Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • 半导体工艺设备的工艺腔室及半导体工艺设备

半导体工艺设备的工艺腔室及半导体工艺设备

Номер патента: CN112813419B
Опубликовано: 21-10-2022
Автор(ы): 田西强
Принадлежит: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Semiconductor processing chamber component with a metal body and laser glazed ceramic coating

Номер патента: WO2024177759A1. Автор: LIN Xu,Eric A. Pape,David Joseph WETZEL,Jesu Titus IRUDAYARAJ. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-08-29.

Semiconductor process apparatus

Номер патента: EP4253596A1. Автор: HAO WANG,Bo Zheng,Yunfeng LAN,Wenqiang Zhang,Xiaoyan Ren,Xiaoping Shi,Haifeng Qin,Yongfei WANG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-04.

Semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20230411188A1. Автор: HAO WANG,Yunfeng LAN,Wenqiang Zhang,Xiaoyan Ren,Xiaoping Shi,Haifeng Qin,Yongfei WANG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Minimal contact packaging for process chamber components

Номер патента: US12100613B2. Автор: Christopher Laurent Beaudry,Joseph Frederick BEHNKE,Scott Osterman,Trevor WILANTEWICZ,Timothy Douglas TOTH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-24.

Atmospheric lid with rigid plate for carousel processing chambers

Номер патента: WO2014152311A1. Автор: Joseph Yudovsky,Kevin Griffin. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-09-25.

Apparatus for enhancing flow uniformity in a process chamber

Номер патента: US20200090957A1. Автор: Kirankumar Neelasandra Savandaiah,William Johanson,Fuhong Zhang,Jothilingam RAMALINGAM. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-03-19.

Apparatus for enhancing flow uniformity in a process chamber

Номер патента: WO2020056412A1. Автор: Kirankumar Neelasandra Savandaiah,William Johanson,Fuhong Zhang,Jothilingam RAMALINGAM. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-03-19.

Gas flow substrate supports, processing chambers, and related methods and apparatus, for semiconductor manufacturing

Номер патента: US20240363390A1. Автор: Hui Chen,Shawn Thomas,Xinning Luan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-31.

Gas flow substrate supports, processing chambers, and related methods and apparatus, for semiconductor manufacturing

Номер патента: WO2024226125A1. Автор: Hui Chen,Shawn Thomas,Xinning Luan. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-10-31.

Gap maintenance for opening to process chamber

Номер патента: WO2010080252A1. Автор: Eric Shero,Carl L. White,Joe Reed. Владелец: ASM AMERICA, INC.. Дата публикации: 2010-07-15.

In-situ wafer rotation for carousel processing chambers

Номер патента: US11798825B2. Автор: Joseph Yudovsky,Alexander S. Polyak. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-24.

In-situ wafer rotation for carousel processing chambers

Номер патента: WO2019210135A1. Автор: Joseph Yudovsky,Alexander S. Polyak. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2019-10-31.

Semiconductor processing apparatus and methods for calibrating a semiconductor processing apparatus

Номер патента: US12040200B2. Автор: John Tolle,Shiva Rajavelu,Rich McCartney. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-07-16.

Process chamber lid

Номер патента: WO2002027061A3. Автор: Shinichi Kurita,Wendell T Blonigan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-06-13.

Process chamber lid

Номер патента: WO2002027061A2. Автор: Wendell T. Blonigan,Shinichi Kurita. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2002-04-04.

Edge Profiling For Process Chamber Shields

Номер патента: US20090283037A1. Автор: Kedar Hardikar,Yajie Liu,Viraj Pandit. Владелец: Novellus Systems Inc. Дата публикации: 2009-11-19.

Heated lid for a process chamber

Номер патента: WO2023039086A1. Автор: Hanish Kumar PANAVALAPPIL KUMARANKUTTY,Sriharsha DHARMAPURA SATHYANARAYANAMURTHY,Kirubanandan Naina Shanmugam,Sriharish SRINIVASAN,Madhukar Krishna,Shivaprakash Padadayya Hiremath. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-03-16.

Semiconductor process chamber, semiconductor process apparatus, and semiconductor process method

Номер патента: EP4397783A1. Автор: Yunfeng LAN,qing She,Yongfei WANG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-10.

Reduction of a process volume of a processing chamber using a nested dynamic inert volume

Номер патента: WO2012121941A2. Автор: James F. Lee. Владелец: Novellus Systems Inc.. Дата публикации: 2012-09-13.

Manufacturing method for substrate processing equipment, gas nozzles and semiconductor equipment

Номер патента: JPWO2019188017A1. Автор: 雲龍 小川,竹林　雄二,雄二 竹林,敏樹 藤野,幸人 羽田,奈緒子 角田,小川　雲龍,羽田　幸人. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2021-02-25.

Selectively groundable cover ring for substrate process chambers

Номер патента: US09472443B2. Автор: Zhenbin Ge,Muhammad M. Rasheed,Goichi Yoshidome,Kirankumar Savandaiah,William Johanson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-10-18.

Semiconductor processing apparatus and methods for calibrating a semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20180363139A1. Автор: John Tolle,Shiva Rajavelu,Rich McCartney. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2018-12-20.

Multi-chamber semiconductor processing system with transfer robot temperature adjustment

Номер патента: US20230335423A1. Автор: Yen-Yu Chen,Chia-Hsi Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-19.

Rotary electrical feedthrough integration for process chamber

Номер патента: WO2024015183A1. Автор: Yang Guo,John Forster,Sanjeev Baluja,Anthony Chan,Anantha Subramani,Andrew Tomko,Sathya Swaroop GANTA,Wade HARRELSON,Mike MURTAGH. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-01-18.

Rotary electrical feedthrough integration for process chamber

Номер патента: US20240018646A1. Автор: Yang Guo,John Forster,Sanjeev Baluja,Anthony Chan,Anantha Subramani,Andrew Tomko,Sathya Swaroop GANTA,Wade HARRELSON,Mike MURTAGH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-18.

Laminated aerosol deposition coating for aluminum components for plasma processing chambers

Номер патента: WO2020180853A1. Автор: LIN Xu,John Daugherty,Satish Srinivasan,David Joseph WETZEL. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2020-09-10.

Protective multilayer coating for processing chamber components

Номер патента: WO2021029970A1. Автор: Darshan THAKARE,Kevin A. Papke,Ankur Kadam,Geetika Bajaj,Prerna Sonthalia Goradia,Yogita Pareek. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-02-18.

Methods and apparatus for conductance liners in semiconductor process chambers

Номер патента: WO2021183211A1. Автор: Rajinder Dhindsa,Timothy Joseph Franklin,Carlaton WONG,Daniel Sang BYUN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-09-16.

Dynamic processing chamber baffle

Номер патента: WO2023064199A1. Автор: Mayur Govind KULKARNI,Udit S. KOTAGI. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-04-20.

Process chamber volume adjustment

Номер патента: US20240218514A1. Автор: Kyle Fondurulia,Dinkar Nandwana,Christopher Falcone,Vishnu Shakti. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-07-04.

Heat source arrangements, processing chambers, and related methods to facilitate deposition process adjustability

Номер патента: US20240234175A9. Автор: Ala Moradian,Saurabh Chopra. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Isolated volume seals and method of forming an isolated volume within a processing chamber

Номер патента: US20240332046A1. Автор: Thomas Brezoczky,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Bhaskar PRASAD,Srinivasa Rao Yedla,Nitin Bharadwaj SATYAVOLU. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-03.

Semiconductor process chamber, semiconductor process instrument, and semiconductor process method

Номер патента: US20240371672A1. Автор: Yunfeng LAN,qing She,Yongfei WANG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-07.

Apparatus for controlling the flow of a gas in a process chamber

Номер патента: US09443753B2. Автор: Michael D. Willwerth,Jingbao Liu,David Palagashvili. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-09-13.

Method and system for rotating a semiconductor wafer in processing chambers

Номер патента: EP1356503A2. Автор: Zion Koren,James Tsuneo Taoka,Yorkman Ma,Rudy Santo Tomas Cardena,Sharon Gibson,Lois Wride,Craig Mc Farland. Владелец: Mattson Thermal Products Inc. Дата публикации: 2003-10-29.

Selective in-situ cleaning of high-k films from processing chamber using reactive gas precursor

Номер патента: US12076763B2. Автор: Soo Young Choi,Tae Kyung Won,Dong-Kil Yim,Lai ZHAO,Xiangxin Rui,Yujia ZHAI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-03.

Apparatuses for cleaning a multi-station semiconductor processing chamber

Номер патента: EP4420156A1. Автор: Bo Gong,Ching-Yun Chang,Tongtong GUO,Francisco J. Juarez,Rachel E. Batzer,Harish Kumar Premakumar. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-28.

Substrate processing apparatus and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US09530677B2. Автор: Akinori Tanaka,Daisuke Hara,Takatomo Yamaguchi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-12-27.

Process chamber for etching low k and other dielectric films

Номер патента: US09666414B2. Автор: Ellie Yieh,Dmitry Lubomirsky,Srinivas Nemani,Sergey G. BELOSTOTSKIY. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-05-30.

Substrate processing apparatus, substrate holder, and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US7455734B2. Автор: Kazuhiro Morimitsu,Takatomo Yamaguchi. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2008-11-25.

Overlapping substrate supports and pre-heat rings, and related process kits, processing chambers, methods, and components

Номер патента: WO2024167634A1. Автор: TAO Sheng,Hui Chen,Xinning Luan,Zhepeng Cong,Chen-ying WU,NIMROD SMITH. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-15.

Overlapping substrate supports and pre-heat rings, and related process kits, processing chambers, methods, and components

Номер патента: US20240274463A1. Автор: TAO Sheng,Hui Chen,Xinning Luan,Zhepeng Cong,Chen-ying WU,NIMROD SMITH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-15.

Temperature change rate control device, method, and semiconductor process apparatus

Номер патента: US20230238261A1. Автор: Hongwei GENG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-27.

Process chamber guide, process chamber, and method for guiding a substrate carrier in a process position

Номер патента: US20210363632A1. Автор: Stefan Reber,Kai Schillinger,Benjamin Reichhart. Владелец: NexWafe GmbH. Дата публикации: 2021-11-25.

Parasitic plasma prevention in plasma processing chambers

Номер патента: US09728429B2. Автор: Saurabh Ullal,Anthony Ricci,Larry Martinez. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-08-08.

Isolated volume seals and method of forming an isolated volume within a processing chamber

Номер патента: US11955355B2. Автор: Thomas Brezoczky,Kirankumar Neelasandra Savandaiah,Bhaskar PRASAD,Srinivasa Rao Yedla,Nitin Bharadwaj SATYAVOLU. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-09.

Heat source arrangements, processing chambers, and related methods to facilitate deposition process adjustability

Номер патента: US20240136207A1. Автор: Ala Moradian,Saurabh Chopra. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-25.

Lamp and window configurations for substrate processing chambers

Номер патента: WO2024076493A1. Автор: Venkateswaran Subbaraman,Raja Murali Dhamodharan. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-04-11.

Shield for a substrate processing chamber

Номер патента: US20190267220A1. Автор: Goichi Yoshidome,Adolph Miller Allen,Kathleen Scheible,Michael Allen Flanigan,Cristopher Pavloff. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-08-29.

Process chamber and exhaust liner system therefor

Номер патента: US12110585B2. Автор: Prashant Agarwal,Naman APURVA,Mahesh RAMAKRISHNA,Sriharish SRINIVASAN,Lara A. HAWRYLCHAK. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-08.

Multipurpose processing chamber for chemical vapor deposition processes

Номер патента: WO1998039495A1. Автор: Kenneth Doering,Carl J. Galewski. Владелец: Genus, Inc.. Дата публикации: 1998-09-11.

Protection of aluminum process chamber components

Номер патента: US11810766B2. Автор: Mats Larsson,Kartik Shah,Kevin A. Papke,Umesh M. Kelkar,Karthikeyan BALARAMAN,Balamurugan RAMASAMY,Rajasekhar PATIBANDLA,Sathyanarayana BINDIGANAVALE,William M. Lu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-07.

Protection of aluminum process chamber components

Номер патента: WO2020009766A1. Автор: Mats Larsson,Kartik Shah,Kevin A. Papke,Umesh M. Kelkar,Karthikeyan BALARAMAN,Balamurugan RAMASAMY,Rajasekhar PATIBANDLA,Sathyanarayana BINDIGANAVALE,William M. Lu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-01-09.

Semiconductor processing device and method for monitoring wafer position status

Номер патента: EP4424887A1. Автор: Huan WANG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-04.

Nozzle for remote plasma cleaning of process chambers

Номер патента: US20240141482A1. Автор: Jeremy Jerome POOL. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Wafer positioning pedestal for semiconductor processing

Номер патента: US09892956B1. Автор: Easwar Srinivasan,Karl F. Leeser,Paul Konkola. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-02-13.

Chucking process and system for substrate processing chambers

Номер патента: US20200286716A1. Автор: Ganesh Balasubramanian,Bhaskar Kumar,Vivek Bharat SHAH,Jiheng ZHAO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-09-10.

Chucking process and system for substrate processing chambers

Номер патента: US12020911B2. Автор: Ganesh Balasubramanian,Bhaskar Kumar,Vivek Bharat SHAH,Jiheng ZHAO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-25.

Semiconductor process chamber including lower volume upper dome

Номер патента: US11821106B2. Автор: Sun Jung Kim,Gyeom KIM,Jeong Ho Yoo,Pan Kwi Park,Keum Seok Park,Yi Hwan Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-21.

Ceramic coated quartz lid for processing chamber

Номер патента: US12009178B2. Автор: Bernard L. Hwang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-11.

System and method for performing semiconductor processes with coated bell jar

Номер патента: US11939664B2. Автор: Tsung-Yu Tsai,Chin-Szu Lee,Szu-Hua Wu,Hsing-Yuan HUANG,Meng-Chun HSIEH,Chih-Chang WU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-03-26.

Parasitic plasma prevention in plasma processing chambers

Номер патента: WO2012018368A9. Автор: Ullal Saurabh,Anthony Ricci,Larry Martinez. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-07-19.

In-situ apparatus for semiconductor process module

Номер патента: US11887879B2. Автор: Stephen Prouty,Andreas Schmid,Yogananda SARODE VISHWANATH,Steven E. Babayan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-30.

Semiconductor processing apparatus and mixing inlet device

Номер патента: US20240183032A1. Автор: Hong Ji,LEI Zhu,Keke Zhao,Jingfeng WEI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Method of decontamination of process chamber after in-situ chamber clean

Номер патента: US09932670B2. Автор: Jie Su,Olga Kryliouk,Sang Won Kang,Sandeep Nijhawan,Hua Chung,Jacob Grayson,Lori D. Washington,Dong Hyung Lee. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-04-03.

Semiconductor Processing System, and Control Assembly and Method Thereof

Номер патента: US20230399746A1. Автор: Julian Juuchuan Hsieh. Владелец: Enchip Enterprise LLC. Дата публикации: 2023-12-14.

Methods and apparatus for in-situ cleaning of a process chamber

Номер патента: US09627185B2. Автор: Chien-Teh Kao,Joel M. Huston,Nicholas R. Denny. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-04-18.

Purging toxic and corrosive material from substrate processing chambers

Номер патента: WO2024081135A1. Автор: Eunsuk Ko,Michael Rumer,Jonathan PYLE,Shawn TOKAIRIN,Ravi Parmar,Soonton NUISUD,Raymond JONATHANS,Raees Amer DEEN,Sai RACHAKONDA,Nishant CHOUHAN,Jun-Hwa PARK,Ashwin Agathya Boochakravarthy. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-04-18.

Apparatuses for uniform fluid delivery in a multi-station semiconductor processing chamber

Номер патента: US20240222151A1. Автор: Michael Philip Roberts,Joseph R. Abel,Douglas Walter Agnew,Eli Jeon,Daniel BOATRIGHT,Arun Anandhan Duraisamy,William Laurence McDaniel. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Process chamber and wafer processing method

Номер патента: US20180308665A1. Автор: Fei-Fan Chen,Joung-Wei Liou,Shih-Wen Huang,Chien Kuo Huang,Chia-I Shen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-10-25.

Automated control of process chamber components

Номер патента: WO2024072670A1. Автор: Paul Franzen,Kapil Sawlani,Patging John Elsworth MARTIN. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-04-04.

Gasbox for semiconductor processing chamber

Номер патента: US12057325B2. Автор: Abhijit A. Kangude,Yunzhe YANG,Rahul Rajeev,Kedar Joshi. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-06.

Dynamic pressure control for processing chambers implementing real-time learning

Номер патента: US11869754B2. Автор: Michael Nichols,Tina Dhekial-Phukan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-09.

Dynamic pressure control for processing chambers implementing real-time learning

Номер патента: US20240153750A1. Автор: Michael Nichols,Tina Dhekial-Phukan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-09.

Plasma processing equipment and gas distribution apparatus thereof

Номер патента: US09540732B2. Автор: Liqiang Yao. Владелец: Beijing NMC Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Spectral sensing of process chamber conditions

Номер патента: WO2024118852A1. Автор: Yukinori Sakiyama,Kapil Sawlani,Benjamin Tong Yee. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-06-06.

Blocker plate for use in a substrate process chamber

Номер патента: US20180347043A1. Автор: Yu Lei,Yi Xu,Kazuya DAITO,Dien-Yeh Wu,Xiaoxiong Yuan,Vikash Banthia,Pingyan Lei,Umesh M. Kelkar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-12-06.

Gasbox for semiconductor processing chamber

Номер патента: US20230343608A1. Автор: Abhijit A. Kangude,Yunzhe YANG,Rahul Rajeev,Kedar Joshi. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-26.

Film deposition methods in furnace tube, and semiconductor devices

Номер патента: US20230053417A1. Автор: Qizan HUANG. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2023-02-23.

Cleaning method, manufacturing method of semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US09340872B2. Автор: Ryota Sasajima,Shintaro Kogura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-05-17.

CVD reactor having heated process chamber within isolation chamber

Номер патента: US5891251A. Автор: Joseph H. MacLeish,Robert D. Mailho. Владелец: Mailho; Robert D.. Дата публикации: 1999-04-06.

Dog bone exhaust slit tunnel for processing chambers

Номер патента: WO2024072485A1. Автор: Ala Moradian,Vishwas Kumar Pandey,Zhepeng Cong. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-04-04.

Dog bone exhaust slit tunnel for processing chambers

Номер патента: US20240110278A1. Автор: Ala Moradian,Vishwas Kumar Pandey,Zhepeng Cong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-04.

Chamber liner for semiconductor processing

Номер патента: US20240006203A1. Автор: Chien-Liang Chen,Wei-Da Chen,Yu-Ning Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Interlock system for processing chamber exhaust assembly

Номер патента: US20240043994A1. Автор: Robert Casanova,Daemian Raj BENJAMIN RAJ,Uwe P. Haller,Syed A. Alam,Peter Standish,Collen Leng,Liliya I. Krivulina,Bharath Kumar Hanchanoor Rathnakara Gowda,Ryan Thomas DOWNEY. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-08.

Interlock system for processing chamber exhaust assembly

Номер патента: WO2024035590A1. Автор: Robert Casanova,Daemian Raj BENJAMIN RAJ,Uwe P. Haller,Syed A. Alam,Peter Standish,Collen Leng,Liliya I. Krivulina,Bharath Kumar Hanchanoor Rathnakara Gowda,Ryan Thomas DOWNEY. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-02-15.

Semiconductor processing system

Номер патента: EP4331010A1. Автор: Michael John Norrington,Christopher Mark Bailey,Stephen PHILLIP. Владелец: Edwards Ltd. Дата публикации: 2024-03-06.

Semiconductor processing system

Номер патента: US20240213039A1. Автор: Helen Shaw,Michael John Norrington,Christopher Mark Bailey,Stephen PHILLIP. Владелец: Edwards Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Wafer processing equipment having exposable sensing layers

Номер патента: US09975758B2. Автор: Dmitry Lubomirsky,Philip Allan Kraus,Olivier Joubert,Leonard TEDESCHI,Daniel T. McCormick,Lili Ji. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-05-22.

Wafer processing equipment having exposable sensing layers

Номер патента: US09725302B1. Автор: Dmitry Lubomirsky,Philip Allan Kraus,Olivier Joubert,Leonard TEDESCHI,Daniel T. McCormick,Lili Ji. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-08-08.

Manufacturing method of substrate processing equipment, reaction tube and semiconductor equipment

Номер патента: JP6994524B2. Автор: 敦士 平野,慧 村田,哲也 丸林,厳 中村. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2022-01-14.

Gas distribution apparatus for processing chambers

Номер патента: WO2018156290A1. Автор: Karthik Janakiraman,Dale R. Du Bois,Kien N. Chuc. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-08-30.

Gas Distribution Apparatus for Processing Chambers

Номер патента: US20180237915A1. Автор: Karthik Janakiraman,Dale R. Du Bois,Kien N. Chuc. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-08-23.

Grounding devices for substrate processing chambers

Номер патента: WO2024064236A1. Автор: Aki HOSOKAWA,Teng Mao Wang. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-03-28.

Switchable delivery for semiconductor processing system

Номер патента: WO2022020185A1. Автор: Ganesh Balasubramanian,Yue Chen,Qiang Ma,Zhijun Jiang,Daemian Raj BENJAMIN RAJ,Shailendra Srivastava,Sai Susmita ADDEPALLI,Abhigyan KESHRI. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-01-27.

Switchable delivery for semiconductor processing system

Номер патента: US12094689B2. Автор: Ganesh Balasubramanian,Yue Chen,Qiang Ma,Zhijun Jiang,Daemian Raj BENJAMIN RAJ,Shailendra Srivastava,Sai Susmita ADDEPALLI,Abhigyan KESHRI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-17.

Processing chamber, assembly and a method

Номер патента: US20230170187A1. Автор: Antti Niskanen. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-06-01.

Grounding devices for substrate processing chambers

Номер патента: US20240093380A1. Автор: Aki HOSOKAWA,Teng Mao Wang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-21.

Magnetically coupled rf filter for substrate processing chambers

Номер патента: WO2022240944A1. Автор: Edward P. Hammond,Alexander V. Garachtchenko,Dmitry A. Dzilno. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-11-17.

Method of particle abatement in a semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20230127177A1. Автор: Cornelis Thaddeus Herbschleb,Kelly Houben. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-04-27.

Semiconductor device manufacturing apparatus and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US8172946B2. Автор: Mikio Ohno,Yoshikazu Takashima,Tomoshi Taniyama. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2012-05-08.

Semiconductor processing chamber

Номер патента: WO2017180283A2. Автор: Lara Hawrylchak,Mehran Behdjat,Aaron Muir Hunter,Douglas R. McAllister,Kong Lung Samuel Chan,Dongming IU,Niraj MERCHANT. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2017-10-19.

Substrate processing apparatus and producing method of semiconductor device

Номер патента: US7892983B2. Автор: Masanori Sakai,Taketoshi Sato,Takaaki Noda,Norikazu Mizuno,Hironobu Miya. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2011-02-22.

System with a process chamber having two process compartments with a vacuum pressure barrier in between and method for operating such a system

Номер патента: NL2029733A. Автор: PENG Shou,YIN Xinjian,FU Ganhua,Mischke Marcel,Ma Liyun,Pan Jingong. Владелец: China Triumph Int Eng Co Ltd. Дата публикации: 2022-08-05.

Semiconductor process chamber contamination prevention system

Номер патента: US12090503B2. Автор: Che-Fu Chen,Kai-Chin WEI. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Plasma processing chamber with a grounded electrode assembly

Номер патента: US09905402B2. Автор: Arnold Kholodenko,Anwar Husain. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Equipment front-end modules for semiconductor processing systems and methods of making semiconductor processing systems

Номер патента: US20240178019A1. Автор: Mandar Deshpande,Joseph KRAUS,Gurupkar Singh Nerwal,Kyle Barrette. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-05-30.

Gas inlet assembly of process chamber, gas inlet device, and semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20240117522A1. Автор: Shikai Li. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Methods and apparatus for reconfigurable flow control in process chambers

Номер патента: US20190385874A1. Автор: Ananthkrishna Jupudi,Ribhu GAUTAM,Preetham P. RAO,Tuck Foong Koh,Madhukar C Guledgudd. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-12-19.

Heat source arrangements, processing chambers, and related methods to facilitate deposition process adjustability

Номер патента: WO2024085915A1. Автор: Ala Moradian,Saurabh Chopra. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-04-25.

Shielding mechanism and substrate-processing chamber with the same

Номер патента: US11476100B1. Автор: Jing-Cheng Lin,Chi-Hung Cheng,Ta-Hao Kuo,Yu-Te Shen. Владелец: Sky Tech Inc. Дата публикации: 2022-10-18.

Internally divisible process chamber using a shutter disk assembly

Номер патента: US11830710B2. Автор: Yang Guo,Anantha K. Subramani,John Joseph MAZZOCCO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-28.

Internally divisible process chamber using a shutter disk assembly

Номер патента: US20220139684A1. Автор: Yang Guo,Anantha K. Subramani,John Joseph MAZZOCCO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-05-05.

Internally divisible process chamber using a shutter disk assembly

Номер патента: US20220319822A1. Автор: Yang Guo,Anantha K. Subramani,John Joseph MAZZOCCO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-10-06.

Semiconductor process chamber contamination prevention system

Номер патента: US11779949B2. Автор: Che-Fu Chen,Kai-Chin WEI. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-10.

Semiconductor process chamber contamination prevention system

Номер патента: US20230372960A1. Автор: Che-Fu Chen,Kai-Chin WEI. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

System with a process chamber having two process compartments with a vacuum pressure barrier in between and method for operating such a system

Номер патента: NL2029733B1. Автор: PENG Shou,YIN Xinjian,FU Ganhua,Mischke Marcel,Ma Liyun,Pan Jingong. Владелец: China Triumph Int Eng Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-14.

Process stop loss reduction system through rapid replacement of apparatus for trapping of reaction by-product for semiconductor process

Номер патента: US20240063031A1. Автор: In Hwan Kim,Sung Won Yoon,Che Hoo CHO,Yeon Ju Lee. Владелец: Milaebo Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-22.

Multi-zone gas flow control in a process chamber

Номер патента: US6090210A. Автор: James V. Tietz,David S. Ballance,Benjamin Bierman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-07-18.

Lid assembly for a process chamber employing asymmetric flow geometries

Номер патента: US6110556A. Автор: Ellie Yieh,Won Bang,Thanh Pham. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-08-29.

Semiconductor process chamber

Номер патента: US20230392260A1. Автор: Dong Won Seo,Ju Yeon KWON,Yu Ri SHIN. Владелец: Hanwha Corp. Дата публикации: 2023-12-07.

Windows used in thermal processing chambers

Номер патента: US6559424B2. Автор: Zion Koren,Conor Patrick O'Carroll,Rudy Santo Tomas Cardema,James Tsuneo Taoka. Владелец: Mattson Technology Inc. Дата публикации: 2003-05-06.

Process chamber with reflector

Номер патента: WO2024085913A1. Автор: Peter Reimer,Shu-Kwan LAU,Ala Moradian,Amir H. Tavakoli. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-04-25.

Semiconductor processing equipment with high temperature resistant nickel alloy joints and methods for making same

Номер патента: WO2019108858A1. Автор: Michael Parker,Jason Stephens,Guleid Hussen,Alfred Grant Elliot,Brent D.a. ELLIOT. Владелец: Component Re-Engineering Company, Inc.. Дата публикации: 2019-06-06.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and semiconductor device

Номер патента: US09496134B2. Автор: Shinya Sasaki,Yuji Takebayashi,Shintaro Kogura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-11-15.

Method of manufacturing semiconductor device by alternatively increasing and decreasing pressure of process chamber

Номер патента: US09508531B2. Автор: Koei KURIBAYASHI,Shinya EBATA. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-11-29.

Equipment and methods for plasma processing

Номер патента: WO2021011039A1. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek,Mitsunori Ohata. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2021-01-21.

Semiconductor processing equipment having tiled ceramic liner

Номер патента: EP1138055A1. Автор: William S. Kennedy,Robert A. Maraschin,Jerome S. Hubacek. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2001-10-04.

Systems and methods for removing particles from a substrate processing chamber using rf plasma cycling and purging

Номер патента: US20170011893A1. Автор: Hu Kang,Adrien Lavoie. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-01-12.

Systems and methods for removing particles from a substrate processing chamber using RF plasma cycling and purging

Номер патента: US09899195B2. Автор: Hu Kang,Adrien Lavoie. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Systems and methods for removing particles from a substrate processing chamber using RF plasma cycling and purging

Номер патента: US09478408B2. Автор: Hu Kang,Adrien Lavoie. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Coating components for semiconductor processing with fluorine-containing materials

Номер патента: WO2024220286A1. Автор: Jennifer Y. Sun,Zhijun Jiang,Katherine Woo,Nitin Deepak,Ryan Sheil. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-10-24.

Polishing composition for semiconductor processing polishing composition preparation method, and semiconductor device manufacturing method to which polishing composition is applied

Номер патента: US20240030041A1. Автор: Han Teo PARK,Jang Kuk KWON,Seung Chul Hong,Deok Su Han. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Post-placement wafer-centering systems for semiconductor processing tools

Номер патента: WO2024112616A1. Автор: Jacob Lee Hiester,Jr. Nick Ray Linebarger. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-05-30.

