing system with in-situ electrical bias and methods thereof

Номер патента: US11335792B2. Автор: Patrick Hughes,David Hurley,Ioan Domsa,Ian Colgan,Gerhardus Van Der Linde,Maciej Burel,Barry Clarke,Mihaela Ioana Popovici,Lars-Ake Ragnarsson. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-05-17.

Semiconductor processing system with in-situ electrical bias and methods thereof

Номер патента: US11837652B2. Автор: Patrick Hughes,David Hurley,Ioan Domsa,Ian Colgan,Gerhardus Van Der Linde,Maciej Burel,Barry Clarke,Mihaela Ioana Popovici,Lars-Ake Ragnarsson. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-05.

Wafer tray and ceramic blade for semiconductor processing apparatus

Номер патента: US5636964A. Автор: Sasson Somekh,Kevin Fairbairn,Gary M. Kolstoe,Gregory W. White,W. George Faraco, Jr.. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1997-06-10.

Semiconductor Processing System Having Multiple Decoupled Plasma Sources

Номер патента: US20120289054A1. Автор: Richard Gottscho,Harmeet Singh,Peter L. G. Ventzek,John Patrick Holland. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2012-11-15.

Semiconductor Processing System Having Multiple Decoupled Plasma Sources

Номер патента: US20150044878A1. Автор: Richard Gottscho,Harmeet Singh,John Patrick Holland,Peter L.G. Ventzek. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2015-02-12.

Semiconductor processing tool and methods of operation

Номер патента: US20240145316A1. Автор: Chih-Hang Tung,Jeng-Nan Hung,Chung-Jung Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-05-02.

Ejector pin structure, semiconductor processing device, and method for using semiconductor processing device

Номер патента: US20230223294A1. Автор: Qiang RU. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2023-07-13.

Method and system related to semiconductor processing equipment

Номер патента: SG2013069463A. Автор: W Mooring Benjamin. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2014-04-28.

Method and system related to semiconductor processing equipment

Номер патента: SG10201602863SA. Автор: W Mooring Benjamin. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2016-05-30.

Semiconductor processing system and recording medium

Номер патента: TW201140731A. Автор: Hideaki Kondo,Keita Nogi,Teruo Nakata. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2011-11-16.

Architecture for general purpose programmable semiconductor processing system and methods therefor

Номер патента: TW200507026A. Автор: Roger Patrick,Chung-Ho Huang,Vincent Wong. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2005-02-16.

Architecture for general purpose programmable semiconductor processing system and methods therefor

Номер патента: EP1642341A4. Автор: Roger Patrick,Vincent Wong,Chung Ho Huang. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2009-11-18.

Methods and apparatus for microwave leakage reduction for semiconductor process chambers

Номер патента: SG11202009322QA. Автор: Ananthkrishna Jupudi,Ribhu GAUTAM,Preetham P Rao. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-11-27.

Vacuum pump and vacuum pump set for evacuating a semiconductor processing chamber

Номер патента: GB202000297D0. Автор: . Владелец: Edwards Ltd. Дата публикации: 2020-02-26.

Load lock arrangements, associated temperature control assemblies, and semiconductor processing systems including load lock arrangements and temperature control assemblies

Номер патента: US20240213058A1. Автор: Masaei Suwada,Taira Okabe. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-06-27.

System and method for illuminating a semiconductor processing system

Номер патента: TW505955B. Автор: Bharath Rangarajan,Bhanwar Singh,Ramkumar Subramanian,Bryan K Choo,Khoi A Phan. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2002-10-11.

Method to eliminate first wafer effects on semiconductor process chambers

Номер патента: WO2023096717A1. Автор: Kartik Shah,Martin Hilkene,Huy Q. Nguyen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-06-01.

Reflector cover for a semiconductor processing chamber

Номер патента: TW436874B. Автор: Benjamin Bierman,Brian Haas,James V Tietz,Meredith J Williams,David S Ballance. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-05-28.

Plasma source for semiconductor processing

Номер патента: EP4186088A4. Автор: Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-21.

Patterned wafer geometry measurements for semiconductor process controls

Номер патента: EP3117454B1. Автор: Jaydeep Sinha,Pradeep Vukkadala. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2020-06-03.

Semiconductor processing with non-jetting fluid stream discharge array

Номер патента: AU7366494A. Автор: Eric J Bergman,Thomas R Oberlitner. Владелец: Semitool Inc. Дата публикации: 1995-03-21.

A novel method for monitoring and calibrating temperature in semiconductor processing chambers

Номер патента: TW200913106A. Автор: Jallepally Ravi,Yi-Chiau Huang,Maitreyee Mahajani. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2009-03-16.

Method of monitoring a semiconductor processing system using a wireless sensor network

Номер патента: TWI362057B. Автор: Kenji Sugishima,Sanjeev Kaushal,Ramesh Kumer Rao Donthineni. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-04-11.

Semiconductor processing system

Номер патента: TW495818B. Автор: Hiroaki Saeki,Yasushi Taniyama. Владелец: Shinko Electric Co Ltd. Дата публикации: 2002-07-21.

Multi-channel temperature control system for semiconductor processing facilities

Номер патента: AU2002243831A1. Автор: Jeong Kwon. Владелец: Oriol Inc. Дата публикации: 2002-08-19.

SEMICONDUCTOR PROCESS ANALYSIS DEVICE, SEMICONDUCTOR PROCESS ANALYSIS METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20210143038A1. Автор: SHIBATA Yuka,TANAKA Yukako,SAIKI Sho,DATE Kaito. Владелец: Kioxia Corporation. Дата публикации: 2021-05-13.

Heating module and program control method for pumping line of semiconductor processing tool

Номер патента: US20240360551A1. Автор: CHUN Chang,Chih-Yuan Wang,Yi-Ming Lin,Sheng-chun YANG,Weigang Wu,Xuan-Yang Zheng,Ren-Jyue Wang,Che Kang Liu,Kaijun Jan,Tzu-Chuan Chao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Simulating a chemical reaction phenomenon in a semiconductor process

Номер патента: US8548787B2. Автор: Takashi Ichikawa,Akio Ui,Toshiro Takase,Naoki Tamaoki. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2013-10-01.

Movable central reflectors of semiconductor processing equipment, and related systems and methods

Номер патента: US20240360587A1. Автор: Ala Moradian,Lori D. Washington,Saurabh Chopra,Vishwas Kumar Pandey. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-31.

Protective inserts to line holes in parts for semiconductor process equipment

Номер патента: US20090023302A1. Автор: Vladimir Kuznetsov,Ernst H.A. Granneman. Владелец: ASM International NV. Дата публикации: 2009-01-22.

Gas inlet assembly of process chamber, gas inlet apparatus, and semiconductor processing equipment

Номер патента: EP4283023A1. Автор: Shikai Li. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-29.

Semiconductor processing apparatus and control method thereof

Номер патента: US20200208264A1. Автор: Hao Peng,YUAN Li,Zhao Li,FENG Zhou,Kai Hu,Jun Wei,Yao Hu,Hongbin Zhu,Xianjin Wan,Xiangying CAI. Владелец: Yangtze Memory Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-02.

Apparatus for semiconductor process including photo-excitation process

Номер патента: CA1330601C. Автор: Toshikazu Suda. Владелец: Regal Joint Co Ltd. Дата публикации: 1994-07-05.

Heat processing apparatus for semiconductor process

Номер патента: US8002895B2. Автор: Atsushi Endo,Hisashi Inoue. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-08-23.

Reaction chamber and semiconductor processing apparatus

Номер патента: EP4375395A1. Автор: Xue Dong,Xiaojun Li,Xiaoqin Sun,Jingjing Liu,Boyu Dong,Keke Xu,Leilei Wang,Shikai Li,Donghua ZHAO,Fushun YUAN,Guangzheng LIU,Zhaohui Gong,Wanyong JIA,Lifei XU,Tieran WANG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-29.

Gas injection system for semiconductor processing

Номер патента: US5851294A. Автор: Ron van Os,Lydia J. Young,Richard H. Matthiesen,Simon Selitser. Владелец: Watkins Johnson Co. Дата публикации: 1998-12-22.

Method of reducing metal contamination during semiconductor processing in a reactor having metal components

Номер патента: WO1998040534A1. Автор: Robert J. Bailey,Patrick J. Brady. Владелец: Silicon Valley Group Thermal Systems, Llc. Дата публикации: 1998-09-17.

Wireless substrate-like teaching sensor for semiconductor processing

Номер патента: EP4435840A2. Автор: David W. Duquette,Ferris J. Chen,Robert M. Mark. Владелец: Cyberoptics Corp. Дата публикации: 2024-09-25.

Wireless substrate-like teaching sensor for semiconductor processing

Номер патента: IL278170B1. Автор: . Владелец: Cyberoptics Corp. Дата публикации: 2024-07-01.

Wireless substrate-like teaching sensor for semiconductor processing

Номер патента: IL278170B2. Автор: . Владелец: Cyberoptics Corp. Дата публикации: 2024-11-01.

Semiconductor package device and semiconductor process

Номер патента: US11721645B2. Автор: Wen-Long Lu. Владелец: Advanced Semiconductor Engineering Inc. Дата публикации: 2023-08-08.

Multiplexed heater array using AC drive for semiconductor processing

Номер патента: US09775194B2. Автор: John Pease,Neil Benjamin. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-09-26.

Interposer, semiconductor package structure, and semiconductor process

Номер патента: US09852971B1. Автор: Min Lung Huang,Wen-Long Lu. Владелец: Advanced Semiconductor Engineering Inc. Дата публикации: 2017-12-26.

Non-intrusive measurement of a wafer DC self-bias in semiconductor processing equipment

Номер патента: US09601301B2. Автор: Andrew Nguyen,Sergey G. BELOSTOTSKIY,Michael G. Chafin,Chinh Dinh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-03-21.

Water carrier for semiconductor process tool

Номер патента: EP1464076A2. Автор: Michael A. Tischler. Владелец: Advanced Technology Materials Inc. Дата публикации: 2004-10-06.

Apparatus and method for feature edge detection in semiconductor processing

Номер патента: US20020186374A1. Автор: Joseph Little. Владелец: Little Joseph R.. Дата публикации: 2002-12-12.

Semiconductor package device and semiconductor process

Номер патента: US20210057356A1. Автор: Wen-Long Lu. Владелец: Advanced Semiconductor Engineering Inc. Дата публикации: 2021-02-25.

