Ceramic material, component and method for producing the component
Номер патента: DE102016115642A1
Опубликовано: 01-03-2018
Автор(ы): Christl Lisa Mead, Cornelia TREUL
Принадлежит: EPCOS AG
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 01-03-2018
Автор(ы): Christl Lisa Mead, Cornelia TREUL
Принадлежит: EPCOS AG
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Silicon nitride film of semiconductor element, and method and apparatus for producing silicon nitride film
Номер патента: EP2579300A4. Автор: Seiji Nishikawa. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2013-12-18.