Process chamber, method of preparing a process chamber, and method of operating a process chamber

Номер патента: US09613819B2. Автор: MING-CHING Chang,yu chao Lin,Chao-Cheng Chen,Jui-Ming Chen,Yuan-Sheng Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-04-04.

Semiconductor process chamber with heat pipe

Номер патента: US20210134565A1. Автор: Che-Fu Chen,Kai-Chin WEI. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-05-06.

Methods for plasma activation of evaporated precursors in a process chamber

Номер патента: US09905723B2. Автор: Byung-Sung Kwak,Kaushal K. Singh,Stefan Bangert,Nety M. Krishna. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-02-27.

Pump liner for process chamber

Номер патента: US20230407473A1. Автор: Sanjeev Baluja,Muhannad MUSTAFA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-21.

Systems and methods for internal surface conditioning in plasma processing equipment

Номер патента: US10707061B2. Автор: Dmitry Lubomirsky,Nitin K. Ingle,Soonam Park,Jiayin Huang,Yufei Zhu,Edwin C. Suarez. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-07-07.

Processing chamber deposition confinement

Номер патента: WO2022086874A1. Автор: Kwangduk Douglas Lee,Sungwon Ha,Venkata Sharat Chandra PARIMI,Sara Michelle BOBEK. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-04-28.

Substrate processing apparatus and semiconductor device producing method

Номер патента: US20110212626A1. Автор: Masanori Sakai,Tomohiro Yoshimura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-09-01.

Substrate processing apparatus and semiconductor device producing method

Номер патента: US8901011B2. Автор: Masanori Sakai,Tomohiro Yoshimura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2014-12-02.

Substrate Processing Apparatus and Semiconductor Device Producing Method

Номер патента: US20080153309A1. Автор: Masanori Sakai,Tomohiro Yoshimura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2008-06-26.

Semiconductor process apparatus scheduling control method and semiconductor process apparatus

Номер патента: EP4459668A1. Автор: Junxiang Zhao. Владелец: Xi'an Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-06.

Method and wafer processing furnace for forming an epitaxial stack of semiconductor epitaxial layers

Номер патента: US20230223258A1. Автор: Bert Jongbloed,Dieter Pierreux,Steven Van Aerde,Kelly Houben,Charles DEZELAH,Wilco Verweij. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-07-13.

Radiation Control in Semiconductor Processing

Номер патента: US20220415721A1. Автор: Chung-Yi Su,Ming-Feng Lee,Yu-Chun TAI,Ta-Ching Yang,Ping-Cheng LU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-12-29.

Method of manufacturing semiconductor device, method of cleaning interior of process chamber, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US09895727B2. Автор: Yoshinobu Nakamura,Masayuki Asai,Kazuyuki Okuda,Masayoshi Minami,Yuji Urano. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-02-20.

Systems and methods for eliminating flourine residue in a substrate processing chamber using a plasma-based process

Номер патента: US09601319B1. Автор: Joydeep Guha,Andrew Stratton Bravo,Amit Pharkya. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Method and apparatus for minimizing contamination in semiconductor processing chamber

Номер патента: WO2010090781A2. Автор: Eric Shero,Joseph C. Reed. Владелец: ASM AMERICA, INC.. Дата публикации: 2010-08-12.

Process and related device for removing by-product on semiconductor processing chamber sidewalls

Номер патента: US12027350B2. Автор: Chang-Ming Wu,Lee-Chuan Tseng,Jing-Cheng Liao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

Process and related device for removing by-product on semiconductor processing chamber sidewalls

Номер патента: US20240331988A1. Автор: Chang-Ming Wu,Lee-Chuan Tseng,Jing-Cheng Liao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Method for cleaning plasma processing chamber and substrate

Номер патента: US09595448B2. Автор: Yu-Cheng Liu,Shih-Ping Hong. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Methods and apparatus for gas delivery into plasma processing chambers

Номер патента: WO2012087919A2. Автор: Robert P. Chebi,Alan Cheshire,Stanley Detmar,Alfredo Granados,Gabriel Roupillard. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-06-28.

Methods for preventing plasma un-confinement events in a plasma processing chamber

Номер патента: US09928995B2. Автор: Andreas Fischer,Rajinder Dhindsa. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-03-27.

Near-substrate supplemental plasma density generation with low bias voltage within inductively coupled plasma processing chamber

Номер патента: WO2018136121A1. Автор: Qing Xu,Qian Fu,Yiting Zhang,Saravanapriyan Sriraman,Alex Paterson,Ying Wu,Zhongkui Tan. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2018-07-26.

Methods for low temperature conditioning of process chambers

Номер патента: US20110306186A1. Автор: David K. Carlson,Zhiyuan Ye,Errol Antonio C. Sanchez,Yi-Chiau Huang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2011-12-15.

Plasma resistant process chamber lid

Номер патента: US12049696B2. Автор: Xiaowei Wu,Michael R. Rice,Jennifer Y. Sun. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-30.

Manufacturing method of semiconductor photonic device substrate

Номер патента: US20110003413A1. Автор: Takashi Furuya,Takehiko Tani,Hisataka Nagai,Toshihiro Morisawa. Владелец: Hitach Cable Ltd. Дата публикации: 2011-01-06.

Processing chamber with translating wear plate for lift pin

Номер патента: WO2011008805A3. Автор: John M. White,Tom K. Cho,Oscar Lopez,Jeonghoon Oh,Alexander S. Polyak,Uday Pai,Silja James. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2011-05-05.

Semiconductor processing with dc assisted rf power for improved control

Номер патента: WO2014022192A1. Автор: Jang-Gyoo Yang,Soonam Park,Shankar Venkataraman,Xinglong Chen,Saurabh Garg,Jonghoon Baek. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-02-06.

Coating components for semiconductor processing with fluorine-containing materials

Номер патента: US20240347336A1. Автор: Jennifer Y. Sun,Zhijun Jiang,Katherine Woo,Nitin Deepak,Ryan Sheil. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-17.

Method and apparatus for depositing a layer on a semiconductor wafer by vapor deposition in a process chamber

Номер патента: MY166009A. Автор: Brenninger Georg. Владелец: SILTRONIC AG. Дата публикации: 2018-05-21.

Semiconductor processing using vapor mixtures

Номер патента: US6319841B1. Автор: Eric J. Bergman,Robert W. Berner,David Oberlitner. Владелец: Semitool Inc. Дата публикации: 2001-11-20.

Hexapod-based pedestal systems for use in semiconductor processing operations

Номер патента: EP4449489A1. Автор: Jacob Lee Hiester,Jason Gordon GALGINAITIS,Richard M BLANK. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-23.

Corrosion resistant component of semiconductor processing equipment and method of manufacturing thereof

Номер патента: WO2001000901A9. Автор: Robert J Steger,Chris Chang. Владелец: Chris Chang. Дата публикации: 2002-12-27.

Substrate treating apparatus and semiconductor manufacturing equipment including the same

Номер патента: US20240203773A1. Автор: Jong Seok SEO. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Plasma processing apparatus and member of plasma processing chamber

Номер патента: US20190326101A1. Автор: Kazuhiro Ueda,Tomoyuki Tamura,Masahiro Sumiya,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-10-24.

Substrate transfer door assemblies with radiating elements for substrate processing chambers

Номер патента: US20230253217A1. Автор: John Drewery,David Inori,Michael Julius KINSLER,Andre DESEPTE. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-08-10.

Pin-less substrate transfer apparatus and method for a processing chamber

Номер патента: US11948828B2. Автор: Adib M. Khan,Qiwei Liang,Sultan Malik,Srinivas D. Nemani. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-02.

Thermal process chamber lid with backside pumping

Номер патента: US20230335434A1. Автор: BO Wang,Dien-Yeh Wu,Yixiong Yang,Wei V. Tang,Anqing Cui. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-19.

System and method for introducing a substrate into a process chamber

Номер патента: US20080124200A1. Автор: In Taek LEE. Владелец: ADP Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2008-05-29.

System and method for introducing a substrate into a process chamber

Номер патента: US20100148979A1. Автор: In Taek LEE. Владелец: ADP Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2010-06-17.

System and method for introducing a substrate into a process chamber

Номер патента: US20100148978A1. Автор: In Taek LEE. Владелец: ADP Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2010-06-17.

Process kits and related methods for processing chambers to facilitate deposition process adjustability

Номер патента: US20230386803A1. Автор: TAO Sheng,Ala Moradian,Ashur J. Atanos,Zhepeng Cong,NIMROD SMITH,Vinh N. TRAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-30.

Process kits and related methods for processing chambers to facilitate deposition process adjustability

Номер патента: US20230386802A1. Автор: TAO Sheng,Ala Moradian,Ashur J. Atanos,Zhepeng Cong,NIMROD SMITH,Vinh N. TRAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-30.

Advanced temperature control for wafer carrier in plasma processing chamber

Номер патента: US20240047246A1. Автор: Chunlei Zhang,Jaeyong Cho,Phillip Criminale,Fernando M. SILVEIRA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-08.

Advanced temperature control for wafer carrier in plasma processing chamber

Номер патента: US11837479B2. Автор: Chunlei Zhang,Jaeyong Cho,Phillip Criminale,Fernando M. SILVEIRA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-05.

Film forming method and semiconductor production apparatus

Номер патента: US20220010424A1. Автор: SATOSHI Tanaka,Atsushi Endo,Tsuyoshi Moriya,Yusuke Suzuki,Kazuhide Hasebe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-01-13.

Process chamber and semiconductor process device

Номер патента: US20230402265A1. Автор: Gang Wei,Yancheng LU,Xingfei MAO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Semiconductor processing device and method

Номер патента: RU2694171C1. Автор: София ВЭНЬ,Чжикай ВАН. Владелец: Уси Хуаин Микроэлектроникс Текнолоджи Ко., Лтд. Дата публикации: 2019-07-09.

Manufacturing method of substrate for a semiconductor package, manufacturing method of semiconductor package, substrate for a semiconductor package and semiconductor package

Номер патента: US20120064666A1. Автор: Yoichiro Hamada,Shigeru Hosomomi. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2012-03-15.

Manufacturing method of substrate for a semiconductor package, manufacturing method of semiconductor package, substrate for a semiconductor package and semiconductor package

Номер патента: US20130309818A1. Автор: Yoichiro Hamada,Shigeru Hosomomi. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 2013-11-21.

Manufacturing method of substrate for a semiconductor package, manufacturing method of semiconductor package, substrate for a semiconductor package and semiconductor package

Номер патента: KR101109795B1. Автор: 요이치로 하마다,시게루 호소모미. Владелец: 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤. Дата публикации: 2012-02-24.

Vacuum processing equipment and operation method of vacuum processing equipment

Номер патента: JP6960830B2. Автор: 悟史 山本,崇 植村,浩平 佐藤,優作 属,僚一 磯村,裕通 川崎. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-11-05.

Assembling method of semiconductor package and removal apparatus of protection tape in semiconductor process

Номер патента: KR100486290B1. Автор: 유철준,정기권. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2005-04-29.

System and method of cleaning process chamber components

Номер патента: US12014902B2. Автор: Jong Yun Kim,Pei-Chia CHEN,Won Ho SUNG,Kim Seong SIM,Roman M. MOSTOVOY. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-18.

Semiconductor processing chambers and methods for cleaning the same

Номер патента: US20240247371A1. Автор: Tuan A. Nguyen,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Amit Bansal,Nitin Pathak,Yuxing Zhang,Kalyanjit GHOSH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

System and method of cleaning process chamber components

Номер патента: US20240055230A1. Автор: Jong Yun Kim,Pei-Chia CHEN,Won Ho SUNG,Kim Seong SIM,Roman M. MOSTOVOY. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-15.

System and method for cleaning process chamber components

Номер патента: WO2024039503A1. Автор: Jong Yun Kim,Pei-Chia CHEN,Won Ho SUNG,Kim Seong SIM,Roman M. MOSTOVOY. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-02-22.

Process kits and related methods for processing chambers to facilitate deposition process adjustability

Номер патента: US20230407478A1. Автор: TAO Sheng,Ala Moradian,Ashur J. Atanos,Zhepeng Cong,NIMROD SMITH,Vinh N. TRAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-21.

Semiconductor processing chambers and methods for cleaning the same

Номер патента: US11952660B2. Автор: Tuan A. Nguyen,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Amit Bansal,Nitin Pathak,Yuxing Zhang,Kalyanjit GHOSH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-09.

Isolator apparatus and methods for substrate processing chambers

Номер патента: US11827980B2. Автор: Tuan Anh Nguyen,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Amit Kumar BANSAL,Nitin Pathak,Badri N. RAMAMURTHI,Thomas Rubio. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-28.

Process kit for multi-cathode processing chamber

Номер патента: WO2018226683A1. Автор: Ashish Goel,DEEPAK JADHAV,Rongjun Wang,Chi Hong Ching,Anantha K. Subramani,Hanbing Wu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-12-13.

Pedestal for substrate processing chambers

Номер патента: US12000048B2. Автор: JIAN Li,Kwangduk Douglas Lee,Sungwon Ha,Prashant Kumar KULSHRESHTHA,Sarah Michelle Bobek,Venkata Sharat Chandra PARIMI,Vinay K. PRABHAKAR. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-04.

Process kits and related methods for processing chambers to facilitate deposition process adjustability

Номер патента: WO2023229671A1. Автор: TAO Sheng,Ala Moradian,Ashur J. Atanos,Zhepeng Cong,NIMROD SMITH,Vinh N. TRAN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-11-30.

Process kit for multi-cathode processing chamber

Номер патента: EP3635767A1. Автор: Ashish Goel,DEEPAK JADHAV,Rongjun Wang,Chi Hong Ching,Anantha K. Subramani,Hanbing Wu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-04-15.

Method and apparatus for thin-layer chemical processing of semiconductor wafers

Номер патента: EP1639629A1. Автор: Sophia Wen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-03-29.

Semiconductor processing tool platform configuration with reduced footprint

Номер патента: US20240258137A1. Автор: Schubert S. Chu,Sushant S. Koshti,Nyi Oo Myo,Michael C. Kuchar,Nir Merry,Songjae Lee. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Semiconductor processing system

Номер патента: US12080570B2. Автор: Gerald Zheyao Yin,Heng Tao. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2024-09-03.

Semiconductor heat treatment device and method for controlling pressure in process chamber thereof

Номер патента: EP4394092A1. Автор: Dan Geng,YAN Jia,Zhimin Chen. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-03.

Semiconductor heat treatment device and method for controlling pressure in process chamber

Номер патента: US20240355646A1. Автор: Dan Geng,YAN Jia,Zhimin Chen. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Modular mainframe layout for supporting multiple semiconductor process modules or chambers

Номер патента: US20220262653A1. Автор: Alpay Yilmaz,Randy A. Harris,Vincent DiCaprio,Coby Scott GROVE,Paul Zachary WIRTH,Avinash Shantaram,Amir Nissan,Jitendra Ratilal Bhimjiyani,Niranjan Pingle. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-08-18.

Substrate degassing method and semiconductor fabrication method using the same

Номер патента: US20240218511A1. Автор: In-young Kim,Giduck Kweon,Dong-Gu Kim,Donghyun Jang,Sung-Woo JEON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-04.

Processing chamber with features from side wall

Номер патента: US09484243B2. Автор: Andreas Fischer,Dean J. Larson,Harmeet Singh,Jason Augustino,Andre W. DESEPTE. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-11-01.

Method for cleaning a processing chamber and method for manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US20040074515A1. Автор: Hyeon-deok Lee,Jin-gi Hong,Ji-Soon Park,Jung-Wook Kim,Eung-joon Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2004-04-22.

Method for cleaning a processing chamber and method for manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US7311109B2. Автор: Hyeon-deok Lee,Jin-gi Hong,Ji-Soon Park,Jung-Wook Kim,Eung-joon Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-12-25.

Processing Chamber With Multiple Plasma Units

Номер патента: US20240249918A1. Автор: Yu Lei,Yi Xu,Jallepally Ravi,Kazuya DAITO,Dien-Yeh Wu,Pingyan Lei,Takashi KURATOMI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Process chamber

Номер патента: EP4428905A1. Автор: Yancheng LU. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-11.

Catch-pin water support for process chamber

Номер патента: US20040131460A1. Автор: Ying-Lang Wang,Yu-Ku Lin,Ting-Chun Wang,Hsi-Kuei Cheng,Chun-Tse Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2004-07-08.

Modular mainframe layout for supporting multiple semiconductor process modules or chambers

Номер патента: US11935771B2. Автор: Alpay Yilmaz,Randy A. Harris,Vincent DiCaprio,Coby Scott GROVE,Paul Zachary WIRTH,Avinash Shantaram,Amir Nissan,Jitendra Ratilal Bhimjiyani,Niranjan Pingle. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-19.

Modular mainframe layout for supporting multiple semiconductor process modules or chambers

Номер патента: US11935770B2. Автор: Alpay Yilmaz,Randy A. Harris,Vincent DiCaprio,Coby Scott GROVE,Paul Zachary WIRTH,Avinash Shantaram,Amir Nissan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-19.

Semiconductor processing tool platform configuration with reduced footprint

Номер патента: EP4268272A1. Автор: Schubert S. Chu,Sushant S. Koshti,Nyi Oo Myo,Michael C. Kuchar,Nir Merry,Songjae Lee. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-01.

Semiconductor processing tool platform configuration with reduced footprint

Номер патента: US11996307B2. Автор: Schubert S. Chu,Sushant S. Koshti,Nyi Oo Myo,Michael C. Kuchar,Nir Merry,Songjae Lee. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-28.

Modular mainframe layout for supporting multiple semiconductor process modules or chambers

Номер патента: EP4295389A1. Автор: Alpay Yilmaz,Randy A. Harris,Vincent DiCaprio,Coby Scott GROVE,Paul Zachary WIRTH,Avinash Shantaram,Amir Nissan,Jitendra Ratilal Bhimjiyani,Niranjan Pingle. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-27.

Modular mainframe layout for supporting multiple semiconductor process modules or chambers

Номер патента: US20240194503A1. Автор: Alpay Yilmaz,Randy A. Harris,Vincent DiCaprio,Coby Scott GROVE,Paul Zachary WIRTH,Avinash Shantaram,Amir Nissan,Jitendra Ratilal Bhimjiyani,Niranjan Pingle. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-13.

Processing chamber purge plate with shroud, and pedestal shield system

Номер патента: WO2023215109A1. Автор: Vinayakaraddy GULABAL,Ravi Vellanki,Andrew Paul EIB,Hans Peter NYGREN,Eashan Raju DHAWADE. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2023-11-09.

Rf frequency control and ground path return in semiconductor process chambers

Номер патента: WO2021252812A1. Автор: Rajinder Dhindsa,James Hugh Rogers,Timothy Joseph Franklin,Carlaton WONG,Joseph Perry,Daniel Sang BYUN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-12-16.

Methods and apparatus for calibration of substrate processing chamber placement via imaging

Номер патента: US20240258141A1. Автор: TAO Sheng,Zhepeng Cong,NIMROD SMITH,Vinh N. TRAN,Khokan C. PAUL,Awse MA'AYA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Methods and apparatus for calibration of substrate processing chamber placement via imaging

Номер патента: WO2024158630A1. Автор: TAO Sheng,Zhepeng Cong,NIMROD SMITH,Vinh N. TRAN,Khokan C. PAUL,Awse MA'AYA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-02.

Support cylinder for thermal processing chamber

Номер патента: US09659809B2. Автор: Joseph M. Ranish,Mehran Behdjat,Aaron Muir Hunter,Jiping Li,Norman Tam,Martin Tran,Jeffrey Tobin. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-05-23.

Detection and analysis of substrate support and pre-heat ring in a process chamber via imaging

Номер патента: US20240145281A1. Автор: Hui Chen,Ashur J. Atanos,Xinning Luan,Zhepeng Cong,Martin Jeffrey Salinas. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Detection and analysis of substrate support and pre-heat ring in a process chamber via imaging

Номер патента: WO2024091304A1. Автор: Hui Chen,Ashur J. Atanos,Xinning Luan,Zhepeng Cong,Martin Jeffrey Salinas. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-05-02.

Ring removal from processing chamber

Номер патента: US20200335312A1. Автор: Andreas Schmid,Damon K. Cox,Nicholas M. Kopec. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-10-22.

Processing chamber with multiple plasma units

Номер патента: US11955319B2. Автор: Yu Lei,Yi Xu,Jallepally Ravi,Kazuya DAITO,Dien-Yeh Wu,Pingyan Lei,Takashi KURATOMI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-09.

Susceptor transfer for process chamber

Номер патента: WO2024064423A1. Автор: Masato Ishii,Shu-Kwan LAU,Ribhu GAUTAM,Miao-chun CHEN,Kuan Chien Shen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-03-28.

Susceptor transfer for process chamber

Номер патента: US20240105485A1. Автор: Masato Ishii,Shu-Kwan LAU,Ribhu GAUTAM,Miao-chun CHEN,Kuan Chien Shen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-28.

System comprising a single wafer, reduced volume process chamber

Номер патента: US20200203208A1. Автор: Wieland Pethe,Dirk Noack. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2020-06-25.

Method of conditioning vacuum chamber of semiconductor substrate processing apparatus

Номер патента: US09548188B2. Автор: Dennis Michael Hausmann. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-01-17.

Process chamber assembly with reflective hot plate

Номер патента: EP1536457A2. Автор: Jae Yun Lee,Lovell C. Chase. Владелец: ASML US Inc. Дата публикации: 2005-06-01.

Apparatus and method to improve uniformity and reduce local effect of process chamber

Номер патента: US8223470B2. Автор: Yu-Cheng Chang,Ying-Lin Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2012-07-17.

Method and apparatus for realtime wafer potential measurement in a plasma processing chamber

Номер патента: WO2023096730A1. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Yue Guo. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-06-01.

Jig for evaluating semiconductor processing chamber

Номер патента: US20190267269A1. Автор: Sean L. ZUMKELLER,Robert J. DUPERIER. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-08-29.

Multi-station processing chamber for semiconductor

Номер патента: US20230274957A1. Автор: Zhou Wang,Ren Zhou,Jing Li,Junichi Arami,Sean Chang,Si Shen,Brian Lu,Gregory SIU,Huaqiang Tan,Dezan Yang,Giyoul Kim,Zhongwu Liu. Владелец: Piotech Inc. Дата публикации: 2023-08-31.

batch thermal process chamber

Номер патента: KR20220157468A. Автор: 슈베르트 에스. 츄,카르틱 부펜드라 샤,아델 조지 타누스,알라 모라디안,수라짓 쿠마르,주오밍 주,슈-콴 라우,스리니바사 랑가파,치아 쳉 친,비슈와스 쿠마르 판데이. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2022-11-29.

Assembly for delivering rf power and dc voltage to a plasma processing chamber

Номер патента: US20110297650A1. Автор: Douglas A. Buchberger, Jr.,Surajit Kumar,Hamid Tavassoli,Shane C. NEVIL. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2011-12-08.

Bond protection for an electrostatic chuck in a plasma processing chamber

Номер патента: WO2024039717A1. Автор: Slobodan Mitrovic,Eric SAMULON,Yixuan Yu,Kadthala R. Narendrnath,Neha KONDEKAR,Moreshwar Narayan PURANDARE. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-02-22.

Temperature controlling method and apparatus for a plasma processing chamber

Номер патента: AU3079597A. Автор: Neil Benjamin,William S. Kennedy,Joel M. Cook,Thomas E. Wicker,Robert A. Maraschin. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 1998-01-05.

Dry cleaning of semiconductor processing chambers using non-metallic, carbon-comprising material

Номер патента: US5753137A. Автор: YAN Ye,Gerald Z. Yin,Charles Steven Rhoades. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1998-05-19.

Dry cleaning of semiconductor processing chambers

Номер патента: US5685916A. Автор: YAN Ye,Gerald Z. Yin,Charles Steven Rhoades. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1997-11-11.

Semiconductor process equipment, and process chamber therefor

Номер патента: EP4234755A1. Автор: Yujie Yang,Shiru Wang. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-30.

Multi-zone lamp heating and temperature monitoring in epitaxy process chamber

Номер патента: EP4337813A1. Автор: Matthias BAUER,Tetsuya Ishikawa,Peter Reimer,Michael R. Rice,Ala Moradian,Swaminathan T. Srinivasan,Manjunath Subbanna,Kartik Bhupendra SHAH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-20.

Wafer edge temperature correction in batch thermal process chamber

Номер патента: EP4189733A1. Автор: Schubert S. Chu,Shu-Kwan LAU,Surajit Kumar,Ala Moradian,Nyi O. Myo,Zuoming Zhu,Vishwas Kumar Pandey,Adel George Tannous,Brian Hayes Burrows,Kartik Bhupendra SHAH,Srinivasa Rangappa. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-06-07.

Plasma cleaning apparatus and semiconductor process equipment with the same

Номер патента: US20210198786A1. Автор: Jinyoung Lee,Min Hur,Woo Seok Kang,Dae-Woong Kim. Владелец: Korea Institute of Machinery and Materials KIMM. Дата публикации: 2021-07-01.

Thread profiles for semiconductor process chamber components

Номер патента: US12068137B2. Автор: Timothy Joseph Franklin,Carlaton WONG,Reyn Tetsuro Wakabayashi. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-20.

Methods for forming a protective coating on processing chamber surfaces or components

Номер патента: US11976357B2. Автор: Ankur Kadam,Geetika Bajaj,Prerna Sonthalia Goradia,Yogita Pareek. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-07.

Apparatus for providing plasma to a process chamber

Номер патента: WO2014093034A1. Автор: Chien-Teh Kao,Hyman W. H. Lam. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-06-19.

Device for homogenizing a gas distribution in a process chamber

Номер патента: US20230241560A1. Автор: Daniel DÜNSER,Sven Rieschl,Samir Jokar. Владелец: VAT HOLDING AG. Дата публикации: 2023-08-03.

Substrate receiving area for process chambers

Номер патента: US20230040661A1. Автор: Walter May. Владелец: CemeCon AG. Дата публикации: 2023-02-09.

Method for conditioning semiconductor processing chamber components

Номер патента: US12129569B2. Автор: LIN Xu,Hong Shih,John Daugherty,Satish Srinivasan,David Joseph WETZEL,Yiwei Song,Christopher Kimball,Johnny Pham,Yuanping SONG. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-29.

High-throughput plasma lid for semiconductor manufacturing processing chambers

Номер патента: WO2024229323A1. Автор: Srinivas Gandikota,Yixiong Yang,Sanjeev Baluja,Muhannad MUSTAFA,Janisht GOLCHA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-11-07.

High-throughput plasma lid for semiconductor manufacturing processing chambers

Номер патента: US20240371613A1. Автор: Srinivas Gandikota,Yixiong Yang,Sanjeev Baluja,Muhannad MUSTAFA,Janisht GOLCHA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-11-07.

Apparatus for providing plasma to a process chamber

Номер патента: US09982343B2. Автор: Chien-Teh Kao,Hyman W. H. Lam. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-05-29.

Showerhead-cooler system of a semiconductor-processing chamber for semiconductor wafers of large area

Номер патента: US09484190B2. Автор: Yuri Glukhoy. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-11-01.

Method and apparatus for supplying improved gas flow to a processing volume of a processing chamber

Номер патента: US11732355B2. Автор: Vishwas Kumar Pandey,Christopher S. Olsen,Kartik Shah,Eric Kihara Shono,Taewan Kim,Agus Sofian Tjandra,Hansel LO,Tobin Kaufman-Osborn. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-08-22.

Processing chamber mixing systems

Номер патента: WO2020146162A1. Автор: Ganesh SUBBUSWAMY,Steven WARNERT. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-07-16.

Pump assembly for creating vacuum in wafer processing chamber

Номер патента: US10879054B2. Автор: Shian-Hung SU,Chen-Yung WANG,Jia-Ming LEE. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-12-29.

Method and apparatus for supplying improved gas flow to a processing volume of a processing chamber

Номер патента: US20230407471A1. Автор: Vishwas Kumar Pandey,Christopher S. Olsen,Kartik Shah,Eric Kihara Shono,Taewan Kim,Agus Sofian Tjandra,Hansel LO,Tobin Kaufman-Osborn. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-21.

Gas diffuser unit, process chamber and wafer processing method

Номер патента: US20150002017A1. Автор: Fei-Fan Chen,Joung-Wei Liou,Shih-Wen Huang,Chien Kuo Huang,Chia-I Shen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-01-01.

Batch processing chambers for plasma-enhanced deposition

Номер патента: WO2024112433A1. Автор: HAITAO Wang,Srinivas Gandikota,Mandyam Sriram,Steven V. Sansoni,Jianming Fu,Sanjeev Baluja,Tza-Jing Gung. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-05-30.

Batch processing chambers for plasma-enhanced deposition

Номер патента: US20240170254A1. Автор: HAITAO Wang,Srinivas Gandikota,Mandyam Sriram,Steven V. Sansoni,Jianming Fu,Sanjeev Baluja,Tza-Jing Gung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-23.

RF current measurement in semiconductor processing tool

Номер патента: US12051630B2. Автор: Thomas Frederick,Sunil Kapoor. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-07-30.