Method and apparatus for alignment of carriers and semiconductor processing equipment

Номер патента: TW512411B. Автор: Alan Rick Lappen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-12-01.

Mask alignment system for semiconductor processing

Номер патента: WO2014093501A1. Автор: William T. Weaver,Charles T. Carlson,Aaron P. Webb,Christopher N. GRANT. Владелец: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.. Дата публикации: 2014-06-19.

A liner suitable for covering the interior wall of a semiconductor processing chamber

Номер патента: TWM316492U. Автор: Robert S Clark,Zhong-Yi Jim He. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2007-08-01.

Substrate support suitable for using in a semiconductor processing chamber

Номер патента: TWM318185U. Автор: Jivko Dinev,Sharma Pamarthy,Huutri Dao,Kelly A Mcdonough,Xiao-Ping Zhou. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2007-09-01.

Mask alignment system for semiconductor processing

Номер патента: US09570309B2. Автор: William T. Weaver,Charles T. Carlson,Aaron P. Webb,Christopher N. GRANT. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2017-02-14.

Data acquisition method, device, and system for semiconductor process equipment

Номер патента: EP4398127A1. Автор: Jiajia CHAI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-10.

Semiconductor process for solving contact piping defect

Номер патента: US20240196605A1. Автор: Kai-Yao Shih,Yu-Mei Liao,Hung-Ju Chien,Hui-Chin Huang. Владелец: Powerchip Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Method and apparatus for compensating for temperature drift in semiconductor processes and circuitry

Номер патента: WO2005033820A1. Автор: Stefan Marinca,Thomas G. O'Dwyer. Владелец: ANALOG DEVICES, INC.. Дата публикации: 2005-04-14.

Semiconductor processing

Номер патента: US8003521B2. Автор: Eugene P. Marsh,Timothy A. Quick. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2011-08-23.

Methods for particle reduction in semiconductor processing

Номер патента: US09721783B2. Автор: Hung-Wen Chang,Tien-Chih CHENG,Du-Cheng Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Method and apparatus for providing mask in semiconductor processing

Номер патента: WO2007136515A1. Автор: Jonathan Kim,Camelia Rusu,Yoojin Kim. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2007-11-29.

Low resistance semiconductor process and structures

Номер патента: US20030082907A1. Автор: Kunal Parekh,Michael Hermes. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-05-01.

Semiconductor processing method

Номер патента: US20190189434A1. Автор: Yun Seog Lee,Devendra K. Sadana,Marinus Hopstaken,Joel Pereira DE SOUZA. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2019-06-20.

Semiconductor process system and method

Номер патента: US20200035528A1. Автор: Shih-Ming Chin,Hsiao-Chi Huang,Han-Ming Liang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-01-30.

Semiconductor package, interposer and semiconductor process for manufacturing the same

Номер патента: US09947635B1. Автор: Wen-Long Lu,Chi-Chang Lee,Yuan-Feng CHIANG,Chung-Hsi Wu. Владелец: Advanced Semiconductor Engineering Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

Highly reflective metallic alloys for components of semiconductor processing equipment, and related methods

Номер патента: US20240295048A1. Автор: Tetsuya Ishikawa,Ala Moradian,Shawn Thanhson Le,Amir H. Tavakoli. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-05.

Single spacer for complementary metal oxide semiconductor process flow

Номер патента: US09754942B2. Автор: Kangguo Cheng,John R. Sporre,Eric R. Miller,Marc A. Bergendahl,Fee Li LIE,Sean TEEHAN,Jeffrey C. SHEARER,Jessica Dechene. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-09-05.

Single spacer for complementary metal oxide semiconductor process flow

Номер патента: US09748146B1. Автор: Kangguo Cheng,John R. Sporre,Eric R. Miller,Marc A. Bergendahl,Fee Li LIE,Sean TEEHAN,Jeffrey C. SHEARER,Jessica Dechene. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-08-29.

In line water scrubber system for semiconductor processing

Номер патента: EP4395913A1. Автор: Imad Mahawili. Владелец: Edwards Vacuum LLC. Дата публикации: 2024-07-10.

In line water scrubber system for semiconductor processing

Номер патента: WO2023031819A1. Автор: Imad Mahawili. Владелец: Edwards Vacuum LLC. Дата публикации: 2023-03-09.

Organic solvents having ozone dissolved therein for semiconductor processing utilizing sacrificial materials

Номер патента: WO2006025969A2. Автор: Steven Verhaverbeke. Владелец: APPLIED MATERIALS, INC. Дата публикации: 2006-03-09.

Semiconductor processing methods, semiconductor constructions, and electronic systems

Номер патента: US20070029635A1. Автор: Michael Smith,Xianfeng Zhou,Graham Wolstenholme,Sukesh Sandhu. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2007-02-08.

Semiconductor process chamber electrode

Номер патента: US6106663A. Автор: Lumin Li,Andras Kuthi. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2000-08-22.

Device of purifying hydrogen fluoride in semiconductor process waste gas

Номер патента: US10293305B2. Автор: Wu-Yu Fong. Владелец: Orient Service Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-21.

Compact external torch assembly for semiconductor processing

Номер патента: EP1071913A1. Автор: Gideon Drimer,Leo Mendelovici,Nachum Borivker. Владелец: Persys Technology Ltd. Дата публикации: 2001-01-31.

Method of making high purity polycrystalline aluminum oxynitride bodies useful in semiconductor process chambers

Номер патента: US09637415B2. Автор: Suri A. Sastri,Sreeram Balasubramanian,Lee M. Goldman. Владелец: Surmet Corp. Дата публикации: 2017-05-02.

Semiconductor processing methods

Номер патента: US8617975B2. Автор: Richard L. Stocks,Swarnal Borthakur. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2013-12-31.

Semiconductor Processing Methods

Номер патента: US20120252153A1. Автор: Richard L. Stocks,Swarnal Borthakur. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2012-10-04.

Method and device using silicide contacts for semiconductor processing

Номер патента: US20030235984A1. Автор: David Brown,Simon Chan,Eric Paton,Paul Besser. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-12-25.

Method using silicide contacts for semiconductor processing

Номер патента: WO2004001826A1. Автор: Eric N. Paton,Simon S. Chan,Paul R. Besser,David E. Brown. Владелец: Advanced Micro Devices, Inc.. Дата публикации: 2003-12-31.

Stress and overlay management for semiconductor processing

Номер патента: EP4331006A1. Автор: Sony Varghese,Sean S. Kang,Pradeep K. Subrahmanyan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-06.

Semiconductor package and semiconductor process

Номер патента: US20180350616A1. Автор: Wen Hung HUANG,Yan Wen CHUNG,Chien-Mei HUANG. Владелец: Advanced Semiconductor Engineering Inc. Дата публикации: 2018-12-06.

Semiconductor processing involving ion implantation

Номер патента: GB2101808A. Автор: Sean Ng Finegan,James Hoffman Mcfee,Robert Gerald Swartz,Alexander Michael Voshchenkov. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1983-01-19.

Semiconductor processing involving ion implantation

Номер патента: GB2101808B. Автор: Sean Ng Finegan,James Hoffman Mcfee,Robert Gerald Swartz,Alexander Michael Voshchenkov. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1985-07-03.

Integration of bipolar transistor into complimentary metal-oxide-semiconductor process

Номер патента: US09786656B1. Автор: Brent A. Anderson,Xuefeng Liu,Junli Wang. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-10-10.

Controller for treatment of semiconductor processing equipment effluent

Номер патента: US10564609B2. Автор: Ronald Vern Schauer. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-02-18.

Semiconductor process chamber electrode

Номер патента: EP1090407B1. Автор: Lumin Li,Andras Kuthi. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2010-03-10.

Low resistance semiconductor process and structures

Номер патента: US20020001875A1. Автор: Kunal R. Parekh,Michael J. Hermes. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-01-03.

Semiconductor process using selective deposition

Номер патента: US5010030A. Автор: James R. Pfiester,James D. Hayden. Владелец: Motorola Inc. Дата публикации: 1991-04-23.

Semiconductor package structure and semiconductor process

Номер патента: US20140239494A1. Автор: Kuan-Neng Chen,Kuo-Hua Chen,Tzu-Hua LIN,Yan-Pin HUANG. Владелец: Advanced Semiconductor Engineering Inc. Дата публикации: 2014-08-28.

Method for cleaning metal precipitates in semiconductor processes

Номер патента: US6103633A. Автор: Sheng-Liang Pan,Yun-Hung Shen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2000-08-15.

Protection of sensitive surfaces in semiconductor processing

Номер патента: WO2024091977A1. Автор: Diane Hymes,Jon Henri,Lee J. Brogan,Zhengtao CHEN,Oluwadamilola Sanyaolu PHILLIPS. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-05-02.

Semiconductor processing method

Номер патента: US10546745B2. Автор: Yun Seog Lee,Devendra K. Sadana,Marinus Hopstaken,Joel Pereira DE SOUZA. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2020-01-28.

Method and apparatus for automatically transporting and precisely positioning work pieces at processing stations

Номер патента: US20020088685A1. Автор: W. Novak. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-07-11.

Atmospheric pressure plasma enhanced abatement of semiconductor process effluent species

Номер патента: US20020111045A1. Автор: Jose Arno. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-08-15.

Bookbinding machine with stop of transport elements at a processing station while transport elements are disengaged at other processing stations

Номер патента: US12059917B2. Автор: Frank Sommerer,Thomas Friese,Jan WRUCK. Владелец: Meccanotecnica Spa. Дата публикации: 2024-08-13.

Semiconductor process with first transistor types oriented in a first plane and second transistor types oriented in a second plane

Номер патента: US20060063320A1. Автор: Bich-Yen Nguyen,Marius Orlowski. Владелец: FREESCALE SEMICONDUCTOR INC. Дата публикации: 2006-03-23.

Method, a processing station and a processing head for processing inner space of kegs, and a seal used in such a processing station

Номер патента: RU2693523C1. Автор: Дитер-Рудольф КРУЛИЧ,Себастьян ЭККЕС. Владелец: Кхс Гмбх. Дата публикации: 2019-07-03.

Wafer immersion in semiconductor processing chambers

Номер патента: WO2023146590A1. Автор: John L. Klocke,John Igo. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-08-03.

