Method for determining an optimized set of measurement locations for measurement of a parameter of a lithographic process, metrology system and computer program products for implementing such methods
Номер патента: WO2018086795A1
Опубликовано: 17-05-2018
Автор(ы): Christiaan Theodoor DE RUITER, Peter Ten Berge
Принадлежит: ASML Netherlands B.V.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 17-05-2018
Автор(ы): Christiaan Theodoor DE RUITER, Peter Ten Berge
Принадлежит: ASML Netherlands B.V.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Methods and patterning devices and apparatuses for measuring focus performance of a lithographic apparatus, device manufacturing method
Номер патента: US20230305407A1. Автор: Fei Liu,Frank Staals,Jin LIAN,Laurentius Cornelius De Winter,Zhuangxiong HUANG. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-09-28.