Semiconductor process apparatus and process chamber

Номер патента: US20230411132A1. Автор: Yujie Yang,Shiru Wang. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

System and method for thermally calibrating semiconductor process chambers

Номер патента: US20200080894A1. Автор: Hyeongeu Kim,Yen Lin Leow,Caleb Koy Miskin. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2020-03-12.

System and method for thermally calibrating semiconductor process chambers

Номер патента: US11747209B2. Автор: Hyeongeu Kim,Yen Lin Leow,Caleb Koy Miskin. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-09-05.

Sealant coating for plasma processing chamber components

Номер патента: WO2020252020A1. Автор: John Daugherty,Slobodan Mitrovic,Darrell EHRLICH,Robin Koshy,Benjamin Philip HEINE. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2020-12-17.

Wafer Edge Temperature Calibration in Batch Thermal Process Chambers

Номер патента: KR20220156911A. Автор: 슈베르트 에스. 추,카르틱 부펜드라 샤,아델 조지 타누스,알라 모라디안,니 오. 마이오,수라짓 쿠마르,주오밍 주,브라이언 헤이스 버로우스,비슈와스 쿠마르 판디,슈-콴 라우,스리니바사 랑가파. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2022-11-28.

Process chamber, semiconductor process device, and semiconductor process method

Номер патента: EP4421853A1. Автор: Yongfei WANG,Wenkai CHI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-28.

System of semiconductor process and control method thereof

Номер патента: US12125687B2. Автор: Youngdo Kim,Sungyeol KIM,Sangki NAM,Daewon KANG,Sungyong LIM,Jonghun PI,Myunggeun SONG,Byungkook Cho,Hyeoncheol Jin. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-22.

Manufacturing method of semiconductor wafer with adhesive layer, photosensitive adhesive, and semiconductor device

Номер патента: JPWO2012017955A1. Автор: 真二郎 藤井,修一 森,一行 満倉. Владелец: Resonac Corporation. Дата публикации: 2013-10-03.

Modular mainframe layout for supporting multiple semiconductor process modules or chambers

Номер патента: EP4423800A1. Автор: Alpay Yilmaz,Randy A. Harris,Vincent DiCaprio,Coby Scott GROVE,Paul Zachary WIRTH,Avinash Shantaram,Amir Nissan,Jitendra Ratilal Bhimjiyani,Niranjan Pingle. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-04.

Absorbing reflector for semiconductor processing chamber

Номер патента: US20180084610A1. Автор: RAMACHANDRAN BALASUBRAMANIAN,Daniel REDFIELD,Joseph M. Ranish,Paul Brillhart,Satheesh Kuppurao,Kailash Kiran Patalay,Kin Pong Lo,Michael Olsen,James Francis Mack,Richard Halpin,Eddie Feigel,Brett Vetorino. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-03-22.

Absorbing reflector for semiconductor processing chamber

Номер патента: US20140376898A1. Автор: BALASUBRAMANIAN Ramachandran,Daniel REDFIELD,Joseph M. Ranish,Paul Brillhart,Satheesh Kuppurao,Kailash Kiran Patalay,Kin Pong Lo,Michael Olsen,James Francis Mack,Richard Halpin,Eddie Feigel,Brett Vetorino. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-12-25.

Absorbing reflector for semiconductor processing chamber

Номер патента: US09832816B2. Автор: BALASUBRAMANIAN Ramachandran,Daniel REDFIELD,Joseph M. Ranish,Paul Brillhart,Satheesh Kuppurao,Kailash Kiran Patalay,Kin Pong Lo,Michael Olsen,James Francis Mack,Richard Halpin,Eddie Feigel,Brett Vetorino. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-11-28.

Non-intrusive measurement of a wafer DC self-bias in semiconductor processing equipment

Номер патента: US09601301B2. Автор: Andrew Nguyen,Sergey G. BELOSTOTSKIY,Michael G. Chafin,Chinh Dinh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-03-21.

Process Chamber and Substrate Processing Apparatus Including the Same

Номер патента: US20210217636A1. Автор: Hyosan Lee,Kuntack Lee,Yong-jhin Cho,Jihoon Jeong,Young-Hoo Kim,Jung-min Oh,Yungjun Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-07-15.

Polishing composition for semiconductor processing, polishing composition preparation method, and semiconductor device manufacturing method to which polishing composition is applied

Номер патента: WO2022145653A1. Автор: 한덕수,권장국,박한터,홍승철. Владелец: 에스케이씨솔믹스 주식회사. Дата публикации: 2022-07-07.

Heat shield assemblies for minimizing heat radiation to pump of process chamber

Номер патента: US20230290614A1. Автор: Ala Moradian,Colin John Dickinson,Manjunath Subbanna,Dinkesh HUDERI SOMANNA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-14.

Substrate processing chamber, substrate processing system including the same, and substrate processing method using the same

Номер патента: US20230043451A1. Автор: Yongmyung Jun,Seohyun Kim,Hyunjin Ko,Jae Seong RYU,Inkwang BAE,Seungbu BAEK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-02-09.

Parallel multi wafer axial spin clean processing using spin cassette inside movable process chamber

Номер патента: US09786486B2. Автор: Amuldeep S. Brar,Nampyo Lee,Woosung Han. Владелец: Samsung Austin Semiconductor LLC. Дата публикации: 2017-10-10.

Wafer tray and ceramic blade for semiconductor processing apparatus

Номер патента: US5636964A. Автор: Sasson Somekh,Kevin Fairbairn,Gary M. Kolstoe,Gregory W. White,W. George Faraco, Jr.. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1997-06-10.

Method for cleaning a process chamber

Номер патента: US20170069472A1. Автор: Shigeru Tahara,Dunja RADISIC. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-09.

Semiconductor manufacturing equipment, and method for transporting replaceable components in the semiconductor manufacturing equipment

Номер патента: US20240120224A1. Автор: Jin Hyuk Choi,Hyun Joo Jeon,Kyu Sang Lee,Beom Soo HWANG,Nam Young Cho,Kong Woo LEE,Myung Ki SONG,Ja-Yul KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-11.

Apparatus for uniform pumping within a substrate process chamber

Номер патента: US09464732B2. Автор: Jared Ahmad Lee,Martin Jeffrey Salinas,Imad Yousif,Paul Benjamin Reuter. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-10-11.

Semiconductor processing device equipped with process chamber

Номер патента: US20180294173A1. Автор: Kee Won Suh. Владелец: ALLIED TECHFINDERS CO Ltd. Дата публикации: 2018-10-11.

Apparatus for transferring member to be disposed in substrate processing chamber, substrate processing system, and method for transferring member

Номер патента: US20230290656A1. Автор: Wataru Matsumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

Method and system for cleaning a process chamber

Номер патента: US20200251311A1. Автор: Sanjeev Baluja,Tejas ULAVI,Amit Kumar BANSAL,Kalyanjit GHOSH,Yusheng Zhou,Shailendra Srivastava. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-08-06.

Optical absorption sensor for semiconductor processing

Номер патента: US11848178B2. Автор: Diwakar Kedlaya,Fang RUAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-19.

Optical absorption sensor for semiconductor processing

Номер патента: US20240079220A1. Автор: Diwakar Kedlaya,Fang RUAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Method for conditioning a processing chamber for steady etching rate control

Номер патента: US20190013221A1. Автор: Chun Yan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-01-10.

Chuck for plasma processing chamber

Номер патента: US12131890B2. Автор: Darrell EHRLICH,Ann Erickson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-29.

Methods of seasoning process chambers

Номер патента: US11996273B2. Автор: Anup Kumar Singh,Bhaskar Kumar,Vinayak Vishwanath Hassan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-28.

Method and device for compensating wafer bias in a plasma processing chamber

Номер патента: WO2000021127A1. Автор: Michael S. Barnes,Christopher H. Olson,Alan M. Schoepp,Robert E. Knop,Tuan M. Ngo. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2000-04-13.

Apparatus for trapping multiple reaction by-products for semiconductor process

Номер патента: US12104247B2. Автор: Jin Woong Kim,Che Hoo CHO,Yeon Ju Lee,Ji Eun Han. Владелец: Milaebo Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Reduced volume processing chamber

Номер патента: US20190214247A1. Автор: Han-Wen Chen,Steven Verhaverbeke,Roman Gouk,Jean Delmas. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-07-11.

A method and apparatus for ion energy distribution manipulation for plasma processing chambers that allows ion energy boosting through amplitude modulation

Номер патента: WO2018160554A1. Автор: HAITAO Wang,Kartik Ramaswamy,Wonseok Lee,Ankur Agarwal. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-09-07.

Method and apparatus for ion energy distribution manipulation for plasma processing chambers that allows ion energy boosting through amplitude modulation

Номер патента: US20180254171A1. Автор: HAITAO Wang,Kartik Ramaswamy,Wonseok Lee,Ankur Agarwal. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-09-06.

Method for reducing phosphorous contamination in a vacuum processing chamber

Номер патента: US4512812A. Автор: Reuel B. Liebert,Carl J. Russo. Владелец: Varian Associates Inc. Дата публикации: 1985-04-23.

System for in-situ generation of fluorine radicals and/or fluorine-containing interhalogen (xfn) compounds for use in cleaning semiconductor processing chambers

Номер патента: WO2004030037A2. Автор: W. Karl Olander,Jose I. Arno. Владелец: ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC.. Дата публикации: 2004-04-08.

Edge ring or process kit for semiconductor process module

Номер патента: US20230296512A1. Автор: Allen L. D'Ambra,Sheshraj L. Tulshibagwale. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-21.

Cathode rf asymmetry detection probe for semiconductor rf plasma processing equipment

Номер патента: US20190107558A1. Автор: Alex Paterson,Maolin Long. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2019-04-11.

Plasma processing chambers configured for tunable substrate and edge sheath control

Номер патента: WO2023069633A1. Автор: Rajinder Dhindsa. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-04-27.

Semiconductor process chamber exhaust port quartz removal tool

Номер патента: US5833290A. Автор: Bradley Mitchell Curelop,James Hann. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1998-11-10.

Semiconductor process chamber exhaust port quartz removal tool

Номер патента: US5743581A. Автор: Bradley Mitchell Curelop,James Hann. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1998-04-28.

Apparatus and methods for processing chamber lid concentricity alignment

Номер патента: US20230089089A1. Автор: Ashutosh Agarwal,Kwok Feng Wong,Rakesh Ramadas. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-03-23.

Apparatus and methods for processing chamber lid concentricity alignment

Номер патента: US11823939B2. Автор: Ashutosh Agarwal,Kwok Feng Wong,Rakesh Ramadas. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-21.

Component with a dual layer hermetic atomic layer deposition coatings for a semiconductor processing chamber

Номер патента: WO2024097505A1. Автор: LIN Xu,Eric A. Pape,David Joseph WETZEL. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-05-10.

Heat shield assemblies for minimizing heat radiation to pump of process chamber

Номер патента: WO2023172545A1. Автор: Ala Moradian,Colin John Dickinson,Manjunath Subbanna,Dinkesh HUDERI SOMANNA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-09-14.

Self-bias calculation on a substrate in a process chamber with bias power for single or multiple frequencies

Номер патента: US20130110435A1. Автор: Gary Leray,Samer Banna,Valentin Nikolov Todorow. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2013-05-02.

Semiconductor processing chamber with metal or metalloid fluoride process exposed coating

Номер патента: WO2024123579A1. Автор: LIN Xu,Eric A. Pape,David Joseph WETZEL,Robin Koshy. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-06-13.

Apparatus for uniform pumping within a substrate process chamber

Номер патента: US20130284287A1. Автор: Jared Ahmad Lee,Martin Jeffrey Salinas,Imad Yousif,Paul Benjamin Reuter. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2013-10-31.

Anodization for metal matrix composite semiconductor processing chamber components

Номер патента: US20230343627A1. Автор: Debanjan DAS,Darrell EHRLICH,Eric SAMULON. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-10-26.

Centering wafer for processing chamber

Номер патента: WO2024030354A1. Автор: Sanjeev Baluja,Muhannad MUSTAFA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-02-08.

Electrostatic chuck and semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20230260817A1. Автор: Jian Liu. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Centering wafer for processing chamber

Номер патента: US20240047256A1. Автор: Sanjeev Baluja,Muhannad MUSTAFA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-08.

Method to protect internal components of semiconductor processing equipment

Номер патента: EP1637626B1. Автор: Eugene Joseph Karwacki, Jr.,Bing Ji,Stephen Andrew Motika,David Allen Roberts,Dingjun Wu. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 2008-12-17.

Semiconductor process

Номер патента: US20150132867A1. Автор: Chun-Chieh Lin,Yu-Pin Tsai,Yu-Cheng Tsao,Cheng-Hung Wang,Hsiu-Hsiung YANG. Владелец: Advanced Semiconductor Engineering Inc. Дата публикации: 2015-05-14.

Method for semiconductor die edge protection and semiconductor die separation

Номер патента: US11764096B2. Автор: Andrew M. Bayless,Brandon P. Wirz. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2023-09-19.

Semiconductor substrate and semiconductor device fabrication method

Номер патента: US20060022196A1. Автор: Hiroshi Ohta,Sachie Tone,Masahiro Ninomiya. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2006-02-02.

Semiconductor device and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US09735325B2. Автор: Mitsuyoshi Endo. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-08-15.

Semiconductor process

Номер патента: US09564376B2. Автор: Chun-Chieh Lin,Yu-Pin Tsai,Yu-Cheng Tsao,Cheng-Hung Wang,Hsiu-Hsiung YANG. Владелец: Advanced Semiconductor Engineering Inc. Дата публикации: 2017-02-07.

Halogen-resistant thermal barrier coating for processing chambers

Номер патента: US20240117489A1. Автор: Tetsuya Ishikawa,Ala Moradian,Amir H. Tavakoli. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-11.

Yttria coating for plasma processing chamber components

Номер патента: WO2023229892A1. Автор: LIN Xu,John Daugherty,Satish Srinivasan,Jeremiah Michael DEDERICK. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2023-11-30.

Semiconductor equipment monitoring apparatus, and semiconductor equipment including the semiconductor equipment monitoring apparatus

Номер патента: US20240055243A1. Автор: Sunghwi CHO,Sungyeol KIM,Jungchul Lee,Sungyoung Yoon,Junbum Park,Sungyong LIM,Taekjin Kim,Meehyun Lim,Jinyeong Yun. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-15.

Polymeric coating for semiconductor processing chamber components

Номер патента: US20240120180A1. Автор: LIN Xu,Yiwei Song,Christopher Kimball,Johnny Pham,Yuanping SONG. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-04-11.

Halogen-resistant thermal barrier coating for processing chambers

Номер патента: WO2024076386A1. Автор: Tetsuya Ishikawa,Ala Moradian,Amir H. Tavakoli. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-04-11.

Systems and Methods for Rotating and Translating a Substrate in a Process Chamber

Номер патента: US20210023591A1. Автор: Jeffery W. Butterbaugh. Владелец: Tel Manufacturing and Engineering of America Inc. Дата публикации: 2021-01-28.

Process chamber purge module for semiconductor processing equipment

Номер патента: US5405444A. Автор: Mehrdad M. Moslehi. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1995-04-11.

Systems and methods for providing gases to a process chamber

Номер патента: US09721763B2. Автор: Iqbal Shareef,Mark Taskar,Evangelos Spyropoulos. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-08-01.

Processing chamber condition and process state monitoring using optical reflector attached to processing chamber liner

Номер патента: US20230304150A1. Автор: Patrick Tae. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-28.

Substrate processing apparatus capable of adjusting inner pressure of process chamber thereof and method therefor

Номер патента: US11846025B2. Автор: Takayuki Nakada,Masamichi Yachi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-12-19.

Substrate processing apparatus and exhaust system capable of adjusting inner pressure of process chamber thereof, and method thereof

Номер патента: US20240076780A1. Автор: Takayuki Nakada,Masamichi Yachi. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-03-07.

Systems and methods for process chamber health monitoring and diagnostics using virtual model

Номер патента: EP4302322A1. Автор: Dermot Cantwell. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-10.

Processing chamber condition and process state monitoring using optical reflector attached to processing chamber liner

Номер патента: US12000041B2. Автор: Patrick Tae. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-04.

Semiconductor processing chamber with filament lamps having nonuniform heat output

Номер патента: US11842908B2. Автор: Sam Kim,Shiva K. T. Rajavelu Muralidhar. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-12-12.

Temperature control of semiconductor processing chambers

Номер патента: WO2014040038A2. Автор: Michael Nam,David Gunther,Jae Yeol Park,Kyle PETERSEN. Владелец: Semicat, Inc.. Дата публикации: 2014-03-13.

Temperature control of semiconductor processing chambers

Номер патента: WO2014040038A3. Автор: Michael Nam,David Gunther,Jae Yeol Park,Kyle PETERSEN. Владелец: Semicat, Inc.. Дата публикации: 2015-07-16.

System and method for illuminating a semiconductor processing system

Номер патента: EP1277226A1. Автор: Bharath Rangarajan,Bhanwar Singh,Ramkumar Subramanian,Khoi A. Phan,Bryan K. Choo. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2003-01-22.

Etching equipment, developing equipment, cleaning equipment and film removing equipment, spray processing equipment and method

Номер патента: WO2016044986A1. Автор: 孙尚传. Владелец: 安徽省大富光电科技有限公司. Дата публикации: 2016-03-31.

Substrate processing equipment, processing liquid discharge method in the substrate processing equipment, processing liquid exchange method in the substrate processing equipment, substrate processing method in the substrate processing equipment

Номер патента: JP7089902B2. Автор: 周一 安田,憲幸 菊本,通矩 岩尾. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-23.

Cleaning equipment and cleaning method for substrate processing equipment

Номер патента: JP7038524B2. Автор: 浩平 山田,弘朗 稲富,聡 枇杷. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-18.

Metal part and process chamber having the same

Номер патента: US20240186116A1. Автор: Bum Mo Ahn,Tae Hwan Song,Young Heum EOM. Владелец: Point Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Plasma process chambers employing distribution grids having focusing surfaces thereon enabling angled fluxes to reach a substrate, and related methods

Номер патента: US09534289B2. Автор: Jun Xue,Qiwei Liang,Ludovic Godet. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-01-03.

Push-pull power supply for multi-mesh processing chambers

Номер патента: US20220115206A1. Автор: Edward P. Hammond. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-04-14.

Method for repairing an equipment piece used in semiconductor processing

Номер патента: EP3288914A1. Автор: Michael Parker,Frank Balma,Alexander Veytser,Brent D.a. ELLIOT,Jeff Cunha. Владелец: Component Re Engineering Co Inc. Дата публикации: 2018-03-07.

Method for repairing an equipment piece used in semiconductor processing

Номер патента: WO2016178839A1. Автор: Michael Parker,Frank Balma,Alexander Veytser,Brent D.a. ELLIOT,Jeff Cunha. Владелец: Component Re-Engineering Company, Inc.. Дата публикации: 2016-11-10.

System and Method for Reducing Particle Formation in a Process Chamber of an Ion Implanter

Номер патента: US20240274404A1. Автор: Bon-Woong Koo,Frank Sinclair,Tseh-Jen Hsieh,Vikram M. Bhosle,Gregory Edward Stratoti. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-15.

System and method for reducing particle formation in a process chamber of an ion implanter

Номер патента: WO2024167666A1. Автор: Bon-Woong Koo,Frank Sinclair,Tseh-Jen Hsieh,Vikram M. Bhosle,Gregory Edward Stratoti. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-15.

Integrated process kit for a substrate processing chamber

Номер патента: US09953812B2. Автор: XIN Wang,Prashant Prabhu,Kirankumar Savandaiah,William Johanson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-04-24.

Coil for improved process chamber deposition and etch uniformity

Номер патента: WO2022192296A1. Автор: Rui Li,Goichi Yoshidome,Andrew Tomko,Xiangjin Xie. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-09-15.

Protective layers for processing chamber components

Номер патента: US20200020511A1. Автор: Mats Larsson,Kartik Shah,Kevin A. Papke,Umesh M. Kelkar,Karthikeyan BALARAMAN,Balamurugan RAMASAMY,Rajasekhar PATIBANDLA,Sathyanarayana BINDIGANAVALE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-01-16.

Sputter source for semiconductor process chambers

Номер патента: US09620339B2. Автор: Prashanth Kothnur,Tza-Jing Gung,Anantha K. Subramani,Hanbing Wu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-04-11.

Two step process for cleaning a substrate processing chamber

Номер патента: US6068729A. Автор: Ashish V. Shrotriya. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-05-30.

Plasma apparatus, magnetic-field controlling method, and semiconductor manufacturing method

Номер патента: US09567668B2. Автор: Chih-Chien Chi,Huang-Yi Huang,Ching-Hua Hsieh,Yao-Jen Chang,Shing-Chyang Pan,Kuan-Chia Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-02-14.

Substrate processing chamber having improved process volume sealing

Номер патента: WO2019060259A1. Автор: Keith A. Miller,Ilya Lavitsky,John Mazzocco. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2019-03-28.

Device for adjusting position of chamber and plasma process chamber including the same for semiconductor manufacturing

Номер патента: US11955322B2. Автор: Wei-Chen Liao,Ming Che Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-04-09.

Device for adjusting position of chamber and plasma process chamber including the same for semiconductor manufacturing

Номер патента: US20230386805A1. Автор: Wei-Chen Liao,Ming Che Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Sputter source for use in a semiconductor process chamber

Номер патента: US09580795B2. Автор: Keith A. Miller,Martin Lee Riker. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-02-28.

Collimator for use in substrate processing chambers

Номер патента: US09543126B2. Автор: Martin Lee Riker. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Cooling shield for substrate processing chamber

Номер патента: WO2008133876A2. Автор: Kathleen Scheible,Cristopher Mark Pavloff. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2008-11-06.

Spark plasma sintered component for plasma processing chamber

Номер патента: US20230331633A1. Автор: LIN Xu,Harmeet Singh,Satish Srinivasan,Robin Koshy,Pankaj HAZARIKA. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-10-19.

Sputter source for semiconductor process chambers

Номер патента: US20170211175A1. Автор: Prashanth Kothnur,Tza-Jing Gung,Anantha K. Subramani,Hanbing Wu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-07-27.

Shutter disc for a semiconductor processing tool

Номер патента: US20230383397A1. Автор: Chin-Szu Lee,Yi-Chao Chang,Yi-Lin Wang,Hua-Sheng Chiu,Zih-Shou MUE. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Shutter disc for a semiconductor processing tool

Номер патента: US11827970B2. Автор: Chin-Szu Lee,Yi-Chao Chang,Yi-Lin Wang,Hua-Sheng Chiu,Zih-Shou MUE. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-28.

Apparatus for non-invasive sensing of radio-frequency current spectra flowing in a plasma processing chamber

Номер патента: EP4250335A1. Автор: Paul Scullin,David Gahan. Владелец: IMPEDANS LTD. Дата публикации: 2023-09-27.

System and method for non-invasive sensing of radio-frequency current spectra flowing in a plasma processing chamber

Номер патента: US20230305045A1. Автор: Paul Scullin,David Gahan. Владелец: IMPEDANS LTD. Дата публикации: 2023-09-28.

Dense oxide coated component of a plasma processing chamber and method of manufacture thereof

Номер патента: US09546432B2. Автор: Tom Stevenson,LIN Xu,Hong Shih,Sivakami Ramanathan,John Daugherty,Robert G. O'Neill,John Michael Kerns,William Charles,Russell Ormond. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-01-17.

Cleaning composition and cleaning method for component of semiconductor manufacturing process chamber

Номер патента: US20220135916A1. Автор: Yasuo Suzuki,Isao Hirano. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-05.

Cleaning composition and cleaning method for component of semiconductor manufacturing process chamber

Номер патента: US11981880B2. Автор: Yasuo Suzuki,Isao Hirano. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-14.

Thermosetting resin composition (versions), construction of attachment of semiconductor device and method of manufacture of semiconductor device with use of thermosetting resin composition

Номер патента: RU2195474C2. Автор: Марк КОНАРСКИЙ,Збигнев А. ЩЕПАНЯК. Владелец: Локтайт Корпорейшн. Дата публикации: 2002-12-27.

Self-limiting selective epitaxy process for preventing merger of semiconductor fins

Номер патента: US09752251B2. Автор: Kevin K. Chan,Annie Levesque,Yue Ke,Eric C. Harley. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-09-05.

Process chamber component and method of forming a surface texture

Номер патента: EP3648913A1. Автор: Olivier MARCHAND. Владелец: Cleanpart Group GmbH. Дата публикации: 2020-05-13.

Process chamber component and method of forming a surface texture

Номер патента: US20200176225A1. Автор: Olivier MARCHAND. Владелец: Cleanpart Group GmbH. Дата публикации: 2020-06-04.

Semiconductor process device and impedance matching method therefor

Номер патента: EP4411784A1. Автор: JING Yang,Di Zhang,Gang Wei,Wenqing Li,Shuqi JIANG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-07.

Semiconductor processing equipment and impedance-matching method

Номер патента: US20240249917A1. Автор: JING Yang,Di Zhang,Gang Wei,Wenqing Li,Shuqi JIANG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Processing chamber calibration

Номер патента: WO2023133293A1. Автор: Xiaoxiong Yuan,Karthik Ramanathan,Adolph Miller Allen,Weize HU,Rohit Mahakali,Elizabeth Kathryn Neville. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-07-13.

Method and apparatus for verifying the calibration of semiconductor processing equipment

Номер патента: US5948958A. Автор: Won Bang,Chen-An Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1999-09-07.

Exhaust manifold for semiconductor process chamber

Номер патента: US20240030045A1. Автор: Yeh-Chieh Wang,Kuang-Wei Cheng,Sung-Ju Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Detecting defects of semiconductor manufacturing assemblies

Номер патента: WO2024107370A1. Автор: Chih-Yang Chang,Yao-Hung Yang,Shannon WANG. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-05-23.

Pyrometry filter for thermal process chamber

Номер патента: US09786529B2. Автор: Joseph M. Ranish,Bruce E. Adams. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-10.

Multi-chambered substrate processing equipment having sealing structure between chambers thereof, and method of assembling such equipment

Номер патента: US20070114440A1. Автор: Kyoung-Seok Yang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-05-24.

Processing chamber cleaning method, cleaning attachment and substrate processing system

Номер патента: US20240157410A1. Автор: Noritake SUMI. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Improved process chamber clean

Номер патента: WO2024191570A1. Автор: Yi Wang,Wolfgang R. Aderhold,Karthik Raman SHARMA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-09-19.

Semiconductor processing flow field control apparatus and method

Номер патента: US20210225673A1. Автор: Che-Fu Chen,Kai-Chin WEI. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-07-22.

Process chamber clean

Номер патента: US20240307930A1. Автор: Yi Wang,Wolfgang R. Aderhold,Karthik Raman SHARMA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-19.

Apparatus for providing and directing heat energy in a process chamber

Номер патента: US20140105583A1. Автор: Mathew Abraham,Joseph Johnson,Joseph M. Ranish,Aaron Muir Hunter,John Gerling,Aneesh Nainani. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-04-17.

Apparatus and method for selectively restricting process fluid flow in semiconductor processing

Номер патента: US20010031560A1. Автор: David Rose. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-10-18.

Apparatus for providing and directing heat energy in a process chamber

Номер патента: US09543172B2. Автор: Mathew Abraham,Joseph Johnson,Joseph M. Ranish,Aaron Muir Hunter,John Gerling,Aneesh Nainani. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Substrate processing apparatus, transfer method of substrate support, recording medium, and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20240249963A1. Автор: Naofumi Ohashi,Yukinori Aburatani. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-25.

Method and system for recognizing and addressing plasma discharge during semiconductor processes

Номер патента: US12100604B2. Автор: Chih-Yu Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-24.

Device for treating semiconductor process exhaust gas

Номер патента: US20230271133A1. Автор: Jong Pil Yoon. Владелец: Plasma Science System Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Process chamber having gate slit opening and closing apparatus

Номер патента: US8834673B2. Автор: Hyoung Kyu Son. Владелец: ADP Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2014-09-16.

Systems and methods for determining polymer build-up within a chemical processing chamber

Номер патента: WO2024155784A1. Автор: Ashish Bhatnagar,Grant BREWER. Владелец: WATLOW ELECTRIC MANUFACTURING COMPANY. Дата публикации: 2024-07-25.

High temperature process chamber lid

Номер патента: US09831109B2. Автор: Mei Chang,Chien-Teh Kao,Dien-Yeh Wu,Joel M. Huston,Ilker Durukan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-11-28.

Processing of Semiconductors Using Vaporized Solvents

Номер патента: US20190189479A1. Автор: Shuang Meng,Michael X. Yang,Shawming Ma. Владелец: Mattson Technology Inc. Дата публикации: 2019-06-20.

Real-time calibration for wafer processing chamber lamp modules

Номер патента: US09698065B2. Автор: Chin-Hsiang Lin,Sunny Wu,Jo Fei Wang,Jong-I Mou,Chih-Tien Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-07-04.

Methods and apparatus to prevent interference between processing chambers

Номер патента: WO2018067463A1. Автор: Xiaodong Wang,Zheng Wang,Sunil Kumar Garg,Paul Kiely,Fuhong Zhang,Martin Lee Riker,William Fruchterman. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-04-12.