Apparatus for delivering large containers of goods, especially warehoused goods, to an out-processing station or trasfer station

Номер патента: US20030035708A1. Автор: Leen-Pieter de Jong. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-02-20.

Mobile mineral material processing station

Номер патента: EP3898014A1. Автор: Vesa-Matti Salminen. Владелец: Metso Outotec Finland Oy. Дата публикации: 2021-10-27.

Mobile mineral material processing station

Номер патента: FI20186128A1. Автор: Vesa-Matti Salminen. Владелец: Metso Minerals Inc. Дата публикации: 2020-06-22.

Mobile mineral material processing station

Номер патента: AU2019400872A1. Автор: Vesa-Matti Salminen. Владелец: Metso Outotec Finland Oy. Дата публикации: 2021-07-08.

Sacrificial layer for semiconductor process

Номер патента: US11848361B2. Автор: Yee-Chia Yeo,Tsan-Chun Wang,Liang-Yin Chen,Huicheng Chang,Su-Hao LIU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-19.

Method and device using silicide contacts for semiconductor processing

Номер патента: TW200400571A. Автор: Eric Paton,David E Brown,Paul Raymond Besser,Simon S Chan. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2004-01-01.

Film formation method and apparatus for semiconductor process

Номер патента: TW200701344A. Автор: Yutaka Takahashi,Tetsuya Shibata,Kota Umezawa,Masahiko Tomita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-01-01.

Chamber liner for semiconductor processing chambers

Номер патента: TW420847B. Автор: Michael Barnes,Alan M Schoepp,Jr William M Denty. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2001-02-01.

Semiconductor processing involving ion implantation

Номер патента: DE3279631D1. Автор: Sean Ng Finegan,James Hoffman Mcfee,Robert Gerald Swartz,Alexander Michael Voshchenkov. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1989-05-24.

Method for optimizing matching network of semiconductor process apparatus

Номер патента: GB9813920D0. Автор: . Владелец: Hyundai Electronics Industries Co Ltd. Дата публикации: 1998-08-26.

Thermal cycle resistant seal for semiconductor processing apparatus

Номер патента: AU1297195A. Автор: Joseph T Hillman,Robert F Foster,Brian Shekerjian. Владелец: Materials Research Corp. Дата публикации: 1995-12-05.

Semiconductor processing methods of forming contact openings, methods of forming electrical connections and interconnections, and integrated circuitry

Номер патента: US20010010969A1. Автор: Charles Dennison. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-08-02.

Semiconductor processing methods of forming contact openings, methods of forming electrical connections and interconnections, and integrated circuitry

Номер патента: US20020013047A1. Автор: Charles Dennison. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-01-31.

Semiconductor processing methods of forming contact openings, methods of forming electrical connections and interconnections, and integrated circuitry

Номер патента: WO2000014792A1. Автор: Charles H. Dennison. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2000-03-16.

Semiconductor processing methods of forming contact openings, methods of formingelectrical connections and interconnections, and integrated circuitry

Номер патента: AU5682499A. Автор: Charles H Dennison. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-03-27.

Gate valve for semiconductor process system

Номер патента: TW495595B. Автор: Hiroki Oka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2002-07-21.

Gate valve for semiconductor processing system

Номер патента: EP1182387A4. Автор: Hiroki Oka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2005-09-07.

Semiconductor processing including etched layer passivation using self-assembled monolayer

Номер патента: TW200832548A. Автор: Sean S Kang,Tom Choi,Sung-Jin Cho,Prabhakara Gopaladasu,Sang-Jun Cho,Tae-Joon Han. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2008-08-01.

Semiconductor process for trench power MOSFET

Номер патента: TW200910466A. Автор: Wei-Chieh Lin,Jen-Hao Yeh,Ming-Jang Lin,Hsin-Yen Chiu. Владелец: Anpec Electronics Corp. Дата публикации: 2009-03-01.

Semiconductor processing methods of forming contact openings, methods of forming electrical connections and interconnections, and integrated circuitry

Номер патента: US6753241B2. Автор: Charles H. Dennison. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-06-22.

Semiconductor processing methods of forming contact openings, methods of forming electrical connections and interconnections

Номер патента: US6468883B2. Автор: Charles H. Dennison. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-10-22.

Chamber liner for semiconductor process chambers

Номер патента: AU1198800A. Автор: Michael Barnes,Alan M. Schoepp,William M. Denty Jr.. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2000-04-17.

Modular input/output bridge system for semiconductor processing equipment

Номер патента: TW201104373A. Автор: Ronald Vern Schauer. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2011-02-01.

Semiconductor process

Номер патента: TW201250919A. Автор: Yi-Nan Chen,Hsien-Wen Liu,Wen-Chieh Wang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2012-12-16.

Methods of forming titanium-containing materials, and semiconductor processing methods

Номер патента: US20060292871A1. Автор: Joel Drewes,Jaydeb Goswami. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-12-28.

Semiconductor processing methods of forming a contact opening to a conductive line and methods of forming substrate active area source/drain regions

Номер патента: US20020115248A1. Автор: Werner Juengling. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-08-22.

A method for forming a sublithographic opening in a semiconductor process

Номер патента: TW200416818A. Автор: Gian Sharma. Владелец: Silicon Storage Tech Inc. Дата публикации: 2004-09-01.

Semiconductor processing

Номер патента: GB8506073D0. Автор: . Владелец: Standard Telephone and Cables PLC. Дата публикации: 1985-04-11.

A method for forming a sublithographic opening in a semiconductor process

Номер патента: TWI244682B. Автор: Gian Sharma. Владелец: Silicon Storage Tech Inc. Дата публикации: 2005-12-01.

High boiling temperature solvent additives for semiconductor processing

Номер патента: US09905457B2. Автор: Ching-Yu Chang,Tien-I Bao,Hai-Ching Chen,Bo-Jiun Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-02-27.

FILM FOR BACK SURFACE OF FLIP-CHIP SEMICONDUCTOR, DICING-TAPE-INTEGRATED FILM FOR BACK SURFACE OF SEMICONDUCTOR, PROCESS FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND FLIP-CHIP SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20130095639A1. Автор: TAKAMOTO Naohide,SHIGA Goji. Владелец: NITTO DENKO CORPORATION. Дата публикации: 2013-04-18.

Organic solvents having ozone dissolved therein for semiconductor processing utilizing sacrificial materials

Номер патента: US7235479B2. Автор: Steven Verhaverbeke. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2007-06-26.

Semiconductor processing tool and methods of operation

Номер патента: US20230343567A1. Автор: Yu-Chi Lin,Chih-Teng Liao,Liang Yu CHEN,Yu Hsi TANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Semiconductor package and semiconductor process

Номер патента: US20180247904A1. Автор: HUNG-YI LIN,Chien-Hua Chen,Pao-Nan Lee,Sheng-chi Hsieh,Cheng-Yuan KUNG. Владелец: Advanced Semiconductor Engineering Inc. Дата публикации: 2018-08-30.

Device and method for transferring foldable blanks from a transfer station to a processing station

Номер патента: US20020033001A1. Автор: Claus Riedel,Karsten Meinke. Владелец: Topack Verpackungstechnik GmbH. Дата публикации: 2002-03-21.

Method of reducing plasma arcing on surfaces of semiconductor processing apparatus components in a plasma processing chamber

Номер патента: US8871312B2. Автор: Jie Yuan,Kenneth S. Collins,Jennifer Y. Sun,Senh Thach,Ren-Guan Duan,Thomas Graves,Xiaoming He. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-10-28.

Processing stations for an electrophotographic information printer

Номер патента: US4569582A. Автор: Hans C. Hyltoft. Владелец: MERCANTE INTERNATIONAL AS. Дата публикации: 1986-02-11.

Method and apparatus for supplying metal coils to a processing station

Номер патента: CA1141692A. Автор: Robert J. Lipscomb. Владелец: Precision Steel Warehouse Inc. Дата публикации: 1983-02-22.

Sheet material processing tool, sheet material processing station, and sheet material processing machine

Номер патента: US20240300136A1. Автор: Patrice Chatry,Arnaud DEKERVEL. Владелец: BOBST MEX SA. Дата публикации: 2024-09-12.

Luggage processing station and system thereof

Номер патента: US09919811B2. Автор: Rainer Rudolf Dinkelmann,Richard DINKELMANN. Владелец: ICM AIRPORT TECHNICS AUSTRALIA PTY LTD. Дата публикации: 2018-03-20.

Luggage processing station and system thereof

Номер патента: US09828114B2. Автор: Rainer Rudolf Dinkelmann,Richard DINKELMANN. Владелец: ICM AIRPORT TECHNICS AUSTRALIA PTY LTD. Дата публикации: 2017-11-28.

Device of purifying hydrogen fluoride in semiconductor process waste gas

Номер патента: US20180161724A1. Автор: Wu-Yu Fong. Владелец: Orient Service Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-14.

Sheet material processing tool, sheet material processing station, and sheet material processing machine

Номер патента: AU2022213174A1. Автор: Patrice Chatry,Arnaud DEKERVEL. Владелец: BOBST MEX SA. Дата публикации: 2023-09-14.

Luggage processing station and system thereof

Номер патента: US09714099B2. Автор: Rainer DINKELMANN,Richard DINKELMANN. Владелец: ICM AIRPORT TECHNICS AUSTRALIA PTY LTD. Дата публикации: 2017-07-25.

Method and apparatus for supplying metal coils to a processing station

Номер патента: US4509891A. Автор: Robert J. Lipscomb. Владелец: Precision Steel Warehouse Inc. Дата публикации: 1985-04-09.

Method and processing station for connecting components of a vehicle body

Номер патента: US20240043079A1. Автор: Heiko PRESSER,Dominic Doering. Владелец: Thyssenkrupp Automotive Body Solutions GmbH. Дата публикации: 2024-02-08.

Systems and methods for processing objects, including automated re-circulating processing stations

Номер патента: CA3090647C. Автор: Daniel Smith,Thomas Allen,Thomas Wagner,Benjamin Cohen,Kevin Ahearn,Michael DAWSON-HAGGERTY,Christopher GEYER,Thomas KOLETSCHKA,Kyle MARONEY,Matthew T. Mason,Gene Temple Price,Joseph Romano,Siddhartha SRINIVASA,Prasanna Velagapudi,Victoria HINCHEY. Владелец: Berkshire Grey Operating Co Inc. Дата публикации: 2023-03-14.

