METHOD AND APPARATUS FOR PLASMA ETCHING
Номер патента: US20180102235A1
Опубликовано: 12-04-2018
Автор(ы): Kim Kyunghyun, KIM Taeheon, KO Yongsun, Park Kijong, Shin Jae Jin, YANG Jun-youl
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 12-04-2018
Автор(ы): Kim Kyunghyun, KIM Taeheon, KO Yongsun, Park Kijong, Shin Jae Jin, YANG Jun-youl
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Focus ring, plasma etching apparatus and plasma etching method
Номер патента: US20060102288A1. Автор: Hideyuki Kobayashi,Daiki Satoh,Masato Horiguchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-05-18.