Methods and Apparatus to Prevent Interference Between Processing Chambers

Номер патента: US20180096871A1. Автор: Xiaodong Wang,Zheng Wang,Sunil Kumar Garg,Paul Kiely,Fuhong Zhang,Martin Lee Riker,William Fruchterman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-04-05.

Methods And Apparatus To Prevent Interference Between Processing Chambers

Номер патента: US20200035527A1. Автор: Xiaodong Wang,Zheng Wang,Sunil Kumar Garg,Paul Kiely,Fuhong Zhang,Martin Lee Riker,William Fruchterman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-01-30.

L-motion slit door for substrate processing chamber

Номер патента: US12125688B2. Автор: Hamid Noorbakhsh,James Hugh Rogers. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-22.

Systems and methods for cooling and removing reactants from a substrate processing chamber

Номер патента: US09453614B2. Автор: Colin F. Smith. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-09-27.

Process chamber with pressure charging and pulsing capability

Номер патента: US20240153790A1. Автор: Jiang Lu,Le Zhang,Xiaoxiong Yuan,David T. Or,Chih-Hsun Hsu,Borui Xia. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-09.

Erosion resistant plasma processing chamber components

Номер патента: US20230317424A1. Автор: LIN Xu,Harmeet Singh,Justin Charles CANNIFF,Robin Koshy,Simon Gosselin,Adrian Radocea. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-10-05.

Process chamber gate valve

Номер патента: US09765897B2. Автор: Shin-Young Jee. Владелец: Presys Co Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Detecting defects of semiconductor manufacturing assemblies

Номер патента: US20240162065A1. Автор: Chih-Yang Chang,Yao-Hung Yang,Shannon WANG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-16.

Process chambers for substrate vacuum processing tool

Номер патента: WO2007101207A3. Автор: John M Smith,James Carter Hall,Jeffrey G Ellison. Владелец: Anaconda Semi Lp. Дата публикации: 2008-01-10.

Adaptive model training for process control of semiconductor manufacturing equipment

Номер патента: US20240047248A1. Автор: Ye Feng,Yan Zhang,Dipongkar TALUKDER,Jeffrey D. BONDE. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-02-08.

Plasma treatment process for in-situ chamber cleaning efficiency enhancement in plasma processing chamber

Номер патента: US10002745B2. Автор: LIN Zhang,Xuesong Lu,Andrew V. Le,Jang Seok Oh,Xinhai Han. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-06-19.

Wafer processing equipment and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20220325953A1. Автор: Youngtae Kim,Jihoon Jeong,Sangjine Park,Younghoo KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-10-13.

Apparatus for regulating temperature of a process kit in a semiconductor wafer-processing chamber

Номер патента: WO2002093624A2. Автор: Senh Thach,Arnold Kholodenko,Dennis Grimard,Wing Cheng,Alex Veytser. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2002-11-21.

Method of manufacturing semiconductor device by setting process chamber maintenance enable state

Номер патента: US11749550B2. Автор: Naofumi Ohashi,Shun Matsui,Yasuhiro Mizuguchi,Tadashi Takasaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-09-05.

Method of manufacturing semiconductor device by setting process chamber to maintenance enable state

Номер патента: US20230360942A1. Автор: Naofumi Ohashi,Shun Matsui,Yasuhiro Mizuguchi,Tadashi Takasaki. Владелец: Kokusai Electric Corp. Дата публикации: 2023-11-09.

Apparatus and method for treating substrate including process chambers and transfer chamber

Номер патента: US11923216B2. Автор: KORIAKIN ANTON,Sang Jin Park,Joon Ho WON,Ji Hwan Park,Seung Min Shin,Hae Won Choi,Pil Kyun HEO,Kun Tack LEE,Jin Yeong SUNG,Jang Jin LEE. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

Methods for extending the lifetime of pressure gauges coupled to substrate process chambers

Номер патента: US20110265824A1. Автор: James P. Cruse. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2011-11-03.

Process chamber for a supercritical process and apparatus for treating substrates having the same

Номер патента: US20190096712A1. Автор: Yong-Sun Ko,Kwang-Wook Lee,Yong-jhin Cho,Byung-kwon CHO,Sang-Jine Park,Yeon-Jin Gil. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-03-28.

Method of installing elastomer ring in semiconductor processing equipment and guiding sheet and jig used in installing elastomer ring

Номер патента: US20160163518A1. Автор: Chun-Yao Huang,Yo-Yu CHANG. Владелец: Mfc Sealing Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-09.

Method of installing elastomer ring in semiconductor processing equipment and guiding sheet and jig used in installing elastomer ring

Номер патента: US10153140B2. Автор: Chun-Yao Huang,Yo-Yu CHANG. Владелец: Mfc Sealing Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-12-11.

Apparatus for regulating temperature of a process kit in a semiconductor wafer-processing chamber

Номер патента: WO2002093624A3. Автор: Senh Thach,Arnold Kholodenko,Dennis Grimard,Wing Cheng,Alex Veytser. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-01-09.

Gate valve and semiconductor manufacturing apparatus

Номер патента: US8091863B2. Автор: Toshihisa Nozawa,Shinji Komoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-01-10.

High pressure processing chamber for multiple semiconductor substrates

Номер патента: EP1501961A2. Автор: Maximilian A. Biberger,Frederick P. Layman. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2005-02-02.

Method and system for improving the operation of semiconductor processing

Номер патента: US11856706B2. Автор: Siamak Salimian,Tom K. Cho,Yao-Hung Yang,Chun-Chung Chen,Chien-Min Liao,Hsui YANG,Jeevan SHANBHAG,Earl HUNTER,David GANON,Mariana LUIGI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-26.

Method and mechanism for contact-free process chamber characterization

Номер патента: EP4367714A1. Автор: Chunlei Zhang,Vivek B. Shah. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-15.

Apparatus for processing substrate and semiconductor manufacturing apparatus including the same

Номер патента: US20230369081A1. Автор: Anton Koriakin,Minwoo Kim,Haewon Choi,Hyungseok Kang,Joonho Won. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Tools and methods for processing microelectronic workpieces using process chamber designs that easily transition between open and closed modes of operation

Номер патента: US20090280235A1. Автор: Jimmy D. Collins,Tracy A. Gast,Alan D. Rose,Jeffrey M. Lauerhaas. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-11-12.

Holistic analysis of multidimensional sensor data for substrate processing equipment

Номер патента: US20230367302A1. Автор: Chao Liu,Shifang Li,Andreas Schulze,Yudong Hao. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-16.

Substrate transfer module and semiconductor processing system

Номер патента: US20210358782A1. Автор: Zhuo Wang,Jason Lee Tian. Владелец: Piotech Inc. Дата публикации: 2021-11-18.

Temperature-controllable process chambers, electronic device processing systems, and manufacturing methods

Номер патента: US11837478B2. Автор: Paul Z. Wirth. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-05.

Methods and apparatus for microwave leakage reduction for semiconductor process chambers

Номер патента: US20190326141A1. Автор: Ananthkrishna Jupudi,Ribhu GAUTAM,Preetham P. RAO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-10-24.

Methods and apparatus for microwave leakage reduction for semiconductor process chambers

Номер патента: WO2019204110A1. Автор: Ananthkrishna Jupudi,Ribhu GAUTAM,Preetham P. RAO. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2019-10-24.

Lamp for rapid thermal processing chamber

Номер патента: US09536728B2. Автор: Joseph M. Ranish,Khurshed Sorabji. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-01-03.

Semiconductor process system and gas treatment method

Номер патента: US20240096649A1. Автор: Jong-San Chang,Hyunseok Kim,Kimoon LEE,JungDae PARK,Wonsu Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-21.

Method and system for recognizing and addressing plasma discharge during semiconductor processes

Номер патента: US11894250B2. Автор: Chih-Yu Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-02-06.

Device for treating semiconductor process exhaust gas

Номер патента: EP4327916A1. Автор: Jong Pil Yoon. Владелец: Plasma Science System Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-28.

Semiconductor processing chamber adapter

Номер патента: EP4364181A1. Автор: Ryan Pakulski,Son T. Nguyen,Anh N. Nguyen,Anchuan Wang,Zihui Li,Kenneth D. Schatz,Soonwook JUNG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-08.

Vacuum pump, vacuum pump set for evacuating a semiconductor processing chamber and method of evacuating a semiconductor processing chamber

Номер патента: EP4088034A1. Автор: Nigel Paul Schofield. Владелец: Edwards Ltd. Дата публикации: 2022-11-16.

Semiconductor manufacturing method and semiconductor manufacturing apparatus

Номер патента: US20240258115A1. Автор: Yoshihide Yamaguchi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

Process stop loss reduction system through rapid replacement of apparatus for trapping of reaction by-product for semiconductor process

Номер патента: US20240186154A1. Автор: In Hwan Kim,Sung Won Yoon,Yeon Ju Lee,In Mun Hwang. Владелец: Milaebo Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Combination Vacuum And Over-Pressure Process Chamber And Methods Related Thereto

Номер патента: US20200234986A1. Автор: Craig Walter McCOY,William Moffat. Владелец: Yield Engineering Systems Inc. Дата публикации: 2020-07-23.

Pressure controller configuration for semiconductor processing applications

Номер патента: WO2014172142A1. Автор: Jonathan Dinh,Andrew Nguyen,Sergey G. BELOSTOTSKIY,Ying-sheng LIN. Владелец: APPLIED MATERIALS, INC. Дата публикации: 2014-10-23.

Plasma processing chamber for bevel edge processing

Номер патента: US20140174661A1. Автор: Yunsang Kim,Andrew D. Bailey, III. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2014-06-26.

Plasma processing chamber for bevel edge processing

Номер патента: US8673111B2. Автор: Yunsang Kim,Andrew D. Bailey, III. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2014-03-18.

Temperature controlled plasma processing chamber component with zone dependent thermal efficiencies

Номер патента: US20110303641A1. Автор: Kallol Bera,Larry D. Elizaga,Chetan MAHADESWARASWAMY. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2011-12-15.

Plasma processing chamber for bevel edge processing

Номер патента: US20130233490A1. Автор: Yunsang Kim,Andrew D. Bailey, III. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2013-09-12.

Movable electrode for process chamber

Номер патента: US20220093436A1. Автор: Rick Kustra. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-03-24.

Material scheduling method and device of semiconductor processing equipment

Номер патента: US20240210926A1. Автор: Lin Cui,Sixue SHI,Muya LIU. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

High pressure/high temperature process chamber

Номер патента: US5990453A. Автор: Joe Stevens,Ashok K. Das,Erich Tzou,Matt Tsai. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1999-11-23.

Methods of correlating zones of processing chambers, and related systems and methods

Номер патента: WO2024091305A1. Автор: Shu-Kwan LAU,Ala Moradian,Errol Antonio C. Sanchez,Zuoming Zhu,Abhishek Dube,Martin Jeffrey Salinas,Manjunath Subbanna,Chandra MOHAPATRA,Erika R. Warrick. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-05-02.

Process chamber with uv irradiance

Номер патента: US20230294190A1. Автор: Christopher Lane,Ramakanth Alapati,Tapani LAAKSONEN,Craig Walter McCOY,M Ziaul Karim. Владелец: Yield Engineering Systems Inc. Дата публикации: 2023-09-21.

Process chamber with pressure charging and pulsing capability

Номер патента: WO2024102363A1. Автор: Jiang Lu,Le Zhang,Xiaoxiong Yuan,David T. Or,Chih-Hsun Hsu,Borui Xia. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-05-16.

Apparatus and method for inspecting a wafer process chamber

Номер патента: US20190162675A1. Автор: Keith Kuang-Kuo Koai,Kai-Hsiang Chang,Stanley SHIN,S.C. Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2019-05-30.

Method of manufacturing semiconductor structure and semiconductor device etching equipment

Номер патента: US20230014007A1. Автор: Xifei BAO,Liutao ZHOU. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2023-01-19.

Method of forming semiconductor plates doped on one side, particularly solar semiconductor plates, and manipulation system for loading process tray with batches of semiconductor plates

Номер патента: RU2411608C1. Автор: Штефан ЙОНАС,Лутц РЕДМАНН. Владелец: Йонас Унд Редманн Аутомационстехник Гмбх. Дата публикации: 2011-02-10.

Semiconductor processing system and vaporizer

Номер патента: US7883076B2. Автор: Tsuneyuki Okabe,Shigeyuki Okura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-02-08.

Process chamber, substrate treating apparatus including the same, and operating method of the substrate treating apparatus

Номер патента: US20240162014A1. Автор: Heewon MIN,Dongyun Yeo,Juho Kim,Songyun Kang,Seungbin LIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-16.

Ion implantation apparatus, ion implantation method, and semiconductor device

Номер патента: US20110248323A1. Автор: Tadahiro Ohmi,Tetsuya Goto. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2011-10-13.

Improved lamphead for a rapid thermal processing chamber

Номер патента: WO2003014645A3. Автор: Peter A Knoot,Paul Steffas. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-05-08.

Improved lamphead for a rapid thermal processing chamber

Номер патента: EP1415327A2. Автор: Peter A. Knoot,Paul Steffas. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-05-06.

Method for manufacturing semiconductor device, cleaning device, cleaning method, and semiconductor device

Номер патента: US20240321818A1. Автор: Tomoaki Shibata,Shizu FUKUZUMI,Toshiaki Shirasaka. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Device for separation of composite structure from substrate on basis of semiconductor film (options)

Номер патента: RU2683808C1. Автор: Евгений Александрович Емельянов,Михаил Альбертович Путято,Валерий Владимирович Преображенский,Михаил Олегович Петрушков,Борис Рэмович Семягин,Дмитрий Федорович Феклин,Андрей Васильевич Васев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук (ИФП СО РАН). Дата публикации: 2019-04-02.

Wafer processing equipment and method for processing wafers

Номер патента: WO2002037540A1. Автор: John Maltabes,Timothy Stanley. Владелец: Motorola Inc.. Дата публикации: 2002-05-10.

Wet processing apparatus, wet processing method and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20040262265A1. Автор: Kazunori Nemoto,Norio Suzuki,Michimasa Funabashi,Hiroyuki Mima,Masakatsu Kuwabara. Владелец: Trecenti Technologies Inc. Дата публикации: 2004-12-30.

Method of measuring parameters of semiconductor structures

Номер патента: RU2622600C2. Автор: Дмитрий Александрович Усанов,Александр Владимирович Скрипаль,Денис Викторович Пономарев,Екатерина Викторовна Латышева. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Саратовский национальный исследовательский государственный университет имени Н.Г. Чернышевского". Дата публикации: 2017-06-16.

Rf-biased capacitively-coupled electrostatic (rfb-cce) probe arrangement for characterizing a film in a plasma processing chamber

Номер патента: WO2010005934A3. Автор: Jung Kim,Jean-Paul Booth,Luc Albarede,Douglas L. Keil. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2010-05-06.

Windows for rapid thermal processing chambers

Номер патента: WO2022232118A1. Автор: Samuel C. Howells,Christopher S. Olsen,Tobin Kaufman-Osborn. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-11-03.

Cooling plate and plasma processing chamber including the same

Номер патента: US20240177975A1. Автор: Dong Jun Park,Seung Pyo LEE,Chang Eon Park,Su Won Kim,Yong Jun BAE,Dho Young KIM. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Device for heat treatment of semiconductor plates

Номер патента: RU2185682C2. Автор: Марио ГЕЦЦО,Тимоти Дитрих ПЕЙДЖ,Томас Берт ГОРЧИЦА,Рольф Сверре БЕРГМАН,Химансу Бачубхай ВАКИЛ,Чарльз Сэмюель ХЮ,Сет Дэвид СИЛВЕРСТЕЙН. Владелец: Дженерал Электрик Компани. Дата публикации: 2002-07-20.

Monitoring of wafer presence and position in semiconductor processing operations

Номер патента: US5948986A. Автор: Karl Brown. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1999-09-07.

Lamp for rapid thermal processing chamber

Номер патента: EP2115372A1. Автор: Joseph Michael Ranish,Khurshed Sorabji. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2009-11-11.

Production managing system of semiconductor device

Номер патента: US20040167656A1. Автор: Keizo Yamada,Yousuke Itagaki,Takeo Ushiki,Tohru Tsujide. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-08-26.

Production managing system of semiconductor device

Номер патента: US6711453B2. Автор: Keizo Yamada,Yousuke Itagaki,Takeo Ushiki,Tohru Tsujide. Владелец: Fab Solutions Inc. Дата публикации: 2004-03-23.

Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same

Номер патента: US5855726A. Автор: Yoshinao Kawasaki,Minoru Soraoka,Ken Yoshioka. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1999-01-05.

Chemical resistant semiconductor processing chamber bodies

Номер патента: WO2008021257A8. Автор: Katrina Mikhaylichenko,Arnold Kholodenko,Grant Peng,Mark Mandelboym,Wing Cheng. Владелец: Mark Mandelboym. Дата публикации: 2009-07-30.

Chemical resistant semiconductor processing chamber bodies

Номер патента: WO2008021257A2. Автор: Katrina Mikhaylichenko,Arnold Kholodenko,Grant Peng,Mark Mandelboym,Wing Cheng. Владелец: Cheng, Helen. Дата публикации: 2008-02-21.

Processing of semiconductor components with dense processing fluids

Номер патента: US20080000505A1. Автор: Wayne McDermott,Hoshang Subawalla,Andrew Johnson,Alexander Schwarz,Richard Ockovic. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 2008-01-03.

Microwave apparatus for in-situ vacuum line cleaning for substrate processing equipment

Номер патента: US6045618A. Автор: Tsutomu Tanaka,David Cheung,Hari Ponnekanti,Kevin Fairbairn,Sebastien Raoux,Mukul Kelkar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-04-04.

Surface annealing of components for substrate processing chambers

Номер патента: US20140167327A1. Автор: Ashish Bhatnagar,Laxman Murugesh,Padma Gopalakrishnan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-06-19.

Semiconductor manufacturing apparatus and semiconductor manufacturing method

Номер патента: US20180202945A1. Автор: Naoto Kanzaki,Kotaro Horikoshi,Toru Shinaki. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2018-07-19.

Single workpiece processing chamber

Номер патента: US20120060869A1. Автор: Daniel J. Woodruff. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-03-15.

Single workpiece processing chamber

Номер патента: EP1735817A1. Автор: Daniel J. Woodruff. Владелец: Semitool Inc. Дата публикации: 2006-12-27.

Single workpiece processing chamber

Номер патента: WO2005091340A1. Автор: Daniel J. Woodruff. Владелец: Semitool, Inc.. Дата публикации: 2005-09-29.

Process chamber with reflector

Номер патента: US20240231042A9. Автор: Peter Reimer,Shu-Kwan LAU,Ala Moradian,Amir H. Tavakoli. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Parameter adjustment model for semiconductor processing chambers

Номер патента: WO2023154151A1. Автор: Eric J. Bergman,John L. Klocke,Gregory J. Wilson,Paul R. McHugh,Adam Marc McClure. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-08-17.

Parameter adjustment model for semiconductor processing chambers

Номер патента: US12116686B2. Автор: Eric J. Bergman,Gregory J. Wilson,Paul R. McHugh,John L Klocke,Adam Marc McClure. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-15.

Method for repairing heaters and chucks used in semiconductor processing

Номер патента: US09999947B2. Автор: Michael Parker,Frank Balma,Alexander Veytser,Brent Elliot,Jeff Cunha. Владелец: Component Re Engineering Co Inc. Дата публикации: 2018-06-19.

Semiconductor nanoparticle complex, semiconductor nanoparticle complex dispersion liquid, semiconductor nanoparticle complex composition, and semiconductor nanoparticle complex cured film

Номер патента: US20240352311A1. Автор: Makoto Kido,Hirokazu Sasaki,Takafumi Moriyama. Владелец: Shoei Chemical Inc . Дата публикации: 2024-10-24.

Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation, and semiconductor device using the same

Номер патента: US20040097632A1. Автор: Katsumi Shimada,Shinya Akizuki,Kazuhiro Ikemura,Tsutomu Nishioka,Hisataka Ito,Takahiro Uchida,Takuya Eto. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2004-05-20.

Method of separating surface layer of semiconductor chip (versions)

Номер патента: RU2459691C2. Автор: Юрий Георгиевич Шретер,Юрий Тоомасович Ребане,Алексей Владимирович Миронов. Владелец: Алексей Владимирович Миронов. Дата публикации: 2012-08-27.

Compositions and methods for semiconductor processing and devices formed therefrom

Номер патента: US09793188B2. Автор: Arjun Mendiratta. Владелец: Equity Solar Inc. Дата публикации: 2017-10-17.

Fabrication method of semiconductor device having dishing-free planarized layer and semiconductor device fabricated using the same

Номер патента: KR100734305B1. Автор: 윤일영,추재욱,구자응. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2007-07-02.

Method of operating a semiconductor processing system, and method of operating a semiconductor processing tool

Номер патента: KR101158950B1. Автор: 메리트 펑크,아사오 야마시타,다니엘 제이 프래거. Владелец: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤. Дата публикации: 2012-06-21.

Semiconductor manufacturing apparatus, gas supplying method using the same, and semiconductor manufacturing method using the same

Номер патента: US20240124979A1. Автор: Suji Gim,Hanhim Kang,Chan Kyu LIM,Yoonbon Koo,Jongkoo Lim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-18.

Semiconductor Process for Quantum Structures with Staircase Active Well

Номер патента: US20200152776A1. Автор: Dirk Robert Walter Leipold,George Adrian Maxim,Michael Albert Asker. Владелец: Equal1 Labs Inc. Дата публикации: 2020-05-14.

Stage apparatus, process equipment and operation method of the process equipment

Номер патента: TWI690001B. Автор: 蔡耀德,莊智陽. Владелец: 日月光半導體製造股份有限公司. Дата публикации: 2020-04-01.

Semiconductor component with a plurality of semiconductor chips packed in a common housing and semiconductor chips arranged therefor

Номер патента: DE102006011967A1. Автор: Peter Poechmueller. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2007-09-20.

Semiconductor chip and method for manufacturing same, electrode structure of semiconductor chip and method for forming same, and semiconductor device

Номер патента: US20110198750A1. Автор: Goro Nakatani. Владелец: ROHM CO LTD. Дата публикации: 2011-08-18.

Method for generating identification code of semiconductor device, method for identifying semiconductor device and semiconductor device

Номер патента: TW200608466A. Автор: Yoshiaki Yamaguchi,Tatsuya Furukawa,Koichi Shimokawa. Владелец: Matsushita Electric Ind Co Ltd. Дата публикации: 2006-03-01.

Manufacturing method of semiconductor SAB capable of preventing electric leakage and semiconductor device

Номер патента: CN115602542A. Автор: 周黎林. Владелец: Warship Chip Manufacturing Suzhou Ltd By Share Ltd. Дата публикации: 2023-01-13.

Fabrication method of semiconductor device capacitor having dielectric barrier layer and semiconductor device capacitor fabricated thereby

Номер патента: KR100703965B1. Автор: 김경민,김동준,이광운. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2007-04-05.

Waste gas abatement technology for semiconductor processing

Номер патента: US11931682B2. Автор: Imad Mahawili. Владелец: Edwards Vacuum LLC. Дата публикации: 2024-03-19.

Waste gas abatement technology for semiconductor processing

Номер патента: WO2022066511A1. Автор: Imad Mahawili. Владелец: Qolibri, Inc.. Дата публикации: 2022-03-31.

Waste gas abatement technology for semiconductor processing

Номер патента: EP4217092A1. Автор: Imad Mahawili. Владелец: Edwards Vacuum LLC. Дата публикации: 2023-08-02.

Improved processing equipment component plating

Номер патента: WO2020205134A1. Автор: Juan Carlos Rocha-Alvarez,Ren-Guan Duan,Bushra AFZAL. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-10-08.

Power converter unit, plasma processing equipment and method of controlling several plasma processes

Номер патента: EP3616232A1. Автор: Jan Peter ENGELSTAEDTER,Krzysztof Ruda,Jakub SWIATNICKI. Владелец: Trumpf Huettinger Sp zoo. Дата публикации: 2020-03-04.

Power converter unit, plasma processing equipment and method of controlling several plasma processes

Номер патента: WO2018197699A1. Автор: Pawel Ozimek,Jan Peter ENGELSTAEDTER,Krzysztof Ruda,Jakub SWIATNICKI. Владелец: TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG. Дата публикации: 2018-11-01.

Removing metal contamination from surfaces of a processing chamber

Номер патента: US11842888B2. Автор: Seongjun Heo,Samantha SiamHwa Tan,Jengyi Yu,Ge YUAN,Siva Krishnan Kanakasabapathy. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-12-12.

Removing metal contamination from surfaces of a processing chamber

Номер патента: US20240112896A1. Автор: Seongjun Heo,Samantha SiamHwa Tan,Jengyi Yu,Ge YUAN,Siva Krishnan Kanakasabapathy. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-04-04.

Method for thermal process in packaging assembly of semiconductor

Номер патента: US09673061B2. Автор: Shun-Ping Huang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-06-06.

Method and apparatus for the compensation of edge ring wear in a plasma processing chamber

Номер патента: IL167491A. Автор: Robert J Steger. Владелец: Robert J Steger. Дата публикации: 2009-08-03.

A method and apparatus for the compensation of edge ring wear in a plasma processing chamber

Номер патента: EP1540695B1. Автор: Robert J. Steger. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2010-03-03.

A method and apparatus for the compensation of edge ring wear in a plasma processing chamber

Номер патента: EP1540695A2. Автор: Robert J. Steger. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2005-06-15.

Heat management in wafer processing equipment using thermoelectric device

Номер патента: WO2001082343A3. Автор: Woo Sik Yoo. Владелец: WaferMasters Inc. Дата публикации: 2002-02-28.

Method and apparatus for providing mask in semiconductor processing

Номер патента: WO2007136515A1. Автор: Jonathan Kim,Camelia Rusu,Yoojin Kim. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2007-11-29.

Method for etching silicon-containing film and semiconductor device manufacturing method comprising same

Номер патента: US20230420261A1. Автор: Jung Hun KWAK,Yong Jun Cho,Woo Jae Kim,Gi Chung Kwon,Byung Hyang KWON. Владелец: Sk Specialty Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Heat management in wafer processing equipment using thermoelectric device

Номер патента: EP1277228A2. Автор: Woo Sik Yoo. Владелец: WaferMasters Inc. Дата публикации: 2003-01-22.

Production method of semiconductor device

Номер патента: US6780793B2. Автор: Yoshiyuki Tanaka,Masaki Saito,Yoshiyuki Enomoto. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2004-08-24.

Production method of semiconductor device

Номер патента: US20020127880A1. Автор: Yoshiyuki Tanaka,Masaki Saito,Yoshiyuki Enomoto. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2002-09-12.

Chamber liner for semiconductor process chambers

Номер патента: EP1125317A2. Автор: Michael Barnes,Alan M. Schoepp,William M. Denty, Jr.. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2001-08-22.

Method for processing a carrier, a method for operating a plasma processing chamber, and a method for processing a semiconductor wafer

Номер патента: US09543157B2. Автор: Michael Renner,Lothar Brencher. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2017-01-10.

Manufacturing method of semiconductor device and substrate processing apparatus

Номер патента: US8071446B2. Автор: Tadashi Terasaki. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2011-12-06.

Methods for semiconductor process chamber

Номер патента: WO2024163137A1. Автор: Qi Wang,Akiteru Ko,Sergey Voronin,Hamed Hajibabaeinajafabadi. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2024-08-08.

Plasma treating a process chamber

Номер патента: US09831091B2. Автор: WEI Liu,Rene George,Lara Hawrylchak,Philip A. Bottini,Theresa Kramer Guarini,Houda Graoui,Malcolm Bevan,Huy Q. Nguyen,Bernard L. Hwang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-11-28.

Improved methods and apparatus for controlled partial ashing in a variable-gap plasma processing chamber

Номер патента: WO1998042014A1. Автор: David M. Bullock. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 1998-09-24.

Methods for Semiconductor Process Chamber

Номер патента: US20240266149A1. Автор: Qi Wang,Akiteru Ko,Sergey Voronin,Hamed Hajibabaeinajafabadi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Electromagnetic dipole for plasma density tuning in a substrate processing chamber

Номер патента: US09779953B2. Автор: Joseph F. Aubuchon,Tza-Jing Gung,Samer Banna. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Semiconductor processing chamber

Номер патента: US20240266150A1. Автор: Yan Li,Xingfei MAO,Shixuan GUO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Method for making enhanced semiconductor structures in single wafer processing chamber with desired uniformity control

Номер патента: EP3295484A1. Автор: Nyles Cody,Robert John Stephenson,Robert J. Mears. Владелец: Atomera Inc. Дата публикации: 2018-03-21.

Methods and apparatus for providing a gas mixture to a pair of process chambers

Номер патента: US09587789B2. Автор: Ezra Robert Gold,Jared Ahmad Lee,Martin Jeffrey Salinas,James P. Cruse. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-03-07.

Method of cleaning semiconductor substrate, and method of manufacturing semiconductor device and semiconductor substrate processing apparatus for use in the same

Номер патента: US20060046500A1. Автор: MAKOTO Miyamoto. Владелец: Renesas Technology Corp. Дата публикации: 2006-03-02.