Systems and methods for processing objects, including automated re-circulating processing stations

Номер патента: US20240001536A1. Автор: Daniel Smith,Thomas Allen,Thomas Wagner,Kevin Ahearn,Michael DAWSON-HAGGERTY,Christopher GEYER,Thomas KOLETSCHKA,Kyle MARONEY,Matthew T. Mason,Gene Temple Price,Joseph Romano,Siddhartha SRINIVASA,Prasanna Velagapudi,Victoria HINCHEY,Benjamin COHEN, JR.. Владелец: Berkshire Grey Operating Co Inc. Дата публикации: 2024-01-04.

Systems and methods for processing objects, including automated re-circulating processing stations

Номер патента: US11813744B2. Автор: Daniel Smith,Thomas Allen,Thomas Wagner,Benjamin Cohen,Kevin Ahearn,Michael DAWSON-HAGGERTY,Christopher GEYER,Thomas KOLETSCHKA,Kyle MARONEY,Matthew T. Mason,Gene Temple Price,Joseph Romano,Siddhartha SRINIVASA,Prasanna Velagapudi,Victoria HINCHEY. Владелец: Berkshire Grey Operating Co Inc. Дата публикации: 2023-11-14.

Method for a chemical and/or electrolytic surface treatment of a substrate in a process station

Номер патента: US20230095518A1. Автор: Andreas GLEISSNER,Franz Markut,Herbert Ötzlinger,Aljbert LJATIFI. Владелец: Semsysco GmbH. Дата публикации: 2023-03-30.

An apparatus for driving one or more processing stations, and a chain for use in the apparatus

Номер патента: WO2004067421A1. Автор: Markus Palmnas,Lars-Ebbe Persson. Владелец: TETRA LAVAL HOLDINGS & FINANCE S.A.. Дата публикации: 2004-08-12.

Luggage processing station

Номер патента: CA2937637A1. Автор: Michael Dupre Sanderson,Rainer Rudolf Dinkelmann,Paul Craig Bellamy,Christian Riegman,Kenneth Scott Ifield. Владелец: ICM AIRPORT TECHNICS AUSTRALIA PTY LTD. Дата публикации: 2012-02-02.

Method and apparatus for transferring printed products arriving in at least one continuous product stream to the infeed paths or lines of at least two processing stations

Номер патента: US4866910A. Автор: Walter Reist. Владелец: Ferag AG. Дата публикации: 1989-09-19.

Luggage processing station

Номер патента: EP3173987A1. Автор: Michael Dupre Sanderson,Rainer Rudolf Dinkelmann,Paul Craig Bellamy,Christian Riegman,Kenneth Scott Ifield. Владелец: ICM AIRPORT TECHNICS AUSTRALIA PTY LTD. Дата публикации: 2017-05-31.

Luggage processing station

Номер патента: CA2806612A1. Автор: Michael Dupre Sanderson,Rainer Rudolf Dinkelmann,Paul Craig Bellamy,Christian Riegman,Kenneth Scott Ifield. Владелец: ICM AIRPORT TECHNICS AUSTRALIA PTY LTD. Дата публикации: 2012-02-02.

Luggage processing station

Номер патента: US20180314987A2. Автор: Michael Dupre Sanderson,Rainer Rudolf Dinkelmann,Paul Craig Bellamy,Christian Riegman,Kenneth Scott Ifield. Владелец: ICM AIRPORT TECHNICS AUSTRALIA PTY LTD. Дата публикации: 2018-11-01.

Processing Station and Cleaning System

Номер патента: US20200345195A1. Автор: FENG Zhou. Владелец: Shenzhen Silver Star Intelligent Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-11-05.

Processing station and cleaning system

Номер патента: US11330952B2. Автор: FENG Zhou. Владелец: Shenzhen Silver Star Intelligent Technology Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-17.

Process station for a parison or a container made of thermoplastic material, apparatus for processing parisons or containers, production and packaging line for producing and packaging the containers and method for producing and packaging containers

Номер патента: US20170326778A1. Автор: Paolo Pagliarini. Владелец: GEA Procomac SpA. Дата публикации: 2017-11-16.

Improved trolley for storing and transferring ceramic products among processing stations

Номер патента: MY118040A. Автор: Fausto Tarozzi. Владелец: Gruppo Barbieri & Tarozzi Srl. Дата публикации: 2004-08-30.

Mobile mineral material processing station and a method in a mobile mineral material processing station

Номер патента: FI128397B. Автор: Vesa-Matti Salminen. Владелец: Metso Minerals Inc. Дата публикации: 2020-04-30.

Sheet material processing tool, sheet material processing station, and sheet material processing machine

Номер патента: CA3208094A1. Автор: Patrice Chatry,Arnaud DEKERVEL. Владелец: BOBST MEX SA. Дата публикации: 2022-08-04.

Luggage processing station

Номер патента: US11919722B2. Автор: Michael Dupre Sanderson,Rainer Rudolf Dinkelmann,Paul Craig Bellamy,Christian Riegman,Kenneth Scott Ifield. Владелец: Icm Airport Technics Pty Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

Sheet material processing tool, sheet material processing station, and sheet material processing machine

Номер патента: EP4284608A1. Автор: Patrice Chatry,Arnaud DEKERVEL. Владелец: BOBST MEX SA. Дата публикации: 2023-12-06.

Transport system for transporting workpieces on a transport path between two production process stations

Номер патента: US11958096B2. Автор: Tim BÜLLESBACH,Nihat Demir,Andreas Senge. Владелец: Strothmann Machines and Handling GmbH. Дата публикации: 2024-04-16.

System for feeding a continuous medium including multi-ply media to a processing station with selectable reduction in jamming, wrinkling, or pealing of the media surface

Номер патента: US6533262B1. Автор: Kazuyoshi Yoshida,Atsuo Yagihashi. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2003-03-18.

Apparatus for transporting carriers to a processing station and method of operating the same

Номер патента: CA2378203C. Автор: Roger Francois Gabrielle Armand Nuyens. Владелец: Janssen Pharmaceutica NV. Дата публикации: 2007-12-11.

Plant equipped with revolving tool assemblies for welding automotive vehicle bodies in a single processing station

Номер патента: CA1330173C. Автор: Gaetano Di Rosa. Владелец: FATA Automation SpA. Дата публикации: 1994-06-14.

Luggage processing station

Номер патента: US11926482B2. Автор: Michael Dupre Sanderson,Rainer Rudolf Dinkelmann,Paul Craig Bellamy,Christian Riegman,Kenneth Scott Ifield. Владелец: Icm Airport Technics Pty Ltd. Дата публикации: 2024-03-12.

Semiconductor processing module with integrated feedback/feed forward metrology

Номер патента: EP1405338A2. Автор: BO Su,Kevin P. Fairbairn. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-04-07.

Semiconductor processing module with integrated feedback/feed forward metrology

Номер патента: WO2003007365A3. Автор: BO Su,Kevin P Fairbairn. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-08-28.

Semiconductor processing module with integrated feedback/feed forward metrology

Номер патента: WO2003007365A2. Автор: BO Su,Kevin P. Fairbairn. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2003-01-23.

Semiconductor process integrating source/drain stressors and interlevel dielectric layer stressors

Номер патента: WO2007103609A2. Автор: Bich-Yen Nguyen,Da Zhang,Vance H. Adams,Paul A. Grudowski. Владелец: Freescale Semiconductor Inc.. Дата публикации: 2007-09-13.

Advanced semiconductor process optimization and adaptive control during manufacturing

Номер патента: EP4276891A3. Автор: Dermot Cantwell,Samer Banna,Waheb Bishara,Lior Engel. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-21.

Semiconductor package structure and semiconductor process

Номер патента: US09420695B2. Автор: Cheng-Lin HO,Chih-Cheng LEE,Yuan-Chang Su. Владелец: Advanced Semiconductor Engineering Inc. Дата публикации: 2016-08-16.

Semiconductor processing methods

Номер патента: US7557001B2. Автор: Mark Fischer,Terrence B. Mcdaniel. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2009-07-07.

Semiconductor processing methods

Номер патента: US20100304560A1. Автор: Mark Fischer,Terrence B. Mcdaniel. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2010-12-02.

Semiconductor processing methods

Номер патента: US7883959B2. Автор: Mark Fischer,Terrence B. Mcdaniel. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2011-02-08.

Task scheduling method and semiconductor process device

Номер патента: EP4459524A1. Автор: Guang Yang. Владелец: Xi'an Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-06.

Overlay and semiconductor process control using a wafer geometry metric

Номер патента: US09354526B2. Автор: Jaydeep K. Sinha,Pradeep Vukkadala,Sathish Veeraraghavan. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2016-05-31.

Semiconductor processing tools with improved performance by use of hybrid learning models

Номер патента: US11947888B2. Автор: Stephen Moffatt,Sheldon R. Normand,Dermot P. Cantwell. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-02.

Wafer processing tape and semiconductor processing method using the same

Номер патента: TWI437070B. Автор: Yasumasa Morishima,Akira Yabuki,Naoaki MIHARA. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 2014-05-11.

Method of operating process control using physical moudles and virtual modules in a semiconductor processing system

Номер патента: TWI308705B. Автор: Merritt Funk,Wesley Natzle. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-04-11.

Simulation system for semiconductor process and simulation method thereof

Номер патента: US11886783B2. Автор: Min-Chul Park,Sanghoon MYUNG,Changwook Jeong,Hyunjae JANG,In HUH,Hyeon Kyun Noh. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-01-30.

Simulation system for semiconductor process and simulation method thereof

Номер патента: US20210158152A1. Автор: Min-Chul Park,Sanghoon MYUNG,Changwook Jeong,Hyunjae JANG,In HUH,Hyeon Kyun Noh. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-05-27.

Passivation layer for epitaxial semiconductor process

Номер патента: US11908900B2. Автор: Jen-Cheng Liu,Kuan-Chieh Huang,Jyh-Ming Hung,Po-Chun Liu,Yi-Shin Chu,Hsiang-Lin Chen,Yin-Kai Liao,Sin-Yi Jiang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

Optical Diagnostics of Semiconductor Process Using Hyperspectral Imaging

Номер патента: US20200372629A1. Автор: Yan Chen,Xinkang Tian. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-11-26.

