Apparatus and method for reducing contamination in immersion lithography
Номер патента: US20070188731A1
Опубликовано: 16-08-2007
Автор(ы): Dario Goldfarb, Dmitriy Shneyder, Kafai Lai, Raschid Bezama, Xiao Liu
Принадлежит: International Business Machines Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 16-08-2007
Автор(ы): Dario Goldfarb, Dmitriy Shneyder, Kafai Lai, Raschid Bezama, Xiao Liu
Принадлежит: International Business Machines Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
System and method for increasing surface tension and contact angle in immersion lithography
Номер патента: JP4478139B2. Автор: シューエル,ハリー. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2010-06-09.