Method and apparatus for preventing arcing at ports exposed to a plasma in plasma processing chambers

Номер патента: SG144071A1. Автор: Daniel John Hoffman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2008-07-29.

Semiconductor processing chamber

Номер патента: US12080524B2. Автор: Yan Li,Xingfei MAO,Shixuan GUO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Movable grounding arrangements in a plasma processing chamber and methods therefor

Номер патента: WO2013081844A2. Автор: Rajinder Dhindsa,Alexei Marakhtanov,Anthony de la Llera,Michael C. KELLOG. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2013-06-06.

Method for processing a carrier, a method for operating a plasma processing chamber, and a method for processing a semiconductor wafer

Номер патента: US20160093500A1. Автор: Michael Renner,Lothar Brencher. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2016-03-31.

Method of fabricating semiconductor device including two-dimensional material layer defining air-gap, and semiconductor device

Номер патента: US20230163023A1. Автор: Soyoung LEE,Keunwook SHIN,Sungjoo An,Jungsoo YOON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-05-25.

Etching process apparatus and member for etching process chamber

Номер патента: US20090183835A1. Автор: Shingo Kimura,Muneo Furuse,Masanori Kadotani. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2009-07-23.

Plasma ignition optimization in semiconductor processing chambers

Номер патента: US11894217B2. Автор: Kenneth D. Schatz,Soonwook JUNG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-06.

Plasma ignition optimization in semiconductor processing chambers

Номер патента: US20230197405A1. Автор: Kenneth D. Schatz,Soonwook JUNG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-06-22.

Plasma ignition optimization in semiconductor processing chambers

Номер патента: WO2022109049A1. Автор: Kenneth D. Schatz,Soonwook JUNG. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-05-27.

Methods and apparatus for providing a gas mixture to a pair of process chambers

Номер патента: US20110265831A1. Автор: Ezra Robert Gold,Martin Jeff Salinas,Jared Ahmad Lee,James P. Cruse. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2011-11-03.

Semiconductor process chamber

Номер патента: EP4280253A1. Автор: Yan Li,Xingfei MAO,Shixuan GUO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-22.

Pressure control valve assembly of plasma processing chamber and rapid alternating process

Номер патента: WO2013070416A1. Автор: Brian McMillin,Camelia Rusu,Mirzafer Abatchev. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2013-05-16.

Method for depositing a conductive carbon material on a semiconductor for forming a Schottky contact and semiconductor contact device

Номер патента: US20070010094A1. Автор: Franz Kreupl,Gernot Steinlesberger. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2007-01-11.

Gas flow equalizer plate suitable for use in a substrate process chamber

Номер патента: WO2009108568A2. Автор: Shahid Rauf,Michael D. Willwerth,Andrew Nguyen,Ajit Balakrishna,Valentin D. Todorow. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2009-09-03.

Semiconductor element, manufacturing method of semiconductor item, and matrix of light-emitting diodes, which is obtained by using such manufacturing method

Номер патента: RU2416135C2. Автор: Такао ЙОНЕХАРА,Кендзи ЯМАГАТА,Йосинобу СЕКИГУТИ,Кодзиро НИСИ. Владелец: Кэнон Кабусики Кайся. Дата публикации: 2011-04-10.

Method of using platinum metallization in system of redistribution of contact pads of crystals of integrated microcircuits and semiconductor devices

Номер патента: RU2717264C1. Автор: Никита Владимирович Рогозин,Виталий Владимирович Побединский. Владелец: Акционерное общество "Научно-исследовательский институт электронной техники". Дата публикации: 2020-03-19.

Vertical structure of semiconductor devices using nanotubes and method of making them

Номер патента: RU2342315C2. Автор: Тошихару ФУРУКАВА,Марк Чарлз ХЕЙКИ,Стивен Джон ХОЛМС,Дейвид Вацлав ХОРАК,Чарлз Уилль м КОУБУРГЕР III,Чарлз Уилльям КОУБУРГЕР III. Владелец: Интернэшнл Бизнес Машинз Корпорейшн. Дата публикации: 2008-12-27.

Semiconductor process chamber electrode

Номер патента: EP1090407B1. Автор: Lumin Li,Andras Kuthi. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2010-03-10.

Semiconductor process chamber electrode

Номер патента: US6106663A. Автор: Lumin Li,Andras Kuthi. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2000-08-22.

Method of manufacturing capacitor of semiconductor device having tantalum oxide dielectric film

Номер патента: KR100331569B1. Автор: 박흥수,박영욱,박기연. Владелец: 윤종용. Дата публикации: 2002-04-06.

Methods for Forming a Plurality of Semiconductor Devices on a Plurality of Semiconductor Wafers

Номер патента: US20160359014A1. Автор: Jochen Hilsenbeck,Jens Peter Konrath. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2016-12-08.

Methods for Forming a Plurality of Semiconductor Devices on a Plurality of Semiconductor Wafers

Номер патента: US20180122918A1. Автор: Jochen Hilsenbeck,Jens Peter Konrath. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2018-05-03.

Methods for forming a plurality of semiconductor devices on a plurality of semiconductor wafers

Номер патента: US09859396B2. Автор: Jochen Hilsenbeck,Jens Peter Konrath. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2018-01-02.

Semiconductor device with encapsulant deposited along sides and surface edge of semiconductor die in embedded WLCSP

Номер патента: US12094729B2. Автор: Yaojian Lin,Pandi C. Marimuthu,Heinz-Peter Wirtz,Seung Wook Yoon. Владелец: Stats Chippac Pte Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Semiconductor device and method of depositing encapsulant along sides and surface edge of semiconductor die in embedded WLCSP

Номер патента: US09496195B2. Автор: Yaojian Lin,Pandi C. Marimuthu,Heinz-Peter Wirtz,Seung Wook Yoon. Владелец: Stats Chippac Pte Ltd. Дата публикации: 2016-11-15.

Device for liquid chemical etching of semiconductor products

Номер патента: RU2746672C1. Автор: Юлия Валерьевна Сухорослова,Денис Сергеевич Веселов,Юрий Александрович Воронов. Владелец: федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский ядерный университет "МИФИ" (НИЯУ МИФИ). Дата публикации: 2021-04-19.

Electron cyclotron resonance -plasma source to process semiconductor structures, method to process semiconductor structures, process of manufacture of semiconductor devices and integrated circuits ( variants ), semiconductor device or integrated circuit ( variants )

Номер патента: RU2216818C1. Автор: Ю.С. Четверов,В.А. Тулин,С.Ю. Шаповал,ков В.Е. Земл,В.Е. Земляков,В.Л. Гуртовой. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "ЭпиЛаб". Дата публикации: 2003-11-20.

Movable grounding arrangements in a plasma processing chamber and methods therefor

Номер патента: WO2013081844A3. Автор: Rajinder Dhindsa,Alexei Marakhtanov,Anthony de la Llera,Michael C. KELLOG. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2015-06-25.

Method and System for Wafer Level Testing of Semiconductor Chips

Номер патента: US20120013359A1. Автор: Zhaojun SHAO. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2012-01-19.

Manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20080142901A1. Автор: Yutaka Takeshima,Yasuko Yoshida,Shuji Matsuo,Kota Funayama,Katsuhiro Uchimura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-06-19.

Removal of semiconductor growth defects

Номер патента: US09842741B2. Автор: Soon-Cheon Seo,Linus Jang. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-12-12.

Methods of fabricating semiconductor structures or devices using layers of semiconductor material having selected or controlled lattice parameters

Номер патента: US09793360B2. Автор: Chantal Arena. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2017-10-17.

Removal of semiconductor growth defects

Номер патента: US09496257B2. Автор: Soon-Cheon Seo,Linus Jang. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Method of manufacture of semiconductor structures

Номер патента: RU2680606C1. Автор: Гасан Абакарович Мустафаев,Арслан Гасанович Мустафаев,Абдулла Гасанович Мустафаев,Наталья Васильевна Черкесова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кабардино-Балкарский государственный университет им. Х.М. Бербекова" (КБГУ). Дата публикации: 2019-02-25.

Method of manufacture of semiconductor structures

Номер патента: RU2654819C1. Автор: Арслан Гасанович Мустафаев,Абдулла Гасанович Мустафаев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "ДАГЕСТАНСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ УНИВЕРСИТЕТ". Дата публикации: 2018-05-22.

Method for producing semiconductor device, wiring board, and semiconductor device

Номер патента: US20240088051A1. Автор: Hiroaki Fujita,Kazuhiko Kurafuchi,Takashi Masuko,Shinji Shimaoka,Shunsuke Otake,Kazuyuki Mitsukura. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-03-14.

Method of forming wiring on a plurality of semiconductor devices from a single metal plate, and a semiconductor construction assembly formed by the method

Номер патента: US8067274B2. Автор: Takeshi Wakabayashi,Ichiro Mihara. Владелец: Casio Computer Co Ltd. Дата публикации: 2011-11-29.

Process for filling deep trenches in a semiconductor material body, and semiconductor device resulting from the same process

Номер патента: WO2012020290A3. Автор: Mario Giuseppe Saggio,Giuseppe Arena,Giuseppe Morale,Domenico Murabito,Letterio Fiore. Владелец: STMICROELECTRONICS S.R.L.. Дата публикации: 2012-05-18.

Process for filling deep trenches in a semiconductor material body, and semiconductor device resulting from the same process

Номер патента: EP2599107A2. Автор: Mario Giuseppe Saggio,Giuseppe Arena,Giuseppe Morale,Domenico Murabito,Letterio Fiore. Владелец: STMICROELECTRONICS SRL. Дата публикации: 2013-06-05.

Implementing contacts for bodies of semiconductor-on-insulator transistors

Номер патента: US20020030229A1. Автор: John Sheets,Todd Christensen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-03-14.

Methods of forming a plurality of semiconductor layers using trench arrays

Номер патента: WO2001063654A2. Автор: Robert F. Davis,Kevin J. Linthicum,Thomas Gehrke. Владелец: North Carolina State University. Дата публикации: 2001-08-30.

Method for singulating an assemblage into semiconductor chips, and semiconductor chip

Номер патента: US09728459B2. Автор: Mathias Kaempf. Владелец: OSRAM Opto Semiconductors GmbH. Дата публикации: 2017-08-08.

Method including a formation of a transistor and semiconductor structure including a first transistor and a second transistor

Номер патента: US09685457B2. Автор: Ralf Illgen,Stefan Flachowsky. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-06-20.

Shift control method in manufacture of semiconductor device

Номер патента: US20240379617A1. Автор: Chih-Wei Wu,Ying-Ching Shih,Hsien-Ju Tsou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-11-14.

Coincident site lattice-matched growth of semiconductors on substrates using compliant buffer layers

Номер патента: US09425249B2. Автор: Andrew Norman. Владелец: Alliance for Sustainable Energy LLC. Дата публикации: 2016-08-23.

Reactor for plasma-chemical treatment of semiconductor structures

Номер патента: RU2753823C1. Автор: Илья Александрович Иванов,Павел Евгеньевич Афонин,Владимир Миронович Долгополов,Павел Александрович Иракин,Константин Владимирович Логунов. Владелец: Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт точного машиностроения". Дата публикации: 2021-08-23.

Reactor for plasma processing of semiconductor structures

Номер патента: RU2670249C1. Автор: Владимир Борисович Павлов,Александр Кириллович Петров,Наталья Борисовна Гусева,Вадим Александрович Сологуб,Александр Арменакович Айрапетов,Вадим Васильевич Одиноков,Георгий Яковлевич Павлов,Александр Михайлович Никонов,Михаил Георгиевич Бирюков,Константин Викторович Вавилин,Елена Александровна Кралькина,Полина Алексеевна Неклюдова,Елена Владимировна Карпенкова. Владелец: Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт точного машиностроения". Дата публикации: 2018-10-19.

Vertical structure of semiconductor device and method of formation thereof

Номер патента: RU2338683C2. Автор: Тошихару ФУРУКАВА,Марк Чарлз ХЕЙКИ,Стивен Джон ХОЛМС,Дейвид Вацлав ХОРАК,Питер МИТЧЕЛЛ,Ларри Алан НЕСБИТ. Владелец: Интернэшнл Бизнес Машинз Корпорейшн. Дата публикации: 2008-11-20.

Methods of forming a silicon-insulator layer and semiconductor device having the same

Номер патента: US11195713B2. Автор: Joachim Hirschler,Michael Roesner,Olaf Storbeck,Michael Hutzler,Ingmar Neumann,Markus Heinrici,Georg Ehrentraut,Mathias Plappert,Stefan KRIVEC,Christoffer Erbert,Klaus Goeschl,Wolfgang Koell. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2021-12-07.

Semiconductor device manufacture method including process of implanting impurity into gate electrode independently from source /drain and semiconductor device manufactured by the method

Номер патента: US20030098486A1. Автор: Hikaru Kokura,Yasuhiro Sambonsugi. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2003-05-29.

Method for manufacturing semiconductor device and semiconductor device

Номер патента: US20220319908A1. Автор: Zhan Ying,Kui Zhang. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2022-10-06.

Method for forming thermal oxide film of semiconductor substrate

Номер патента: EP4160657A1. Автор: Tatsuo Abe,Tsuyoshi Ohtsuki. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-05.

Printed circuit board including through region and semiconductor package formed by using the same

Номер патента: US20140301055A1. Автор: Sang-uk Han,Chae-Hun Im. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2014-10-09.

Manufacturing method of semiconductor structure and semiconductor structure

Номер патента: US20240071916A1. Автор: Shuai Guo. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2024-02-29.

Semiconductor device manufacture method including process of implanting impurity into gate electrode independently from source/drain and semiconductor device manufactured by the method

Номер патента: US20080311721A1. Автор: Hikaru Kokura,Yasuhiro Sambonsugi. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2008-12-18.

Method for forming thermal oxide film of semiconductor substrate

Номер патента: EP4148769A1. Автор: Tatsuo Abe,Tsuyoshi Ohtsuki. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-15.

Method of measuring breakdown voltage of semiconductor element and method of manufacturing semiconductor element

Номер патента: US20160064292A1. Автор: Mitsuhiko Sakai,Susumu Yoshimoto. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2016-03-03.

Methods for forming semiconductor structures and semiconductor structures

Номер патента: US12051618B2. Автор: Yuchen Wang,Nianwang YANG. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2024-07-30.

Protection of semiconductor-oxide-containing gate dielectric during replacement gate formation

Номер патента: US20160351687A1. Автор: Ravikumar Ramachandran,Gregory Costrini,Richard S. Wise,Reinaldo A. Vega. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2016-12-01.

Semiconductor device, semiconductor device manufacturing method and semiconductor device mounting structure

Номер патента: US09892996B2. Автор: Akihiro Kimura. Владелец: ROHM CO LTD. Дата публикации: 2018-02-13.

Method of semiconductor arrangement formation

Номер патента: US09773889B2. Автор: Clement Hsingjen Wann,Chih-Hsin Ko,Cheng-Hsien Wu,Wei-Chieh Chen,Shu-Han Chen,Hao-Hsiung Lin,You-Ru Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Selective removal of semiconductor fins

Номер патента: US09613954B2. Автор: Kangguo Cheng,Ali Khakifirooz,Veeraraghavan S. Basker. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-04-04.

EMI shielding method of semiconductor packages

Номер патента: US09583447B2. Автор: Hee-Dong LEE,Bok-Woo HAN. Владелец: Genesem Inc. Дата публикации: 2017-02-28.

Protection of semiconductor-oxide-containing gate dielectric during replacement gate formation

Номер патента: US09431395B2. Автор: Ravikumar Ramachandran,Gregory Costrini,Richard S. Wise,Reinaldo A. Vega. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2016-08-30.

Semiconductor device and method of forming B-stage conductive polymer over contact pads of semiconductor die in Fo-WLCSP

Номер патента: US09418941B2. Автор: Byung Tai Do,Reza A. Pagaila. Владелец: Stats Chippac Pte Ltd. Дата публикации: 2016-08-16.

Temperature control of semiconductor processing chambers by modulating plasma generation energy

Номер патента: WO2014040033A3. Автор: Michael Nam,David Gunther,Jae Yeol Park,Kyle PETERSEN. Владелец: Semicat, Inc. Дата публикации: 2014-06-26.

Temperature control of semiconductor processing chambers by modulating plasma generation energy

Номер патента: WO2014040033A2. Автор: Michael Nam,David Gunther,Jae Yeol Park,Kyle PETERSEN. Владелец: Semicat, Inc. Дата публикации: 2014-03-13.

Power adjustment method of upper electrode power supply and semiconductor process apparatus

Номер патента: US20240194441A1. Автор: Yu Zhang,JING Yang,Xin Yue,JING Wei,Gang Wei,Guibin Wang. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Upper electrode power supply power adjustment method, and semiconductor process device

Номер патента: EP4318547A1. Автор: Yu Zhang,JING Yang,XING Chen,Xin Yue,JING Wei,Gang Wei,Guibin Wang. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-07.

Method for controlling parameter using a process of semiconductor production

Номер патента: WO2002082529A1. Автор: Man-Bong Lee. Владелец: Jiwoo Techniques Korea. Дата публикации: 2002-10-17.

Systems and methods for adaptive troubleshooting of semiconductor manufacturing equipment

Номер патента: US20240353812A1. Автор: Prashanth Kumar,Milind Jayram Gadre. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-24.

Substrate processing apparatus, substrate processing module, and semiconductor device fabrication method

Номер патента: US20210148760A1. Автор: Jongwoo SUN,Hyung Joo Lee,Kyeonghun KIM,Jeongil MUN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-05-20.

Advanced semiconductor process optimization and adaptive control during manufacturing

Номер патента: EP4276891A3. Автор: Dermot Cantwell,Samer Banna,Waheb Bishara,Lior Engel. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-21.

Systems and methods for adaptive troubleshooting of semiconductor manufacturing equipment

Номер патента: US12061458B2. Автор: Prashanth Kumar,Milind Jayram Gadre. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-13.

Thin film, in-situ measurement through transparent crystal and transparent substrate within processing chamber wall

Номер патента: US20240290592A1. Автор: Patrick Tae,Blake W. ERICKSON,Zhaozhao ZHU,Michael David WILLWERTH,Barry Paul CRAVER. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-29.

Method and device for pumping of a process chamber

Номер патента: US09558969B2. Автор: Bertrand Seigeot. Владелец: Adixen Vacuum Products SAS. Дата публикации: 2017-01-31.

Apparatus and methods for heating tunability in processing chambers

Номер патента: US20240248282A1. Автор: Ala Moradian,Lori D. Washington,Saurabh Chopra. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Apparatus and methods for heating tunability in processing chambers

Номер патента: WO2024158418A1. Автор: Ala Moradian,Lori D. Washington,Saurabh Chopra. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-02.

Method of monitoring semiconductor process

Номер патента: US20110140719A1. Автор: Yong-Jin Kim,Kye-Hyun Baek,Ho-Ki Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2011-06-16.

Method for improved semiconductor processing equipment tool pedestal / pad vibration isolation and reduction

Номер патента: US20180283486A1. Автор: Suk K. Kim-Whitty. Владелец: Sk Commercial Construction Inc. Дата публикации: 2018-10-04.

Method for improved semiconductor processing equipment tool pedestal/pad vibration isolation and reduction

Номер патента: WO2018184033A1. Автор: Suk K. Kim-Whitty. Владелец: SK COMMERCIAL CONSTRUCTION, INC.. Дата публикации: 2018-10-04.

Method and apparatus for control of deposit build-up on an inner surface of a plasma processing chamber

Номер патента: WO1998044535A1. Автор: William S. Kennedy,Thomas E. Wicker,Robert A. Maraschin,Albert J. Lamm. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 1998-10-08.

Power generating apparatus using effluent gases exhausted from process chamber

Номер патента: WO2013012246A3. Автор: Sung-Yul Park. Владелец: Tes Co., Ltd. Дата публикации: 2013-04-11.

Indentification of the composition of particles in a process chamber

Номер патента: US6015718A. Автор: Richard A. Rathbone. Владелец: Cypress Semiconductor Corp. Дата публикации: 2000-01-18.

Apparatus for blocking and unblocking a loading/unloading opening of a process chamber

Номер патента: WO2012016693A1. Автор: Peter Volk. Владелец: Centrotherm Thermal Solutions GmbH & Co. KG. Дата публикации: 2012-02-09.

Apparatus to detect and quantify radical concentration in semiconductor processing systems

Номер патента: EP4348695A1. Автор: Mehran Moalem. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-10.

Apparatus to detect and quantify radical concentration in semiconductor processing systems

Номер патента: WO2022256161A1. Автор: Mehran Moalem. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-12-08.

Apparatus and methods for heating tunability in processing chambers

Номер патента: US20240248297A1. Автор: Ala Moradian,Lori D. Washington,Saurabh Chopra. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Apparatus and methods for heating tunability in processing chambers

Номер патента: WO2024158420A1. Автор: Ala Moradian,Lori D. Washington,Saurabh Chopra. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-02.

Apparatus and methods for heating tunability in processing chambers

Номер патента: WO2024158419A1. Автор: Ala Moradian,Lori D. Washington,Saurabh Chopra. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-02.

Apparatus and methods for heating tunability in processing chambers

Номер патента: US20240248298A1. Автор: Ala Moradian,Lori D. Washington,Saurabh Chopra. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Thermal processing chamber with low temperature control

Номер патента: US20200149968A1. Автор: Michael Liu,Lara Hawrylchak,Leonid M. Tertitski,Samuel C. Howells,Wolfgang R. Aderhold,Norman L. Tam,Ji-Dih Hu,Dongming IU. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-05-14.

Thermal processing chamber with low temperature control

Номер патента: US20180340832A1. Автор: Michael Liu,Lara Hawrylchak,Leonid M. Tertitski,Samuel C. Howells,Wolfgang R. Aderhold,Norman L. Tam,Ji-Dih Hu,Dongming IU. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-11-29.

Apparatus for monitoring process chamber

Номер патента: US10229818B2. Автор: Protopopov Vladimir,Ki Ho Hwang,Se Jin Oh,Doug Yong SUNG,Kul INN,Yun Kwang Jeon,Sung Ho Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-03-12.

Apparatus for monitoring process chamber

Номер патента: US20170213710A1. Автор: Protopopov Vladimir,Ki Ho Hwang,Se Jin Oh,Doug Yong SUNG,Kul INN,Yun Kwang Jeon,Sung Ho Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-07-27.

Advanced semiconductor process optimization and adaptive control during manufacturing

Номер патента: EP4276891A2. Автор: Dermot Cantwell,Samer Banna,Waheb Bishara,Lior Engel. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-15.

Integrated solution for solid state light sources in a process chamber

Номер патента: WO2014133743A1. Автор: Joseph Johnson,Joseph M. Ranish. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-09-04.

Smart window for semiconductor processing tool

Номер патента: US09612207B2. Автор: Xinxin He,Cameron Paul Simoes. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-04-04.

Thin film, in-situ measurement through transparent crystal and transparent substrate within processing chamber wall

Номер патента: WO2021252967A1. Автор: Patrick Tae,Blake W. ERICKSON,Zhaozhao ZHU,Michael David WILLWERTH,Barry Paul CRAVER. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-12-16.

Thin film, in-situ measurement through transparent crystal and transparent substrate within processing chamber wall

Номер патента: US12009191B2. Автор: Patrick Tae,Blake W. ERICKSON,Zhaozhao ZHU,Michael David WILLWERTH,Barry Paul CRAVER. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-11.

Social network service for semiconductor manufacturing equipment and users

Номер патента: US09871759B2. Автор: David J. Hemker,Chung Ho Huang,Chad R. Weetman,Henry T. Chan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-01-16.

Processing chamber with optical fiber with bragg grating sensors

Номер патента: US11901165B2. Автор: Huy D. Nguyen,William J. O'Banion,An-Dien Nguyen. Владелец: Isensecloud Inc. Дата публикации: 2024-02-13.

Processing chamber with optical fiber with bragg grating sensors

Номер патента: US20240186124A1. Автор: Huy D. Nguyen,William J. O'Banion,An-Dien Nguyen. Владелец: Isensecloud Inc. Дата публикации: 2024-06-06.

Semiconductor device and semiconductor device structure

Номер патента: US20020096784A1. Автор: Hitoshi Shibue,Koichi Kamikuri. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2002-07-25.

Method for fabricating stack structure of semiconductor packages

Номер патента: US8420521B2. Автор: Han-Ping Pu,Cheng-Hsu Hsiao,Ho-Yi Tsai,Fang-Lin Tsai. Владелец: Siliconware Precision Industries Co Ltd. Дата публикации: 2013-04-16.

Semiconductor device and semiconductor component including the same preliminary class

Номер патента: US12051767B2. Автор: Shih-Chang Lee,Yi-Ching Lee,Chia-hung Lin,Kuo-Feng Huang,Cheng-Long Yeh,Shih-Hao Cheng,Cheng-Hsing Chiang,Yen-Chun Tseng,Ming-Ta Chin,Shih-Nan Yen,Jui-Che Sung. Владелец: Epistar Corp. Дата публикации: 2024-07-30.

Housing of semiconductor device from metal matrix composite and method of its manufacturing

Номер патента: RU2724289C1. Автор: Вадим Минхатович Миннебаев,Алексей Алексеевич Золотарев,Лариса Владимировна Чумакова. Владелец: Акционерное общество "Научно-производственное предприятие "Пульсар". Дата публикации: 2020-06-22.

Manufacturing method and program of semiconductor device

Номер патента: US20180217203A1. Автор: Tomoaki Tamura,Yoshiyuki Nakamura,Kouichi KUMAKI. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2018-08-02.

Semiconductor device having a plurality of semiconductor elements interconnected by a redistribution layer

Номер патента: US20020050639A1. Автор: Yoshitaka Aiba,Toshio Hamano,Mitsutaka Sato. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2002-05-02.

Manufacturing method for semiconductor structure, and semiconductor structure

Номер патента: EP4358140A1. Автор: Yi Tang. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2024-04-24.

Method for fabricating stack structure of semiconductor packages

Номер патента: US20110070697A1. Автор: Han-Ping Pu,Cheng-Hsu Hsiao,Ho-Yi Tsai,Fang-Lin Tsai. Владелец: Siliconware Precision Industries Co Ltd. Дата публикации: 2011-03-24.

Manufacturing method and manufacturing apparatus of semiconductor device

Номер патента: US8445359B2. Автор: Shunpei Yamazaki,Koichiro Tanaka. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2013-05-21.

Method and apparatus for manufacturing a semiconductor device including a plurality of semiconductor chips connected with bumps

Номер патента: US20170069551A1. Автор: Hiroshi Watabe,Naoyuki Komuta,Shinya Fukayama. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-03-09.

Method of manufacturing semiconductor apparatus and semiconductor apparatus

Номер патента: US20220344219A1. Автор: Tatsuro SAWADA. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2022-10-27.

Semiconductor package test method, semiconductor package test device and semiconductor package

Номер патента: US20210265000A1. Автор: Jisoo Choi,Hyukje Kwon,Hyungsuk Yu. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-08-26.

Semiconductor device and semiconductor memory device

Номер патента: US09917138B1. Автор: Yusuke Goki,Keiichi Takenaka. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Method of wafer-scale integration of semiconductor devices and semiconductor device

Номер патента: US09608035B2. Автор: Franz Schrank,Cathal Cassidy,Joerg Siegert. Владелец: ams AG. Дата публикации: 2017-03-28.

Cooling device for cooling of semiconductor crystal

Номер патента: RU2521785C2. Автор: Барт-Хендрик ХЕЙСМАН,Николя МИНЬО,Хендрик Й. ЭГГИНК,М. ЛАСАНСЕ Клеменс Й.. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС ЭЛЕКТРОНИКС Н.В.. Дата публикации: 2014-07-10.

Method of manufacture of semiconductor structure containing a p-n junction under porous silicon film for implementation of a photoelectric converter

Номер патента: RU2662254C1. Автор: Николай Николаевич Мельник,Вадим Викторович Трегулов. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Рязанский государственный университет имени С.А. Есенина". Дата публикации: 2018-07-25.

Semiconductor chip mounting substrate and semiconductor device using the same

Номер патента: US20020140110A1. Автор: Kazuhiro Yamamoto,Takuya Takahashi,Tadaharu Hashiguchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-03.

Semiconductor device and semiconductor module provided with same

Номер патента: US20180204778A1. Автор: Yukimasa Hayashida,Shigeru Hasegawa,Isao Umezaki,Ryutaro Date,Ryo Tsuda. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2018-07-19.

Apparatuses and methods for coupling a plurality of semiconductor devices

Номер патента: US20240290752A1. Автор: Timothy M. Hollis,Matthew B. Leslie,Roy E. Greeff. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2024-08-29.

Multi terminal capacitor within input output path of semiconductor package interconnect

Номер патента: US20180053717A1. Автор: Charles L. Arvin,Jean Audet,Charles L. REYNOLDS,Brian R. Sundlof,Brian W. Quinlan. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-02-22.