Optical Diagnostics of Semiconductor Process Using Hyperspectral Imaging

Номер патента: US20200373210A1. Автор: Yan Chen,Xinkang Tian. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-11-26.

Passivation layer for epitaxial semiconductor process

Номер патента: US20240136401A1. Автор: Jen-Cheng Liu,Kuan-Chieh Huang,Jyh-Ming Hung,Po-Chun Liu,Yi-Shin Chu,Hsiang-Lin Chen,Yin-Kai Liao,Sin-Yi Jiang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Semiconductor process integrating source/drain stressors and interlevel dielectric layer stressors

Номер патента: WO2007103609A3. Автор: Bich-Yen Nguyen,Da Zhang,Paul A Grudowski,Vance H Adams. Владелец: Vance H Adams. Дата публикации: 2008-12-31.

Location-specific tuning of stress to control bow to control overlay in semiconductor processing

Номер патента: US10157747B2. Автор: Anton J. deVilliers. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-12-18.

Generation method of pattern-electroplated cathode contact in semiconductor processing

Номер патента: TW200509351A. Автор: song-ping Lu,Kun-Yong Huang. Владелец: FuPo Electronics Corp. Дата публикации: 2005-03-01.

Schottky device and semiconductor process of making the same

Номер патента: TW200824132A. Автор: Chih-Feng Huang,Chiu-Chih Chiang,You-Kuo Wu,Long-Shih LIN. Владелец: System General Corp. Дата публикации: 2008-06-01.

Correlating an inline parameter to a device operation parameter in semiconductor processing

Номер патента: AU2003270664A1. Автор: Christopher A. Bode,Rick Good,Gregory A. Cherry. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2004-04-19.

Schottky device and semiconductor process of making the same

Номер патента: TWI332268B. Автор: Chih Feng Huang,Long Shih Lin,Chiu Chih Chiang,You Kuo Wu. Владелец: System General Corp. Дата публикации: 2010-10-21.

Remote access gateway for semiconductor processing equipment

Номер патента: TW201030522A. Автор: Ronald Vern Schauer. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2010-08-16.

Multi-component thermal spray coating material for semiconductor processing equipment, and manufacturing and coating method thereof

Номер патента: TW201043592A. Автор: Hyun-Kwang Seok,Kyeong-Ho Baik,Yu-Chan Kim. Владелец: Korea Inst Sci & Tech. Дата публикации: 2010-12-16.

Semiconductor processing techniques

Номер патента: EP1058175B1. Автор: Jaim Nulman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2005-10-26.

Semiconductor process, and silicon substrtae and chip package strucutre applying the same

Номер патента: TW201021137A. Автор: Chih-Wei Lu. Владелец: Unimicron Technology Corp. Дата публикации: 2010-06-01.

Semiconductor processing module with integrated feedback/feed forward metrology

Номер патента: AU2002316463A1. Автор: BO Su,Kevin P. Fairbairn. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-01-29.

A test structure and method for detecting charge effects during semiconductor processing

Номер патента: TWI335657B. Автор: Ming Hsiu Lee,Chao I Wu,Ming Chang Kuo. Владелец: Macronix Int Co Ltd. Дата публикации: 2011-01-01.

Specification establish method for semiconductor process control

Номер патента: TW201218097A. Автор: Wei-Jun Chen,Yun-Zong Tian,Cheng-Hao Chen,Yij-Chieh Chu,Shin-Chang Kao. Владелец: Inotera Memories Inc. Дата публикации: 2012-05-01.

Overlay marks and semiconductor process using the overlay marks

Номер патента: US09490217B1. Автор: Chia-Hung Wang,Chia-Ching Lin,En-Chiuan Liou,Sho-Shen Lee. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2016-11-08.

Semiconductor processing methods, and semiconductor constructions

Номер патента: US20070010084A1. Автор: Mark Fischer,Terrence McDaniel. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2007-01-11.

Plasma etching apparatus and semiconductor processing system

Номер патента: US20230078095A1. Автор: Sejin Oh,Dougyong Sung,Byeongsang KIM,Youngdo Kim,Sungho Jang,Yunhwan Kim,Jungmo YANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-16.

Nickel-coated free-standing silicon carbide structure for sensing fluoro or halogen species in semiconductor processing systems, and processes of making and using same

Номер патента: TW200535916A. Автор: James Welch,Frank Dimeo Jr,Jeffrey W Neuner,Ing-Shin Chen,Philip S H Chen. Владелец: Advanced Tech Materials. Дата публикации: 2005-11-01.

Semiconductor process management system, semiconductor manufacturing system including the same, and method of manufacturing semiconductor

Номер патента: US09791855B2. Автор: Do-Hyung Kim,Sung-Hyup Kim,Jai-Hyung Won,Ho-jun Kim,Dong-Hoon Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-10-17.

Lithography system and semiconductor processing process

Номер патента: US09753373B2. Автор: Chia-Hung Wang,En-Chiuan Liou. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-09-05.

Method of training semiconductor process image generator

Номер патента: US20230177815A1. Автор: Hyeok Lee,Jaewon Yang,Sangchul Yeo,Sooryong Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-08.

A double exposure semiconductor process for improved process margin

Номер патента: EP2176710A1. Автор: Jonathan Jung-Ching Ho. Владелец: Xilinx Inc. Дата публикации: 2010-04-21.

A double exposure semiconductor process for improved process margin

Номер патента: WO2009020979A1. Автор: Jonathan Jung-Ching Ho. Владелец: XILINX, INC.. Дата публикации: 2009-02-12.

Double exposure semiconductor process for improved process margin

Номер патента: US20090042389A1. Автор: Jonathan Jung-Ching Ho. Владелец: Xilinx Inc. Дата публикации: 2009-02-12.

Valve for throttling gas flow from a semiconductor processing tool

Номер патента: US12055228B2. Автор: Chang Chun,Yi-Ming Lin,Sheng-chun YANG,Po-Chih Huang,Xuan-Yang Zheng,Ren-Jyue Wang,Tzu-Chuan Chao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Method and system for improved semiconductor processing equipment vibration isolation and reduction

Номер патента: US09995365B1. Автор: Suk K. Kim-Whitty. Владелец: Sk Commercial Construction Inc. Дата публикации: 2018-06-12.

System and method for detecting liquid flow from a nozzle in a semiconductor processing device

Номер патента: US20060091335A1. Автор: Kenneth Roberts. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2006-05-04.

Method of managing semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20240272561A1. Автор: Seungbeom Park,Hojun Lee,Myungjun Lee,Junho SHIN,Wookrae Kim,Jangwoon SUNG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-15.

Method of manufacturing an electrostatic object clamp, electrostatic object clamp and semiconductor processing apparatus

Номер патента: WO2024179830A1. Автор: Simon HALM,Nicholas Alan ALLSOP,Till Warming,Frank Bert WIGGERS,Heike LUDWIG. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-09-06.

Method of manufacturing an electrostatic object clamp, electrostatic object clamp and semiconductor processing apparatus

Номер патента: EP4425259A1. Автор: Simon HALM,Nicholas Alan ALLSOP,Till Warming,Frank Bert WIGGERS,Heike LUDWIG. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-09-04.

Method and apparatus for automated validation of semiconductor process recipes

Номер патента: WO2012030930A2. Автор: Charles Hardy,Roger Alan Lindley. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-03-08.

System for detecting semiconductor process and method for detecting semiconductor process

Номер патента: US20220043432A1. Автор: Yong-Yu Chen,Huan-Cheng Li. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2022-02-10.

Lithography system and semiconductor processing process

Номер патента: US20170139329A1. Автор: Chia-Hung Wang,En-Chiuan Liou. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-05-18.

Deterioration detecting system and method for semiconductor process kits

Номер патента: US20220034814A1. Автор: Feng-Min Shen,Chyuan-Ruey LIN,Hung-Chia SU. Владелец: Top Technology Platform Co Ltd. Дата публикации: 2022-02-03.

Semiconductor process prediction method and semiconductor process prediction apparatus considering overall features and local features

Номер патента: US20220237450A1. Автор: Hsin-Ming Hou. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2022-07-28.

Method, Computer Program and System Providing for Semiconductor Processes Optimization

Номер патента: US20090031260A1. Автор: Theodorus E. Standaert,Matthew Angyal,Ibrahim M. Elfadel,Raminderpal Singh,Alina Deutsch,Wayne H. Woods. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2009-01-29.

Method of correcting layout for semiconductor process using machine learning, method of manufacturing semiconductor device using the same, and layout correction system performing the same

Номер патента: US20240143886A1. Автор: Jungmin Kim,Kyeonghwan Kang,Hungbae AHN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-02.

Process for recognising, in a processing cycle performed in sequence in a plurality of separate processing stations, the item to be subjected to the respective processing each time.

Номер патента: EP1693730B1. Автор: Federico Giudiceandrea. Владелец: Microtec SRL. Дата публикации: 2009-10-28.

Process for recognising, in a processing cycle performed in sequence in a plurality of separate processing stations, the item to be subjected to the respective processing each time.

Номер патента: EP1693730A3. Автор: Federico Giudiceandrea. Владелец: Microtec SRL. Дата публикации: 2007-05-09.

Monitor system and method for semiconductor processes

Номер патента: US20150148933A1. Автор: Chih-Wei Huang,Feng-Ning Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-05-28.

Double exposure semiconductor process for improved process margin

Номер патента: US7951722B2. Автор: Jonathan Jung-Ching Ho. Владелец: Xilinx Inc. Дата публикации: 2011-05-31.

Method of controlling semiconductor process and semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20240152046A1. Автор: Jeongjin Lee,Chan Hwang,Seungyoon LEE,Doogyu Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-09.

System and method for fault detection and operational readiness for optical instruments for semiconductor processes

Номер патента: US20240019305A1. Автор: Andrew Weeks Kueny,Mike Whelan. Владелец: Verity Instruments Inc. Дата публикации: 2024-01-18.

Monitoring process stations utilizing visual indicators

Номер патента: EP4375772A1. Автор: Yannick MARET,Sylvio LAPLANTE,Guillaume Alarie,Sébastien Larose,Andreas Strauch,Carl Robins. Владелец: ABB Schweiz AG. Дата публикации: 2024-05-29.

