Vapor deposition mask, frame-equipped vapor deposition mask, vapor deposition mask preparation body, and method for producing organic semiconductor element
Номер патента: US10573815B2
Опубликовано: 25-02-2020
Автор(ы): Hiroshi Kawasaki, Katsunari Obata, Toshihiko Takeda
Принадлежит: DAI NIPPON PRINTING CO LTD
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 25-02-2020
Автор(ы): Hiroshi Kawasaki, Katsunari Obata, Toshihiko Takeda
Принадлежит: DAI NIPPON PRINTING CO LTD
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
VAPOR DEPOSITION MASK, FRAME-EQUIPPED VAPOR DEPOSITION MASK, VAPOR DEPOSITION MASK PREPARATION BODY, AND METHOD FOR PRODUCING ORGANIC SEMICONDUCTOR ELEMENT
Номер патента: US20210167290A1. Автор: Kawasaki Hiroshi,OBATA Katsunari,TAKEDA Toshihiko. Владелец: Dai Nippon Printing Co., Ltd.. Дата публикации: 2021-06-03.