Multi terminal capacitor within input output path of semiconductor package interconnect

Номер патента: US09899313B2. Автор: Charles L. Arvin,Jean Audet,Charles L. REYNOLDS,Brian R. Sundlof,Brian W. Quinlan. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Signal transmission method of semiconductor integrated circuit for transmitting signal to a plurality of stacked semiconductor chips

Номер патента: US09680460B2. Автор: Chun-Seok Jeong. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2017-06-13.

Integrated circuit, semiconductor device, and method of designing layout of semiconductor device

Номер патента: US20240371830A1. Автор: Hyunchul Hwang,Chanhee Park,Byung-Su Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-11-07.

Local thinning of semiconductor fins

Номер патента: US09431523B2. Автор: Kangguo Cheng,Carl J. Radens,Ramachandra Divakaruni. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2016-08-30.

Apparatus, systems, and methods of measuring edge ring distance for thermal processing chambers

Номер патента: US11915953B2. Автор: Wolfgang R. Aderhold,Ole Luckner. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-27.

Apparatus, systems, and methods of measuring edge ring distance for thermal processing chambers

Номер патента: US20240203766A1. Автор: Wolfgang R. Aderhold,Ole Luckner. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-20.

Semiconductor device and semiconductor module

Номер патента: US20160247736A1. Автор: Yoshimitsu KUWAHARA. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-08-25.

Body bias voltage generator and semiconductor device including the same preliminary class

Номер патента: US12015024B2. Автор: Youngjae Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-18.

Semiconductor test apparatus and semiconductor test method

Номер патента: US20220244292A1. Автор: Takaya Noguchi,Yoshiyuki Ueda. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2022-08-04.

Semiconductor test apparatus and semiconductor test method

Номер патента: US12007414B2. Автор: Takaya Noguchi,Yoshiyuki Ueda. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2024-06-11.

Method for preparing semiconductor structure and semiconductor structure

Номер патента: US12048138B2. Автор: Tao Liu,Jun Xia,Penghui Xu,Sen Li,Qiang Wan,Kangshu ZHAN. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2024-07-23.

Semiconductor Process Optimized For Quantum Structures

Номер патента: US20200220065A1. Автор: Dirk Robert Walter Leipold,George Adrian Maxim,Michael Albert Asker. Владелец: Equal1 Labs Inc. Дата публикации: 2020-07-09.

Semiconductor test apparatus and semiconductor test method

Номер патента: US20240219426A1. Автор: Takaya Noguchi,Yoshiyuki Ueda. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Semiconductor device and method of manufacturing the same and semiconductor manufacturing device

Номер патента: US8815652B2. Автор: Fumihiko Inoue,Kentaro Sera. Владелец: SPANSION LLC. Дата публикации: 2014-08-26.

Wafer alignment for stacked wafers and semiconductor device assemblies

Номер патента: US20230065325A1. Автор: Eiichi Nakano,Shiro Uchiyama. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2023-03-02.

Multi-die semiconductor structure with intermediate vertical side chip and semiconductor package for same

Номер патента: US09812425B2. Автор: Bok Eng Cheah,Jackson Chung Peng Kong,Kooi Chi Ooi,Shanggar Periaman. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-11-07.

Network of semiconductor structures with fused insulator coating

Номер патента: US09722147B2. Автор: Juanita N. Kurtin,Weiwen Zhao,Benjamin Daniel Mangum,Kari N. Haley. Владелец: Pacific Light Technologies Corp. Дата публикации: 2017-08-01.

Semiconductor device and semiconductor module

Номер патента: US09559027B2. Автор: Yoshimitsu KUWAHARA. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-01-31.

Multi-die semiconductor structure with intermediate vertical side chip and semiconductor package for same

Номер патента: US09478524B2. Автор: Bok Eng Cheah,Jackson Chung Peng Kong,Kooi Chi Ooi,Shanggar Periaman. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Power control method and device of lower radio frequency power supply and semiconductor processing equipment

Номер патента: US20240234088A1. Автор: Yu Zhang,JING Yang,JING Wei,Gang Wei,Guodao SHAN,Chenyu ZHONG,Yanyan YOU. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Dynamic processing chamber baffle

Номер патента: WO2023064197A1. Автор: Mayur Govind KULKARNI,Udit S. KOTAGI. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-04-20.

Dynamic processing chamber baffle

Номер патента: US12119209B2. Автор: Mayur Govind KULKARNI,Udit S. KOTAGI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-15.

Heating module and program control method for pumping line of semiconductor processing tool

Номер патента: US20240360551A1. Автор: CHUN Chang,Chih-Yuan Wang,Yi-Ming Lin,Sheng-chun YANG,Weigang Wu,Xuan-Yang Zheng,Ren-Jyue Wang,Che Kang Liu,Kaijun Jan,Tzu-Chuan Chao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Power control method and apparatus for lower radio frequency power source, and semiconductor processing device

Номер патента: EP4407651A1. Автор: Yu Zhang,JING Yang,XING Chen,JING Wei,Gang Wei,Guodao SHAN,Chenyu ZHONG,Yanyan YOU. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-31.

Injectors, liners, process kits, processing chambers, and related methods for gas flow in batch processing of semiconductor manufacturing

Номер патента: US20240254627A1. Автор: Shu-Kwan LAU,Martin Jeffrey Salinas,Aniketnitin Patil,Raja Murali Dhamodharan,Kalaivanan MOHANADASS. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Injectors, liners, process kits, processing chambers, and related methods for gas flow in batch processing of semiconductor manufacturing

Номер патента: WO2024158602A1. Автор: Shu-Kwan LAU,Martin Jeffrey Salinas,Aniketnitin Patil,Raja Murali Dhamodharan,Kalaivanan MOHANADASS. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-02.

Processing chamber with substrate edge enhancement processing

Номер патента: WO2020101804A1. Автор: Changhun Lee,Michael D. Willwerth,Valentin N. Todorow,Hun Sang Kim,Hean Cheal LEE. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-05-22.

Method and apparatus for controlling the magnetic field intensity in a plasma enhanced semiconductor wafer processing chamber

Номер патента: US20030085000A1. Автор: QI Li,Evans Lee,Chun Yan,Bryan Pu,Keiji Horioka,Douglas Burns,Taeho Shin,Roger Lindley,Panyin Hughes. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-05-08.

Monitoring system, apparatus, and method for determining maintenance cycle of processing chamber

Номер патента: US20240186126A1. Автор: Dong Woo Kim,Ji Eun Kang,Geun Young Yeom,Seung Yup CHOI. Владелец: Sungkyunkwan University Research and Business Foundation. Дата публикации: 2024-06-06.

Vacuum processing chamber and method of processing a semiconductor work piece

Номер патента: US20070039165A1. Автор: Yaomin Xia. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc Asia. Дата публикации: 2007-02-22.

Process chamber having shutter cover for substrate uniformity and prevention of unintended deposition

Номер патента: US20240240322A1. Автор: Abhishek Chowdhury,Edwin C. Suarez,Harisha Sathyanarayana,Nataraj Bhaskar Rao,Xiaozhou CHE,Arun Chakravarthy Chakravarthy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Process chamber gas flow improvements

Номер патента: US09779917B2. Автор: Brian T. West,Ronald Vern Schauer,Stanley Detmar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Detecting arcing using processing chamber data

Номер патента: US09653269B2. Автор: Shuo Na,Ilias Iliopoulos,Chunsheng Chen,Kelby YANCY. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-05-16.

Interior antenna for substrate processing chamber

Номер патента: US20120211358A1. Автор: Genhua Xu,Keith A. Miller,Shengde Zhong,Mahendra Bhagwat Lokhande. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2012-08-23.

Semiconductor process chamber with improved reflector

Номер патента: US20230399742A1. Автор: Yen Chuang,Chia-Hung Liu,Sou-Chuan CHIANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Apparatus and methods for reducing particles in semiconductor process chambers

Номер патента: US09761416B2. Автор: ANAND Kumar,Shahid Rauf,Michael D. Willwerth,Kenneth S. Collins,Andrew Nguyen,Ajit Balakrishna,Tom K. Cho,Yogananda SARODE VISHWANATH,Bradley Howard. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-09-12.

Plate assemblies, process kits, and processing chambers for semiconductor manufacturing

Номер патента: US20240254624A1. Автор: Ala Moradian,Manjunath Subbanna. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Plate assemblies, process kits, and processing chambers for semiconductor manufacturing

Номер патента: WO2024158601A1. Автор: Ala Moradian,Manjunath Subbanna. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-02.

Methods of correlating zones of processing chambers, and related systems and methods

Номер патента: US20240141498A1. Автор: Shu-Kwan LAU,Ala Moradian,Errol Antonio C. Sanchez,Zuoming Zhu,Abhishek Dube,Martin Jeffrey Salinas,Manjunath Subbanna,Chandra MOHAPATRA,Erika R. Warrick. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Process Chamber And Process Kits For Advanced Packaging

Номер патента: US20230307211A1. Автор: Cheng-Hsiung Matthew TSAI,Manjunatha KOPPA,Aravind Miyar Kamath. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-28.

High conductance inner shield for process chamber

Номер патента: US12100577B2. Автор: Kang Zhang,Yuichi Wada,Ananthkrishna Jupudi,Yueh Sheng Ow,Junqi Wei,Sarath Babu,Kelvin Boh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-24.

Pressure Control System for a Multi-Head Processing Chamber of a Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20230012873A1. Автор: Maolin Long,Changle GUAN,Junliang Li. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-19.

Spark plasma sintered component for cryo-plasma processing chamber

Номер патента: WO2023183330A1. Автор: LIN Xu,John Daugherty,Harmeet Singh,Satish Srinivasan,Pankaj HAZARIKA. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2023-09-28.

Inductively coupled plasma process chamber with shield electrode interposed between antenna and dielectric window

Номер патента: EP1238407A1. Автор: Robert E. Ryan,Arthur Sato,Zhiwen Sun,Xueyu Qian,Valentin N. Todorov,Jin-Yuan Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-09-11.

Adjustable cross-flow process chamber lid

Номер патента: US20240247373A1. Автор: Sanjeev Baluja,Muhannad MUSTAFA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Adjustable cross-flow process chamber lid

Номер патента: WO2024158731A1. Автор: Sanjeev Baluja,Muhannad MUSTAFA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-02.

Processing equipment, electrode plate processing equipment, battery processing equipment, and sheet processing method

Номер патента: US20240157707A1. Автор: Chao Guo,Yinyong Qiao. Владелец: Contemporary Amperex Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Direct temperature control for a component of a substrate processing chamber

Номер патента: EP1070336A1. Автор: Nitin Khurana,Tushar Mandrekar,Anish Tolia. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-01-24.

Distortion current mitigation in a radio frequency plasma processing chamber

Номер патента: US12106938B2. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Yue Guo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-01.

Processing chamber with substrate edge enhancement processing

Номер патента: US20200152431A1. Автор: Changhun Lee,Michael D. Willwerth,Valentin N. Todorow,Hun Sang Kim,Hean Cheal LEE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-05-14.

Anomalous plasma event detection and mitigation in semiconductor processing

Номер патента: WO2020167601A2. Автор: LIANG Meng,Yukinori Sakiyama,Sunil Kapoor,Karl Frederick Leeser,Noah Baker. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2020-08-20.

Anomalous plasma event detection and mitigation in semiconductor processing

Номер патента: US20240355600A1. Автор: LIANG Meng,Yukinori Sakiyama,Sunil Kapoor,Noah Elliot BAKER,Karl Frederick Leeser. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-24.

Continuous liner for use in a processing chamber

Номер патента: US11814724B2. Автор: Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,James D. Carducci. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-14.

Continuous liner for use in a processing chamber

Номер патента: US20230175123A1. Автор: Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,James D. Carducci. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-06-08.

Process chamber with improved process feedback

Номер патента: WO2024102229A1. Автор: WEI Liu,Tobin Kaufman-Osborn,Hugo Rivera. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-05-16.

Semiconductor process apparatus and power control method

Номер патента: US20240006170A1. Автор: JING Yang,JING Wei,Gang Wei,Guodao SHAN. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Process chamber with improved process feedback

Номер патента: US20240170268A1. Автор: WEI Liu,Tobin Kaufman-Osborn,Hugo Rivera. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-23.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20240087853A1. Автор: Kazuhiko Nakamura. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-03-14.

Device and procedure for control over temperature of surface of substrate in process chamber

Номер патента: RU2435873C2. Автор: Йоханнес КЕППЕЛЕР,Вальтер ФРАНКЕН. Владелец: Айкстрон Аг. Дата публикации: 2011-12-10.

Cvd reactor comprising a process chamber floor rising in a feeder zone

Номер патента: US20240102164A1. Автор: Levin David Richard Johannes Bee. Владелец: AIXTRON SE. Дата публикации: 2024-03-28.

Substrate processing chamber and process gas flow deflector for use in the processing chamber

Номер патента: US12018369B2. Автор: Thomas Huber,Olaf Fiedler,Matthias Kuenle,Christian Illemann,Mathias Male. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2024-06-25.

Seal venting in a substrate processing chamber

Номер патента: US20230253189A1. Автор: Hui Ling Han,Michael Julius KINSLER,Steven James Madsen,Gabriel PIOUX. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-08-10.

Pedestals for modulating film properties in atomic layer deposition (ALD) substrate processing chambers

Номер патента: US12110586B2. Автор: Adrien Lavoie,Richard Phillips,Ramesh Chandrasekharan,Chloe Baldasseroni,Michael Philip Roberts. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-08.

Apparatus for fiber optic temperature probe in processing chambers

Номер патента: US12057298B2. Автор: Vijay D. Parkhe,Visweswaren Sivaramakrishnan,David Masayuki Ishikawa,Marcus Blake Freitas. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-06.

Lower electrode assembly of plasma processing chamber

Номер патента: US09412555B2. Автор: Brett C. Richardson,Harmeet Singh,Jason Augustino,Quan Chau,Keith William Gaff,Hanh Tuong Ha. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-08-09.

Radio frequency source for inductively coupled and capacitively coupled plasmas in substrate processing chambers

Номер патента: WO2023178022A1. Автор: Juan Carlos Rocha-Alvarez,Abdul Aziz KHAJA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-09-21.

Radio frequency source for inductively coupled and capacitively coupled plasmas in substrate processing chambers

Номер патента: US20230317411A1. Автор: Juan Carlos Rocha-Alvarez,Abdul Aziz KHAJA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-05.

Process chamber, inline coating installation and method for treating a substrate

Номер патента: US20080184933A1. Автор: Michael Schaefer,Edgar Haberkorn,Juergen Henrich. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2008-08-07.

Cleaning assemblies for substrate processing chambers

Номер патента: WO2022203869A1. Автор: Saket Rathi,Tuan Anh Nguyen,Amit Kumar BANSAL,Nitin Pathak,Yuxing Zhang,Badri N. RAMAMURTHI,Thomas Rubio,Dharma Ratnam SRICHURNAM,Udit S. KOTAGI. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-09-29.

Cleaning assemblies for substrate processing chambers

Номер патента: US12012653B2. Автор: Saket Rathi,Tuan Anh Nguyen,Amit Kumar BANSAL,Nitin Pathak,Yuxing Zhang,Badri N. RAMAMURTHI,Thomas Rubio,Dharma Ratnam SRICHURNAM,Udit S. KOTAGI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-18.

Method and apparatus for displaying process endpoint signal based on emission concentration within a processing chamber

Номер патента: US5343412A. Автор: Manoocher Birang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1994-08-30.

Continuous liner for use in a processing chamber

Номер патента: US20240011153A1. Автор: Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,James D. Carducci. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-11.

Hardware switch on main feed line in a radio frequency plasma processing chamber

Номер патента: US11823868B2. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Yue Guo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-21.

Thermal shield for processing chamber

Номер патента: WO2023167881A1. Автор: Muhannad MUSTAFA,Kartik Shah,Dhritiman Subha Kashyap,Youngki CHANG,Dhivanraj SUBRAMANIAN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-09-07.

Thermal shield for processing chamber

Номер патента: US20230282454A1. Автор: Muhannad MUSTAFA,Kartik Shah,Dhritiman Subha Kashyap,Youngki CHANG,Dhivanraj SUBRAMANIAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-07.

Device for radical diagnostic in plasma processing chamber, radical diagnostic system having the same, and operating method thereof

Номер патента: US20230197423A1. Автор: Kyungmin Lee,SeungBo SHIM,Youngdo Kim,Sungyeol KIM,Sangki NAM,Sungyong LIM,Chansoo KANG,Namkyun Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-22.

Device for radical diagnostic in plasma processing chamber, radical diagnostic system having the same, and operating method thereof

Номер патента: US11996275B2. Автор: Kyungmin Lee,SeungBo SHIM,Youngdo Kim,Sungyeol KIM,Sangki NAM,Sungyong LIM,Chansoo KANG,Namkyun Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-28.

Symmetric semiconductor processing chamber

Номер патента: US20240170262A1. Автор: Yogananda SARODE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-23.

Gas distribution ring for process chamber

Номер патента: US20230420222A1. Автор: Po-Hsiang Wang,Kuo Liang Lu,Bo-Han Chu,Min-Chang CHING. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Process chamber and process kits for advanced packaging

Номер патента: WO2023183571A1. Автор: Cheng-Hsiung Matthew TSAI,Manjunatha KOPPA,Aravind Miyar Kamath. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-09-28.

Scanning wheel for ion implantation process chamber

Номер патента: GB2327532A. Автор: Richard Cooke,Peter I T Edwards. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1999-01-27.

Frictional mount for engaging a monitor in a process chamber and method of using

Номер патента: US5951196A. Автор: Chien-Rong Huang,Chih-Yuan Ke,Tung-Li Lee,Sheng-Kuo Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 1999-09-14.

Magnesium aluminum oxynitride component for use in a plasma processing chamber

Номер патента: WO2022093974A1. Автор: Pankaj HAZARIKA,Joel Hollingsworth,Matthew Brian SCHICK,Pratima G. N. RAO. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2022-05-05.

Magnesium aluminum oxynitride component for use in a plasma processing chamber

Номер патента: US20230317423A1. Автор: Pankaj HAZARIKA,Joel Hollingsworth,Matthew Brian SCHICK,Pratima G.N. Rao. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-10-05.

Components of plasma processing chambers having textured plasma resistant coatings

Номер патента: SG189627A1. Автор: Shih Hong,Fang Yan,Stevenson Tom,Casaes Raphael,G O'neill Robert,Won Kim Tae. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2013-05-31.

Method for producing a multiplicity of semiconductor laser chips, and semiconductor laser chip

Номер патента: US20240364073A1. Автор: Norwin von Malm,Martin Rudolf Behringer. Владелец: Ams Osram International GmbH. Дата публикации: 2024-10-31.

Refractory components for a semiconductor processing chamber

Номер патента: WO2024097506A1. Автор: LIN Xu,John Daugherty,Eric A. Pape,David Joseph WETZEL. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-05-10.

Gas flow improvement for process chamber

Номер патента: WO2024091385A1. Автор: Ala Moradian,Lori D. Washington,Vishwas Kumar Pandey. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-05-02.

Deposition ring and cover ring to extend process components life and performance for process chambers

Номер патента: WO2009029230A1. Автор: David P. Laube,Reed Warren Rosenberg,John Monroe Daniel,John Gilbert Deem. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2009-03-05.

Apparatus and Method for Controlling the Surface Temperature of a Substrate in a Process Chamber

Номер патента: US20090110805A1. Автор: Johannes Kaeppeler,Walter Franken. Владелец: Aixtron Inc. Дата публикации: 2009-04-30.

Pyrochlore component for plasma processing chamber

Номер патента: WO2024063892A1. Автор: LEI Liu,LIN Xu,John Daugherty,Amir A. Yasseri,David Joseph WETZEL,Douglas DETERT. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-03-28.

Device for blocking plasma backflow in process chamber to protect air inlet structure

Номер патента: US11955323B2. Автор: NA Li,Haiyang Liu,Xiaobo Liu,Zhihao WU,Song Guo,Dongdong HU,Shiran CHENG,Kaidong Xu. Владелец: Jiangsu Leuven Instruments Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-09.

Multizone flow gasbox for processing chamber

Номер патента: US20210159053A1. Автор: Li-Qun Xia,Daemian Raj BENJAMIN RAJ,Mingle Tong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-05-27.

Cam-based arrangement for positioning confinement rings in a plasma processing chamber

Номер патента: MY126444A. Автор: Eric H Lenz. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2006-10-31.

Cam-based arrangement for positioning confinement rings in a plasma processing chamber

Номер патента: EP1090408A1. Автор: Eric H. Lenz. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2001-04-11.

Process chamber cleaning apparatus and method

Номер патента: US20240279802A1. Автор: Jung-Min Lee,Jae Sung Yu,Dae Ki Kim,Gi Duck KWEON,Hang Kyu SONG,Hyun Tae YANG,Byoung Kwon YEO,Byeong Ho WOO,Jung Bae CHOI. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Gas inlet assembly of process chamber, gas inlet apparatus, and semiconductor processing equipment

Номер патента: EP4283023A1. Автор: Shikai Li. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-29.

Method and apparatus for sealing an opening of a processing chamber

Номер патента: US09458538B2. Автор: Takayuki Matsumoto,John M. White,Shinichi Kurita,Suhail Anwar,Robin L. Tiner. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-10-04.

Metal part for process chamber and method of forming thin film layer of metal part for process chamber

Номер патента: US20240052516A1. Автор: Bum Mo Ahn. Владелец: Point Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Process chamber

Номер патента: US20240352579A1. Автор: Zhepeng Cong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-24.

Processing chamber gas delivery system with hot-swappable ampoule

Номер патента: US09447497B2. Автор: Dien-Yeh Wu,Hyman Lam,Mark S. Johnson,David M. Santi. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-09-20.

ALD cycle time reduction using process chamber lid with tunable pumping

Номер патента: US11767590B2. Автор: Muhannad MUSTAFA,Muhammad M. Rasheed,Anqing Cui,Mario D. SANCHEZ. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-26.

ALD cycle time reduction using process chamber lid with tunable pumping

Номер патента: US12054826B2. Автор: Muhannad MUSTAFA,Muhammad M. Rasheed,Anqing Cui,Mario D. SANCHEZ. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-06.

Pump liner for process chamber

Номер патента: WO2023249877A1. Автор: Sanjeev Baluja,Muhannad MUSTAFA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-12-28.

Gas inlets for wafer processing chamber

Номер патента: US5916369A. Автор: David K. Carlson,Mahalingam Venkatesan,Norma Riley,Roger N. Anderson,Peter W. Hey. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1999-06-29.

Method for heating a semiconductor wafer in a process chamber, and process chamber

Номер патента: EP1305820A1. Автор: Peggy John,Iraj Shahvandi,Olivier Vatel. Владелец: Motorola Inc. Дата публикации: 2003-05-02.

Apparatus comprising a microwave processing chamber

Номер патента: CA3020787C. Автор: John Robinson,George Burnett,Mike BRADLEY. Владелец: NOV Downhole Eurasia Ltd. Дата публикации: 2023-12-19.

Gas injection system for semiconductor processing

Номер патента: US5851294A. Автор: Ron van Os,Lydia J. Young,Richard H. Matthiesen,Simon Selitser. Владелец: Watkins Johnson Co. Дата публикации: 1998-12-22.

Halogen-resistant thermal barrier coating for processing chambers

Номер патента: US20240117490A1. Автор: Tetsuya Ishikawa,Ala Moradian,Amir H. Tavakoli. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-11.

Apparatus for improved flow control in process chambers

Номер патента: WO2020243289A1. Автор: Muhannad MUSTAFA,Muhammad M. Rasheed. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-12-03.

Ald cycle time reduction using process chamber lid with tunable pumping

Номер патента: US20230357927A1. Автор: Muhannad MUSTAFA,Muhammad M. Rasheed,Anqing Cui,Mario D. SANCHEZ. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-09.

Apparatus and methods for controlling concentration of precursors to processing chamber

Номер патента: US11753715B2. Автор: Kenric Choi,William J. Durand. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-12.

Ald cycle time reduction using process chamber lid with tunable pumping

Номер патента: WO2021055990A1. Автор: Muhannad MUSTAFA,Muhammad M. Rasheed,Anqing Cui,Mario D. SANCHEZ. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-03-25.

Movable central reflectors of semiconductor processing equipment, and related systems and methods

Номер патента: US20240360587A1. Автор: Ala Moradian,Lori D. Washington,Saurabh Chopra,Vishwas Kumar Pandey. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-31.

Byproduct collecting apparatus of semiconductor apparatus

Номер патента: EP2013897A1. Автор: Tae-Woo Kim,Che-Hoo Cho,Jung-Eui Hong,In-Mun Hwang. Владелец: Milaebo Co Ltd. Дата публикации: 2009-01-14.

Thermal processing chamber state based on thermal sensor readings

Номер патента: US20240327988A1. Автор: Ala Moradian,Zhepeng Cong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-03.

Thermal processing chamber state based on thermal sensor readings

Номер патента: WO2024205696A1. Автор: Ala Moradian,Zhepeng Cong. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-10-03.

Multi-phase pressure control valve for process chamber

Номер патента: SG139525A1. Автор: Sunny Wu,Chih-Tien Chang,Chin-Hsin Peng,Chien-Ling Huang,Hsueh-Chang Wu,Mei-Seng Zhou. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2008-02-29.

Process chamber gas flow apparatus, systems, and methods

Номер патента: US09429248B2. Автор: Jeffrey C. Hudgens,Nir Merry,Chandrakant M. Sapkale,Penchala N. Kankanala,Karuppasamy Muthukamtchi. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-08-30.

Cleaning anti-reflective coating process chamber parts

Номер патента: US12000040B1. Автор: Michael Walach,Gregory Boruta. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-06-04.

Cleaning anti-reflective coating process chamber parts

Номер патента: US12000039B1. Автор: Michael Walach,Gregory Boruta. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-06-04.

Method for ascertaining the end of a cleaning process for a process chamber of a mocvd reactor

Номер патента: US20230160062A1. Автор: Dirk Fahle,Martin Eickelkamp,Utz Herwig Hahn. Владелец: AIXTRON SE. Дата публикации: 2023-05-25.

Cleaning materials and processes for lithium processing equipment

Номер патента: EP4247995A1. Автор: Visweswaren Sivaramakrishnan,Subramanya P. HERLE,Bahubali S. UPADHYE,Tapash Chakraborty,Prerna Sonthalia Goradia,Nilesh Chimanrao Bagul,Nitin Deepak. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-27.

Thin film processing equipment and the processing method thereof

Номер патента: US20130072000A1. Автор: Toshiaki Yoshimura,Ying-Shih Hsiao. Владелец: YOSHIMURA TOSHIAKU. Дата публикации: 2013-03-21.

Method and apparatus for controlling chamber surfaces in a semiconductor processing reactor

Номер патента: WO2001023636A9. Автор: Tuqiang Ni,Mark A Kennard. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2002-08-15.

Substrate processing apparatus and semiconductor devices manufacturing method

Номер патента: US7943528B2. Автор: Yoshihiko Yanagisawa,Mitsuro Tanabe,Tadashi Takasaki,Harunobu Sakuma. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2011-05-17.

Multi-phase pressure control valve for process chamber

Номер патента: SG156522A1. Автор: Sunny Wu,Chih-Tien Chang,Chin-Hsin Peng,Chien-Ling Huang,Hsueh-Chang Wu,Mei-Seng Zhou. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2009-11-26.

Substrate processing apparatus and semiconductor devices manufacturing method

Номер патента: US20110192347A1. Автор: Yoshihiko Yanagisawa,Mitsuro Tanabe,Tadashi Takasaki,Harunobu Sakuma. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2011-08-11.

Substrate processing apparatus and semiconductor devices manufacturing method

Номер патента: US20110053382A1. Автор: Yoshihiko Yanagisawa,Mitsuro Tanabe,Tadashi Takasaki,Harunobu Sakuma. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2011-03-03.

Method for conditioning process chambers

Номер патента: US6420274B1. Автор: Ying Zhang,Alejandro Gabriel Schrott,John M. Baker,Marc Waine Cantell,Paul Wiliam Pastel. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2002-07-16.

Substrate process chamber exhaust

Номер патента: WO2014066067A1. Автор: Paul Brillhart,David ABERLE. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-05-01.

Information processing equipment and method for controlling information processing equipment

Номер патента: CN104754168B. Автор: 番野桂. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2019-04-05.

Error detection code generation circuits of semiconductor devices, memory controllers including the same and semiconductor memory devices including the same

Номер патента: US20200044669A1. Автор: Young-Sik Kim,Sang-Uhn CHA,Ye-sin Ryu,Su-yeon Doo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-02-06.

ERROR DETECTION CODE GENERATION CIRCUITS OF SEMICONDUCTOR DEVICES, MEMORY CONTROLLERS INCLUDING THE SAME AND SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICES INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20210091791A1. Автор: Kim Young-Sik,DOO SU-YEON,RYU Ye-Sin,CHA SANG-UHN. Владелец: . Дата публикации: 2021-03-25.

ERROR DETECTION CODE GENERATION CIRCUITS OF SEMICONDUCTOR DEVICES, MEMORY CONTROLLERS INCLUDING THE SAME AND SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICES INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20180159558A1. Автор: Kim Young-Sik,DOO SU-YEON,RYU Ye-Sin,CHA SANG-UHN. Владелец: . Дата публикации: 2018-06-07.