Apparatus and method for single-sided loading of a furnace or other process station

Номер патента: US7607321B2. Автор: Thomas W. Tombler, JR.,Brian Y. Lim,Jon W. Lai. Владелец: Atomate Corp. Дата публикации: 2009-10-27.

Apparatus and method for single-sided loading of a furnace or other process station

Номер патента: US20050175953A1. Автор: Thomas Tombler,Brian Lim,Jon Lai. Владелец: ATOMATE Inc. Дата публикации: 2005-08-11.

Method for feed of fibrous product to textile machine process stations and device for its embodiment

Номер патента: RU2078160C1. Автор: В.И. Карепин,В.О. Симонян,В.А. Бородин,В.П. Широков,М.П. Диденко. Владелец: Центральный научно-исследовательский институт хлопчатобумажной промышленности. Дата публикации: 1997-04-27.

Pressure gauge for semiconductor processing

Номер патента: CA2238053A1. Автор: Walter J. Ferguson. Владелец: Individual. Дата публикации: 1997-07-24.

Improved optical access for spectroscopic monitoring of semiconductor processes

Номер патента: WO2024097654A1. Автор: Mark Meloni. Владелец: Verity Instruments, Inc.. Дата публикации: 2024-05-10.

Pressure gauge for semiconductor processing

Номер патента: WO1997026519A1. Автор: Walter J. Ferguson. Владелец: Dresser Industries Inc.. Дата публикации: 1997-07-24.

Method of semiconductor process simulation

Номер патента: US20240193323A1. Автор: Yukihide Tsuji,Shinwook Yi,Hisashi KOTAKEMORI,Yuntae Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-13.

Test circuitry for determining the defect density of a semiconductor process as a function of individual metal layers

Номер патента: US6061814A. Автор: V. Swamy Irrinki,Emery O. Sugasawara. Владелец: LSI Logic Corp. Дата публикации: 2000-05-09.

Method and system for personalizing a multiplicity of security documents using a plurality of processing stations

Номер патента: US7931270B2. Автор: Josef Kirschbauer,Gunnar Kamp,Axel Schwarzmeier. Владелец: Muehlbauer GmbH and Co KG. Дата публикации: 2011-04-26.

Monitoring process stations utilizing visual indicators

Номер патента: US20240144687A1. Автор: Yannick MARET,Sylvio LAPLANTE,Guillaume Alarie,Sébastien Larose,Andreas Strauch,Carl Robins. Владелец: ABB Schweiz AG. Дата публикации: 2024-05-02.

Monitoring changes in process stations utilizing visual indicators

Номер патента: US20240144686A1. Автор: Andreas Strauch. Владелец: ABB Schweiz AG. Дата публикации: 2024-05-02.

Monitoring changes in process stations utilizing visual indicators

Номер патента: EP4375771A1. Автор: Andreas Strauch. Владелец: ABB Schweiz AG. Дата публикации: 2024-05-29.

Device for feeding correctly orientated socks to a processing station

Номер патента: EP1063335A3. Автор: Mario Valle,Renato Pandolfi,Sergio Salvetti. Владелец: Conti Complett SpA. Дата публикации: 2001-11-14.

Diagnostic processing station

Номер патента: US5384094A. Автор: Gottlieb Schacher. Владелец: Hoffmann La Roche Inc. Дата публикации: 1995-01-24.

A method for monitoring the chemical parameters of an existing mineral resources processing or water treatment plant, a system designed for this purpose, and a processing station containing such a system

Номер патента: RU2742577C2. Автор: Кристофер Джон ГРЕ. Владелец: Маготто Интернасьональ С.А.. Дата публикации: 2021-02-08.

Portable processing station

Номер патента: US4026649A. Автор: Charles J. Leonhart. Владелец: Nuarc Co Inc. Дата публикации: 1977-05-31.

Nickel-Carbon And Nickel-Cobalt-Carbon Brazes And Brazing Processes For Joining Ceramics And Metals And Semiconductor Processing And Industrial Equipment Using Same

Номер патента: US20240278359A1. Автор: Alfred Grant Elliot,Brent Elliot. Владелец: Watlow Electric Manufacturing Co. Дата публикации: 2024-08-22.

Plasma-resistant, welded aluminum structures for use in semiconductor processing apparatus

Номер патента: EP1480777A2. Автор: Shun Jackson Wu,Clifford C. Stow,Jennifer Y. Sun,Senh Thach,Yixing Lin. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-12-01.

Plasma-resistant, welded aluminum structures for use in semiconductor processing apparatus

Номер патента: WO2003073478A2. Автор: Shun Jackson Wu,Clifford C. Stow,Jennifer Y. Sun,Senh Thach,Yixing Lin. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2003-09-04.

Semiconductor process chamber with improved reflector

Номер патента: US20230399742A1. Автор: Yen Chuang,Chia-Hung Liu,Sou-Chuan CHIANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Cleaning of semiconductor process equipment chamber parts using organic solvents

Номер патента: US20020066466A1. Автор: Samantha Tan. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-06-06.

Apparatus for semiconductor process including photo-excitation process

Номер патента: US5229081A. Автор: Toshikazu Suda. Владелец: Regal Joint Co Ltd. Дата публикации: 1993-07-20.

Process chamber of semiconductor equipment, semiconductor equipment and semiconductor process method

Номер патента: CN115125519A. Автор: 郑波,高天,赵联波,赵雷超,沈宇鑫. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-30.

Ceramic coating material for thermal spray on the parts of semiconductor processing devices and fabrication method and coating method thereof

Номер патента: TW200815624A. Автор: Hyun-Kwang Seok,Kyeong-Ho Baik,Hae-Won Lee. Владелец: Korea Inst Sci & Tech. Дата публикации: 2008-04-01.

Semiconductor processing device with edge purging

Номер патента: US20240254629A1. Автор: Herbert Terhorst,Jereld Lee Winkler,Todd Robert Dunn,Eric James Shero,Michael Schmotzer,Ankit Kimtee,Shuyang Zhang,Shubham Garg,Rohan Vijay Rane. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-08-01.

Buffer device for semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20040218449A1. Автор: Jian Zhang,Hong Wong,Wee How. Владелец: ASM TECHNOLOGY SINGAPORE PTE LTD. Дата публикации: 2004-11-04.

Method, apparatus and system for providing multiple euv beams for semiconductor processing

Номер патента: US20170019982A1. Автор: Erik Robert Hosler,Moseh Preil. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-01-19.

Rational Decision-Making Tool for Semiconductor Processes

Номер патента: US20220327268A9. Автор: Lin Lee CHEONG,Tomonori Honda,Lakshmikar Kuravi,Bogdan Cirlin. Владелец: PDF Solutions Inc. Дата публикации: 2022-10-13.

Buffer device for semiconductor processing apparatus

Номер патента: SG139732A1. Автор: Zhang Jian,Wee Kiun Francis How,Hong Yang Tim Wong. Владелец: Asm Tech Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2008-02-29.

Semiconductor processing tool and methods of operation

Номер патента: US20230309194A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Sheng-Kang Yu,Wei-Chun YEN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Semiconductor processing tool and methods of operation

Номер патента: US20230038668A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Tai-Yu Chen,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Sheng-Kang Yu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-02-09.

Semiconductor processing tool and methods of operation

Номер патента: US20230058753A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Cheng-Hsuan Wu,Cheng-Hao Lai,Yu-Kuang SUN,Ming-Hsun Tsai,Wei-Shin CHENG,Hsin-Feng Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-02-23.

Semiconductor processing tool and methods of operation

Номер патента: US20220413398A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Sheng-Kang Yu,Cheng Hung Tsai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-12-29.

Semiconductor process variation detector

Номер патента: US20210013805A1. Автор: Saurav Bandyopadhyay,Ramanathan Ramani,Robert Allan Neidorff. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2021-01-14.

Semiconductor processing tool and methods of operation

Номер патента: US20240142878A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Tai-Yu Chen,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Sheng-Kang Yu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-05-02.

Semiconductor processing tool and methods of operation

Номер патента: US11906902B2. Автор: Heng-Hsin Liu,Tai-Yu Chen,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Sheng-Kang Yu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

SEMICONDUCTOR PROCESSING DEVICE AND SEMICONDUCTOR PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20130314147A1. Автор: Shimizu Nobuo,Takikawa Yutaka. Владелец: . Дата публикации: 2013-11-28.

Dioxaborines as organic n-semiconductors, process for the production of semiconductors utilizing dioxaborines, and semiconductor component, field effect transistor, and diode having a dioxaborine

Номер патента: US20030234396A1. Автор: Günter Schmid,Lisa Davis,Marcus Halik. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-12-25.

System to collect, recover and recycle chemical exhaust from semiconductor processing chambers

Номер патента: WO2024220806A1. Автор: Andrea Leoncini,Zhijie CHUA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-10-24.

Film-forming material for semiconductor, member-forming material for semiconductor, process member-forming material for semiconductor, underlayer film-forming material, underlayer film, and semiconductor device

Номер патента: US20240352203A1. Автор: Masatomi Irisawa,Hiromasa Saito,Yousuke MURAMATSU,Mizuki SUZUKI. Владелец: Adeka Corp. Дата публикации: 2024-10-24.

Ultraviolet light activated oxidation process for the reduction of organic carbon in semiconductor process water

Номер патента: US12103874B2. Автор: Steve D. Sitkiewitz,Gary M. Carmignani,Lee W. Frederick. Владелец: Evoqua Water Technologies LLC. Дата публикации: 2024-10-01.

Processing plant with device for holding and centering bodies in processing stations

Номер патента: US20010042672A1. Автор: Gaetano Di Rosa. Владелец: Advanced Technologies SRL. Дата публикации: 2001-11-22.

System and method for transporting wire components through pneumatic tubes between wire component processing stations

Номер патента: US20160090247A1. Автор: Bradley J. Mitchell,Nick S. Evans. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2016-03-31.

Automated syringe processing stations and related methods

Номер патента: WO2023178435A1. Автор: Kenneth Wayne Nicholson,Philip David MUNROE,Michael Tze-Chun CHOW,Ryan David CHUBB,Philip Michael KURTZ. Владелец: Chow Michael Tze Chun. Дата публикации: 2023-09-28.

