Substrate processing apparatus and semiconductor devices manufacturing method
Номер патента: US20110192347A1
Опубликовано: 11-08-2011
Автор(ы): Harunobu Sakuma, Mitsuro Tanabe, Tadashi Takasaki, Yoshihiko Yanagisawa
Принадлежит: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 11-08-2011
Автор(ы): Harunobu Sakuma, Mitsuro Tanabe, Tadashi Takasaki, Yoshihiko Yanagisawa
Принадлежит: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
DEPOSITION METHOD AND A DEPOSITION APPARATUS OF FINE PARTICLES, A FORMING METHOD AND A FORMING APPARATUS OF CARBON NANOTUBES, AND A SEMICONDUCTOR DEVICE AND A MANUFACTURING METHOD OF THE SAME
Номер патента: US20150207074A1. Автор: Awano Yuji,Shimizu Noriyoshi. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2015-07-23.