ERROR DETECTION CODE GENERATION CIRCUITS OF SEMICONDUCTOR DEVICES, MEMORY CONTROLLERS INCLUDING THE SAME AND SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICES INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20200162112A1. Автор: Kim Young-Sik,DOO SU-YEON,RYU Ye-Sin,CHA SANG-UHN. Владелец: . Дата публикации: 2020-05-21.

Information processing equipment, programs, and control methods for information processing equipment

Номер патента: JP6991108B2. Автор: 勝也 小川. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-01-12.

Pressure control method for process chamber and pressure control device for process chamber

Номер патента: US09880569B2. Автор: EMMANUEL Vyers,Mie Kimura. Владелец: PROGRESSIO LLC. Дата публикации: 2018-01-30.

Hydrophobic Shafts For Use In Process Chambers

Номер патента: US20200139401A1. Автор: Jeffrey E. Krampert,Ernest E. Allen, Jr.,Jonathan David Fischer. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2020-05-07.

Method and system for supplying a cleaning gas into a process chamber

Номер патента: WO2009155028A1. Автор: Hichem M'Saad,Ganesh Balasubramanian,Visweswaren Sivaramakrishnan,Thomas Nowak,Karthik Janakiraman,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Dale Du Bois,Ramprakash Sankarakrishnan. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2009-12-23.

Hydrophobic Shafts For Use In Process Chambers

Номер патента: US20190299249A1. Автор: Jeffrey E. Krampert,Ernest E. Allen, Jr.,Jonathan David Fischer. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2019-10-03.

Method and system for supplying a cleaning gas into a process chamber

Номер патента: US20140076236A1. Автор: Hichem M'Saad,Ganesh Balasubramanian,Visweswaren Sivaramakrishnan,Thomas Nowak,Karthik Janakiraman,Juan Carlos Rocha-Alvarez,Dale R. Du Bois,Ramprakash Sankarakrishnan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-03-20.

Method of treating metal and metal salts to enable thin layer deposition in semiconductor processing

Номер патента: US7670645B1. Автор: Sheldon Aronowitz,James O. Kimball. Владелец: LSI Corp. Дата публикации: 2010-03-02.

Processing unit and processing equipment for control process installation method, for processing equipment

Номер патента: CN107406286A. Автор: L·乌比. Владелец: Xylem IP Management SARL. Дата публикации: 2017-11-28.

Mechatronic curtain for a process chamber for carrying out thermal processes in the manufacture of electronic assemblies

Номер патента: US20240318915A1. Автор: Paul Wild. Владелец: REHM THERMAL SYSTEMS GMBH. Дата публикации: 2024-09-26.

Method and device for rapid detection of faults in signal processing equipment and optical interface board

Номер патента: RU2523331C2. Автор: Пу ЛИ. Владелец: Зте Корпорейшн. Дата публикации: 2014-07-20.

Data acquisition method, device, and system for semiconductor process equipment

Номер патента: EP4398127A1. Автор: Jiajia CHAI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-10.

User equipment and base station participating in procedure of receiving system information

Номер патента: RU2762253C2. Автор: Хидетоси СУЗУКИ,Мин-Хун ТАО,Рикин ШАХ. Владелец: Панасоник Интеллекчуал Проперти Корпорейшн Оф Америка. Дата публикации: 2021-12-17.

Driving apparatus of semiconductor manufacturing equipment and driving method of semiconductor manufacturing equipment

Номер патента: US12143051B2. Автор: Junbeom LEE. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-12.

Mechatronic curtain for a process chamber for carrying out thermal processes in the manufacture of electronic assemblies

Номер патента: US11910539B2. Автор: Paul Wild. Владелец: REHM THERMAL SYSTEMS GMBH. Дата публикации: 2024-02-20.

Dynamic monitoring and securing of factory processes, equipment and automated systems

Номер патента: US12111923B2. Автор: John B. PUTMAN,Matthew C. PUTMAN,Vadim Pinskiy,Damas Limoge,Andrew Sundstrom,James Williams, III. Владелец: Nanotronics Imaging Inc. Дата публикации: 2024-10-08.

Surface processing equipment and surface processing method

Номер патента: US20230191534A1. Автор: Chih-Chieh Chen,Kao-Der Chang,Chih-Chiang Weng,Yo-Sung Lee. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2023-06-22.

Electronic circuit for the switching-off of semiconductor switches in the event of critical currents

Номер патента: US20240297498A1. Автор: Stefan Hofinger,Stefan Hagenauer. Владелец: Lisa Draexlmaier GmbH. Дата публикации: 2024-09-05.

Semiconductor device and method of manufacturing the same and semiconductor manufacturing device

Номер патента: US20080316790A1. Автор: Fumihiko Inoue,Kentaro Sera. Владелец: SPANSION LLC. Дата публикации: 2008-12-25.

Semiconductor structure manufacturing method and semiconductor structure

Номер патента: US12082397B2. Автор: Lei Yang. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2024-09-03.

Method for manufacturing a semiconductor structure and semiconductor structure

Номер патента: US12127390B2. Автор: Dawei Feng. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2024-10-22.

Highly reflective metallic alloys for components of semiconductor processing equipment, and related methods

Номер патента: US20240295048A1. Автор: Tetsuya Ishikawa,Ala Moradian,Shawn Thanhson Le,Amir H. Tavakoli. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-05.

Processing Equipment of Nutrition Powder for Aquacultured Animals

Номер патента: AU2020103363A4. Автор: PENG Zhao,Shulu GUO,Haoyuan LIU,Bingqi Tian,Lijing Sun. Владелец: Tangshan Hydrience Marine Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-21.

Method of producing steel and portland cement and process chambers for implementing method

Номер патента: RU2710088C1. Автор: Сергей Викторович Ласанкин. Владелец: Сергей Викторович Ласанкин. Дата публикации: 2019-12-24.

Enzymatic method of removing slime from vegetable oil and reduction of growth on process equipment

Номер патента: RU2347804C2. Автор: Крис Л. Дж. ДЕЙТОН,Кэрри П. СТАЛЛЕР,Томас Л. БАРКШИЕ. Владелец: Банджи Оилс, Инк.. Дата публикации: 2009-02-27.

Lift assemblies, and related methods and components, for substrate processing chambers

Номер патента: US20240198468A1. Автор: Shu-Kwan LAU,Martin Jeffrey Salinas,Aniketnitin Patil,Raja Murali Dhamodharan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-20.

Cell architectural structures for enhanced thermal management in epitaxial growth processing chamber

Номер патента: US20240254653A1. Автор: Ala Moradian,Shawn Thanhson Le,Amir H. Tavakoli. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Pre-heat rings and processing chambers including black quartz, and related methods

Номер патента: WO2024158417A1. Автор: Ashur J. Atanos,Zhepeng Cong,NIMROD SMITH. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-02.

Pre-heat rings and processing chambers including black quartz, and related methods

Номер патента: US20240247404A1. Автор: Ashur J. Atanos,Zhepeng Cong,NIMROD SMITH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Cell architectural structures for enhanced thermal management in epitaxial growth processing chamber

Номер патента: WO2024158639A1. Автор: Ala Moradian,Amir H. Tavakoli,Shawn LE. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-02.

Nickel-Carbon And Nickel-Cobalt-Carbon Brazes And Brazing Processes For Joining Ceramics And Metals And Semiconductor Processing And Industrial Equipment Using Same

Номер патента: US20240278359A1. Автор: Alfred Grant Elliot,Brent Elliot. Владелец: Watlow Electric Manufacturing Co. Дата публикации: 2024-08-22.

Method of reducing plasma arcing on surfaces of semiconductor processing apparatus components in a plasma processing chamber

Номер патента: US8871312B2. Автор: Jie Yuan,Kenneth S. Collins,Jennifer Y. Sun,Senh Thach,Ren-Guan Duan,Thomas Graves,Xiaoming He. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-10-28.

Biomass feedstock recovery equipment and processes

Номер патента: US20240253051A1. Автор: John Casey Yunger,Kyle Tucker Watts,Caden PERRY,Matthew PERCIFIELD. Владелец: ENERGY CREATES ENERGY LLC. Дата публикации: 2024-08-01.

Retractable and expandable water cooled valve gate useful for sealing a hot processing chamber

Номер патента: EP2577139A1. Автор: William L. Luter,Dick S. Williams. Владелец: Confluence Solar Inc. Дата публикации: 2013-04-10.

Retractable and expandable water cooled valve gate useful for sealing a hot processing chamber

Номер патента: WO2011149490A1. Автор: William L. Luter,Dick S. Williams. Владелец: Confluence Solar Incorporated. Дата публикации: 2011-12-01.

Method of making high purity polycrystalline aluminum oxynitride bodies useful in semiconductor process chambers

Номер патента: US09637415B2. Автор: Suri A. Sastri,Sreeram Balasubramanian,Lee M. Goldman. Владелец: Surmet Corp. Дата публикации: 2017-05-02.

Improved reflector for process chamber

Номер патента: WO2024220120A1. Автор: Ala Moradian,Vishwas Kumar Pandey,Hemantha Kumar Raju,Anilkumar Bodepudi. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-10-24.

Lift assemblies, and related methods and components, for substrate processing chambers

Номер патента: WO2024129179A1. Автор: Shu-Kwan LAU,Martin Jeffrey Salinas,Aniketnitin Patil,Raja Murali Dhamodharan. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-06-20.

A kind of semiconductor crystal bar tip of scratch resistant damage opens a section processing equipment

Номер патента: CN110394907A. Автор: 周淑英,黄梅玉,饶榕琦,骆伟秋. Владелец: Quanzhou Taiwan Investment Area Remo Design Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-01.

Wafer immersion in semiconductor processing chambers

Номер патента: WO2023146590A1. Автор: John L. Klocke,John Igo. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-08-03.

Nickel-Carbon And Nickel-Cobalt-Carbon Brazes And Brazing Processes For Joining Ceramics And Metals And Semiconductor Processing And Industrial Equipment Using Same

Номер патента: US20230321766A1. Автор: Alfred Grant Elliot,Brent Elliot. Владелец: Watlow Electric Manufacturing Co. Дата публикации: 2023-10-12.

Dioxaborines as organic n-semiconductors, process for the production of semiconductors utilizing dioxaborines, and semiconductor component, field effect transistor, and diode having a dioxaborine

Номер патента: US20030234396A1. Автор: Günter Schmid,Lisa Davis,Marcus Halik. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-12-25.

Process chamber with reflector

Номер патента: US20240134151A1. Автор: Peter Reimer,Shu-Kwan LAU,Ala Moradian,Amir H. Tavakoli. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-25.

Apparatus and process for producing a crystal of semiconductor material

Номер патента: US09828693B2. Автор: Georg Brenninger,Georg Raming. Владелец: SILTRONIC AG. Дата публикации: 2017-11-28.

Fiber processing equipment, fiber raw material recycling equipment, and control method of fiber processing equipment

Номер патента: JP7035551B2. Автор: 裕生 小口,宗一郎 瀬尾. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2022-03-15.

Method for automated calibration of temperature sensors in rapid thermal processing equipment

Номер патента: US6004029A. Автор: Mehrdad M. Moslehi,Yong Jin Lee. Владелец: CVC Products Inc. Дата публикации: 1999-12-21.

INFORMATION PROCESSING EQUIPMENT AND METHOD FOR CONTROLLING INFORMATION PROCESSING EQUIPMENT

Номер патента: US20150355643A1. Автор: KUBOTA Jumpei. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2015-12-10.

Mineral material processing equipment and the method for operating process equipment

Номер патента: CN105592928B. Автор: V-M·萨米宁,J·胡尔特蒂宁. Владелец: Metso Minerals Oy. Дата публикации: 2018-06-12.

Traffic information processing equipment, system and method

Номер патента: US20210229804A1. Автор: Yu Gu. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-29.

Information processing equipment, control methods and programs for information processing equipment

Номер патента: JP6985856B2. Автор: 優和 真継,敦史 野上,慧 ▲高▼山. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-12-22.

Information processing equipment, programs, and control methods for information processing equipment

Номер патента: JP7077504B1. Автор: 勝 山本,和也 後藤,雅之 川井,文誠 山添,一徳 砂子,昌平 末永. Владелец: JSOL Corp. Дата публикации: 2022-05-31.

Process equipment selecting system and method for selecting process equipment

Номер патента: TW459282B. Автор: Yasuhiro Sato,Takamasa Inobe,Katsuya Ota,Yasuhiro Marume,Masaki Otani. Владелец: Ryoden Semiconductor Syst Eng. Дата публикации: 2001-10-11.

Design method of semiconductor integrated circuit device, design equipment and design program

Номер патента: JP2003258101A. Автор: Mutsunori Igarashi,睦典 五十嵐. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2003-09-12.

Method of wafer system interlock for the protection of equipment and product in semiconductor processing bridge tool

Номер патента: US20140277727A1. Автор: Shinya Kitano,Ming Zeng,Thomas Miu,Simon Jeyapalan,Avish A. Bharwani. Владелец: Kawasaki Robotics USA Inc. Дата публикации: 2014-09-18.

METHOD OF WAFER SYSTEM INTERLOCK FOR THE PROTECTION OF EQUIPMENT AND PRODUCT IN SEMICONDUCTOR PROCESSING BRIDGE TOOL

Номер патента: US20140277727A1. Автор: Zeng Ming,Kitano Shinya,Miu Thomas,Jeyapalan Simon,Bharwani Avish A.. Владелец: KAWASAKI ROBOTICS (USA), INC.. Дата публикации: 2014-09-18.

System for detecting semiconductor process and method for detecting semiconductor process

Номер патента: US20220043432A1. Автор: Yong-Yu Chen,Huan-Cheng Li. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2022-02-10.

Process chamber qualification for maintenance process endpoint detection

Номер патента: US20240248466A1. Автор: YI Qi,Arvind Shankar Raman,Harikrishnan Rajagopal,Vishwath Ram Amarnath,Minal Balkrishna Shettigar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Methods and mechanisms for modifying machine-learning models for new semiconductor processing equipment

Номер патента: US20240288779A1. Автор: Waheb Bishara,Subhasish Bandyopadhyay. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-29.

Pre-certified process chamber and method

Номер патента: WO2008030501A3. Автор: Sowmya Krishnan. Владелец: Sowmya Krishnan. Дата публикации: 2008-04-24.

Workpiece processing system for carrying out sequential execution of process of workpiece in each process chamber by setting start time of process in each process chamber based on necessary processing duration specific to each chamber and necessary conveyance duration between the chambers

Номер патента: US09989959B2. Автор: Seiichi Asahara. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2018-06-05.

Synthetic time series data associated with processing equipment

Номер патента: WO2023172460A1. Автор: Joshua Thomas Maher. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-09-14.

Cover plate for a processing chamber

Номер патента: EP3021660A1. Автор: Willem Jacobus Reijersen Van Buuren,Tobias Keune. Владелец: Forage Innovations BV. Дата публикации: 2016-05-25.

Comprehensive analysis module for determining processing equipment performance

Номер патента: US20230280736A1. Автор: Weili Li,Hui-ling HAN,Moon Kyu Oh,Dermot Patrick Cantwell. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-07.

Comprehensive analysis module for determining processing equipment performance

Номер патента: US20240310825A1. Автор: Weili Li,Hui-ling HAN,Moon Kyu Oh,Dermot Patrick Cantwell. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-19.

Comprehensive analysis module for determining processing equipment performance

Номер патента: US20240310826A1. Автор: Weili Li,Hui-ling HAN,Moon Kyu Oh,Dermot Patrick Cantwell. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-19.

Tangential flow material processing chamber and associated material processing system

Номер патента: CA3229955A1. Автор: Nicholas Kane BERRY,James Barr. Владелец: Seed Terminator Holdings Pty Ltd. Дата публикации: 2023-03-02.

Tangential flow material processing chamber and associated material processing system

Номер патента: AU2022333544A1. Автор: Nicholas Kane BERRY,James Barr. Владелец: Seed Terminator Holdings Pty Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Tangential flow material processing chamber and associated material processing system

Номер патента: EP4391789A1. Автор: Nicholas Kane BERRY,James Barr. Владелец: Seed Terminator Holdings Pty Ltd. Дата публикации: 2024-07-03.

Improved optical access for spectroscopic monitoring of semiconductor processes

Номер патента: WO2024097654A1. Автор: Mark Meloni. Владелец: Verity Instruments, Inc.. Дата публикации: 2024-05-10.

Protection gas control method and apparatus for non-sealed process chamber

Номер патента: US20090182457A1. Автор: Tsang-Fang Jeng,Chun-Hung Huang,Tzu-Hsin Kuo,Yen-Chia Peng,Ming-Lang Chang. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2009-07-16.

System having a process chamber for workpieces

Номер патента: US09970706B2. Автор: Dietmar Wieland,Oliver Iglauer,Christof Knuesel,Marius Winkler. Владелец: Duerr Systems AG. Дата публикации: 2018-05-15.

System having a process chamber for workpieces

Номер патента: US09423179B2. Автор: Dietmar Wieland,Oliver Iglauer,Christof Knuesel,Marius Winkler. Владелец: Duerr Systems AG. Дата публикации: 2016-08-23.

Ignition system in combustion chamber of gas turbine engine, comprising spark plug of semiconductor type, combustion chamber, comprising such spark plug and gas turbine engine

Номер патента: RU2501963C2. Автор: Дени Жан Морис САНДЕЛИ. Владелец: Снекма. Дата публикации: 2013-12-20.

Sound-insulating coating with the vibration insulation system of process equipment

Номер патента: RU2651529C1. Автор: Олег Савельевич Кочетов. Владелец: Олег Савельевич Кочетов. Дата публикации: 2018-04-20.

Atmospheric pressure plasma enhanced abatement of semiconductor process effluent species

Номер патента: US20020111045A1. Автор: Jose Arno. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-08-15.

Rotor with elastic diaphragm defining a liquid separating chamber of varying volume

Номер патента: US6074335A. Автор: Edward T. Powers,Thomas D. Headley. Владелец: Transfusion Technologies Corp. Дата публикации: 2000-06-13.

Protection gas control method for non-sealed process chamber

Номер патента: US7809474B2. Автор: Tsang-Fang Jeng,Chun-Hung Huang,Tzu-Hsin Kuo,Yen-Chia Peng,Ming-Lang Chang. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2010-10-05.

Colorimetric gas detector and windowed process chamber

Номер патента: WO2005019797A2. Автор: Thomas H. Baum,Jeffrey F. Roeder,Jose I. Arno,Joseph D. Sweeney,Glenn M. Tom,Paul J. Marganski,James R. Hills. Владелец: ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC.. Дата публикации: 2005-03-03.

Self-installing sensor/transmitter for process equipment

Номер патента: RU2543701C2. Автор: Юрий Николаевич Кузнецов,Лорен Майкл ЭНГЕЛСТЕД,Дуглас Уэйн ЭРНСТОН,Джейсон Харолд РАД,Кларенс Эдвард ХОУЛМСТЕДТ,Рэнди Кеннет ПАШКЕ,Сергей Викторович Асмолов. Владелец: Роузмаунт Инк.. Дата публикации: 2015-03-10.

Methods for controlling time scale of gas delivery into a processing chamber

Номер патента: WO2009155221A3. Автор: Robert Charatan,Iqbal A. Shareef,Gunsu Yun,Kurt Jorgensen. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2010-03-25.

A method for monitoring and visualising process equipment in a mine

Номер патента: WO2013156214A1. Автор: Christine Mikkelsen,David Jakobsson,Diamond Dong,Filip Lundeholm,Isak Savo. Владелец: ABB RESEARCH LTD. Дата публикации: 2013-10-24.

Additive manufacturing apparatus with a processing chamber and an optical module having a house containing optical train

Номер патента: EP3299110A3. Автор: Simon Peter Scott,Christopher John Sutcliffe. Владелец: RENISHAW PLC. Дата публикации: 2018-06-20.

Freewire system for suppression of particulate deposition and accumulation on processing chamber walls

Номер патента: US20040175301A1. Автор: Aaron Mao,Samuel Antonio,Pom Hyare. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-09-09.

Vacuum process chamber component and methods of making

Номер патента: US09969022B2. Автор: Vijay D. Parkhe. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-05-15.

Conveyor for processing equipment having gas flow compensation

Номер патента: CA2200405C. Автор: Eugene J. London. Владелец: Stein Associates Inc. Дата публикации: 2004-07-06.

Process chamber in connection with a fluidized bed reactor

Номер патента: CA2344219C. Автор: Michael G. Alliston,Tero Luomaharju,Ari Kokko,Timo Mero. Владелец: METSO POWER OY. Дата публикации: 2008-12-16.

Substrate processing apparatus, semiconductor manufacturing equipment, and substrate processing method

Номер патента: US20230244150A1. Автор: Kuntack Lee,Jihoon Jeong,Sangjine Park,Seohyun Kim,Sukhoon KIM,Younghoo KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-08-03.

Functional Module for Moving to a Dosing Station Positioned in a Process Chamber of a Containment System and Corresponding Method

Номер патента: US20230257148A1. Автор: Matteo GIULIANI,Andrea RONCARA. Владелец: Pharma Integration Srl. Дата публикации: 2023-08-17.

Substrate processing apparatus, semiconductor manufacturing equipment, and substrate processing method

Номер патента: US20220075268A1. Автор: Kuntack Lee,Jihoon Jeong,Sangjine Park,Seohyun Kim,Sukhoon KIM,Younghoo KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-03-10.

Sensor controlling temperature of production process, equipped with sensor for diagnosis of vibrations thereof

Номер патента: RU2594623C1. Автор: Энтони Михаэль ЭЛКЕ. Владелец: Росемоунт Инк.. Дата публикации: 2016-08-20.

Synthetic time series data associated with processing equipment

Номер патента: US20230281439A1. Автор: Joshua Thomas Maher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-07.

System and process for calibrating pyrometers in thermal processing chambers

Номер патента: EP1175604A1. Автор: Julio Guardado. Владелец: Steag RTP Systems Inc. Дата публикации: 2002-01-30.

Process chamber for an additive manufacturing apparatus and method for operating the process chamber

Номер патента: US20240157648A1. Автор: Birk Hoppe,Karsten Neumann,Tobias SCHMITHÜSEN. Владелец: Nikon SLM Solutions AG. Дата публикации: 2024-05-16.

Steam supply system for superposed turbine and process chamber, such as coal gasification

Номер патента: CA1260780A. Автор: William M. Menger. Владелец: Houston Industries Inc. Дата публикации: 1989-09-26.

Process chamber for an additive manufacturing apparatus and method for operating the process chamber

Номер патента: EP4334060A1. Автор: Birk Hoppe,Karsten Neumann,Tobias SCHMITHÜSEN. Владелец: Nikon SLM Solutions AG. Дата публикации: 2024-03-13.

Cover plate for a processing chamber

Номер патента: WO2015009142A1. Автор: Willem Jacobus Reijersen Van Buuren,Tobias Keune. Владелец: FORAGE INNOVATIONS B.V.. Дата публикации: 2015-01-22.

Mist collecting system for multiple processing chambers

Номер патента: US20230381838A1. Автор: Noritaka Akatsu. Владелец: Fuji Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Control apparatus and method for 3d printer post-processing equipment

Номер патента: US20240227302A9. Автор: Ji Yeon Son,Min Gi Kim,Chang Beom Kim,Hyo Nyoung HAN. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 2024-07-11.

Processing chamber and step conveyor

Номер патента: CA1264460A. Автор: Guy Edward Buller-Colthurst. Владелец: Knud Simonsen Industries Ltd. Дата публикации: 1990-01-16.

Reduction of oxygen content in a process chamber

Номер патента: EP4299315A1. Автор: Aron PFAFF. Владелец: Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV. Дата публикации: 2024-01-03.

Comprehensive analysis module for determining processing equipment performance

Номер патента: WO2023167930A1. Автор: Weili Li,Dermot Cantwell,Hui-ling HAN,Moon Kyu Oh. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-09-07.

System for protecting and securing bags in bulk HPP equipment and associated method

Номер патента: AU2018437306B2. Автор: Santiago Tarrago Mingo,Raul Lopez Ondevilla,Ruben Garcia Reizabal,Andres Felipe Hernando Saiz. Владелец: Hiperbaric SA. Дата публикации: 2021-12-02.

Data acquisition and analysis method based on diabetes data analysis and processing equipment

Номер патента: US20240280462A1. Автор: Ze Li,Xiaodong Li,Yanling Yang,Jinghao Chen,Yayun Wang,Feifei Wu,Yunhu Bai. Владелец: Air Force Medical University of PLA. Дата публикации: 2024-08-22.

Additive manufacturing apparatus with decoupled process chamber and additive manufacturing method

Номер патента: US20240293866A1. Автор: Christian Tenbrock,Stefan Schoen,Meinolf Tepper,Marc Timmer. Владелец: Dmg Mori Additive GmbH. Дата публикации: 2024-09-05.

Homing methods for lift assemblies, and related apparatus and components, for substrate processing chambers

Номер патента: US20240326187A1. Автор: Shu-Kwan LAU,Aniketnitin Patil. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-03.

Apparatus and method for the automated management of a processing chamber with a controlled atmosphere

Номер патента: US20220204203A1. Автор: Gabriele Gabusi. Владелец: IMA Industria Macchine Automatiche SpA. Дата публикации: 2022-06-30.

Apparatus and method for the automated management of a processing chamber with a controlled atmosphere

Номер патента: EP3966002A1. Автор: Gabriele Gabusi. Владелец: IMA Industria Macchine Automatiche SpA. Дата публикации: 2022-03-16.

Apparatus and method for the automated management of a processing chamber with a controlled atmosphere

Номер патента: WO2020225838A1. Автор: Gabriele Gabusi. Владелец: I.M.A. INDUSTRIA MACCHINE AUTOMATICHE S.P.A.. Дата публикации: 2020-11-12.

A tea rolling processing equipment for tea pretreatment and a processing method thereof

Номер патента: LU506065B1. Автор: Ping Yu,Yubao Xu,Miaomiao Huang. Владелец: Univ West Anhui. Дата публикации: 2024-07-05.

A tea rolling processing equipment for tea pretreatment and a processing method thereof

Номер патента: ZA202400218B. Автор: YU PING,Xu Yubao,Huang Miaomiao. Владелец: Univ West Anhui. Дата публикации: 2024-09-25.

Procedure for regulating the temperature of a material to be processed in a processing chamber and device to accomplish this

Номер патента: US6173903B1. Автор: Helmut Loscher,Hubert Heeg. Владелец: Kendro Laboratory Products GmbH. Дата публикации: 2001-01-16.

Continuous polyester fiber textile cloth, processing equipment and method

Номер патента: US20230304214A1. Автор: Lijun Lin,Buyi Cen,Jieyuan Cen,Chenxin Fei. Владелец: Ningbo Xinrun Textile Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Laser processing equipment and method

Номер патента: US20230415280A1. Автор: Pi-cheng Tung,Chih-Kuang Lin,Jeng-Rong Ho. Владелец: National Central University. Дата публикации: 2023-12-28.

A thermal processing chamber and conveyor belt for use therein and method of processing product

Номер патента: CA2533223C. Автор: David K.Y. Auyoung. Владелец: AEROFREEZE SYSTEMS Inc. Дата публикации: 2009-07-07.

Processing chamber

Номер патента: CA2410322C. Автор: Yitzhak Ben-Asouli,Farhat Osman. Владелец: Gene Bio Application Ltd. Дата публикации: 2010-07-20.

Optical emission spectroscopy control of gas flow in processing chambers

Номер патента: WO2022192149A1. Автор: Rajat Agrawal,Sunil Kumar Garg,Keith A. Miller,Philip DIGIACOMO,Paul G. KIELY. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-09-15.

Optical emission spectroscopy control of gas flow in processing chambers

Номер патента: US11868147B2. Автор: Rajat Agrawal,Sunil Kumar Garg,Keith A. Miller,Philip DIGIACOMO,Paul G. KIELY. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-09.

Removing Material from Surfaces of Metals Processing Chambers

Номер патента: US20120192896A1. Автор: Aaron P. MARS. Владелец: Mars Metals Inc. Дата публикации: 2012-08-02.

Removing material from surfaces of metals processing chambers

Номер патента: US8701256B2. Автор: Aaron P. MARS. Владелец: Mars Metals Inc. Дата публикации: 2014-04-22.

Method for improved semiconductor processing equipment tool pedestal / pad vibration isolation and reduction

Номер патента: US20190040929A1. Автор: Suk K. Kim-Whitty. Владелец: Sk Commercial Construction Inc. Дата публикации: 2019-02-07.

Gas processing equipment and gas processing method, and carbon dioxide capture system and carbon dioxide capture method

Номер патента: US12070719B2. Автор: Satoshi Saito,Shinji Murai,Yasuhiro Kato,Koshito Fujita,Takehiko Muramatsu,Ryosuke Shibata,Osamu Shibasaki,Yusuke Handa,Daigo Muraoka,Hayato Morigaki. Владелец: Toshiba Energy Systems and Solutions Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Method of measuring transient thermal characteristics of semiconductor products

Номер патента: RU2639989C2. Автор: Вячеслав Андреевич Сергеев,Ярослав Геннадьевич Тетенькин. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Ульяновский государственный технический университет". Дата публикации: 2017-12-25.