Film-forming material for semiconductor, member-forming material for semiconductor, process member-forming material for semiconductor, underlayer film-forming material, underlayer film, and semiconductor device

Номер патента: EP4375750A1. Автор: Masatomi Irisawa,Hiromasa Saito,Yousuke MURAMATSU,Mizuki SUZUKI. Владелец: Adeka Corp. Дата публикации: 2024-05-29.

Constant Force Mechanical Scribers and Methods for Using Same In Semiconductor Processing Applications

Номер патента: US20100180746A1. Автор: Daniel Liu,Wen Chang,Erel Milshtein,Alex Shenderovich,Boris Djurovic,Benyamin Butler. Владелец: Solyndra Inc. Дата публикации: 2010-07-22.

Constant Force Mechanical Scribers and Methods for Using Same In Semiconductor Processing Applications

Номер патента: US20110132170A1. Автор: Daniel Liu,Wen Chang,Erel Milshtein,Alex Shenderovich,Boris Djurovic,Benyamin Butler. Владелец: Solyndra Inc. Дата публикации: 2011-06-09.

Constant force mechanical scribers and methods for using same in semiconductor processing applications

Номер патента: US20090094844A1. Автор: Daniel Liu,Wen Chang,Benyamin Buller,Erel Milshtein,Alex Shenderovich,Boris Djurovic. Владелец: Solyndra Inc. Дата публикации: 2009-04-16.

Compact external torch assembly for semiconductor processing

Номер патента: AU5063599A. Автор: Gideon Drimer,Leo Mendelovici,Nachum Borivker. Владелец: Persys Technology Ltd. Дата публикации: 2000-02-28.

Compact external torch assembly for semiconductor processing

Номер патента: EP1071913A4. Автор: Gideon Drimer,Leo Mendelovici,Nachum Borivker. Владелец: Persys Technology Ltd. Дата публикации: 2003-08-13.

Process for purifying semiconductor process gases to remove lewis acid and oxidant impurities therefrom

Номер патента: US5531971A. Автор: Glenn M. Tom,James V. McManus. Владелец: Millipore Investment Holdings Ltd. Дата публикации: 1996-07-02.

Semiconductor calibration structures, semiconductor calibration wafers, calibration methods of calibrating semiconductor wafer coating systems, semiconductor processing methods of ascertaining layer alignment during processing and calibration methods of calibrating multiple semiconductor wafer coating systems

Номер патента: US20020029608A1. Автор: Lisa Napolitano,Walter Hubbard. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-03-14.

Semiconductor processing tool and methods of operation

Номер патента: US12111583B2. Автор: Heng-Hsin Liu,Li-Jui Chen,Kai-Chieh Chang,Kai-Fa Ho. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

A method for drying developed photoresist in semiconductor processing

Номер патента: WO2005010620A1. Автор: Reese M. Reynolds. Владелец: Reynolds Reese M. Дата публикации: 2005-02-03.

Enhanced sampling methodology for semiconductor processing

Номер патента: US20060043997A1. Автор: Pushkar Merwah. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2006-03-02.

Methods and mechanisms for modifying machine-learning models for new semiconductor processing equipment

Номер патента: US20240288779A1. Автор: Waheb Bishara,Subhasish Bandyopadhyay. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-29.

Gas delivery system for outputting fast square waves of process gas during semiconductor processing

Номер патента: US09448564B2. Автор: Daniel T. Mudd,Patti J MUDD. Владелец: Reno Technologies Inc. Дата публикации: 2016-09-20.

Sensitized chemically amplified photoresist for use in photomask fabrication and semiconductor processing

Номер патента: EP1506454A2. Автор: Melvin W. Montgomery,Christopher Hamaker. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2005-02-16.

Method for improved semiconductor processing equipment tool pedestal / pad vibration isolation and reduction

Номер патента: US20190040929A1. Автор: Suk K. Kim-Whitty. Владелец: Sk Commercial Construction Inc. Дата публикации: 2019-02-07.

A double exposure semiconductor process for improved process margin

Номер патента: TW200910421A. Автор: Jonathan Jung-Ching Ho. Владелец: Xilinx Inc. Дата публикации: 2009-03-01.

A double exposure semiconductor process for improved process margin

Номер патента: EP2176710B1. Автор: Jonathan Jung-Ching Ho. Владелец: Xilinx Inc. Дата публикации: 2017-11-08.

Semiconductor processing tool and methods of operation

Номер патента: US11822256B2. Автор: Heng-Hsin Liu,Li-Jui Chen,Kai-Chieh Chang,Kai-Fa Ho. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-21.

Semiconductor processing tool and methods of operation

Номер патента: US20240019789A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Li-Jui Chen,Kai-Chieh Chang,Kai-Fa Ho. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-01-18.

Semiconductor process simulation method, semiconductor process simulation device and computing device for performing semiconductor process simulation

Номер патента: TWI709902B. Автор: 張誠桓,金成瞮,都支星,李元錫. Владелец: 南韓商三星電子股份有限公司. Дата публикации: 2020-11-11.

Semiconductor process simulation method, semiconductor process simulation device and computing device for performing semiconductor process simulation

Номер патента: TW201715423A. Автор: 張誠桓,金成瞮,都支星,李元錫. Владелец: 三星電子股份有限公司. Дата публикации: 2017-05-01.

Semiconductor process parameter determining method, semiconductor process parameter determining system, and semiconductor process parameter determining program

Номер патента: US20020152059A1. Автор: Genichi Tanaka. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2002-10-17.

Semiconductor processing tool and methods of operation

Номер патента: US11809087B2. Автор: Heng-Hsin Liu,Li-Jui Chen,Kai-Chieh Chang,Kai-Fa Ho. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-07.

Semiconductor processing tool and methods of operation

Номер патента: US20230384688A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Li-Jui Chen,Kai-Chieh Chang,Kai-Fa Ho. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Semiconductor processing technique, including pyrometric measurement of radiantly heated bodies

Номер патента: US5442727A. Автор: Anthony T. Fiory. Владелец: AT&T Corp. Дата публикации: 1995-08-15.

Semiconductor processing technique, including pyrometric measurement of radiantly heated bodies

Номер патента: US5305416A. Автор: Anthony T. Fiory. Владелец: AT&T Bell Laboratories Inc. Дата публикации: 1994-04-19.

System and method for acquiring semiconductor process status information

Номер патента: TW200504477A. Автор: Yuk-Tong Lee,Chun-Ching Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg Co Ltd. Дата публикации: 2005-02-01.

Thermal imaging for semiconductor process monitoring

Номер патента: AU1612899A. Автор: Jiazhan Xu,Peter A. Rosenthal,Joseph E. Cosgrove,Sylvie Charpenay. Владелец: On Line Technologies Inc. Дата публикации: 1999-06-16.

System and method for spatially resolved optical emission spectroscopic monitoring of semiconductor processes

Номер патента: WO2024015515A3. Автор: Andrew Weeks Kueny. Владелец: Verity Instruments, Inc.. Дата публикации: 2024-04-04.

Semiconductor processing tool and methods of operation

Номер патента: US20220350264A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Li-Jui Chen,Yen-Shuo Su,Kai-Chieh Chang,Chun-Lin Chang,Kai-Fa Ho,Che-Chang Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-11-03.

System and method for acquiring semiconductor process status information

Номер патента: TWI251134B. Автор: Yuk-Tong Lee,Chun-Ching Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2006-03-11.

Monitoring of film characteristics during plasma-based semiconductor processing using optical emission spectroscopy

Номер патента: TW501216B. Автор: Moshe Sarfaty,Hakeem Oluseyi. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-09-01.

Semiconductor process modeling to enable skip via in place and route flow

Номер патента: US10831973B2. Автор: ZHENG Xu,Lawrence A. Clevenger,Dongbing Shao. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2020-11-10.

Semiconductor processing tool and methods of operation

Номер патента: US20220413399A1. Автор: Heng-Hsin Liu,Shang-Chieh Chien,Li-Jui Chen,Chieh HSIEH,Sheng-Kang Yu,Shih-Yu Tu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-12-29.

Semiconductor processing device

Номер патента: TW200419335A. Автор: Takayuki Tamura,Shinichi Shudo,Chiaki Kumahara. Владелец: Renesas Tech Corp. Дата публикации: 2004-10-01.

A system and method for identifying semiconductor process steps for queue-time control and abnormality detection

Номер патента: TW200534062A. Автор: Jr-Yuan Jang,Jr-Hung Wu,Jia-Jiun Liou,Guo-Rung Shiau. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2005-10-16.

SYSTEM FOR DETECTING SEMICONDUCTOR PROCESS AND METHOD FOR DETECTING SEMICONDUCTOR PROCESS

Номер патента: US20220043432A1. Автор: LI HUAN-CHENG,Chen Yong-Yu. Владелец: . Дата публикации: 2022-02-10.

Method of teaching eyepoints for wire bonding and related semiconductor processing operations

Номер патента: SG179485A1. Автор: Zhijie Wang,Deepak Sood,Peter M Lister,Michael T Deley. Владелец: Kulicke & Soffa Ind Inc. Дата публикации: 2012-04-27.

Semiconductor processing apparatus

Номер патента: SG194251A1. Автор: Yao Hua Sun,Eeyian Toh. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2013-11-29.

Handling and processing station for cleaning and drying of workpieces

Номер патента: CA162173S. Автор: . Владелец: Duerr Ecoclean GmbH. Дата публикации: 2017-08-25.

Semiconductor processing device

Номер патента: IES87130B2. Автор: Chang Yoyu,Huang Chunyao,Yu Chang Yo,Yao Huang Chun. Владелец: Mfc Sealing Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-05.

Semiconductor processing device

Номер патента: IES20190077A2. Автор: Chang Yoyu,Huang Chunyao,Yu Chang Yo,Yao Huang Chun. Владелец: Mfc Sealing Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-24.

Animal processing station including a crate which can be assembled from a number of components

Номер патента: NZ548995A. Автор: Rodney John Lawrence. Владелец: Gallagher Group Ltd. Дата публикации: 2008-03-28.

Data capture assembly for an animal processing station

Номер патента: NZ553213A. Автор: Rodney John Lawrence. Владелец: Gallagher Group Ltd. Дата публикации: 2009-07-31.

SEMICONDUCTOR PROCESSING STATION AND METHOD FOR PROCESSING SEMICONDUCTOR WAFER

Номер патента: US20140086720A1. Автор: Liu Hsu-Shui,Pai Jiun-Rong,KO LI-JEN,KAO Mao-Lin,SHEN Hsiang-Yin,HU Tien-Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufaturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2014-03-27.

