Methods and heat treatment apparatus for uniformly heating a substrate during a bake process
Номер патента: US09383138B2
Опубликовано: 05-07-2016
Автор(ы): Michael A. Carcasi, Steven Scheer
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 05-07-2016
Автор(ы): Michael A. Carcasi, Steven Scheer
Принадлежит: Tokyo Electron Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Substrate heat treatment apparatus
Номер патента: US11854842B2. Автор: HUI Wang,Jun Wu,Fuping CHEN,Wenjun Wang,Hongchao YANG,Zhiyou Fang. Владелец: ACM Research Shanghai Inc. Дата публикации: 2023-12-26.