Flow regulator adaptable for use with exhaust from a process chamber

Номер патента: CA2106187C. Автор: David Palmer. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-12-10.

Process-chamber flow control system

Номер патента: US5255710A. Автор: David Palmer. Владелец: Individual. Дата публикации: 1993-10-26.

Apparatus for measuring gas concentrations in a hot gas sample withdrawn from a process chamber

Номер патента: US4684509A. Автор: Tibor Bernath. Владелец: Individual. Дата публикации: 1987-08-04.

Three-dimensional printing system with improved process chamber

Номер патента: US20210053290A1. Автор: Brawley Valkenborgs,Luc Cuyt,Jonas Van Vaerenbergh,Jan VAN ROMPAY. Владелец: Layerwise NV. Дата публикации: 2021-02-25.

Methods for controlling time scale of gas delivery into a processing chamber

Номер патента: WO2009155221A2. Автор: Robert Charatan,Iqbal A. Shareef,Gunsu Yun,Kurt Jorgensen. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2009-12-23.

Predictive spatial digital design of experiment for advanced semiconductor process optimization and control

Номер патента: US20200110852A1. Автор: Dermot Cantwell,Samer Banna,Waheb Bishara. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-04-09.

Closure processing equipment and method

Номер патента: EP4387895A1. Автор: Neil B. CAMMISH,Guido Drees. Владелец: F Hoffmann La Roche AG. Дата публикации: 2024-06-26.

Processing equipment and its supporting structure

Номер патента: US20240174477A1. Автор: Yung-Chi Chang,You-Syun LYU,Jia-Jyun SHEN. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2024-05-30.

Method of semiconductor phototransformer manufacturing

Номер патента: RU2349002C1. Автор: Владимир Иванович Поляков,Виталий Викторович Заддэ,Дмитрий Семенович Стребков,ков Владимир Иванович Пол. Владелец: Российская Академия Сельскохозяйственных наук Государственное научное учреждение Всероссийский научно-исследовательский институт электрификации сельского хозяйства (ГНУ ВИЭСХ). Дата публикации: 2009-03-10.

Method to produce epitaxial filiform nanocrystals of semiconductors of permanent diameter

Номер патента: RU2456230C2. Автор: Валерий Александрович Небольсин,Александр Игоревич Дунаев,Максим Алексеевич Завалишин,Герман Александрович Сладких,Александр Федорович Татаренков. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Воронежский государственный технический университет". Дата публикации: 2012-07-20.

Console device for horizontal contactless driving of semiconductor plates in diffusion furnace

Номер патента: RU2684335C2. Автор: Геннадий Васильевич Перов. Владелец: Акционерное Общество "Новосибирский Завод Полупроводниковых Приборов С Окб" (Ао "Нзпп С Окб"). Дата публикации: 2019-04-08.

Method of semiconductor beta-voltaic cells manufacturing based on nickel-63 radionuclide

Номер патента: RU2715735C1. Автор: Сергей Михайлович Миронов,Владислав Яковлевич Панченко,Валерий Александрович Фирсов,Антон Валерьевич Лабозин,Алексей Борисович Дьячков,Михаил Алексеевич Поликарпов,Алексей Анатольевич Горкунов,Глеб Олегович Цветков. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение "Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт". Дата публикации: 2020-03-03.

Method for fabrication of semiconductor photoelectric generator

Номер патента: RU2265915C1. Автор: Д.С. Стребков,В.В. Заддэ,О.В. Шеповалова. Владелец: Государственное научное учреждение Всероссийский научно-исследовательский институт электрификации сельского хозяйства (ГНУ ВИЭСХ). Дата публикации: 2005-12-10.

Method and system for planning preventive maintenance and repair of process equipment based on acoustic diagnostics using neural networks

Номер патента: RU2764962C1. Автор: Александр Владимирович Власов,Александр Владимирович Киселев,Дмитрий Михайлович Михайлов. Владелец: Дмитрий Михайлович Михайлов. Дата публикации: 2022-01-24.

Method for automated monitoring of thermal resistances of semiconductor devices

Номер патента: RU2698512C1. Автор: Леонид Алексеевич Потапов,Игорь Юрьевич Бутарев,Алексей Николаевич Школин. Владелец: ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ БЮДЖЕТНОЕ ОБРАЗОВАТЕЛЬНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ ВЫСШЕГО ОБРАЗОВАНИЯ "Брянский государственный технический университет". Дата публикации: 2019-08-28.

Return of underwater production and processing equipment

Номер патента: RU2600066C1. Автор: Эрик Рэндалл СМЕДСТАД. Владелец: ЭфЭмСи ТЕКНОЛОДЖИЗ ИНК.. Дата публикации: 2016-10-20.

Method for cleaning transport-technological capacities of nuclear reactor from long radioactive elements of process equipment

Номер патента: RU2666152C1. Автор: Вячеслав Владимирович Мевиус,Дмитрий Геннадьевич Южаков,Андрей Владимирович Мевиус,Алексей Вячеславович Зубавленко,Иван Николаевич Корлюков,Василий Архипович Дмитриев. Владелец: Акционерное общество "Опытно-демонстрационный центр вывода из эксплуатации уран-графитовых ядерных реакторов" (АО "ОДЦ УГР"). Дата публикации: 2018-09-06.

Probe and system for removal of gases from process equipment

Номер патента: RU2390749C2. Автор: Доменико БРУЦЦИ. Владелец: Доменико БРУЦЦИ. Дата публикации: 2010-05-27.

Test methods of semiconductor devices and semiconductor systems used therein

Номер патента: US20180068743A1. Автор: Sang Gu JO. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2018-03-08.

Method for manufacturing cast rods from liquid glass mixtures in heated "thermo-shock-co2-process" equipment

Номер патента: RU2630399C2. Автор: Марина Викторовна Никифорова,Сергей Алексеевич Никифоров,Евгения Павловна Роот,Антон Павлович Никифоров. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Южно-Уральский государственный университет (национальный исследовательский университет)" (ФГАОУ ВО "ЮУрГУ (НИУ)"). Дата публикации: 2017-09-07.

Method for independent control of sizes of semiconductor quantum dots a3b5

Номер патента: RU2766832C1. Автор: Максим Сергеевич Солодовник,Наталия Евгеньевна Черненко,Сергей Вячеславович Балакирев,Михаил Михайлович Еременко. Владелец: федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Южный федеральный университет". Дата публикации: 2022-03-16.

Process equipment of a rolling mill section with a positioning laser linearity apparatus and hot rolling process line for adjusting the angle of the rolled product

Номер патента: RU2770856C1. Автор: Цзицзюнь ЖЭНЬ,Цзяньнин ЦАО,Вэнь ХАНЬ,Сикан ЧЖОУ,Ятин ЧЖОУ,Бинь ФУ,Бин БАЙ,Яньцзюнь ЛЮ. Владелец: СЕРИ Текнолоджи Компани Лимитед. Дата публикации: 2022-04-22.

Photosensibile on the basis of semiconductor quantum points and chlorine e6

Номер патента: RU2629390C2. Автор: Александр Васильевич Баранов,Юлия Александровна Громова,Владимир Григорьевич Маслов,Анна Олеговна Орлова,Анатолий Валентинович Фёдоров,Юрий Кузьмич Гунько,Анастасия Константиновна Вишератина. Владелец: федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики" (Университет ИТМО). Дата публикации: 2017-08-29.

Temporary mechanical stabilization of semiconductor cavities

Номер патента: US20180086632A1. Автор: Joachim Mahler,Alfred Sigl,Daniel Porwol,Dominic Maier. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2018-03-29.

Semiconductor memory, test method of semiconductor memory and system

Номер патента: US20090040850A1. Автор: Kaoru Mori,Toshikazu Nakamura,Jun Ohno,Masaki Okuda. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2009-02-12.

Temporary mechanical stabilization of semiconductor cavities

Номер патента: US09988262B2. Автор: Joachim Mahler,Alfred Sigl,Daniel Porwol,Dominic Maier. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2018-06-05.

Methods for retrieval and replacement of subsea production and processing equipment

Номер патента: US09556713B2. Автор: Harold Brian Skeels,Michael R. Williams,Andrei STRIKOVSKI,Thomas L. Hergarden,Howard J. Hartley,Eric Randall SMEDSTAD,Jimmy D. Andrews,John D. DAFLER, JR.. Владелец: FMC Technologies Inc. Дата публикации: 2017-01-31.

Methods for retrieval and replacement of subsea production and processing equipment

Номер патента: US09441461B2. Автор: Harold Brian Skeels,Michael R. Williams,Andrei STRIKOVSKI,Thomas L. Hergarden,Howard J. Hartley,Eric Randall SMEDSTAD,Jimmy D. Andrews,John D. DAFLER, JR.. Владелец: FMC Technologies Inc. Дата публикации: 2016-09-13.

Device for accessing semiconductor memory card, computer- readable data carrier, initialization method and semiconductor memory card

Номер патента: RU2257609C2. Автор: Теруто ХИРОТА,Такудзи МАЕДА. Владелец: МАЦУСИТА ЭЛЕКТРИК ИНДАСТРИАЛ КО., ЛТД.. Дата публикации: 2005-07-27.

throttle valve for controlling pressure of PSG deposition process chamber in fabrication of semiconductor

Номер патента: KR200233847Y1. Автор: 박상규. Владелец: 현대반도체 주식회사. Дата публикации: 2001-09-29.

Method to modify surfaces of metals or heterogeneous structures of semiconductors

Номер патента: RU2502153C2. Автор: Владимир Константинович Киселев,Александр Николаевич Качемцев,Владимир Дмитриевич Скупов,Сергей Леонидович Торохов. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие федеральный научно-производственный центр "Научно-исследовательский институт измерительных систем им. Ю.Е. Седакова". Дата публикации: 2013-12-20.

A kind of semiconductor crystal bar processing equipment

Номер патента: CN109773989A. Автор: 李密雪. Владелец: Individual. Дата публикации: 2019-05-21.

The novel draining gas operated device of semiconductor waste gas processing equipment

Номер патента: CN209378762U. Автор: 崔汉博,崔汉宽,潘昌未. Владелец: Shanghai Gao Sheng Integrated Circuit Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-13.

Rotor for powder and granular material processing equipment, and powder and granular material processing equipment

Номер патента: JP7224155B2. Автор: 淳 宮内,尭 長田. Владелец: Meiji Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-17.

Processing equipment and sterilization processing method for processing equipment

Номер патента: JP6975480B2. Автор: 昌彦 神田. Владелец: ALLIED FLOW INC.. Дата публикации: 2021-12-01.

Manufacturing method of semiconductor products, workpiece integration devices, film laminate, and semiconductor products

Номер патента: TW202312291A. Автор: 伊關亮,秋月伸也. Владелец: 日商日東電工股份有限公司. Дата публикации: 2023-03-16.

Manufacturing method of semiconductor light emitting element chip integrated device and semiconductor light emitting element chip integrated device

Номер патента: JP2022122320A. Автор: Motonobu Takeya,元伸 竹谷. Владелец: RD Tech Co Ltd. Дата публикации: 2022-08-23.

Optical unit, laser processing equipment, laser processing method and three-dimensional processing equipment

Номер патента: JP2022065693A. Автор: Masaki Yamaguchi,昌樹 山口. Владелец: Shinshu University NUC. Дата публикации: 2022-04-28.

Information processing equipment, control methods and programs for information processing equipment

Номер патента: JP6767788B2. Автор: 洋 東條,真司 山本,山本　真司,東條　洋,智也 本條. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-10-14.

METHODS FOR ENHANCED PROCESSING CHAMBER CLEANING

Номер патента: US20120000490A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

CONSUMABLE ISOLATION RING FOR MOVABLE SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY OF A PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20120000605A1. Автор: Dhindsa Rajinder,Kellogg Michael C.,Marakhtanov Alexei. Владелец: Lam Research Corporation.. Дата публикации: 2012-01-05.

C-SHAPED CONFINEMENT RING FOR A PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20120000608A1. Автор: Dhindsa Rajinder,Kellogg Michael C.,Marakhtanov Alexei. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

MOVABLE GROUND RING FOR A PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20120003836A1. Автор: . Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Device for washing and drying of semiconductor wafers

Номер патента: RU2460593C1. Автор: Валерий Николаевич Комаров. Владелец: Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт полупроводникового машиностроения" (ОАО "НИИПМ"). Дата публикации: 2012-09-10.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Номер патента: US20120001304A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

SOLID-STATE IMAGING DEVICE AND SEMICONDUCTOR DISPLAY DEVICE

Номер патента: US20120002090A1. Автор: . Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Manufacturing Method of Semiconductor Film, Manufacturing Method of Semiconductor Device, and Manufacturing Method of Photoelectric Conversion Device

Номер патента: US20120003787A1. Автор: TANAKA Tetsuhiro,KATO Erika. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Wafer Guide, MOCVD Equipment, and Nitride Semiconductor Growth Method

Номер патента: US20120003822A1. Автор: . Владелец: Sumitomo Electric Industries, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

Integration of dry development and etch processes for euv patterning in a single process chamber

Номер патента: WO2024196643A1. Автор: Daniel Peter,Jun Xue,Younghee Lee,Da Li,Ji Yeon Kim,Nader Shamma,Patrick A. Van Cleemput,Samantha S.H. Tan,Hongxiang Zhao,Michelle Margarita FLORES ESPINOSA. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-09-26.

Capacitor formation method of semiconductor device with pre-cleaning process and chamber equipment used therein

Номер патента: KR19990075646A. Автор: 송재인,송창용,장규환. Владелец: 윤종용. Дата публикации: 1999-10-15.

Method for cleaning inner surface of process equipment and pipelines (versions)

Номер патента: RU2594426C1. Автор: Николай Дмитриевич Войтех,Юрий Алексеевич Журавлев,Александр Викторович Литвиненко,Дмитрий Юрьевич Першин. Владелец: Акционерное общество "Научно-исследовательский и проектный институт по переработке газа" (АО "НИПИгазпереработка"). Дата публикации: 2016-08-20.

Installation for recovery and treatment of gas emissions from process equipment

Номер патента: RU2416651C1. Автор: Владимир Александрович Грачев,Валерий Николаевич Азаров,Владимир Владимирович Гутенев,Наталия Михайловна Сергина,Валерий Иванович Теличенко,Артем Иванович Ажгиревич,Евгений Александрович Коротков,Юлия Владимировна Кораблина. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Проектно-технологическое бюро проектно-строительного объединения Волгоградгражданстрой". Дата публикации: 2011-04-20.

E-beam enhanced decoupled source for semiconductor processing

Номер патента: SG193943A1. Автор: Akira Koshiishi,Harmeet Singh,John Patrick Holland,Jun Shinagawa,Peter L G Ventzek. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2013-11-29.

Method to evaluate operability of process equipment operated under conditions causing reduction of plasticity and cracking of metal in structural elements

Номер патента: RU2569964C1. Автор: Александр Валентинович Митрофанов,Сергей Николаевич Барышов,Борис Александрович Ерихинский. Владелец: Открытое акционерное общество "Системы и технологии обеспечения безопасности. Техдиагностика". Дата публикации: 2015-12-10.

Test Structure for Controlling the Incorporation of Semiconductor Alloys in Transistors Comprising High-K Metal Gate Electrode Structures

Номер патента: US20120001174A1. Автор: Kronholz Stephan,Wiatr Maciej,Giedigkeit Rainer. Владелец: GLOBALFOUNDRIES INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

ELECTRODE STRUCTURE, METHOD OF FABRICATING THE SAME, AND SEMICONDUCTOR DEVICE INCLUDING THE ELECTRODE STRUCTURE

Номер патента: US20120001267A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

RESIN COMPOSITION FOR ENCAPSULATING SEMICONDUCTOR AND SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001350A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

CONNECTING MATERIAL, METHOD FOR MANUFACTURING CONNECTING MATERIAL AND SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120000965A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD OF FABRICATING THE SAME, AND SEMICONDUCTOR MODULE AND ELECTRONIC SYSTEM INCLUDING THE SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001272A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001300A1. Автор: Ito Takayuki,ISHIDA Tatsuya,Yoshino Kenichi,Naito Tatsuya. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

Method to determine electroconductivity and thickness of semiconductor plates or nanometer semiconductor layers in structures "semiconductor layer - semiconductor substrate"

Номер патента: RU2517200C2. Автор: Сергей Аполлонович Никитов,Дмитрий Александрович Усанов,Александр Владимирович Скрипаль,Денис Викторович Пономарев. Владелец: Федеральное Государственное Бюджетное Образовательное Учреждение Высшего Профессионального Образования "Саратовский Государственный Университет Имени Н.Г. Чернышевского". Дата публикации: 2014-05-27.

Carrier for dump transfer of semiconductor wafers

Номер патента: RU2357322C1. Автор: Галина Валериановна Скорова,Татьяна Кузьминична Взнуздаева,Татьяна Ильинична Комарова,Ольга Ивановна Каретникова. Владелец: Ольга Ивановна Каретникова. Дата публикации: 2009-05-27.

Method for oriented modification of semiconductor device structures using pulse electromagnetic field

Номер патента: RU2545077C1. Автор: Владимир Константинович Киселев,Максим Михайлович Венедиктов. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие федеральный научно-производственный центр "Научно-исследовательский институт измерительных систем им. Ю.Е. Седакова". Дата публикации: 2015-03-27.

Method for stabilisation of electric parameters of semiconductor devices sealed in plastic

Номер патента: RU2484550C1. Автор: Вадим Леонидович Романов. Владелец: Открытое акционерное общество "ОКБ-Планета" (ОАО "ОКБ-Планета"). Дата публикации: 2013-06-10.

Device to remove heat from crystal of semiconductor integrated circuit

Номер патента: RU2440641C1. Автор: Дмитрий Павлович Шматов,Игорь Геннадьевич Дроздов,Валерий Александрович Небольсин,Андрей Юрьевич Савинков,Дмитрий Альбертович Коновалов,Николай Николаевич Кожухов,Сергей Викторович Дахин. Владелец: Закрытое акционерное общество "Кодофон". Дата публикации: 2012-01-20.

Manufacturing method of semiconductor heterostructure

Номер патента: RU2570099C1. Автор: Александр Евгеньевич Обручников,Михаил Петрович Духновский,Анатолий Николаевич Бажинов,Юрий Петрович Пёхов,Юрий Андреевич Яцюк. Владелец: Акционерное общество "Научно-производственное предприятие "Исток" имени А.И. Шокина" (АО "НПП "Исток" им. Шокина"). Дата публикации: 2015-12-10.

Cassette for group transportation of semiconductor plates

Номер патента: RU2485622C1. Автор: Алексей Владимирович Чернов,Александр Михайлович Куликов,Ольга Борисовна Пименова,Евгения Григорьевна Балашова,Николай Андреевич Мишенин,Евгений Абрамович Фролов,Наталия Борисовна Сорокина,Елена Леонидовна Доможирова. Владелец: Елена Леонидовна Доможирова. Дата публикации: 2013-06-20.

Method for enhancing radiation stability of semiconductor devices

Номер патента: RU2308785C1. Автор: Гасан Абакарович Мустафаев,Арслан Гасанович Мустафаев,Абдулла Гасанович Мустафаев,Хасан Нахович Шаваев. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Кабардино-Балкарский государственный университет им. Х.М. Бербекова (КБГУ). Дата публикации: 2007-10-20.

Method of controlled influence on biological objects with electromagnetic irradiation of semiconductor injection generator (versions)

Номер патента: RU2491971C1. Автор: Андрей Николаевич Кузнецов,Владимир Дмитриевич Степаненко,Кирилл Владимирович Степаненко. Владелец: Кирилл Владимирович Степаненко. Дата публикации: 2013-09-10.

Manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: RU2581418C1. Автор: Гасан Абакарович Мустафаев,Арслан Гасанович Мустафаев,Абдулла Гасанович Мустафаев. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кабардино-Балкарский государственный университет им. Х.М. Бербекова". Дата публикации: 2016-04-20.

Method to pour concrete mixture under process equipment at final stage of its assembly

Номер патента: RU2466251C1. Автор: Владимир Владимирович Верстов,Дмитрий Дмитриевич Тишкин,Виктор Николаевич Романовский. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Санкт-Петербургский государственный архитектурно-строительный университет". Дата публикации: 2012-11-10.

Multifunction device to analyse physical-and-chemical properties of semiconductors, dielectrics and insulating materials

Номер патента: RU2348045C1. Автор: Виктор Михайлович Тимохин. Владелец: ФГОУ ВПО "Морская государственная академия имени адмирала Ф.Ф. Ушакова". Дата публикации: 2009-02-27.

Cassette for group transportation of semiconductor plates

Номер патента: RU2485623C1. Автор: Алексей Владимирович Чернов,Александр Михайлович Куликов,Ольга Борисовна Пименова,Евгения Григорьевна Балашова,Николай Андреевич Мишенин,Евгений Абрамович Фролов,Наталия Борисовна Сорокина,Елена Леонидовна Доможирова. Владелец: Елена Леонидовна Доможирова. Дата публикации: 2013-06-20.

Manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: RU2567118C1. Автор: Гасан Абакарович Мустафаев,Арслан Гасанович Мустафаев,Абдулла Гасанович Мустафаев,Наталья Васильевна Черкесова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования Кабардино-Балкарский государственный университет им. Х.М. Бербекова. Дата публикации: 2015-11-10.

Production of semiconductor microwave devices

Номер патента: RU2546856C2. Автор: Геннадий Андреевич Блинов,Константин Владимирович Пелевин. Владелец: Закрытое акционерное общество "НИИМП-Т". Дата публикации: 2015-04-10.

Device for recording of imperfectness coefficient of semiconductor products voltage-current characteristics

Номер патента: RU2332678C2. Автор: Митрофан Иванович Горлов,Александр Петрович Жарких,Валерий Александрович Небольсин,Анатолий Антонович Щетинин,Николай Николаевич Козьяков,ков Николай Николаевич Козь. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Воронежский государственный технический университет". Дата публикации: 2008-08-27.

Method of forming contact to drain region of semiconductor device

Номер патента: RU2534439C2. Автор: Тагир Абдурашидович Исмаилов,Айшат Расуловна Шахмаева,Патимат Расуловна Захарова. Владелец: Федеральное Государственное Бюджетное Образовательное Учреждение Высшего Профессионального Образования "Дагестанский Государственный Технический Университет" (Дгту). Дата публикации: 2014-11-27.

Method of semiconductor instrument manufacture

Номер патента: RU2340038C2. Автор: Гасан Абакарович Мустафаев,Арслан Гасанович Мустафаев,Абдулла Гасанович Мустафаев. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Кабардино-Балкарский государственный университет им. Х.М. Бербекова. Дата публикации: 2008-11-27.

Method to form epitaxial films of cobalt on surface of semiconductor substrates

Номер патента: RU2465670C1. Автор: Юрий Павлович Иванов,Людмила Алексеевна Чеботкевич,Андрей Вадимович Зотов,Александр Вячеславович Давыденко,Алексей Игоревич Ильин. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Дальневосточный федеральный университет". Дата публикации: 2012-10-27.

Method of heat removal from heat dissipating electronic components on basis of use of semiconductor lasers

Номер патента: RU2562742C2. Автор: Тагир Абдурашидович Исмаилов,Хаджимурат Магомедович Гаджиев,Татьяна Алексеевна Челушкина,Тимур Декартович Нежведилов. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Дагестанский государственный технический университет". Дата публикации: 2015-09-10.

Method of determining duration of plasma-chemical etching of surface of semiconductor plates for submicron technology

Номер патента: RU2535228C1. Автор: Степан Степанович Волков,Михаил Юрьевич Тимашев,Дмитрий Владимирович Суворов,Геннадий Владимирович Гололобов,Алевтина Анатольевна Аристархова,Николай Николаевич Бисярин,Юрий Евгеньевич Дмитревский,Татьяна Ивановна Китаева. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Рязанский государственный радиотехнический университет". Дата публикации: 2014-12-10.

Method for comparative assessment of reliability of batches of semiconductor articles

Номер патента: RU2538032C2. Автор: Дмитрий Юрьевич Смирнов,Митрофан Иванович Горлов,Дмитрий Михайлович Жуков. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Воронежский государственный технический университет". Дата публикации: 2015-01-10.

System of functional testing cards of semiconductor memory

Номер патента: RU2524858C2. Автор: Денис Анатольевич Строганов,Григорий Владимирович Шишкин,Алескандр Владимирович Руткевич. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственное предприятие "Цифровые решения". Дата публикации: 2014-08-10.

Method of forming epitaxial copper nanostructures on surface of semiconductor substrates

Номер патента: RU2522844C1. Автор: Людмила Алексеевна Чеботкевич,Алексей Вячеславович Огнев,Александр Сергеевич Самардак,Константин Сергеевич Ермаков. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Дальневосточный федеральный университет". Дата публикации: 2014-07-20.

Module of semiconductor element and method of its manufacturing

Номер патента: RU2458431C2. Автор: Кендзи ФУДЗИВАРА,Синити КОБАЯСИ,Кодзи НАКАНО,Даиси УЕНО,Таро ВАДА,Масахиро ФУНАЯМА,Йосикацу КУРОДА,Юити КОНДО,Теруо ТАКЕСИТА,Кодзи НАКАНО (JP),Даиси УЕНО (JP),Таро ВАДА (JP),Масахиро ФУНАЯМА (JP),Йосикацу КУРОДА (JP),Юити КОНДО (JP),Синити КОБАЯСИ (JP),Кендзи ФУДЗИВАРА (JP),Теруо ТАКЕСИТА (JP). Владелец: Мицубиси Хэви Индастриз, Лтд.. Дата публикации: 2012-08-10.

Method for generation of semiconductor- insulator structure

Номер патента: RU2125323C1. Автор: В.И. Машанов,С.И. Романов,Б.И. Фомин,В.В. Кириенко,Л.В. Соколов,М.А. Ламин. Владелец: Институт физики полупроводников СО РАН. Дата публикации: 1999-01-20.

Method for manufacturing of semiconductor device

Номер патента: RU2368031C1. Автор: Александр Владимирович Петров,Юрий Владимирович Колковский,Виктор Григорьевич Ральченко,Виталий Иванович Конов,Владимир Алексеевич Сидоров,Александр Андреевич Арендаренко,Валентин Николаевич Данилин,Андрей Георгиевич Васильев,Татьяна Александровна Жукова. Владелец: Федеральное Государственное Унитарное Предприятие "Научно-Производственное Предприятие "Пульсар". Дата публикации: 2009-09-20.

Method for lead-free resistance-reactance soldering of semiconductor chip to package

Номер патента: RU2313156C1. Автор: Виктор Васильевич Зенин,Александр Владимирович Рягузов,Дмитрий Игоревич Бокарев,Александр Николаевич Кастрюлев,Ольга Владимировна Хишко,Виктор Васильевич Зенин (RU),гузов Александр Владимирович Р (RU),Дмитрий Игоревич Бокарев (RU),Александр Николаевич Кастрюлев (RU),Ольга Владимировна Хишко (RU). Владелец: ОАО "Воронежский завод полупроводниковых приборов-Сборка". Дата публикации: 2007-12-20.

Process of gettering treatment of semiconductor plates

Номер патента: RU2224330C2. Автор: В.А. Якунин,М.А. Эстерзон,О.П. Сахарова. Владелец: Открытое акционерное общество "Экспериментальный научно-исследовательский институт металлорежущих станков". Дата публикации: 2004-02-20.

Felling and bunching skidding machine with universal process equipment

Номер патента: RU2388214C1. Автор: Петр Михайлович Огар,Алексей Митрофанович Долотов,Владимир Богданович Кашуба,Валерий Васильевич Яковлев,Елена Михайловна Рунова,Александр Николаевич Сухих,Леонид Николаевич Захаренко. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Братский государственный университет". Дата публикации: 2010-05-10.

Method of manufacturing of working element of process equipment with wear-resistant element interacting with abrasive medium

Номер патента: RU2583977C2. Автор: Андрей Евгеньевич Малашко. Владелец: Андрей Евгеньевич Малашко. Дата публикации: 2016-05-10.

Holder for group transportation of semiconductor plates

Номер патента: RU2408953C1. Автор: Татьяна Владимировна Липина,Евгений Александрович Взнуздаев,Елена Федоровна Ершова,Светлана Григорьевна Зырянова,Вячеслав Алексеевич Колесников,Галина Ильинична Корнеева,Ольга Николаевна Корнеева,Марина Александровна Кислякова,Евгений Александрович Взнуздаев (RU),Елена Федоровна Ершова (RU),Светлана Григорьевна Зырянова (RU),Вячеслав Алексеевич Колесников (RU),Галина Ильинична Корнеева (RU),Ольга Николаевна Корнеева (RU),Марина Александровна Кислякова (RU),Татьяна Владимировна Липина (RU). Владелец: Марина Александровна Кислякова. Дата публикации: 2011-01-10.

Method of doping of semiconductor wafers

Номер патента: RU2111575C1. Автор: В.К. Попов,В.М. Белоусов,Ю.И. Прохоров,Ю.В. Шленов,М.М. Якункин. Владелец: Московский государственный институт электроники и математики. Дата публикации: 1998-05-20.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.