ENDPOINT DETECTOR FOR A SEMICONDUCTOR PROCESSING STATION AND ASSOCIATED METHODS

Номер патента: US20130218316A1. Автор: Zhang John H.,GOLDBERG Cindy. Владелец: STMicroelectronics, Inc.. Дата публикации: 2013-08-22.

Semiconductor process having dielectric layer including metal oxide and MOS transistor process

Номер патента: TW201237966A. Автор: Chan-Lon Yang,Shih-Fang Tzou,Chen-Kuo Chiang. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2012-09-16.

E-beam enhanced decoupled source for semiconductor processing

Номер патента: SG193943A1. Автор: Akira Koshiishi,Harmeet Singh,John Patrick Holland,Jun Shinagawa,Peter L G Ventzek. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2013-11-29.

Semiconductor processing method and semiconductor processing apparatus using processing liquid

Номер патента: JP3355827B2. Автор: 知穂 梶田. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2002-12-09.

Entitled SEMICONDUCTOR PROCESS

Номер патента: AU1408062A. Автор: CONNELL and WALTER CHARLES BENZING ROBERT. Владелец: Merck and Co Inc. Дата публикации: 1963-08-08.

Semiconductor process

Номер патента: TW201104754A. Автор: Chun-Chieh Fang,Tsung-Min Kuo,Po-Jong Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2011-02-01.

Etching apparatus for semiconductor processing apparatus and method thereof for recycling etchant solutions

Номер патента: TWI330386B. Автор: I Yao Chen,Son Lung Chen,ying fang Chen,Kuo Chang Chu,Guo Qiang Wu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2010-09-11.

A Semiconductor Processing Method

Номер патента: AU2004906003A0. Автор: . Владелец: Australian National University. Дата публикации: 2004-11-04.

On-site manufacture of ultra- high-purity hydrofluoric acid for semiconductor processing

Номер патента: TH26380A. Автор: อาร์.สก็อต คลาร์ค นาย,โจจี. ฮอฟฟ์แมน นาย. Владелец: นาย วิรัชศรีเอนกราธา. Дата публикации: 1997-08-28.

The fabricating method of single electron transistor (SET) by employing nano-lithographical technology in the semiconductor process

Номер патента: TW200725883A. Автор: Mimg-Nung Lin. Владелец: Mimg-Nung Lin. Дата публикации: 2007-07-01.

Developing method of semiconductor process

Номер патента: TW478036B. Автор: Ching-Yu Chang. Владелец: Macronix Int Co Ltd. Дата публикации: 2002-03-01.

Semiconductor processing method for selectively forming thin film in low pressure

Номер патента: TWI284371B. Автор: Cheng-Shun Chen,Yun-Chi Yang,Chun-Yi Yang. Владелец: Macronix Int Co Ltd. Дата публикации: 2007-07-21.

Photolithography system for semiconductor process

Номер патента: TWI283436B. Автор: Jui-I Yu. Владелец: Advanced Semiconductor Eng. Дата публикации: 2007-07-01.

Improvements in semiconductor processing

Номер патента: GB201014323D0. Автор: . Владелец: University of Sheffield. Дата публикации: 2010-10-13.

Patterning method in semiconductor process

Номер патента: TW322599B. Автор: Guang-Jau Chen,Yuh-Tarng Twu,Geeng-Huei Liaw. Владелец: Mos Electronics Taiwan Inc. Дата публикации: 1997-12-11.

Gas distribution plate for a semiconductor processing chamber

Номер патента: USD1035598S1. Автор: Mahesh RAMAKRISHNA,Yury Shustrov. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-16.

Semiconductor processing chamber

Номер патента: TW200949898A. Автор: Steve Chen. Владелец: Advanced Micro Fab Equip Inc. Дата публикации: 2009-12-01.

Leak-detecting apparatus of semiconductor process

Номер патента: TW438904B. Автор: San-An Lin,Jiue-Sheng Yang. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2001-06-07.

Oxygenation and heat supply apparatus for purifying waste gas from semiconductor process

Номер патента: TWM423583U. Автор: Wu-Yu Feng. Владелец: Orient Service Co Ltd. Дата публикации: 2012-03-01.

Cover ring for use in semiconductor processing chamber

Номер патента: USD1038049S1. Автор: SIQING Lu,Abhishek Chowdhury,Edwin C. Suarez,Harisha Sathyanarayana,Nataraj Bhaskar Rao. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-06.

Semiconductor processing

Номер патента: GB8428888D0. Автор: . Владелец: Standard Telephone and Cables PLC. Дата публикации: 1984-12-27.

Semiconductor processing method for selectively forming thin film in low pressure

Номер патента: TW200414354A. Автор: Cheng-Shun Chen,Yun-Chi Yang,Chun-Yi Yang. Владелец: Macronix Int Co Ltd. Дата публикации: 2004-08-01.

Method for minimizing component size in semiconductor processing and load register structure

Номер патента: TW356585B. Автор: Zhi-Ming WANG. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 1999-04-21.

Waste oil regeneration device of semiconductor process

Номер патента: TW487948B. Автор: Chein-Ming Tang. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2002-05-21.

Shallow trench isolation method for semiconductor process

Номер патента: TW495909B. Автор: Yung-Nan Liou. Владелец: Mosel Vitelic Inc. Дата публикации: 2002-07-21.

Semiconductor process workstation

Номер патента: TWM568495U. Автор: 游宏程,林展永,張志逢,陳偉仁,劉家誠. Владелец: 東捷科技股份有限公司. Дата публикации: 2018-10-11.

Semiconductor process device

Номер патента: TWM404482U. Автор: Deng-Yan Lin. Владелец: Deng-Yan Lin. Дата публикации: 2011-05-21.

Semiconductor processing

Номер патента: GB8503300D0. Автор: . Владелец: ITT Industries Inc. Дата публикации: 1985-03-13.

Method of detecting abnormal supply of chemicals for semiconductor process

Номер патента: TW200947170A. Автор: Po-Wen Tsai,Wen-Yin Liao,I-Jung Chou,Szu-Wen Lee. Владелец: Promos Technologies Inc. Дата публикации: 2009-11-16.

On-site manufacture of ultra-high-purity nitric acid for semiconductor processing

Номер патента: TH26383A. Автор: อาร์.สก็อต คลาร์ค นาย,โจ.จี. ฮอฟฟ์แมน นาย,วอลเลซไอ. หยวน นาย. Владелец: นาย วิรัชศรีอเนกราธา. Дата публикации: 1997-08-28.

Method for forming metal wire layer of semiconductor process

Номер патента: TW499736B. Автор: Matthew Tsai,Yu-Ting Lai,Chong-Shyeng Liao. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2002-08-21.

Semiconductor processes

Номер патента: GB8807052D0. Автор: . Владелец: Plessey Co Ltd. Дата публикации: 1988-04-27.

Rapid temperature rising and lowering device applied to optoelectronic semiconductor process

Номер патента: TWM350809U. Автор: Wu-Lang Lin,Shui-Bin Hong,Huang-Yu Zheng,Ming-Lun Guo,yu-guang Shi,ming-yuan Zhou,Ming-Hui Xu. Владелец: Premtek Int Inc. Дата публикации: 2009-02-11.

Manufacturing method of finishing conductive layer and device contact plug simultaneously in semiconductor process

Номер патента: TW310469B. Автор: Yeou-Jyh Jang,Dar-Ren Juang. Владелец: Nanya Technology Co Ltd. Дата публикации: 1997-07-11.

Low voltage complementary metal oxide semiconductor process tri-state buffer

Номер патента: TWI328347B. Автор: Ti Wen Chen,Tzung Shen Chen,Chun Yu Liao. Владелец: Macronix Int Co Ltd. Дата публикации: 2010-08-01.

Showerhead for semiconductor processing

Номер патента: USD1038900S1. Автор: Aaron Blake MILLER. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-13.

Semiconductor process

Номер патента: TW201108329A. Автор: An-Chi Liu,Chih-Chien Huang,Tien-Cheng Lan. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2011-03-01.

Semiconductor process and integrated circuit

Номер патента: AU2002258317A1. Автор: Ted Johansson,Hans Norström,Patrik Algotsson. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2002-11-18.

Low voltage complementary metal oxide semiconductor process tri-state buffer

Номер патента: TW200826492A. Автор: Tzung-Shen Chen,Chun-Yu Liao,Ti-Wen Chen. Владелец: Macronix Int Co Ltd. Дата публикации: 2008-06-16.

Multi-channel temperature control system for semiconductor processing facilities

Номер патента: AU2002306936A1. Автор: In-kwon Jeong. Владелец: Oriol Inc. Дата публикации: 2002-10-21.

Semiconductor process of integrating organic low-k material

Номер патента: TW529101B. Автор: Shich-Chang Suen,Jia-Min Shie,Sen-Bor Jan,Ming-Shr Tsai,Jr-Hung Liou. Владелец: Shr Min. Дата публикации: 2003-04-21.

Plasma source system and semiconductor processing equipment including the same

Номер патента: TW201106805A. Автор: Fu Tai,Ting-Tung LI,Jih-Young Tai,Yin-Yun Yeh. Владелец: Jing Jiang Technology Inc. Дата публикации: 2011-02-16.

Chemical etching method applicable in semiconductor process

Номер патента: TW424277B. Автор: Ruei-Jen Huang. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2001-03-01.

Semiconductor process

Номер патента: TW540115B. Автор: Ming-Cheng Yang,Jun-Yi Lee,Yun-Yu Chan,Sheng-Tsaing Tseng. Владелец: Promos Technologies Inc. Дата публикации: 2003-07-01.

A semiconductor film forming composition, a method for producing a semiconductor film forming composition, a method for producing a semiconductor member, and a method for producing a semiconductor process material.

Номер патента: JP6884026B2. Автор: 博文 田中,田中　博文,靖剛 茅場. Владелец: Mitsui Chemicals Inc. Дата публикации: 2021-06-09.

TEST STRUCTURE FOR SEMICONDUCTOR PROCESS AND METHOD FOR MONITORING SEMICONDUCTOR PROCESS

Номер патента: US20130270557A1. Автор: Shiu Jian-Bin,Lee Tung-Sheng. Владелец: . Дата публикации: 2013-10-17.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.